JPS6012690B2 - 磁気記録媒体の製法 - Google Patents
磁気記録媒体の製法Info
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- JPS6012690B2 JPS6012690B2 JP52082503A JP8250377A JPS6012690B2 JP S6012690 B2 JPS6012690 B2 JP S6012690B2 JP 52082503 A JP52082503 A JP 52082503A JP 8250377 A JP8250377 A JP 8250377A JP S6012690 B2 JPS6012690 B2 JP S6012690B2
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
- H01F41/00—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties
- H01F41/14—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for applying magnetic films to substrates
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
- G11B5/85—Coating a support with a magnetic layer by vapour deposition
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
- H01F10/00—Thin magnetic films, e.g. of one-domain structure
- H01F10/26—Thin magnetic films, e.g. of one-domain structure characterised by the substrate or intermediate layers
- H01F10/28—Thin magnetic films, e.g. of one-domain structure characterised by the substrate or intermediate layers characterised by the composition of the substrate
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- Power Engineering (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Thin Magnetic Films (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は強磁性金属薄膜層を磁気記録層とする磁気記録
媒体の製法に関するもので、具体的には真空蒸着法によ
って磁気特性の優れた磁気記録媒体を製造する方法に関
するものである。
媒体の製法に関するもので、具体的には真空蒸着法によ
って磁気特性の優れた磁気記録媒体を製造する方法に関
するものである。
従来より磁気記録媒体としては、非磁性支持体上にｙ−
Ｆｅ２０３、Ｃｏをドープしたｙ−Ｆｅ２０３、Ｆｅ３
０４、ＣｏをドープしたＦｅ３０４、ｙ一Ｆｅ２０３と
Ｆｅ３０４のベルトラィド化合物、Ｃの２等の酸化物磁
性粉末あるいは強磁性金属合金粉末等の粉末磁性材料を
塩化ピニル−酢酸ビニル共重合体、スチレンーブタジェ
ン共重合体、ェポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂等の有機
バインダー中に分散せしめたものを塗布し乾燥させる塗
布型のものが広く使用されてきている。
Ｆｅ２０３、Ｃｏをドープしたｙ−Ｆｅ２０３、Ｆｅ３
０４、ＣｏをドープしたＦｅ３０４、ｙ一Ｆｅ２０３と
Ｆｅ３０４のベルトラィド化合物、Ｃの２等の酸化物磁
性粉末あるいは強磁性金属合金粉末等の粉末磁性材料を
塩化ピニル−酢酸ビニル共重合体、スチレンーブタジェ
ン共重合体、ェポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂等の有機
