JPH029016A - 薄膜磁気ディスク - Google Patents
薄膜磁気ディスクInfo
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は1100(ハードディスクドライブ)用の記録
媒体として好適な薄膜磁気ディスク(以下単に「磁気デ
ィスク」とも記す)に係り、特に製造上の前処理を改善
した磁気ディスクに関する。
媒体として好適な薄膜磁気ディスク(以下単に「磁気デ
ィスク」とも記す)に係り、特に製造上の前処理を改善
した磁気ディスクに関する。
〔従来技術及び発明が解決しようとする課題〕従来の磁
気ディスクは、第2図に示すように、Al基板7上にN
L−Pの被ryA3を数十μm鍍金形成した後、表面を
鏡面加工し、NL−P被膜3の表面を同心円状に表面粗
度Ra= 0.05〜0.15μm程度テクスチャリン
グ(研磨処理)した後、下地層4としてCrを数百へ〜
数千人スパッタリングし、磁性層5としてCO合金を、
保護層6としてカーボンを、夫々数百へスパッタリング
形成することにより作製していた。なお、テクスチャリ
ングはヘッドとディスクとの吸着防止と、磁性膜の磁化
容易軸を基板の円周方向に配向させるという2つの効果
を合せ持っている。
気ディスクは、第2図に示すように、Al基板7上にN
L−Pの被ryA3を数十μm鍍金形成した後、表面を
鏡面加工し、NL−P被膜3の表面を同心円状に表面粗
度Ra= 0.05〜0.15μm程度テクスチャリン
グ(研磨処理)した後、下地層4としてCrを数百へ〜
数千人スパッタリングし、磁性層5としてCO合金を、
保護層6としてカーボンを、夫々数百へスパッタリング
形成することにより作製していた。なお、テクスチャリ
ングはヘッドとディスクとの吸着防止と、磁性膜の磁化
容易軸を基板の円周方向に配向させるという2つの効果
を合せ持っている。
かかる製造方法においては、磁気特性を向上させる上で
基板温度を高めることが重要であるが、磁気ディスク1
0の基板では200℃以上でAJI合金2に変形が生じ
たり、NL−P被膜に帯磁が発生する等の欠点があった
。又、平坦度が充分ではなく、ヘッドクラッシュが起る
可能性があり、この点てガラスディスク(ガラスを基板
に用いたディスク)に劣っていた。
基板温度を高めることが重要であるが、磁気ディスク1
0の基板では200℃以上でAJI合金2に変形が生じ
たり、NL−P被膜に帯磁が発生する等の欠点があった
。又、平坦度が充分ではなく、ヘッドクラッシュが起る
可能性があり、この点てガラスディスク(ガラスを基板
に用いたディスク)に劣っていた。
また、従来の磁気ディスク10では、N、−P被v3が
若干柔らかくて均一なテクスチャリングかや)困鉗であ
り、磁気特性が不均一になる可能性かある。なお、基板
としてガラス基体を使用しようとすると、ガラス基体で
は逆に硬すぎて均一なテクスチャリングができず、上記
効果が期待できないという問題点がある。また、ガラス
ディスクは磁気ディスクに比べて平坦度の点では優れて
いるが、磁気特性は劣っている。
若干柔らかくて均一なテクスチャリングかや)困鉗であ
り、磁気特性が不均一になる可能性かある。なお、基板
としてガラス基体を使用しようとすると、ガラス基体で
は逆に硬すぎて均一なテクスチャリングができず、上記
効果が期待できないという問題点がある。また、ガラス
ディスクは磁気ディスクに比べて平坦度の点では優れて
いるが、磁気特性は劣っている。
本発明の磁気ディスクは、ガラス等の非磁性基板上に、
