JP2834154B2 - 面内磁化記録用金属薄膜型磁気記録媒体 - Google Patents
面内磁化記録用金属薄膜型磁気記録媒体Info
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- JP2834154B2 JP2834154B2 JP63266956A JP26695688A JP2834154B2 JP 2834154 B2 JP2834154 B2 JP 2834154B2 JP 63266956 A JP63266956 A JP 63266956A JP 26695688 A JP26695688 A JP 26695688A JP 2834154 B2 JP2834154 B2 JP 2834154B2
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、各種磁気記録装置に使用される面内磁化記
録用金属薄膜型磁気記録媒体に関する。
録用金属薄膜型磁気記録媒体に関する。
磁気記録装置における記録媒体として、Co、CoCr合
金、CoCrNi合金等のCo系強磁性金属からなる磁性膜をス
パッタリング等により非磁性基体上に成膜した金属薄膜
型磁気記録媒体が広く使用されている。また、その記録
再生ノイズの低減と記録密度の改善を目的として、Taを
添加したCo系金属（CoCrTa、CoCrNiTa系合金等）を以て
磁性膜を形成したものも実用されはじめている。
金、CoCrNi合金等のCo系強磁性金属からなる磁性膜をス
パッタリング等により非磁性基体上に成膜した金属薄膜
型磁気記録媒体が広く使用されている。また、その記録
再生ノイズの低減と記録密度の改善を目的として、Taを
添加したCo系金属（CoCrTa、CoCrNiTa系合金等）を以て
磁性膜を形成したものも実用されはじめている。
上記磁気記録媒体の磁性膜の磁化記録方式には、垂直
磁化と面内磁化との２つがあるが、浮上型磁気ヘッドの
技術が完成されていることとの関連で、面内磁化記録方
式が技術的に先行している。その面内磁化方式の記録媒
体は、磁性膜に面内磁気異方性を付与するための下地膜
としてCr膜が設けられ、その上に磁性膜が積層形成され
た層構造を有している。
磁化と面内磁化との２つがあるが、浮上型磁気ヘッドの
技術が完成されていることとの関連で、面内磁化記録方
式が技術的に先行している。その面内磁化方式の記録媒
体は、磁性膜に面内磁気異方性を付与するための下地膜
としてCr膜が設けられ、その上に磁性膜が積層形成され
た層構造を有している。
面内磁化方式の記録媒体における下地膜として上記の
ようにCr膜を形成することとしているのは、柱状晶をな
して成膜されるCr（体心立方格子、格子定数a:2.885
Å）の（110）面の一辺 （＝4.079Å）と、磁性膜の主構成元素であるCo（最密
六方格子）の格子定数ｃ（4.069Å）とがほぼ相等しい
ので、両層界面の整合性が良好で、磁性膜のＣ軸が面内
方向となり、かつ結晶歪みも少ないからであると説明さ
れている。
ようにCr膜を形成することとしているのは、柱状晶をな
して成膜されるCr（体心立方格子、格子定数a:2.885
Å）の（110）面の一辺 （＝4.079Å）と、磁性膜の主構成元素であるCo（最密
六方格子）の格子定数ｃ（4.069Å）とがほぼ相等しい
ので、両層界面の整合性が良好で、磁性膜のＣ軸が面内
方向となり、かつ結晶歪みも少ないからであると説明さ
れている。
しかし、磁性膜をなすCo系金属がTaを含有するもの
（CoCrTa、CoCrNiTa等）である場合、その磁性膜のCoの
格子定数ｃは、Taを含まない場合に比べて大きく、例え
ばCo0.86Cr0.12Ta0.02の磁性膜について実測される格子
定数ｃは4.138Åとなる このため、Ta含有Co系金属により成膜される磁性膜
は、Taを含まないCo系金属磁性膜と異なって、下地膜で
あるCr膜 との整合性が悪く、結晶歪みの増大に伴う角型比Mr/Ms
（Mr:残留磁束密度、Ms:飽和磁束密度）等の磁気特性の
低下を免れない。
（CoCrTa、CoCrNiTa等）である場合、その磁性膜のCoの
格子定数ｃは、Taを含まない場合に比べて大きく、例え
ばCo0.86Cr0.12Ta0.02の磁性膜について実測される格子
