JP2001357513A

JP2001357513A - 磁気記録ディスク並びに磁気記録ディスクの製造方法及び製造システム

Info

Publication number: JP2001357513A
Application number: JP2000136879A
Authority: JP
Inventors: Shinji Furukawa; 真司古川; Miho Sakai; 美保坂井; Naoki Watanabe; 直樹渡辺
Original assignee: Anelva Corp
Current assignee: Canon Anelva Corp
Priority date: 2000-04-12
Filing date: 2000-05-10
Publication date: 2001-12-26
Also published as: US20010033457A1

Abstract

(57)【要約】【課題】磁気異方性を有した信頼性の高い情報記録デ
ィスクを提供し、そのような情報記録ディスクを製造す
る実用的な製造方法及びシステムを提供する。【解決手段】ガラス製の基板１１の表面には、記録層
用の磁性膜１２に磁気異方性を与える形状であるテクス
チャ１７が形成されている。テクスチャ１７は、基板１
１と同軸の円周状の複数の溝であり、断面鋸波状であ
る。テクスチャ１７を覆うようにして、ニッケル燐から
成る基板被覆膜１３がスパッタリングにより作成されて
いる。基板被覆膜１３の上に、下地膜１４、磁性膜１
２、保護膜１５、潤滑膜１６が順に積層されている。基
板１１がガラス製であるため、高速回転の際も変形が少
ない。ガラスを削ってテクスチャ１７を形成しているの
で、金属を削る場合に比べて均一なテクスチャ１７が得
られる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本願の発明は、コンピュータ
の外部記憶装置であるハードディスクのような磁気記録
ディスクに関する。

【０００２】

【従来の技術】ハードディスクやフロッピー（登録商
標）ディスクのような磁気記録ディスクは、コンピュー
タの外部記憶装置として広く用いられている。このよう
な磁気記録ディスクは、基本的には、ディスク状の基板
と、基板に対して設けた記録層用の磁性膜とからなる構
造である。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】このような磁気記録デ
ィスクでは、記録の信頼性というものが最も重要な評価
項目の一つである。記録の信頼性というのは、記録した
情報が半永久的に保持されるということである。記録の
信頼性という点で、磁気記録ディスクの場合に問題とな
るのは、磁化の熱ゆらぎの問題である。磁化された磁区
は、通常は、逆方向の磁界の印加によらない限り磁化が
維持される。しかしながら、実際は、熱ゆらぎによって
磁化が経時的に僅かずつ解消してしまう。従って、磁区
が絶対零度に冷却されいない限り、永久的な磁化状態の
保持というのは不可能である。磁気記録ディスクにおい
て、この熱ゆらぎの問題が極端に現れると、記憶した情
報が数年後に部分的に消滅するという事態になり得る。
磁気記録ディスクが半永久的なデータ保存用として用い
られている場合、この事態は深刻である。

【０００４】熱ゆらぎの問題を抑制する方法として、磁
性膜に磁気異方性を与えることが有効であることが最近
になって判ってきた。磁気異方性とは、磁化する際の磁
界の方向性によって、同じ磁界強度でも磁化の強さが異
なってくることである。もしくは、保磁力の強さが磁化
の方向によって異なると表現することも可能である。

【０００５】磁気異方性を与える手段としては、磁性膜
を構成する結晶の配列に方向性を与えることが現在考え
られている。磁性膜は、スパッタリングにより作成され
ることが多い。スパッタリングにより作成された膜は、
通常はアモルファスであるが、ある程度加熱した状態で
スパッタリングを行うと、膜を構成する原子がマイグレ
ーション（移動）しながら堆積するので、局所的又は部
分的に結晶化した膜が得られる。この際、下地層の結晶
のいずれかの軸の長さと磁性膜の結晶のいずれかの軸の
長さがほぼ一致している場合、それらの軸方向が一致し
た状態で下地層の上に磁性膜が堆積し易くなる。この場
合、下地層の各結晶の軸を一定の方向に向くようにして
おくと、磁性膜の各結晶の軸も方向性を持ち易い。そし
て、磁性膜の各結晶の軸が方向性を持っていると、その
方向で磁化された場合の保磁力は、他の方向に磁化され
た場合に比べて強くなり易い。即ち、磁気異方性が達成
される。