バインダー中に分散せしめたものを塗布し乾燥させる塗
布型のものが広く使用されてきている。
近年高密度記録への要求の高まりと共に真空蒸着、スパ
ッタリング、イオンプレーティング等のペーパーデポジ
ション法あるいは電気メッキ、無電解〆ッキ等のメッキ
法により形成される強磁性金属薄膜を磁気記録層とする
、有機バインダーを使用しない、いわゆる非バインダー
型磁気記録媒体が注目を浴びており実用化への努力が種
々行なわれている。従来の塗布型の磁気記録媒体では主
として強磁性金属より飽和磁化の小さい金属酸化物を磁
性材料として使用しているため、高密度記録の実現に必
要な磁気記録層の薄形化が、信号出力の低下をもたらし
てしまうので、限界に達しており、且つその製造工程も
複雑で、溶剤回収あるいは公害防止のための大きな附帯
設備を要するという欠点を有している。
ッタリング、イオンプレーティング等のペーパーデポジ
ション法あるいは電気メッキ、無電解〆ッキ等のメッキ
法により形成される強磁性金属薄膜を磁気記録層とする
、有機バインダーを使用しない、いわゆる非バインダー
型磁気記録媒体が注目を浴びており実用化への努力が種
々行なわれている。従来の塗布型の磁気記録媒体では主
として強磁性金属より飽和磁化の小さい金属酸化物を磁
性材料として使用しているため、高密度記録の実現に必
要な磁気記録層の薄形化が、信号出力の低下をもたらし
てしまうので、限界に達しており、且つその製造工程も
複雑で、溶剤回収あるいは公害防止のための大きな附帯
設備を要するという欠点を有している。
非バインダー型の磁気記録媒体では上記酸化物磁性材料
よりも大きな飽和磁化を有する強磁性金属を有機バイン
ダーの如き非磁性物質を含有しない状態で、薄膜として
形成せしめるために、高密度記録のための超薄形化が極
めて容易であるという利点を有し、しかもその製造工程
は簡単である。特に真空蒸着による方法はメッキの場合
のような排液処理を必要とせず、製造工程も簡単で膜の
析出速度も大きくできるため非バインダー型磁気記録媒
体を製造する方法として従来から検討されてきている。
よりも大きな飽和磁化を有する強磁性金属を有機バイン
ダーの如き非磁性物質を含有しない状態で、薄膜として
形成せしめるために、高密度記録のための超薄形化が極
めて容易であるという利点を有し、しかもその製造工程
は簡単である。特に真空蒸着による方法はメッキの場合
のような排液処理を必要とせず、製造工程も簡単で膜の
析出速度も大きくできるため非バインダー型磁気記録媒
体を製造する方法として従来から検討されてきている。
真空蒸着によって磁気記録媒体に要求される高抗磁力お
よび高角型比を有する強磁性体薄膜を得る方法としては
：ｍ 真空度あるし、は蒸着速度等を制御する方法。
よび高角型比を有する強磁性体薄膜を得る方法としては
：ｍ 真空度あるし、は蒸着速度等を制御する方法。
〔Ａ．Ｖ．Ｄａｖｉｅｓ等、ｍＥＥ Ｔｒａｎｓ．Ｍａ
ｇｎｅｔｉｃｓ、ｖｏｌ．ＭＡＣ−１、Ｎｏ．４（１９
６５）、３４４頁：米国特許３７８７２３７号明細書〕
‘２）蒸着金属の組成を選択する方法。
ｇｎｅｔｉｃｓ、ｖｏｌ．ＭＡＣ−１、Ｎｏ．４（１９
６５）、３４４頁：米国特許３７８７２３７号明細書〕
‘２）蒸着金属の組成を選択する方法。
〔Ｚ．Ｐｉｓｋａｃｅｋ等、Ｔｈｉｎ Ｓｏｌｉｄ Ｆ
ｉｌｍｅ、Ｖｏｌ．２（１９６８）、４８刀官：特公昭
４３−２３０２５号公報；侍開昭４９一１０５５０８号
公報；米国特許３５１６８６び号明細書；米国特許３７
７５１７ｙ号明細書〕‘３’強磁性体蒸発ビームを基板
に対して斜めに入射させる斜め蒸着法。
ｉｌｍｅ、Ｖｏｌ．２（１９６８）、４８刀官：特公昭
４３−２３０２５号公報；侍開昭４９一１０５５０８号
公報；米国特許３５１６８６び号明細書；米国特許３７
７５１７ｙ号明細書〕‘３’強磁性体蒸発ビームを基板
に対して斜めに入射させる斜め蒸着法。
〔Ｗ．Ｊ．Ｓｃｈ山ｅ「 Ｊ。Ａｐｐｌ．ＰｈｙｓへＶ
ｏｌ．３５（１９６４）、２５５８頁：特公昭３９一２
９９４４号公報三特公昭４１−１９３８少号公報；特公
昭４２−１３９１２号公報；特関昭４９−７４９１１号
公報：米国特許３３４２６３２号明細書：米国特許３３
４２６３３号明細書〕〔４｝ 酸化性雰囲気により酸化
物蒸着膜とする方法。
ｏｌ．３５（１９６４）、２５５８頁：特公昭３９一２