定数ｃは4.138Åとなる このため、Ta含有Co系金属により成膜される磁性膜
は、Taを含まないCo系金属磁性膜と異なって、下地膜で
あるCr膜 との整合性が悪く、結晶歪みの増大に伴う角型比Mr/Ms
（Mr:残留磁束密度、Ms:飽和磁束密度）等の磁気特性の
低下を免れない。
本発明は、Ta含有Co系金属を磁性膜とする面内磁化記
録用金属薄膜型磁気記録媒体における上記問題点を解決
することを目的としてなされたものである。
録用金属薄膜型磁気記録媒体における上記問題点を解決
することを目的としてなされたものである。
本発明は、非磁性基体に、Crを主成分とする体心立方
結晶構造の金属からなる下地膜を介して、Ｃ軸が面内方
向をなす最密六方結晶構造のTa含有Co系金属からなる磁
性膜が積層形成された面内磁化記録用金属薄膜型磁気記
録媒体において、前記下地膜が、Crの格子定数より大き
い格子定数を有する体心立方結晶構造の金属元素Ｍの１
種ないし２種以上を含有し、（110）面の と磁性膜の最密六方格子の格子定数ｃとの差が小さい格
子定数ａを有する体心立方結晶構造のCr−Ｍ合金からな
ることを特徴としている。
結晶構造の金属からなる下地膜を介して、Ｃ軸が面内方
向をなす最密六方結晶構造のTa含有Co系金属からなる磁
性膜が積層形成された面内磁化記録用金属薄膜型磁気記
録媒体において、前記下地膜が、Crの格子定数より大き
い格子定数を有する体心立方結晶構造の金属元素Ｍの１
種ないし２種以上を含有し、（110）面の と磁性膜の最密六方格子の格子定数ｃとの差が小さい格
子定数ａを有する体心立方結晶構造のCr−Ｍ合金からな
ることを特徴としている。
本発明の金属薄膜型磁気記録媒体における磁性膜の下
地膜であるCr−Ｍ合金膜は、金属元素Ｍの添加効果とし
て,Cr単体金属に比べて拡大された格子定数ａを有して
いる。この格子定数ａの拡大効果により、下地膜の（11
0）面における一辺 と、Ta含有Co系金属磁性膜のCoの格子定数ｃとの差が小
さくなり、両層界面の整合性が高められる。
地膜であるCr−Ｍ合金膜は、金属元素Ｍの添加効果とし
て,Cr単体金属に比べて拡大された格子定数ａを有して
いる。この格子定数ａの拡大効果により、下地膜の（11
0）面における一辺 と、Ta含有Co系金属磁性膜のCoの格子定数ｃとの差が小
さくなり、両層界面の整合性が高められる。
下地膜を構成するCr−Ｍ合金の金属元素Ｍ、すなわち
主構成元素であるCrより大きい格子定数ａを有する金属
元素Ｍの例として、Ｖ（a:3.030Å）、Nb（a:3.294
Å）、Mo（a:3.140Å）、Ta（a:3.296Å）、Ｗ（a:3.15
6Å）等が挙げられる。
主構成元素であるCrより大きい格子定数ａを有する金属
元素Ｍの例として、Ｖ（a:3.030Å）、Nb（a:3.294
Å）、Mo（a:3.140Å）、Ta（a:3.296Å）、Ｗ（a:3.15
6Å）等が挙げられる。
上記金属元素Ｍの１種ないしは２種以上の元素（M1,M
2,…Mn）が添加されたCr−Ｍ合金からなる下地膜の格子
定数は次式により与えられる。
2,…Mn）が添加されたCr−Ｍ合金からなる下地膜の格子
定数は次式により与えられる。
式中、 ｎ番目の金属元素Ｍの格子定数ａ、XnはCr−Ｍ合金に占
めるｎ番目の金属元素Ｍの組成比をそれぞれ表してい
る。
めるｎ番目の金属元素Ｍの組成比をそれぞれ表してい
る。
上記〔Ｉ〕式から、例えば金属元素ＭとしてNbを組成
比0.1の割合で単独添加したCr0.9Nb0.1合金で下地膜を
形成した場合の格子定数は、2.925Åであり、従ってそ
の（110）面における一辺 の長さは、4.137Åとなり、また例えば金属元素Ｍとし
て、NbとMoとをそれぞれの組成比が0.06および0.08とな
るように複合添加したCr0.86Nb0.06Mo0.08合金からなる
下地膜の格子定数ａは、〔Ｉ〕式から2.929Åであり、
従ってその（110）面の一辺 の長さは、4.142Åとなる。
比0.1の割合で単独添加したCr0.9Nb0.1合金で下地膜を
形成した場合の格子定数は、2.925Åであり、従ってそ
の（110）面における一辺 の長さは、4.137Åとなり、また例えば金属元素Ｍとし
て、NbとMoとをそれぞれの組成比が0.06および0.08とな
るように複合添加したCr0.86Nb0.06Mo0.08合金からなる