厚さ2μm程度の均一な非磁性金属膜または金属酸化膜
を形成した後、該非磁性金属膜または金属酸化膜の表面
に円周方向の研磨処理を施し、その上にCr下地膜及び
Co系合金の磁性膜及び保護膜を形成して作製すること
により上記問題点を解決した。
厚さ2μm程度の均一な非磁性金属膜または金属酸化膜
を形成した後、該非磁性金属膜または金属酸化膜の表面
に円周方向の研磨処理を施し、その上にCr下地膜及び
Co系合金の磁性膜及び保護膜を形成して作製すること
により上記問題点を解決した。
〈実施例1〉
本発明になる磁気ディスクの第1実施例は、カラス基板
上に厚さ0,1〜1μmの均一な非磁性金属膜を形成し
、この非磁性金属膜の表面に円周方向の研磨処理を施し
、その上にCr下地膜及びCo系合金の磁性膜、及びカ
ーボンの保護膜を形成して作製したものであり、以下、
第1図を参照しながら、具体的な実施例及びその製法に
ついて説明する。第1図は、本発明になる磁気ディスク
の第1実施例の拡大部分断面図である。この図において
、2は磁気ディスク用のガラス基板であり、この基板2
上に、Cr、TL(チタン)、M。
上に厚さ0,1〜1μmの均一な非磁性金属膜を形成し
、この非磁性金属膜の表面に円周方向の研磨処理を施し
、その上にCr下地膜及びCo系合金の磁性膜、及びカ
ーボンの保護膜を形成して作製したものであり、以下、
第1図を参照しながら、具体的な実施例及びその製法に
ついて説明する。第1図は、本発明になる磁気ディスク
の第1実施例の拡大部分断面図である。この図において
、2は磁気ディスク用のガラス基板であり、この基板2
上に、Cr、TL(チタン)、M。
(モリブデン)、■(ヴアナジウム)等の金属被膜13
を、スパッタリング法または蒸着法により0.1〜1μ
m形成する。次に、この金属被膜13を、研磨粒子をコ
ーティングした研磨テープ(図示せず)にて、円周方向
に同心円状に研磨処理を施す。この時の表面■度Raは
20〜100人程度とする。このようにして作製した基
板を200〜600°Cに加熱保持し、下地膜4.磁性
膜5.保護膜6を、スパッタリング法により形成して磁
気ディスク1を完成する。なお、保護膜6の上に潤滑膜
を塗布等により形成してもよい。
を、スパッタリング法または蒸着法により0.1〜1μ
m形成する。次に、この金属被膜13を、研磨粒子をコ
ーティングした研磨テープ(図示せず)にて、円周方向
に同心円状に研磨処理を施す。この時の表面■度Raは
20〜100人程度とする。このようにして作製した基
板を200〜600°Cに加熱保持し、下地膜4.磁性
膜5.保護膜6を、スパッタリング法により形成して磁
気ディスク1を完成する。なお、保護膜6の上に潤滑膜
を塗布等により形成してもよい。
このようにして作製した磁気ディスク1と、従来の磁気
ディスク10の磁気特性の測定結果等を第1表に示す。
ディスク10の磁気特性の測定結果等を第1表に示す。
この表から、本発明の磁気ディスク1は保持力が高くな
り、角型比Rs、保持力角型比S*も夫々向上している
ことがわかる。
り、角型比Rs、保持力角型比S*も夫々向上している
ことがわかる。
(第
1 表 )
〈実施例2〉
本発明になる磁気ディスクの第2実施例は、NLP基体
又はカラス基体等の非磁性基体上に厚さ0.5〜2μm
の均一な金属酸化膜を形成し、この金属酸化膜の表面に
円周方向同心円状にテクスチャリングを施したものを基
板とし、この基板の上にCr下地膜及びCo系合金の磁
性膜(及びカーボンの保護膜)を形成して作製した。金