【０００６】結晶の配列に方向性を持たせる方法として
は、薄膜を作成する際の下地に、機械的に微細な溝を形
成する方法がある。微細な溝が形成された表面に薄膜を
堆積させると、各結晶の軸が溝の長さ方向に向き易く、
溝の長さ方向に磁気異方性を得ることができる。尚、こ
のような磁気異方性を与えるための形状を、本明細書で
は「テクスチャ」と呼ぶ。

【０００７】ハードディスクを例にして、上記の点をよ
り具体的に説明する。ハードディスクを製造する場合、
従来はアルミニウム製の基板が採用されることが多い。
このアルミニウム製の基板の表面に、メッキ法によりニ
ッケル燐（ＮｉＰ，リン化ニッケル）膜を作成する。そ
して、ニッケル燐膜の表面に微細な溝を多数形成してテ
クスチャとする。ハードディスクドライブでは、磁気ヘ
ッドに対して、ディスクをその中心軸の周りに回転させ
ながら情報の記録及び読み出しを行うので、磁化の方向
も周方向（正確にはディスクの中心軸を中心とする円の
接線方向）となることが多い。従って、磁気異方性も周
方向であることが望ましい。このため、テクスチャは、
基板の中心軸と同軸の円周状の微細な溝とされる。基板
の径方向の断面で見ると、この微細な溝は、鋸波状であ
る。尚、溝の形成は、ダイヤモンド粒子等の高硬度の微
粒子を表面に固定した板を基板に接触させて回転擦動さ
せることにより行う。このような溝の形成の後、ニッケ
ル燐膜の上に下地膜を作成し、その上に磁性膜を作成す
る。下地膜の結晶の配列が前述した通り周方向に向き易
く、これに伴って磁性膜の結晶の配列も周方向に向き易
い。この結果、磁性膜には周方向の保磁力が強くなる磁
気異方性が達成される。

【０００８】しかしながら、上述した方法では、以下の
ような問題がある。まず、ニッケル燐膜という金属系の
膜を機械的に削ってテクスチャを形成する方法では、テ
クスチャを寸法精度良く均一に形成することが難しい。
テクスチャが不均一になると、情報の記録又は読み出し
の際、溝の両側の山の部分に磁気ヘッドが衝突し易くな
り、記録又は読み出しの信頼性や安定性の点で問題が生
ずる。また、金属系の膜を機械的に削る方法では、いわ
ゆるバリが形成され易い。その上に下地膜や磁性膜を作
成すると、バリが形成された部分で薄膜が異常成長し易
く、作成された下地膜や磁性膜に形状欠陥が生ずる恐れ
がある。

【０００９】本願の発明は、このような課題を解決する
ためになされたものであり、磁気異方性を有した信頼性
の高い情報記録ディスクを提供するとともに、そのよう
な信頼性の高い情報記録ディスクを製造する実用的な製
造方法及びシステムを提供する技術的意義がある。

【００１０】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本願の請求項１記載の発明は、ディスク状の基板
と、基板に設けられた記録層用の磁性膜とから成る磁気
記録ディスクにおいて、前記基板はガラス製であって、
その表面には、前記磁性膜に磁気異方性を与える形状で
あるテクスチャが形成されているとともに、このテクス
チャを覆うようにして基板被覆膜が作成されており、前
記磁性膜は、この基板被覆膜の上に作成されたものであ
るという構成を有する。また、上記課題を解決するた
め、請求項２記載の発明は、前記請求項１の構成におい
て、前記基板被覆膜は、ニッケル燐又はニッケル硼素か
ら成るものであり、スパッタリングにより作成されたも
のであるという構成を有する。また、上記課題を解決す
るため、請求項３記載の発明は、ディスク状の基板に記
録層用の磁性膜を設けた構造の磁気記録ディスクの製造
方法であって、前記磁性膜に磁気異方性を与える形状で
あるテクスチャを前記基板の表面に形成する工程と、こ
のテクスチャを覆うようにして基板被覆膜を作成する工
程と、この基板被覆膜の上に、前記磁性膜を含む薄膜を
作成する工程とから成るという構成を有する。また、上
記課題を解決するため、請求項４記載の発明は、前記請
求項３の構成において、前記基板被覆膜は、ニッケル燐
又はニッケル硼素から成るものであり、基板被覆膜がス
パッタリングにより作成されるという構成を有する。ま
た、上記課題を解決するため、請求項５記載の発明は、
ディスク状の基板に記録層用の磁性膜を設けた構造の磁
気記録ディスクの製造システムであって、前記磁性膜に
磁気異方性を与える形状であるテクスチャを前記基板の
表面に形成するテクスチャ形成装置と、テクスチャを覆
うようにして基板被覆膜を作成する被覆膜作成装置と、
基板被覆膜の上に、前記磁性膜を含む薄膜を作成する主
成膜装置とから成るという構成を有する。また、上記課
題を解決するため、請求項６記載の発明は、前記請求項
５の構成において、前記被覆膜作成装置は、ニッケル燐
又はニッケル硼素から成る基板被覆膜をスパッタリング
により作成するものであるという構成を有する。