９９４４号公報三特公昭４１−１９３８少号公報；特公
昭４２−１３９１２号公報；特関昭４９−７４９１１号
公報：米国特許３３４２６３２号明細書：米国特許３３
４２６３３号明細書〕〔４｝ 酸化性雰囲気により酸化
物蒸着膜とする方法。
〔Ｊ．Ｗ．Ｓｃｈ肥ｉｄｅｒ等、ｌＥＥＥ Ｔｒａｎｓ
．Ｍａｇｎｅｔｉｃｓ、Ｖｏｌ．ＭＡＧ−９、Ｎｏ．３
（１９７３）、１８３頁：特開昭４８一３７６９５号公
報；特開昭４９−７３１０３号公報：米国特許３７００
５０び言明細書〕等が知られている。しかしながらこれ
らの方法では所望の磁気特性が充分に得られないとか、
蒸着工程が複雑であるとか、磁性膜と基板との密着が不
良であるとか、蒸着効率が悪いとかいった欠点を有して
必らずしも満足すべき方法ではなかった。本発明の目的
は上記の欠点を改良した真空蒸着法による新しい磁気記
録媒体の製法を提供することにある。
．Ｍａｇｎｅｔｉｃｓ、Ｖｏｌ．ＭＡＧ−９、Ｎｏ．３
（１９７３）、１８３頁：特開昭４８一３７６９５号公
報；特開昭４９−７３１０３号公報：米国特許３７００
５０び言明細書〕等が知られている。しかしながらこれ
らの方法では所望の磁気特性が充分に得られないとか、
蒸着工程が複雑であるとか、磁性膜と基板との密着が不
良であるとか、蒸着効率が悪いとかいった欠点を有して
必らずしも満足すべき方法ではなかった。本発明の目的
は上記の欠点を改良した真空蒸着法による新しい磁気記
録媒体の製法を提供することにある。
すなわち本発明は銅を主成分とする非磁性金属基体を１
００ｏ 〜３５０こＣに加熱しつつ、該基体上にＣｏを
主体とする強磁性金属を真空蒸着せしめて磁気記録層を
形成し磁気記録媒体を製造する方法、および非磁性基体
上に銅を主成分とする下地層を設けた後、該基体を１０
００ 〜３５０ｑｏに加熱しつつ、下地層上にＣｏを主
体とする強磁性金属を真空蒸着せしめて磁気記録層を形
成し磁気記録媒体を製造する方法に関する。
００ｏ 〜３５０こＣに加熱しつつ、該基体上にＣｏを
主体とする強磁性金属を真空蒸着せしめて磁気記録層を
形成し磁気記録媒体を製造する方法、および非磁性基体
上に銅を主成分とする下地層を設けた後、該基体を１０
００ 〜３５０ｑｏに加熱しつつ、下地層上にＣｏを主
体とする強磁性金属を真空蒸着せしめて磁気記録層を形
成し磁気記録媒体を製造する方法に関する。
銅の下地層の上に電気メッキあるいは無電解〆ッキによ
って磁性層を形成させる方法は特公昭３９山１６４６７
号、同４０Ｍ９４６１号、同４０−１６０６３号、同４
７−１８０３８号、同５０−３８００１号、特開昭４８
−１８８４２号「 同４８−５６１０９号、同４９−４
１２４１号、同５０−９６２０３号、実公昭４７一２６
２４６号等の公報にて開示されており、密着改良、電気
メッキ用導電性下地、ピンホール減少あるいは磁気特性
の向上を目的としている。
って磁性層を形成させる方法は特公昭３９山１６４６７
号、同４０Ｍ９４６１号、同４０−１６０６３号、同４
７−１８０３８号、同５０−３８００１号、特開昭４８
−１８８４２号「 同４８−５６１０９号、同４９−４
１２４１号、同５０−９６２０３号、実公昭４７一２６
２４６号等の公報にて開示されており、密着改良、電気
メッキ用導電性下地、ピンホール減少あるいは磁気特性
の向上を目的としている。
これに対し本発明者等はメッキとは膜の形成機構の異な
る真空蒸着の場合において下地として銅を主成分とする
ものを用い、しかも下地を１００ｏ 〜３５０００に加
熱しつつＣｏを主体とした磁性層を析出させると磁気特
性にすぐれ且つ密着の良好な磁気記録媒体の製造できる
ことを見出したものである。本発明に用いられる銅を主
成分とする非磁性基体あるいは下地層とは一般には銅を
９５％以上、好ましくは９８％以上含有するものである
。さらに銅基体として最も好ましいのは電解鋼である。
銅を主成分とする下地層は、真空蒸着、イオンプレーテ
ィング、スパッタリング、電気メッキ、無電解〆ッキ等
で形成しても良いし、ラミネートして下地層を設けても
良い。特に一番好ましいのは電気メッキあるいは無電解
〆ッキによって形成した銅下地層である。下地層の厚さ
は本発明の効果を得るために少なくとも８００Ａ以上で
あるのが好ましい。本発明における真空蒸着は、当業者
に公知の通常の真空蒸着装層により、通常の方法によっ
て行なえば良い。