属酸化膜を0,5〜2μ5m程度設けることにより、テ
クスチャリングを施す上で適正な硬度となり、均一性が
大幅に改善された。なお、均一性は光学顕微鏡。
又はカラス基体等の非磁性基体上に厚さ0.5〜2μm
の均一な金属酸化膜を形成し、この金属酸化膜の表面に
円周方向同心円状にテクスチャリングを施したものを基
板とし、この基板の上にCr下地膜及びCo系合金の磁
性膜(及びカーボンの保護膜)を形成して作製した。金
属酸化膜を0,5〜2μ5m程度設けることにより、テ
クスチャリングを施す上で適正な硬度となり、均一性が
大幅に改善された。なお、均一性は光学顕微鏡。
触針式粗度計等で確認できるが、ミクロ的な磁気特性の
改善が著しい、ミクロ的な磁気特性とは、ヒステリシス
曲線上の角型比R3や保持力角型比S*を示す。
改善が著しい、ミクロ的な磁気特性とは、ヒステリシス
曲線上の角型比R3や保持力角型比S*を示す。
以下、第3図を参照しながら、具体的な実施例及びその
製法について説明する。第3図は本発明になる磁気ディ
スクの第2実施例の拡大部分断面図である。この図にお
いて第1図に示した第1実施例及び第2図に示した従来
例と同一構成部分には同一番号を付して、その詳細な説
明を省略する。
製法について説明する。第3図は本発明になる磁気ディ
スクの第2実施例の拡大部分断面図である。この図にお
いて第1図に示した第1実施例及び第2図に示した従来
例と同一構成部分には同一番号を付して、その詳細な説
明を省略する。
7はAl基体(例えば3.5”φ)、3はNLPLP1
1り、このNLP被膜3上にCr酸化膜8を、スパッタ
リング法または蒸着法により1μm形成して基板を作る
。スパッタリング法の場合はAr:02=5:1の混合
ガスを使用して反応性スパッタリングにより形成する。
1り、このNLP被膜3上にCr酸化膜8を、スパッタ
リング法または蒸着法により1μm形成して基板を作る
。スパッタリング法の場合はAr:02=5:1の混合
ガスを使用して反応性スパッタリングにより形成する。
次に、この酸化膜8を、研磨粒子をコーティングした2
種類の研磨テープ(#3000及び#8000 )にて
、円周方向(同心円状)に2段階の研磨処理(テクスチ
ャリング)を施す。
種類の研磨テープ(#3000及び#8000 )にて
、円周方向(同心円状)に2段階の研磨処理(テクスチ
ャリング)を施す。
研磨処理後の表面粗度Raはo、 ooaμmであった
。
。
このようにして作製した基板を洗浄した後、Crの下地
膜4 、 Co N L Crの磁性膜5.及びカーボ
ンの保護膜6を、スパッタリング法により夫々500人
、600人、600^の厚さに形成して磁気ディスク9
を完成した。なお、保護膜6の上に潤滑膜を塗布等によ
り形成してもよい。
膜4 、 Co N L Crの磁性膜5.及びカーボ
ンの保護膜6を、スパッタリング法により夫々500人
、600人、600^の厚さに形成して磁気ディスク9
を完成した。なお、保護膜6の上に潤滑膜を塗布等によ
り形成してもよい。
〈実施例3〉
実施例2におけるN、−P被IA3/Al (合金)7
の代りにガラス基体を使用し、以下同じ工程で磁気ディ
スクを作製した。
の代りにガラス基体を使用し、以下同じ工程で磁気ディ
スクを作製した。
〈実施例4〉
実施例2,3におけるCrの酸化plA8の代りに、A
l、TL、Mo、及びN、の4種類の酸化膜を用いて作
製した。
l、TL、Mo、及びN、の4種類の酸化膜を用いて作
製した。
〈実施例5〉
実施例3におけるCr酸化膜8の厚さを、夫々0.5.