【００１１】

【発明の実施の形態】以下、本願発明の実施の形態につ
いて説明する。図１は、本願発明の磁気記録ディスクの
実施形態の概略構成を示す断面図である。図１に示す磁
気記録ディスクは、ディスク状の基板１１と、基板１１
に設けられた記録層用の磁性膜１２とから成っている。
より詳しく説明すると、基板１１の表面に、基板被覆膜
１３、下地膜１４、磁性膜１２、保護膜１５、潤滑膜１
６を順に積層した構造となっている。基板被覆膜１３
は、主に、上層である下地膜１４や磁性膜１２の基板１
１に対する付着強度性を充分に確保するために設けられ
ている。また、下地膜１４は、磁性膜１２の磁気特性が
充分得られるようにしたり、基板被覆膜１３に対する磁
性膜１２の付着強度を向上させたりする目的で設けられ
ている。潤滑膜１６は、情報の記録や読み出しの際の磁
気ヘッドの衝突を考慮して設けられている。尚、図１に
示すように、基板被覆膜１３、下地膜１４、磁性膜１
２、保護膜１５、潤滑膜１６は、基板１１を挟んで両側
に設けられている。これは、両面が磁気記録面となるた
めである。

【００１２】本実施形態の特徴点の一つは、ガラス製の
基板１１を使用していることである。より具体的には、
ＨＯＹＡ社製のＮ５等が使用されている。ガラスは、一
般的にアルミニウムに比べヤング率が高く、変形が少な
い。最近の磁気記録ディスクは、記録や読み出し時間の
短縮のため、より高速回転するようになっている。この
ため、高速回転下でも形状変化が極めて少ない点で、ガ
ラス製の基板１１は優れている。

【００１３】本実施形態の別の特徴点の一つは、基板１
１の表面に直接テクスチャが形成されている点である。
この点を図２及び図３を使用して説明する。図２及び図
３は、基板１１の表面に形成されたテクスチャの構成に
ついて説明する図であり、図２は断面概略図、図３は斜
視概略図である。

【００１４】図２に示すように、テクスチャ１７は、鋸
波状の断面形状となっている。そして、図３から解るよ
うに、テクスチャ１７は、基板１１の中心軸と同軸の円
周方向に延びる多数の溝となっている。テクスチャ１７
の寸法について一例を示すと、溝の深さｄは４〜５０オ
ングストローム程度、溝の幅ｗは２５０〜３５０オング
ストローム程度である。尚、図２に示すように、テクス
チャ１７は、基板１１の両面に形成されている。尚、基
板１１を構成するガラスは、アモルファスであることが
好ましい。特殊なガラスとして結晶化ガラスも市販され
ているが、結晶化ガラスの場合、後述するように表面を
削ってテクスチャを形成する際、金属系の薄膜を削る場
合と同様にテクスチャが不均一になったりする欠点があ
ると考えられる。