る真空蒸着の場合において下地として銅を主成分とする
ものを用い、しかも下地を１００ｏ 〜３５０００に加
熱しつつＣｏを主体とした磁性層を析出させると磁気特
性にすぐれ且つ密着の良好な磁気記録媒体の製造できる
ことを見出したものである。本発明に用いられる銅を主
成分とする非磁性基体あるいは下地層とは一般には銅を
９５％以上、好ましくは９８％以上含有するものである
。さらに銅基体として最も好ましいのは電解鋼である。
銅を主成分とする下地層は、真空蒸着、イオンプレーテ
ィング、スパッタリング、電気メッキ、無電解〆ッキ等
で形成しても良いし、ラミネートして下地層を設けても
良い。特に一番好ましいのは電気メッキあるいは無電解
〆ッキによって形成した銅下地層である。下地層の厚さ
は本発明の効果を得るために少なくとも８００Ａ以上で
あるのが好ましい。本発明における真空蒸着は、当業者
に公知の通常の真空蒸着装層により、通常の方法によっ
て行なえば良い。
真空蒸着法については例えばＬＨＨｏｌｌａｎｄ著“
Ｖａｃｕｕｍ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ ｏｆ Ｔｈｉｎ
Ｆｉｌｍｓ”（Ｃｈａｐｍａｎ ＆ 比１１ＬＷ．、１
９５６）；Ｌ．１．Ｍａｉｓｓｅｌ ＆ Ｒ．ＧＩａｎ
ｇ共編“Ｈａｎｄ戊ｏｋ ＯｆＴｈｉｎＦｉｌｍＴｅｃ
ｈｎｏｌｏ敷’’（ＭｃＧｒａｗ一日ｉｌＩ Ｃｏへ１
９７０）に詳述されている。真空蒸着を行なう際の真空
度は１０‐４Ｔｏｍ以下、蒸着速度は０．０３〜３ムｍ
／分が望ましい。真空蒸着中の基体の温度は約１０ぴ
〜３５００Ｃに保持するのが好ましく、この温度範囲内
に基体を保持してＣｏを主体とする強磁性金属を蒸着す
ると磁気特性にすぐれ且つ密着性の良い磁性膜を形成さ
せる事ができ、すぐれた磁気記録媒体を製造できるもの
である。本発明においてＣｏを主体とする強磁性金属と
はＣｏを７の重量％以上含有するＣｏ、Ｃｏ−Ｆｅ、Ｃ
ｏ−Ｎｉ、Ｃｏ一Ｓｉ、Ｃｏ−Ｖ、Ｃｏ−Ｙ、Ｃｏ−Ｌ
ａ、Ｃｏ−Ｃｅ、Ｃｏ−Ｐｒ、Ｃｏ−Ｓｍ、Ｃｏ−Ｇｄ
、Ｃｏ−Ｍｎ、Ｃｏ−Ｃｕ、Ｃｏ−Ｐ、Ｃｏ−Ｃｒ、Ｃ
ｏ−Ｎｉ−Ｆｅ、Ｃｏ一Ｎｉ−Ｐ、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｖ、Ｃ
ｏ−Ｎｉ−Ｓｉ、Ｃｏ−Ｆｅ−Ｖ、Ｃｏ−Ｆｅ−Ｓｉ、
Ｃｏ−Ｎｉ−Ｃｕ、Ｃｏ−Ｆｅ−Ｃｕ、Ｃｏ−Ｓｍ−Ｃ
ｕ等の強磁性金属を指す。
Ｖａｃｕｕｍ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ ｏｆ Ｔｈｉｎ
Ｆｉｌｍｓ”（Ｃｈａｐｍａｎ ＆ 比１１ＬＷ．、１
９５６）；Ｌ．１．Ｍａｉｓｓｅｌ ＆ Ｒ．ＧＩａｎ
ｇ共編“Ｈａｎｄ戊ｏｋ ＯｆＴｈｉｎＦｉｌｍＴｅｃ
ｈｎｏｌｏ敷’’（ＭｃＧｒａｗ一日ｉｌＩ Ｃｏへ１
９７０）に詳述されている。真空蒸着を行なう際の真空
度は１０‐４Ｔｏｍ以下、蒸着速度は０．０３〜３ムｍ
／分が望ましい。真空蒸着中の基体の温度は約１０ぴ
〜３５００Ｃに保持するのが好ましく、この温度範囲内
に基体を保持してＣｏを主体とする強磁性金属を蒸着す
ると磁気特性にすぐれ且つ密着性の良い磁性膜を形成さ
せる事ができ、すぐれた磁気記録媒体を製造できるもの
である。本発明においてＣｏを主体とする強磁性金属と
はＣｏを７の重量％以上含有するＣｏ、Ｃｏ−Ｆｅ、Ｃ
ｏ−Ｎｉ、Ｃｏ一Ｓｉ、Ｃｏ−Ｖ、Ｃｏ−Ｙ、Ｃｏ−Ｌ
ａ、Ｃｏ−Ｃｅ、Ｃｏ−Ｐｒ、Ｃｏ−Ｓｍ、Ｃｏ−Ｇｄ
、Ｃｏ−Ｍｎ、Ｃｏ−Ｃｕ、Ｃｏ−Ｐ、Ｃｏ−Ｃｒ、Ｃ
ｏ−Ｎｉ−Ｆｅ、Ｃｏ一Ｎｉ−Ｐ、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｖ、Ｃ
ｏ−Ｎｉ−Ｓｉ、Ｃｏ−Ｆｅ−Ｖ、Ｃｏ−Ｆｅ−Ｓｉ、
Ｃｏ−Ｎｉ−Ｃｕ、Ｃｏ−Ｆｅ−Ｃｕ、Ｃｏ−Ｓｍ−Ｃ
ｕ等の強磁性金属を指す。
強磁性金属層の膜層は約０．０２〜５山肌、好ましくは
０．０５〜２仏肌が良い。銅を主成分とする下地層を設
ける場合の非磁性基体としてはポリィミドのような耐熱
性プラスチックベース、アルミニウム、黄鋼、ステンレ
スのような金属類、あるいはガラス、セラミック等が用
いられる。
０．０５〜２仏肌が良い。銅を主成分とする下地層を設
ける場合の非磁性基体としてはポリィミドのような耐熱
性プラスチックベース、アルミニウム、黄鋼、ステンレ