下地膜の格子定数ａは、〔Ｉ〕式から2.929Åであり、
従ってその（110）面の一辺 の長さは、4.142Åとなる。
上記Cr−Ｍ合金からなる下地膜の上に磁性膜として形
成されるTa含有Co系金属は、例えばCoTa、CoCrTa、CoCr
NiTa等であり、その磁性膜の具体的な成分設計は、要求
仕様に応じた磁気的特性、記録再生特性、耐候性等の総
合的な評価に基づいて決定されるが、一般的にその原子
組成比は、Cr:約0.05〜0.15、Ni:約0.05〜0.25、Ta:0.0
1〜0.05とされる。これらのTa含有Co系金属からなる磁
性膜の格子定数ｃは概ね4.10〜4.17Åの範囲内にある。
成されるTa含有Co系金属は、例えばCoTa、CoCrTa、CoCr
NiTa等であり、その磁性膜の具体的な成分設計は、要求
仕様に応じた磁気的特性、記録再生特性、耐候性等の総
合的な評価に基づいて決定されるが、一般的にその原子
組成比は、Cr:約0.05〜0.15、Ni:約0.05〜0.25、Ta:0.0
1〜0.05とされる。これらのTa含有Co系金属からなる磁
性膜の格子定数ｃは概ね4.10〜4.17Åの範囲内にある。
これらの一般的な磁性膜に対する下地膜としてのCr−
Ｍ合金は前記〔Ｉ〕式で求められる値が2.90〜2.95Å となるように金属元素Ｍの選択・組合せと添加量（組成
比）を決定することにより、下地膜と磁性膜とに良好な
整合性をもたせることが可能となる。例えば、金属元素
ＭとしてNbを単独添加したCrNb合金を下地膜とする場
合、Nbの添加量を組成比で0.037〜0.157とすれば、その
下地膜の格子定数ａは、〔Ｉ〕式から2.900〜2.949Å となり、また例えばMoを単独添加したCrMo合金で下地膜
を形成する場合は、Moを組成比で0.059〜0.25とすれ
ば、〔Ｉ〕式で得られる格子定数ａは2.900〜2.948Å であるので、Cr単独の下地膜 の場合に比べて、磁性膜との整合性が良好なものとな
る。
Ｍ合金は前記〔Ｉ〕式で求められる値が2.90〜2.95Å となるように金属元素Ｍの選択・組合せと添加量（組成
比）を決定することにより、下地膜と磁性膜とに良好な
整合性をもたせることが可能となる。例えば、金属元素
ＭとしてNbを単独添加したCrNb合金を下地膜とする場
合、Nbの添加量を組成比で0.037〜0.157とすれば、その
下地膜の格子定数ａは、〔Ｉ〕式から2.900〜2.949Å となり、また例えばMoを単独添加したCrMo合金で下地膜
を形成する場合は、Moを組成比で0.059〜0.25とすれ
ば、〔Ｉ〕式で得られる格子定数ａは2.900〜2.948Å であるので、Cr単独の下地膜 の場合に比べて、磁性膜との整合性が良好なものとな
る。
なお、本発明の金属薄膜型磁気記録媒体は、磁気ディ
スクをはじめ、各種磁気ドラム、磁気テープ、磁気シー
ト等を包含する。これらは、いずれもTa含有Co系金属磁
性膜を面内磁気異方性化する下地膜が前記Cr−Ｍ合金で
形成される点を除いて、公知の工程および条件に従って
製作することができる。例えば、面内記録用磁気ディス
クについて述べれば、アルミニウム合金板等を基体と
し，その表面に無電解めっきにより硬質のNi−Ｐめっき
膜（膜厚：例えば15〜25μｍ）を設け、めっき膜面にテ
キスチャ処理をほどこしたのち、前記Cr−Ｍ合金からな
る下地膜を成膜し、その膜面にTa含有Co系金属磁性膜
（膜厚は、例えば500〜2000Å）を成膜する。ついで磁
性膜の摩耗・損傷を防止するための保護膜として、潤滑
性と耐摩耗性を備えた膜体、例えば炭素質膜（膜厚：例
えば150〜600Å）を形成することにより、多層積層構造
を有する面内記録用磁気ディスクを得る。その積層構造
は上記の例に限定されず、例えば、炭素質膜を形成した
うえ、更にその表面に潤滑剤（膜厚：例えば10〜100
Å）を設けて、磁気ヘッドに対する保護潤滑機能をより
良好なものとすることもできる。また、磁気ディスクの
耐候性を高める目的で、前記炭素質膜の成膜に先立って
磁性膜面上にCr膜（膜厚例えば約100〜500Å）を形成す
ることもできる。その場合、Cr単体金属膜の代わりに前
記金属元素Ｍを含むCr−Ｍ合金膜とすることにより、磁
性膜との整合性を損なわずに耐候性を高めることが可能
となる。
スクをはじめ、各種磁気ドラム、磁気テープ、磁気シー