【００１５】本実施形態のさらに別の特徴点の一つは、
基板被覆膜１３がスパッタリングにより作成されている
点である。上述したように、本実施形態の大きな特徴点
は、ガラス製の基板１１に直接テクスチャ１７を形成す
る点である。この場合、テクスチャ１７を形成した基板
１１の表面にメッキ法により基板被覆膜１３を作成する
ことも不可能ではない。しかしながら、メッキ法による
と、形成したテクスチャ１７の形状を維持しながら基板
被覆膜１３を作成することは難しい。メッキ法による
と、微細な表面形状をなぞるようにして膜を作成するこ
とは不可能に近く、ほぼ平坦な表面の膜となってしま
う。本実施形態では、このような点を考慮してスパッタ
リングにより作成した基板被覆膜１３としている。スパ
ッタリングによると、図２に示すように、表面の凹凸を
なぞるようにして膜が堆積するので、テクスチャ１７の
形状を維持しながら基板被覆膜１３を作成することがで
きる。

【００１６】基板被覆膜１３には、前述したニッケル燐
膜の他、ニッケル硼素（ＮｉＢ，ホウ化ニッケル）膜が
採用できる。基板被覆膜１３の膜厚は、１０〜７０ｎｍ
程度である。基板被覆膜１３の表面の形状は、基板１１
の表面に形成したテクスチャ１７と同様である。下地膜
１４としては、例えばＣｒＭｏ膜が採用され、同様にス
パッタリングにより作成される。下地膜１４の膜厚は、
５〜１５ｎｍ程度である。また、磁性膜１２としては、
例えばＣｏＣｒＴａＰｔ膜が採用され、同様にスパッタ
リングにより作成される。磁性膜１２の膜厚は、１５〜
２０ｎｍ程度である。

【００１７】保護膜１５には、高硬度のカーボン膜が採
用される。カーボン膜は、スパッタリング又はＣＶＤ
（化学蒸着）により作成される。厚さは、３０〜５０ｎ
ｍ程度である。潤滑膜１６には、パーフルオロポリエー
テル（ＰＥＰＥ）のようなフッ素系潤滑剤が使用され
る。潤滑膜１６は、ディップ法、スピンコート法、スプ
レー法等により磁性膜１２の表面に１〜２ｎｍ程度の厚
さで作成される。

【００１８】次に、磁気記録ディスクの製造方法及び製
造システムの発明の実施形態について説明する。図４
は、本願発明の実施形態の磁気記録ディスクの製造シス
テムの構成を示す概略図である。図４に示すシステム
は、ガラス製の基板１１にテクスチャ１７を形成するテ
クスチャ形成装置２と、テクスチャ１７の形成後に基板
１１を洗浄する洗浄装置３と、洗浄後に基板１１に基板
被覆膜１３をスパッタリングにより作成する被覆膜作成
装置４と、基板被覆膜１３の上に下地膜１４、磁性膜１
２及び保護膜１５を連続形成する主成膜装置５と、磁性
膜１２の上に潤滑膜１６を作成する潤滑膜作成装置６と
から主に形成されている。

【００１９】まず、テクスチャ形成装置２について説明
する。図５は、図４に示すテクスチャ形成装置２の概略
構成を示す図である。図５に示すように、テクスチャ形
成装置２は、基板１１を保持する保持具２１と、保持具
２１を介して基板１１を回転させる回転機構２２と、基
板１１の表面に接触する接触板２３と、接触板２３の表
面に形成された不図示の微細突起と、接触板２３の基板
１１の表面に対する接触圧力を調節する調圧機構２４と
から主に構成されている。

【００２０】保持具２１は、基板１１の中央の開口の縁
の部分で基板１１を保持するようになっている。回転機
構２２は、保持具２１を構成する保持軸を回転させるこ
とにより基板１１と同軸の回転軸の周りに基板１１を回
転させるようになっている。微細突起は、粒径０．１〜
０．２μｍ程度のダイヤモンド粒子を接触板２３の表面
に多数固定することで形成されている。固定の方法とし
ては、ダイヤモンド粒子を均一に散在させたスラリーを
板材の上に盛り、焼結等の方法により固化させる方法が
挙げられる。調圧機構２４には、トルクモータを使用し
た前後移動機構等が採用できる。トルクモータの出力ト
ルクを調節して、接触板２３の基板１１の表面に対する
接触圧力を調整する。尚、接触板２３は、基板１１の表
面に接触した際に基板１１と一緒に回転しないようにな
っている。