スのような金属類、あるいはガラス、セラミック等が用
いられる。
支持体の形状についてもテープ、シート、カード、ディ
スク、ドラムいずれでも良い。本発明のように、銅を主
成分とする非磁性基体あるいは銅を主成分とする下地層
を設けた非磁性基体を約１０ぴ 〜３５０００に加熱し
つつ基体上にＣｏを主体とする強磁性金属を真空蒸着せ
しめると磁気特性にすぐれ、且つ密着性の良好な磁気記
録媒体が製造できるものである。
スク、ドラムいずれでも良い。本発明のように、銅を主
成分とする非磁性基体あるいは銅を主成分とする下地層
を設けた非磁性基体を約１０ぴ 〜３５０００に加熱し
つつ基体上にＣｏを主体とする強磁性金属を真空蒸着せ
しめると磁気特性にすぐれ、且つ密着性の良好な磁気記
録媒体が製造できるものである。
次に実施例をもって本発明を具体的に説明するが、本発
明はこれらに限定されるものではない。
明はこれらに限定されるものではない。
実施例 １４５山肌厚の電解銅基板（銅９９％）を市販
の真空蒸着装置内に設置し、基板を加熱しつつ真空度１
．０×１０‐５ＴｏｒｒにてＣｏを３０Ａ／秒の速度で
膜厚０．３山凧となるまで真空蒸着し磁気記録媒体を作
製した。
の真空蒸着装置内に設置し、基板を加熱しつつ真空度１
．０×１０‐５ＴｏｒｒにてＣｏを３０Ａ／秒の速度で
膜厚０．３山凧となるまで真空蒸着し磁気記録媒体を作
製した。
基板温度を変えて蒸着した磁性膜の磁気特性は下に示す
表のようであった。磁性膜の基板への密着性は次の表に
示すように基板温度を１００ｑｏ以上とした場合には極
めて良好で、磁気記録媒体としての実用に充分耐えるも
のであった。
表のようであった。磁性膜の基板への密着性は次の表に
示すように基板温度を１００ｑｏ以上とした場合には極
めて良好で、磁気記録媒体としての実用に充分耐えるも
のであった。
密着 ◎：極めて良好
×：不良
上の表から明らかなように鋼基板を１００〜３５０午Ｃ
に保持して蒸着した場合には、磁気記録媒体としてすぐ
れた磁気特性を示し密着性の良好な磁性膜が得られる。
に保持して蒸着した場合には、磁気記録媒体としてすぐ
れた磁気特性を示し密着性の良好な磁性膜が得られる。
実施例 ２２５ム厚のポリィミド・ベース上に無電解〆
ッキ用の表面活性化のためにスパッタリングによってＰ
ｄを０．００５の９／のとなるよう析出させた。
ッキ用の表面活性化のためにスパッタリングによってＰ
ｄを０．００５の９／のとなるよう析出させた。
次にこれを下の無電解〆ッキに浸潰して、銅膜（銅９８
％）の厚さが０．２仏のとなる迄メッキを施した。メッ
キ組成：Ａ液 ＣｕＳ０４・８Ｌ０
７．５夕日ＣＨ。
％）の厚さが０．２仏のとなる迄メッキを施した。メッ
キ組成：Ａ液 ＣｕＳ０４・８Ｌ０
７．５夕日ＣＨ。
５の‘水
２００ＭＢ液 ＫＮａＣ４日４０６
・４日２０ １７．５タＮａ２Ｃ０３・１
０日２０ ７．５タ水
４００の‘Ａ液とＢ液を混合した後Ｎ
ａＯＨ溶液を添加してｐＨが１２となるよう調整して使
用した。
２００ＭＢ液 ＫＮａＣ４日４０６
・４日２０ １７．５タＮａ２Ｃ０３・１
０日２０ ７．５タ水
４００の‘Ａ液とＢ液を混合した後Ｎ
ａＯＨ溶液を添加してｐＨが１２となるよう調整して使
用した。
こうして得られた蒸着用基体を２−ｂとする。一方２５
Ａの厚のポリィミドベース上にイオンプレーティングに
よって０．２仏の厚の銅膜（９９％）を形成させた。
Ａの厚のポリィミドベース上にイオンプレーティングに
よって０．２仏の厚の銅膜（９９％）を形成させた。
イオンプレーティングはＡｒガス０．０１Ｔｏｎ中、印
加電圧狐Ｖにて行なった。こうして得られた銅下地層を
有する蒸着用基体を２−ｃとする。次に下地層を設けて
いないポリイミドベース（２一ａとする）および上記の
基体２一ｂ、２−ｃを真空蒸着装層内に配置し、基体を
加熱しながら真空度２×１０‐５ＴｏｎにてＣｏ−Ｎｊ
（Ｃｏ７８重量％）を５０Ａ／秒の速度で蒸着した。
加電圧狐Ｖにて行なった。こうして得られた銅下地層を
有する蒸着用基体を２−ｃとする。次に下地層を設けて
いないポリイミドベース（２一ａとする）および上記の
基体２一ｂ、２−ｃを真空蒸着装層内に配置し、基体を
加熱しながら真空度２×１０‐５ＴｏｎにてＣｏ−Ｎｊ
（Ｃｏ７８重量％）を５０Ａ／秒の速度で蒸着した。
磁性膜の厚さは０．１山肌となるようにした。得られた