ト等を包含する。これらは、いずれもTa含有Co系金属磁
性膜を面内磁気異方性化する下地膜が前記Cr−Ｍ合金で
形成される点を除いて、公知の工程および条件に従って
製作することができる。例えば、面内記録用磁気ディス
クについて述べれば、アルミニウム合金板等を基体と
し，その表面に無電解めっきにより硬質のNi−Ｐめっき
膜（膜厚：例えば15〜25μｍ）を設け、めっき膜面にテ
キスチャ処理をほどこしたのち、前記Cr−Ｍ合金からな
る下地膜を成膜し、その膜面にTa含有Co系金属磁性膜
（膜厚は、例えば500〜2000Å）を成膜する。ついで磁
性膜の摩耗・損傷を防止するための保護膜として、潤滑
性と耐摩耗性を備えた膜体、例えば炭素質膜（膜厚：例
えば150〜600Å）を形成することにより、多層積層構造
を有する面内記録用磁気ディスクを得る。その積層構造
は上記の例に限定されず、例えば、炭素質膜を形成した
うえ、更にその表面に潤滑剤（膜厚：例えば10〜100
Å）を設けて、磁気ヘッドに対する保護潤滑機能をより
良好なものとすることもできる。また、磁気ディスクの
耐候性を高める目的で、前記炭素質膜の成膜に先立って
磁性膜面上にCr膜（膜厚例えば約100〜500Å）を形成す
ることもできる。その場合、Cr単体金属膜の代わりに前
記金属元素Ｍを含むCr−Ｍ合金膜とすることにより、磁
性膜との整合性を損なわずに耐候性を高めることが可能
となる。
なお、各層の成膜は、スパッタリング法、イオンプレ
ーティング法、真空蒸着法などにより行うことができ
る。
ーティング法、真空蒸着法などにより行うことができ
る。
アルミニウム合金基板（外径130mm、内径40mm、厚さ
1.9mm）の表面に、Ni−Ｐ無電解めっき膜（膜厚20μ
ｍ）を形成し、表面にポリッシュとテキスチャ処理を行
ったのち、マグネトロンスパッタリング法（但しアルゴ
ン雰囲気圧:0.7×10-2torr）により、Cr−Ｍ合金または
Cr単相金属からなる下地膜（膜厚:1000Å）と、Ta含有
系金属（CoCrTaまたはCoCrNiTa）からなる磁性膜（膜
厚:1000Å）と、保護膜としての炭素質膜（膜厚:300
Å）とをこの順に積層形成して供試磁気ディスクNo.1〜
７を得た。各供試磁気ディスクについて得られ組た角型
比（Mr/Ms）の測定結果を、下地膜成および磁性膜組成
と併せて第１表に示す。Cr−Ｍ合金を下地膜とする発明
例の磁気ディスク（No.1〜６）は、金属元素Ｍの添加に
よる下地膜と磁性膜との整合性の改善効果として、従来
品（No.7）にまさる良好な角型比を有していることがわ
かる。
1.9mm）の表面に、Ni−Ｐ無電解めっき膜（膜厚20μ
ｍ）を形成し、表面にポリッシュとテキスチャ処理を行
ったのち、マグネトロンスパッタリング法（但しアルゴ
ン雰囲気圧:0.7×10-2torr）により、Cr−Ｍ合金または
Cr単相金属からなる下地膜（膜厚:1000Å）と、Ta含有
系金属（CoCrTaまたはCoCrNiTa）からなる磁性膜（膜
厚:1000Å）と、保護膜としての炭素質膜（膜厚:300
Å）とをこの順に積層形成して供試磁気ディスクNo.1〜
７を得た。各供試磁気ディスクについて得られ組た角型
比（Mr/Ms）の測定結果を、下地膜成および磁性膜組成
と併せて第１表に示す。Cr−Ｍ合金を下地膜とする発明
例の磁気ディスク（No.1〜６）は、金属元素Ｍの添加に
よる下地膜と磁性膜との整合性の改善効果として、従来
品（No.7）にまさる良好な角型比を有していることがわ
かる。
〔発明の効果〕 本発明の金属薄膜型磁気記録媒体は、磁性膜に対する
下地膜の整合性改善効果により、角型比の改良された磁
気的特性を有している。その角型比の良好化により、磁
性膜の記録再生特性を損なわず、その膜厚をより薄くす
ることも可能であり、またその薄膜化に伴うオーバーラ
ィティング特性の改善効果等も得られる。
下地膜の整合性改善効果により、角型比の改良された磁
気的特性を有している。その角型比の良好化により、磁
性膜の記録再生特性を損なわず、その膜厚をより薄くす
ることも可能であり、またその薄膜化に伴うオーバーラ