【００２１】保持具２１により基板１１を保持した状態
で、接触板２３を基板１１の表面に接触させる。調圧機
構２４により接触圧力を調整しながら、回転機構２２に
より基板１１を回転させる。この結果、接触板２３の表
面の微細突起により基板１１の表面が削られ、基板１１
の表面に前述したようなテクスチャ１７が形成される。
尚、接触板２３及び調圧機構２４は、基板１１の両側に
設けられており、基板１１の両面に同時にテクスチャ１
７を形成できるようになっている。また、上記以外の構
成として、ダイヤモンド粒子を均一に散在させたスラリ
ーを間に挟んで押し付け板を基板１１の表面に押し付
け、この状態で基板１１を回転させる構成も採用し得
る。

【００２２】洗浄装置３は、テクスチャ１７の形成の際
に付着したゴミ等を除去するものである。テクスチャ１
７形成の際、削り取られた基板１１の材料は、微粒子と
なって基板１１の表面に付着していることがある。この
ような微粒子が付着したまま基板被覆膜１３作成等の後
工程を行うと、基板被覆膜１３等の付着性が低下した
り、膜に微小な突起が形成される等の形状欠陥が生じた
り、磁気特性等が阻害されたりする問題がある。このた
め、洗浄装置３によって洗浄するようにしている。

【００２３】洗浄装置３としては、純水等の洗浄液を溜
めた洗浄槽と、洗浄後に基板１１を乾燥させる乾燥槽等
から構成されている。基板１１は、不図示の容器に複数
収容され、洗浄槽内の洗浄液に浸けられて洗浄される。
必要に応じて、洗浄液を加熱したり、超音波等の振動を
洗浄液を介して基板１１に与えたりする構成が付加され
る。

【００２４】被覆膜作成装置４の構成について、図６を
使用して説明する。図６は、図４に示す被覆膜作成装置
４の平面断面概略図である。被覆膜作成装置４は、真空
チャンバーである被覆膜作成チャンバー４１と、被覆膜
作成チャンバー４１内を排気する排気系４２と、被覆膜
作成チャンバー４１内にスパッタ用ガスを導入するガス
導入系４３と、被覆膜作成チャンバー４１内の空間に被
スパッタ面を露出させて設けたターゲット４４と、ター
ゲット４４にスパッタ放電用の電圧を印加するスパッタ
電源４５と、マグネトロンスパッタリングを行うために
ターゲット４４の背後に設けられた磁石機構４６とから
主に構成されている。

【００２５】被覆膜作成チャンバー４１には、ゲートバ
ルブ４０を介して不図示のロードロックチャンバー及び
不図示のプリヒートチャンバーが接続されている。プリ
ヒートチャンバーは、成膜に先だって基板１１を所定温
度まで加熱するものである。プリヒートチャンバーは、
輻射加熱ランプ等により基板１１を加熱するよう構成さ
れる。

【００２６】ガス導入系４３は、アルゴン等のスパッタ
率の高いガスを所定の流量で導入するようになってい
る。ターゲット４４は、作成する基板被覆膜１３の材料
より成る。ニッケル燐膜を基板被覆膜１３として作成す
る場合にはニッケル燐製のターゲット４４が使用される
し、ニッケル硼素膜を作成する場合には、ニッケル硼素
製のターゲット４４が使用される。

【００２７】磁石機構４６は、中心磁石４６１と、中心
磁石４６１を取り囲む周辺磁石４６２と、両者をつなぐ
ヨーク４６３とからなる構成である。中心磁石４６１と
周辺磁石４６２とにまたがるように設定される磁力線は
ターゲット４４を貫き、ターゲット４４の表面と磁力線
とによって閉空間が設定される。この閉空間内に電子が
閉じこめられるため、高効率のスパッタ放電が達成さ
れ、高速のスパッタリングが可能となる。尚、ターゲッ
ト４４、スパッタ電源４５、磁石機構４６の組は、基板
１１を挟んで両側に設けられている。これは、基板１１
の両面に同時に成膜するためである。