磁性膜の磁気特性と基体温度との関係は下表のようであ
つた。このように銅の下地層を設け、基体を１０００〜
３２５００に加熱した場合には抗磁力および角型比共に
大きい値の磁性膜が得られる。
磁性膜の磁気特性と基体温度との関係は下表のようであ
つた。このように銅の下地層を設け、基体を１０００〜
３２５００に加熱した場合には抗磁力および角型比共に
大きい値の磁性膜が得られる。
これらの磁性膜の密着性も極めて良好であった。実施例
３ 黄銅板（Ｃｕ７０％、Ｚｎ３０％）に下記の電気メッキ
液により、銅下地層（銅９８％）を厚さ０．５ｒのとな
るよう設けた。
３ 黄銅板（Ｃｕ７０％、Ｚｎ３０％）に下記の電気メッキ
液により、銅下地層（銅９８％）を厚さ０．５ｒのとな
るよう設けた。
硫酸銅（ＣｕＳ０４・祖２０） ２２０
タ硫酸（日２Ｓ０４） ３５
の【チオ尿素（（ＮＨ２）ＣＳ） ０
．０１タ塩化ナトリウム（ＮａＣＩ）
６０の９水を加えて １〆電
流密度 １．松／ｄｍ２こう
して得られた磁性膜蒸着用の基体（３−ｂとする）およ
び下地層を設けていない黄銅板（３−ａとする）の上に
真空度８×１０‐汀ｏｎにてＣｏ−Ｖ（Ｃｏ８５重量％
）を蒸着速度６０Ａ／秒で膜厚０．２仏肌となるよう蒸
着した。
タ硫酸（日２Ｓ０４） ３５
の【チオ尿素（（ＮＨ２）ＣＳ） ０
．０１タ塩化ナトリウム（ＮａＣＩ）
６０の９水を加えて １〆電
流密度 １．松／ｄｍ２こう
して得られた磁性膜蒸着用の基体（３−ｂとする）およ
び下地層を設けていない黄銅板（３−ａとする）の上に
真空度８×１０‐汀ｏｎにてＣｏ−Ｖ（Ｃｏ８５重量％
）を蒸着速度６０Ａ／秒で膜厚０．２仏肌となるよう蒸
着した。
得られた磁性膜の磁気特性と基体温度との関係は下記の
ようであった。このように黄銅基体そのままであるより
も、銅の下地層を設け、１０００ 〜３２５００に加熱
した場合にすぐれた磁気特性の得られることが明らかで
ある。
ようであった。このように黄銅基体そのままであるより
も、銅の下地層を設け、１０００ 〜３２５００に加熱
した場合にすぐれた磁気特性の得られることが明らかで
ある。
実施例 ４
アルミニウム合金板（Ｎ９７％、Ｃｕ３％）を下記の液
に１９砂、浸潰して亜鉛置換メッキを施した後、実施例
２に用いた無電鮫銅〆ッキ液により０．１山川の銅〆ッ
キ層（銅９８％）を設けた（基体４−ｂとする）。
に１９砂、浸潰して亜鉛置換メッキを施した後、実施例
２に用いた無電鮫銅〆ッキ液により０．１山川の銅〆ッ
キ層（銅９８％）を設けた（基体４−ｂとする）。
ＮａＯＨ １２０夕
Ｚｎ０ ２０
夕ＫＮａＣ４日４〇６・虹日２〇
５０タＦｅＣ１３
２夕ＮａＮ０３ １
夕水を加えて １夕上記基体４一
ｂおよび銅下地層を設けていないアルミニウム合金板（
４−ａとする）の上に真空度１×１０‐５ＴｏｎにてＣ
ｏ−Ｆｅ（Ｃｏ９０重量％）を１００Ａ／秒の速度で膜
厚０．４山肌となるよう蒸着した。
Ｚｎ０ ２０
夕ＫＮａＣ４日４〇６・虹日２〇
５０タＦｅＣ１３
２夕ＮａＮ０３ １
夕水を加えて １夕上記基体４一
ｂおよび銅下地層を設けていないアルミニウム合金板（
４−ａとする）の上に真空度１×１０‐５ＴｏｎにてＣ
ｏ−Ｆｅ（Ｃｏ９０重量％）を１００Ａ／秒の速度で膜
厚０．４山肌となるよう蒸着した。
得られた磁性膜の磁気特性と基体温度の関係は下の表の
ようであった。
ようであった。
このように銅の下地層を設け１００ｏ 〜３５０ｏｏに
加熱しつつ蒸着した場合には良好な磁気特性の磁性膜が
得られる。
加熱しつつ蒸着した場合には良好な磁気特性の磁性膜が
得られる。
また磁性膜の密着も良好であった。実施例 ５
ガラス基体を脱着・洗孫・乾燥の後、真空蒸着によって
０．１５仏のの鋼膜（９９％）を形成させた（基体５−
ｂとする）。
０．１５仏のの鋼膜（９９％）を形成させた（基体５−
ｂとする）。
さらにこの上に実施例３で用いた電気メッキ液により銅
膜（９８％）を厚０．１５仏のだけ形成させた（基体５
−ｃとする）。こうして得られた基体５一ｂ「 ５−ｃ
と下地層を設けてないガラス基体（５−ａとする）の上
に真空度２×１０‐５ＴｏｎにてＣｏ−Ｃｒ（Ｃｏ８８
重量％）を８０Ａ／秒の速度で膜厚０．３山肌となるよ
う蒸着した。得られた磁性膜の磁気特性と蒸着時の基体
温度との関係は下記のとおりであった。明らかに銅の下
地層を設けて１００ｏ 〜３２６ Ｃに加熱しつつ蒸着
