JPH029016A

JPH029016A - 薄膜磁気ディスク

Info

Publication number: JPH029016A
Application number: JP15809088A
Authority: JP
Inventors: Toshikazu Nishihara; 西原　敏和; Yasuyuki Natsuhori; 夏堀　泰行
Original assignee: Victor Company of Japan Ltd
Current assignee: Victor Company of Japan Ltd
Priority date: 1988-06-28
Filing date: 1988-06-28
Publication date: 1990-01-12

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】〔産業上の利用分野〕本発明は１１００（ハードディスクドライブ）用の記録
媒体として好適な薄膜磁気ディスク（以下単に「磁気デ
ィスク」とも記す）に係り、特に製造上の前処理を改善
した磁気ディスクに関する。

〔従来技術及び発明が解決しようとする課題〕従来の磁
気ディスクは、第２図に示すように、Ａｌ基板７上にＮ
Ｌ−Ｐの被ｒｙＡ３を数十μｍ鍍金形成した後、表面を
鏡面加工し、ＮＬ−Ｐ被膜３の表面を同心円状に表面粗
度Ｒａ＝　０．０５〜０．１５μｍ程度テクスチャリン
グ（研磨処理）した後、下地層４としてＣｒを数百へ〜
数千人スパッタリングし、磁性層５としてＣＯ合金を、
保護層６としてカーボンを、夫々数百へスパッタリング
形成することにより作製していた。なお、テクスチャリ
ングはヘッドとディスクとの吸着防止と、磁性膜の磁化
容易軸を基板の円周方向に配向させるという２つの効果
を合せ持っている。

かかる製造方法においては、磁気特性を向上させる上で
基板温度を高めることが重要であるが、磁気ディスク１
０の基板では２００℃以上でＡＪＩ合金２に変形が生じ
たり、ＮＬ−Ｐ被膜に帯磁が発生する等の欠点があった
。又、平坦度が充分ではなく、ヘッドクラッシュが起る
可能性があり、この点てガラスディスク（ガラスを基板
に用いたディスク）に劣っていた。

また、従来の磁気ディスク１０では、Ｎ、−Ｐ被ｖ３が
若干柔らかくて均一なテクスチャリングかや）困鉗であ
り、磁気特性が不均一になる可能性かある。なお、基板
としてガラス基体を使用しようとすると、ガラス基体で
は逆に硬すぎて均一なテクスチャリングができず、上記
効果が期待できないという問題点がある。また、ガラス
ディスクは磁気ディスクに比べて平坦度の点では優れて
いるが、磁気特性は劣っている。

〔課題を解決するための手段〕

本発明の磁気ディスクは、ガラス等の非磁性基板上に、
厚さ２μｍ程度の均一な非磁性金属膜または金属酸化膜
を形成した後、該非磁性金属膜または金属酸化膜の表面
に円周方向の研磨処理を施し、その上にＣｒ下地膜及び
Ｃｏ系合金の磁性膜及び保護膜を形成して作製すること
により上記問題点を解決した。

〔実施例〕

〈実施例１〉本発明になる磁気ディスクの第１実施例は、カラス基板
上に厚さ０，１〜１μｍの均一な非磁性金属膜を形成し
、この非磁性金属膜の表面に円周方向の研磨処理を施し
、その上にＣｒ下地膜及びＣｏ系合金の磁性膜、及びカ
ーボンの保護膜を形成して作製したものであり、以下、
第１図を参照しながら、具体的な実施例及びその製法に
ついて説明する。第１図は、本発明になる磁気ディスク
の第１実施例の拡大部分断面図である。この図において
、２は磁気ディスク用のガラス基板であり、この基板２
上に、Ｃｒ、ＴＬ（チタン）、Ｍ。

（モリブデン）、■（ヴアナジウム）等の金属被膜１３
を、スパッタリング法または蒸着法により０．１〜１μ
ｍ形成する。次に、この金属被膜１３を、研磨粒子をコ
ーティングした研磨テープ（図示せず）にて、円周方向
に同心円状に研磨処理を施す。この時の表面■度Ｒａは
２０〜１００人程度とする。このようにして作製した基
板を２００〜６００°Ｃに加熱保持し、下地膜４．磁性
膜５．保護膜６を、スパッタリング法により形成して磁
気ディスク１を完成する。なお、保護膜６の上に潤滑膜
を塗布等により形成してもよい。

このようにして作製した磁気ディスク１と、従来の磁気
ディスク１０の磁気特性の測定結果等を第１表に示す。

この表から、本発明の磁気ディスク１は保持力が高くな
り、角型比Ｒｓ、保持力角型比Ｓ＊も夫々向上している
ことがわかる。

（第１　　表　　）〈実施例２〉本発明になる磁気ディスクの第２実施例は、ＮＬＰ基体
又はカラス基体等の非磁性基体上に厚さ０．５〜２μｍ
の均一な金属酸化膜を形成し、この金属酸化膜の表面に
円周方向同心円状にテクスチャリングを施したものを基
板とし、この基板の上にＣｒ下地膜及びＣｏ系合金の磁
性膜（及びカーボンの保護膜）を形成して作製した。金
属酸化膜を０，５〜２μ５ｍ程度設けることにより、テ
クスチャリングを施す上で適正な硬度となり、均一性が
大幅に改善された。なお、均一性は光学顕微鏡。