【００２８】また、被覆膜作成チャンバー４１と大気側
との間の基板１１の搬入搬出には、基板１１を保持する
基板キャリアが使用される。基板キャリアの構成として
は、特開平１１−９１９４５号公報及び特開平１１−９
１９４６号公報に開示された構成を採用することが可能
である。また、基板１１を保持した基板キャリアの移動
のための構成としては、特開平８−２７４１４２号公報
に開示された構成を採用することができる。

【００２９】図６において、不図示の基板キャリアに基
板１１を載せ、大気側から不図示のロードロックチャン
バーを経由して不図示のプリヒートチャンバーに搬送す
る。プリヒートチャンバーで、基板１１を１００〜１５
０℃程度まで加熱した後、ゲートバルブ４０を通して被
覆膜作成チャンバー４１内に搬送する。ゲートバルブ４
０を閉じた後、ガス導入系４３によってスパッタ用ガス
を所定の流量で導入し、排気系４２によって被覆膜作成
チャンバー４１内を所定の圧力に維持する。この状態で
スパッタ電源４５（負の直流電圧又は高周波電圧）を動
作させ、スパッタ放電を生じさせる。スパッタ放電の過
程でターゲット４４から弾き出されたターゲットの材料
の粒子（スパッタ粒子）は、基板１１の表面に達する。
スパッタ粒子の到達が重なって薄膜に成長し、基板１１
の表面に基板被覆膜１３が作成される。

【００３０】次に、主成膜装置５は、スパッタリングに
より下地膜１４と磁性膜１２とを作成するとともに、Ｃ
ＶＤによって保護膜１５を作成する構成となっている。
主成膜装置５は、不図示のロードロックチャンバーと、
下地膜作成チャンバーと、磁性膜作成チャンバーと、保
護膜作成チャンバー等をゲートバルブを介して気密に接
続したインライン式の装置である。このような装置の構
成には、特開平１１−２２９１５０号公報の開示を採用
することができる。尚、保護膜作成チャンバーは、スパ
ッタリングにより保護膜１５を作成するよう構成するこ
とも可能である。

【００３１】また、潤滑膜作成装置６としては、本実施
形態では、真空蒸着により潤滑膜１６を作成する構成が
採用されている。具体的には、潤滑膜作成装置６は、真
空チャンバーである潤滑膜作成チャンバーと、潤滑膜作
成チャンバー内に設けられているとともに潤滑剤を溜め
た坩堝と、坩堝内の潤滑剤を加熱して蒸発させる加熱源
等から構成されている。

【００３２】次に、磁気記録ディスクの製造方法の発明
の実施形態の説明も兼ねて、上記製造システムの全体の
動作について説明する。まず、前述したように、ガラス
製の基板１１の両面にテクスチャ形成装置２によってテ
クスチャ１７を形成する。そして、この基板１１を洗浄
装置３において洗浄し、乾燥させる。次に、被覆膜作成
装置４において、基板１１の表面に基板被覆膜１３をス
パッタリングにより作成する。その後、主成膜装置５に
おいて、下地膜１４、磁性膜１２、保護膜１５を順次作
成する。そして、潤滑膜作成装置６において、保護膜１
５の上に潤滑膜１６を作成することで、一連の製造プロ
セスが終了する。

【００３３】上記構成に係る本実施形態の磁気記録ディ
スク及び磁気記録ディスクの製造方法並びに製造システ
ムによれば、ガラス製の基板１１を使用しているので、
情報の記録や読み出しの際の高速回転時にも基板１１の
形状変化が極めて少なく、高信頼性の磁気記録ディスク
が提供される。その上、ガラス製の基板１１そのものに
テクスチャ１７を形成しているので、金属系の薄膜を削
ってテクスチャ１７を形成する際の諸問題とは無縁であ
る。即ち、テクスチャ１７の形状が不均一となって磁気
特性が不均一となったり、磁気ヘッドの衝突が頻発した
りするような問題が無い。また、基板被覆膜１３がスパ
ッタリングにより作成されるので、テクスチャ１７の形
状が充分に維持される。このため、磁気異方性の確保に
よる磁気記録の信頼性向上が充分に期待される。