た場合にすぐれた磁気特性を有する磁性膜が得られる。
膜（９８％）を厚０．１５仏のだけ形成させた（基体５
−ｃとする）。こうして得られた基体５一ｂ「 ５−ｃ
と下地層を設けてないガラス基体（５−ａとする）の上
に真空度２×１０‐５ＴｏｎにてＣｏ−Ｃｒ（Ｃｏ８８
重量％）を８０Ａ／秒の速度で膜厚０．３山肌となるよ
う蒸着した。得られた磁性膜の磁気特性と蒸着時の基体
温度との関係は下記のとおりであった。明らかに銅の下
地層を設けて１００ｏ 〜３２６ Ｃに加熱しつつ蒸着
た場合にすぐれた磁気特性を有する磁性膜が得られる。
以上の実施例から明らかなように、本発明による磁気記
録媒体の製法を用いれば、真空蒸着法によってすぐれた
磁気特性および密着性を有する磁気記録媒体が得られる
ものである。
録媒体の製法を用いれば、真空蒸着法によってすぐれた
磁気特性および密着性を有する磁気記録媒体が得られる
ものである。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 銅を主成分とする非磁性金属基体を約１００°〜３
５０℃に加熱しつつ、該基体上にＣｏを主体とする強磁
性金属を真空蒸着せしめて磁気記録層を形成させる事を
特徴とする磁気記録媒体の製法。 ２ 非磁性基体上に銅を主成分とする下地層を設けた後
、該基体を約１００°〜３５０℃に加熱しつつ、下地層
上にＣｏを主体とする強磁性金属を真空蒸着せしめて磁
気記録層を形成させる事を特徴とする磁気記録媒体の製
法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP52082503A JPS6012690B2 (ja) | 1977-07-12 | 1977-07-12 | 磁気記録媒体の製法 |
| US05/916,540 US4226681A (en) | 1977-07-12 | 1978-06-19 | Process for the production of a magnetic recording medium |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP52082503A JPS6012690B2 (ja) | 1977-07-12 | 1977-07-12 | 磁気記録媒体の製法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5418709A JPS5418709A (en) | 1979-02-13 |
| JPS6012690B2 true JPS6012690B2 (ja) | 1985-04-03 |
Family
ID=13776294
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP52082503A Expired JPS6012690B2 (ja) | 1977-07-12 | 1977-07-12 | 磁気記録媒体の製法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4226681A (ja) |
| JP (1) | JPS6012690B2 (ja) |
Families Citing this family (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3064353D1 (en) * | 1979-02-23 | 1983-09-01 | Seikisui Chemical Co Ltd | A process for producing a magnetic recording medium |
| JPS57149706A (en) * | 1981-03-12 | 1982-09-16 | Tdk Corp | Magnetic recording medium |
| JPS57198615A (en) * | 1981-05-30 | 1982-12-06 | Nippon Gakki Seizo Kk | Magnetic recording tape |
| JPS57199209A (en) * | 1981-06-02 | 1982-12-07 | Nippon Gakki Seizo Kk | Magnetic recording tape |