触針式粗度計等で確認できるが、ミクロ的な磁気特性の
改善が著しい、ミクロ的な磁気特性とは、ヒステリシス
曲線上の角型比Ｒ３や保持力角型比Ｓ＊を示す。

以下、第３図を参照しながら、具体的な実施例及びその
製法について説明する。第３図は本発明になる磁気ディ
スクの第２実施例の拡大部分断面図である。この図にお
いて第１図に示した第１実施例及び第２図に示した従来
例と同一構成部分には同一番号を付して、その詳細な説
明を省略する。

７はＡｌ基体（例えば３．５”φ）、３はＮＬＰＬＰ１
１り、このＮＬＰ被膜３上にＣｒ酸化膜８を、スパッタ
リング法または蒸着法により１μｍ形成して基板を作る
。スパッタリング法の場合はＡｒ：０２＝５：１の混合
ガスを使用して反応性スパッタリングにより形成する。

次に、この酸化膜８を、研磨粒子をコーティングした２
種類の研磨テープ（＃３０００及び＃８０００　）にて
、円周方向（同心円状）に２段階の研磨処理（テクスチ
ャリング）を施す。

研磨処理後の表面粗度Ｒａはｏ、　ｏｏａμｍであった
。

このようにして作製した基板を洗浄した後、Ｃｒの下地
膜４　、　Ｃｏ　Ｎ　Ｌ　Ｃｒの磁性膜５．及びカーボ
ンの保護膜６を、スパッタリング法により夫々５００人
、６００人、６００＾の厚さに形成して磁気ディスク９
を完成した。なお、保護膜６の上に潤滑膜を塗布等によ
り形成してもよい。

〈実施例３〉実施例２におけるＮ、−Ｐ被ＩＡ３／Ａｌ　（合金）７
の代りにガラス基体を使用し、以下同じ工程で磁気ディ
スクを作製した。

〈実施例４〉実施例２，３におけるＣｒの酸化ｐｌＡ８の代りに、Ａ
ｌ、ＴＬ、Ｍｏ、及びＮ、の４種類の酸化膜を用いて作
製した。

〈実施例５〉実施例３におけるＣｒ酸化膜８の厚さを、夫々０．５．
１．５　、２μｍに設定して、磁気ディスク９を作製し
た。

以上のようにして、Ｃｒ、Ａｌ、ＴＬ　、Ｍｏ。

及びＮＬの５種頭の酸化膜で、パリの少ない均一な研磨
処理を施すことができた。その結果保持力が高くなり、
角型比Ｒｓ、（Ｒ持力角型比Ｓ１も夫々向上した。これ
は、ミクロ的に基板表面が均一となり、その上に形成さ
れるＣｒやＣｏ　Ｎ　Ｌ　Ｃｒ等の結晶粒子がほぼ均一
になったためと思われる。

第２表に、本発明の第２〜第５実施例のディスクの磁気
特性を、従来例との比較において示す。

この表から、保持力、角型比、保持力角型比等の磁気特
性が向上していることが見受けられる。

１．９・・・薄膜磁気ディスク、２・・・カラス基体、
３・・・ＮＬＰＬＰ１１・・・下地膜、５・・・磁性膜
、６・・・保護膜、７・・・ＡＪ！（合金）基体（基板
）、８・・・金属酸化膜。

（第　　２　　表　　）〔効果〕本発明の薄膜磁気ディスクは以上のようにして製造した
ので、次のような優れた特長を有する。

（１）保持力が高くなり、角型比、ｆｆｌ持力角型比等
の磁気特性が向上した。

■ディスクの表面粗さを均一にでき、そのため動牽擦係
数が小さくなり、ディスク・磁気ヘッド間の貼り着きゃ
クラッシュが起り難くなり、寿命は大幅に増加し、信顆
性が格段に向上した。

【図面の簡単な説明】

第１図及び第３図は夫々本発明の薄膜磁気ディスクの第
１．第２実施例の拡大部分断面図、第２図は従来の薄膜
磁気ディスクの拡大部分断面図である。

Claims

【特許請求の範囲】

（１）ガラス基板上に厚さ０．１〜２μｍ程度の均一な
非磁性金属膜を形成した後、該非磁性金属膜の表面に円
周方向の研磨処理を施し、その上にＣｒ下地膜及びＣｏ
系合金の磁性膜及び保護膜を形成して作製したことを特
徴とする薄膜磁気ディスク。
（２）非磁性基体上に厚さ０．５〜２μｍ程度の均一な
金属酸化膜を形成し、この金属酸化膜の表面に円周方向
同心円状に研磨処理を施したものを基板とし、この基板
の上にＣｒ下地膜及びＣｏ系合金の磁性膜及び保護膜を
形成して作製したことを特徴とする薄膜磁気ディスク。