【００３４】上述した説明では、情報記録ディスクの例
としてハードディスクが主に採り上げられたが、フレキ
シブルディスクやＺＩＰディスクのような他の磁気記録
ディスクについても同様に実施できる。尚、本願発明が
対象とする磁気記録ディスクには、光磁気ディスクのよ
うな磁気の作用とともに磁気以外の作用を利用するもの
も含まれる。

【００３５】

【発明の効果】以上説明した通り、本願の各請求項の発
明によれば、ガラス製の基板を使用しているので、高速
回転時にも形状変化が極めて少なく、高信頼性の磁気記
録ディスクが提供される。その上、ガラス製の基板その
ものにテクスチャを形成しているので、金属系の薄膜を
削ってテクスチャを形成する際の諸問題とは無縁であ
る。また、請求項２、４、６の発明によれば、上記効果
に加え、基板被覆膜がスパッタリングにより作成される
ので、テクスチャの形状が充分に維持される。このた
め、磁気異方性の確保による磁気記録の信頼性向上が充
分に期待される。

【図面の簡単な説明】

【図１】本願発明の磁気記録ディスクの実施形態の概略
構成を示す断面図である。

【図２】基板１１の表面に形成されたテクスチャ１７の
構成について説明する断面概略図である。

【図３】基板１１の表面に形成されたテクスチャ１７の
構成について説明する斜視概略図である。

【図４】本願発明の実施形態の磁気記録ディスクの製造
システムの構成を示す概略図である。

【図５】図４に示すテクスチャ形成装置２の概略構成を
示す図である。

【図６】図４に示す被覆膜作成装置４の平面断面概略図
である。

【符号の説明】

１１基板１２磁性膜１３基板被覆膜１４下地膜１５保護膜１６潤滑膜１７テクスチャ２テクスチャ形成装置３洗浄装置４被覆膜作成装置５主成膜装置６潤滑膜作成装置

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者渡辺直樹東京都府中市四谷５丁目８番１号アネルバ株式会社内Ｆターム(参考） 5D006 CB04 CB07 CB08 DA03 EA03 FA09 5D112 AA02 AA11 AA24 BA03 BA05 FA04 GA02 GA09

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】ディスク状の基板と、基板に設けられた
記録層用の磁性膜とから成る磁気記録ディスクにおい
て、前記基板はガラス製であって、その表面には、前記磁性
膜に磁気異方性を与える形状であるテクスチャが形成さ
れているとともに、このテクスチャを覆うようにして基
板被覆膜が作成されており、前記磁性膜は、この基板被
覆膜の上に作成されたものであることを特徴とする磁気
記録ディスク。
【請求項２】前記基板被覆膜は、ニッケル燐又はニッ
ケル硼素から成るものであり、スパッタリングにより作
成されたものであることを特徴とする請求項１記載の磁
気記録ディスク。
【請求項３】ディスク状の基板に記録層用の磁性膜を
設けた構造の磁気記録ディスクの製造方法であって、前記磁性膜に磁気異方性を与える形状であるテクスチャ
を前記基板の表面に形成する工程と、このテクスチャを
覆うようにして基板被覆膜を作成する工程と、この基板
被覆膜の上に、前記磁性膜を含む薄膜を作成する工程と
から成ることを特徴とする磁気記録ディスクの製造方
法。
【請求項４】前記基板被覆膜は、ニッケル燐又はニッ
ケル硼素から成るものであり、基板被覆膜がスパッタリ
ングにより作成されることを特徴とする請求項３記載の
磁気記録ディスクの製造方法。
【請求項５】ディスク状の基板に記録層用の磁性膜を
設けた構造の磁気記録ディスクの製造システムであっ
て、前記磁性膜に磁気異方性を与える形状であるテクスチャ
を前記基板の表面に形成するテクスチャ形成装置と、テ
クスチャを覆うようにして基板被覆膜を作成する被覆膜
作成装置と、基板被覆膜の上に、前記磁性膜を含む薄膜
を作成する主成膜装置とから成ることを特徴とする磁気
記録ディスクの製造システム。
【請求項６】前記被覆膜作成装置は、ニッケル燐又は
ニッケル硼素から成る基板被覆膜をスパッタリングによ
り作成するものであることを特徴とする請求項５記載の
磁気記録ディスクの製造システム。