1.5 、2μmに設定して、磁気ディスク9を作製し
た。
1.5 、2μmに設定して、磁気ディスク9を作製し
た。
以上のようにして、Cr、Al、TL 、Mo。
及びNLの5種頭の酸化膜で、パリの少ない均一な研磨
処理を施すことができた。その結果保持力が高くなり、
角型比Rs、(R持力角型比S1も夫々向上した。これ
は、ミクロ的に基板表面が均一となり、その上に形成さ
れるCrやCo N L Cr等の結晶粒子がほぼ均一
になったためと思われる。
処理を施すことができた。その結果保持力が高くなり、
角型比Rs、(R持力角型比S1も夫々向上した。これ
は、ミクロ的に基板表面が均一となり、その上に形成さ
れるCrやCo N L Cr等の結晶粒子がほぼ均一
になったためと思われる。
第2表に、本発明の第2〜第5実施例のディスクの磁気
特性を、従来例との比較において示す。
特性を、従来例との比較において示す。
この表から、保持力、角型比、保持力角型比等の磁気特
性が向上していることが見受けられる。
性が向上していることが見受けられる。
1.9・・・薄膜磁気ディスク、2・・・カラス基体、
3・・・NLPLP11・・・下地膜、5・・・磁性膜
、6・・・保護膜、7・・・AJ!(合金)基体(基板
)、8・・・金属酸化膜。
3・・・NLPLP11・・・下地膜、5・・・磁性膜
、6・・・保護膜、7・・・AJ!(合金)基体(基板
)、8・・・金属酸化膜。
(第 2 表 )
〔効果〕
本発明の薄膜磁気ディスクは以上のようにして製造した
ので、次のような優れた特長を有する。
ので、次のような優れた特長を有する。
(1)保持力が高くなり、角型比、ffl持力角型比等
の磁気特性が向上した。
の磁気特性が向上した。
■ディスクの表面粗さを均一にでき、そのため動牽擦係
数が小さくなり、ディスク・磁気ヘッド間の貼り着きゃ
クラッシュが起り難くなり、寿命は大幅に増加し、信顆
性が格段に向上した。
数が小さくなり、ディスク・磁気ヘッド間の貼り着きゃ
クラッシュが起り難くなり、寿命は大幅に増加し、信顆
性が格段に向上した。
第1図及び第3図は夫々本発明の薄膜磁気ディスクの第
1.第2実施例の拡大部分断面図、第2図は従来の薄膜
磁気ディスクの拡大部分断面図である。
1.第2実施例の拡大部分断面図、第2図は従来の薄膜
磁気ディスクの拡大部分断面図である。
Claims (2)
- (1)ガラス基板上に厚さ0.1〜2μm程度の均一な
非磁性金属膜を形成した後、該非磁性金属膜の表面に円
周方向の研磨処理を施し、その上にCr下地膜及びCo
系合金の磁性膜及び保護膜を形成して作製したことを特
徴とする薄膜磁気ディスク。 - (2)非磁性基体上に厚さ0.5〜2μm程度の均一な
金属酸化膜を形成し、この金属酸化膜の表面に円周方向
同心円状に研磨処理を施したものを基板とし、この基板
の上にCr下地膜及びCo系合金の磁性膜及び保護膜を
形成して作製したことを特徴とする薄膜磁気ディスク。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15809088A JPH029016A (ja) | 1988-06-28 | 1988-06-28 | 薄膜磁気ディスク |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15809088A JPH029016A (ja) | 1988-06-28 | 1988-06-28 | 薄膜磁気ディスク |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH029016A true JPH029016A (ja) | 1990-01-12 |
Family
ID=15664080
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP15809088A Pending JPH029016A (ja) | 1988-06-28 | 1988-06-28 | 薄膜磁気ディスク |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH029016A (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0371427A (ja) * | 1989-08-09 | 1991-03-27 | Fuji Electric Co Ltd | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
JPH03125322A (ja) * | 1989-10-09 | 1991-05-28 | Ulvac Japan Ltd | 磁気記録媒体 |
JPH0428013A (ja) * | 1990-05-24 | 1992-01-30 | Kubota Corp | 金属薄膜型磁気記録ディスク |
JPH04328317A (ja) * | 1991-04-26 | 1992-11-17 | Victor Co Of Japan Ltd | ガラス磁気ディスクの製造方法 |
EP0537707A2 (en) * | 1991-10-15 | 1993-04-21 | Areal Technology, Inc. | Assembly of compact disk drive |
US5496606A (en) * | 1990-11-30 | 1996-03-05 | Victor Company Of Japan, Ltd. | Magnetic recording medium |
-
1988
- 1988-06-28 JP JP15809088A patent/JPH029016A/ja active Pending
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0371427A (ja) * | 1989-08-09 | 1991-03-27 | Fuji Electric Co Ltd | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
JPH03125322A (ja) * | 1989-10-09 | 1991-05-28 | Ulvac Japan Ltd | 磁気記録媒体 |
JPH0428013A (ja) * | 1990-05-24 | 1992-01-30 | Kubota Corp | 金属薄膜型磁気記録ディスク |
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EP0537707A3 (en) * | 1991-10-15 | 1993-09-29 | Areal Technology, Inc. | Assembly of compact disk drive |
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