| JPS5834903A (ja) * | 1981-08-27 | 1983-03-01 | Tdk Corp | 磁気記録媒体 |
| JPS58147540A (ja) * | 1982-02-26 | 1983-09-02 | Hitachi Ltd | 薄膜永久磁石の製造方法 |
| US4477488A (en) * | 1982-03-16 | 1984-10-16 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Method of manufacturing magnetic recording medium |
| JPS59193957A (ja) * | 1983-04-18 | 1984-11-02 | Dainippon Ink & Chem Inc | ポリアミド組成物 |
| EP0302706B1 (en) * | 1987-08-06 | 1994-07-27 | Sumitomo Metal Mining Company Limited | In-plane magnetic disc |
| US5400307A (en) * | 1987-08-26 | 1995-03-21 | Sony Corporation | Magneto-optical recording medium with stacked layer structure |
| US5693199A (en) * | 1995-03-09 | 1997-12-02 | Hmt Technology Corporation | Single chamber sputtering assembly |
| US5810992A (en) * | 1997-02-28 | 1998-09-22 | Hughes Electronics Corporation | Electroplating of iron-cobalt alloy onto aluminum alloy parts |
| US6080447A (en) * | 1998-05-14 | 2000-06-27 | Enthone-Omi, Inc. | Low etch alkaline zincate composition and process for zincating aluminum |
| US20020110700A1 (en) * | 2001-02-12 | 2002-08-15 | Hein Gerald F. | Process for forming decorative films and resulting products |
| JP2005353191A (ja) * | 2004-06-11 | 2005-12-22 | Fuji Photo Film Co Ltd | 磁気記録媒体の製造方法 |
| CN102560483A (zh) * | 2010-12-30 | 2012-07-11 | 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司 | 铝及铝合金表面防腐处理方法及其制品 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3525638A (en) * | 1967-09-20 | 1970-08-25 | Ibm | Magnetostriction control in magnetic thin films |
| JPS5650340B2 (ja) * | 1973-07-25 | 1981-11-28 |
-
1977
- 1977-07-12 JP JP52082503A patent/JPS6012690B2/ja not_active Expired
-
1978
- 1978-06-19 US US05/916,540 patent/US4226681A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US4226681A (en) | 1980-10-07 |
| JPS5418709A (en) | 1979-02-13 |
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