ィティング特性の改善効果等も得られる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 酒井 千明 兵庫県尼崎市浜１丁目１番１号 久保田 鉄工株式会社技術開発研究所内 (56)参考文献 特開 昭62−102419（ＪＰ，Ａ) 特開 昭61−224126（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−53715（ＪＰ，Ａ)
Claims (3)
- 【請求項１】非磁性基体に、Crを主成分とする体心立方
結晶構造の金属からなる下地膜を介して、Ｃ軸が面内方
向をなす最密六方結晶構造のTa含有Co系金属からなる磁
性膜が積層形成された面内磁化記録用金属薄膜型磁気記
録媒体において、 前記下地膜が、Crの格子定数より大きい格子定数を有す
る体心立方結晶構造の金属元素Ｍの１種ないし２種以上
を含有し、（110）面の と磁性膜の最密六方格子の格子定数ｃとの差が小さい格
子定数ａを有する体心立方結晶構造のCr−Ｍ合金からな
ることを特徴とする面内磁化記録用金属薄膜型磁気記録
媒体。 - 【請求項２】金属元素Ｍが、Ｖ、Nb、Mo、Ta、またはＷ
であることを特徴とする請求項１に記載の面内磁化記録
用金属薄膜型磁気記録媒体。 - 【請求項３】１種もしくは２種以上の金属元素Ｍ（M1,M
2,…Mn）を含有するCr−Ｍ合金が下式を満足する組成を
有していることを特徴とする請求項１または請求項２に
記載の面内磁化記録用金属薄膜型磁気記録媒体。 〔式中、 はｎ番目の金属元素Ｍの格子定数,XnはCr−Ｍ合金に占
めるｎ番目の金属元素Ｍの組成比である。〕
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63266956A JP2834154B2 (ja) | 1988-10-21 | 1988-10-21 | 面内磁化記録用金属薄膜型磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63266956A JP2834154B2 (ja) | 1988-10-21 | 1988-10-21 | 面内磁化記録用金属薄膜型磁気記録媒体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02113419A JPH02113419A (ja) | 1990-04-25 |
| JP2834154B2 true JP2834154B2 (ja) | 1998-12-09 |
Family
ID=17438029
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63266956A Expired - Fee Related JP2834154B2 (ja) | 1988-10-21 | 1988-10-21 | 面内磁化記録用金属薄膜型磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2834154B2 (ja) |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61224126A (ja) * | 1985-03-29 | 1986-10-04 | Hitachi Metals Ltd | 磁気記録媒体 |
| US4657824A (en) * | 1985-10-28 | 1987-04-14 | International Business Machines Corporation | Vertical magnetic recording medium with an intermetallic compound nucleating layer |
| JPH0673170B2 (ja) * | 1986-08-22 | 1994-09-14 | 富士電機株式会社 | 磁気記録媒体 |
-
1988
- 1988-10-21 JP JP63266956A patent/JP2834154B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH02113419A (ja) | 1990-04-25 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
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