JPH087251A - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
- Publication number
- JPH087251A JPH087251A JP13233094A JP13233094A JPH087251A JP H087251 A JPH087251 A JP H087251A JP 13233094 A JP13233094 A JP 13233094A JP 13233094 A JP13233094 A JP 13233094A JP H087251 A JPH087251 A JP H087251A
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- Japan
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- substrate
- magnetic recording
- flatness
- film thickness
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 薄板の磁気記録用基板を用いて高温下でのス
パッタ成膜工程を経ても基板変形が少なく、平面度の良
い磁気記録媒体を提供することにある。 【構成】 非磁性基板１上に下地層としてＮｉ−Ｐめっ
き膜１ａを施して成る磁気記録用基板を用いた磁気記録
媒体において、磁気記録用基板の板厚が0.635mm以下
で、表裏面のＮｉ−Ｐめっき膜１ａの膜厚差を0.35μｍ
以下に設定する。高温スパッタ工程を経た磁気記録用基
板の平面度は５μｍ以下である。膜厚差を0.35μｍ以下
にすれば、反り変形の少ない状態で、基板薄板化に対応
可能であり、またスパッタ成膜の高温化に対応可能で高
保磁力の磁気記録媒体を実現できる。
パッタ成膜工程を経ても基板変形が少なく、平面度の良
い磁気記録媒体を提供することにある。 【構成】 非磁性基板１上に下地層としてＮｉ−Ｐめっ
き膜１ａを施して成る磁気記録用基板を用いた磁気記録
媒体において、磁気記録用基板の板厚が0.635mm以下
で、表裏面のＮｉ−Ｐめっき膜１ａの膜厚差を0.35μｍ
以下に設定する。高温スパッタ工程を経た磁気記録用基
板の平面度は５μｍ以下である。膜厚差を0.35μｍ以下
にすれば、反り変形の少ない状態で、基板薄板化に対応
可能であり、またスパッタ成膜の高温化に対応可能で高
保磁力の磁気記録媒体を実現できる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、非磁性基板上にＮｉ−
Ｐめっき膜を施して成る磁気記録用基板を用いた磁気記
録媒体に関し、特にその磁気記録用基板に関する。
Ｐめっき膜を施して成る磁気記録用基板を用いた磁気記
録媒体に関し、特にその磁気記録用基板に関する。
【０００２】
【従来の技術】一般的な金属薄膜磁気記録ディスク（媒
体）の断面構造は、図５に示すように、非磁性基板１上
に非磁性のＣｒ下地膜２を積層し、このＣｒ下地膜２上
に強磁性合金のＣｏ合金磁性膜３を薄膜状に積層した
後、この磁性膜３上に例えばポリマー質を加味したダイ
ヤモンドライクカーボンＤＬＣ（Diamond Like Carbon
n)のカーボン保護膜４を積層形成し、更にそのカーボン
保護膜４の上に液体潤滑材からなる潤滑膜５を設けたも
のである。非磁性基板１としてはＡｌ合金，ガラス，カ
ーボン，チタン等が用いられるが、現在では主に、非磁
性基板１はＡｌ合金基板で、この上に下地膜としてＮｉ
−Ｐ（ニッケル−リン）めっき膜１ａをコートし、その
表面を研磨（ポリッシュ）した磁気記録用基板が用いら
れている。
体）の断面構造は、図５に示すように、非磁性基板１上
に非磁性のＣｒ下地膜２を積層し、このＣｒ下地膜２上
に強磁性合金のＣｏ合金磁性膜３を薄膜状に積層した
後、この磁性膜３上に例えばポリマー質を加味したダイ
ヤモンドライクカーボンＤＬＣ（Diamond Like Carbon
n)のカーボン保護膜４を積層形成し、更にそのカーボン
保護膜４の上に液体潤滑材からなる潤滑膜５を設けたも
のである。非磁性基板１としてはＡｌ合金，ガラス，カ
ーボン，チタン等が用いられるが、現在では主に、非磁
性基板１はＡｌ合金基板で、この上に下地膜としてＮｉ
−Ｐ（ニッケル−リン）めっき膜１ａをコートし、その
表面を研磨（ポリッシュ）した磁気記録用基板が用いら
れている。
【０００３】ところで、Ａｌ合金基板を用いた磁気記録
用基板の板厚は、3.5 インチ（95mm）径では1.27mm、2.
5 インチ（65mm）径では0.89mmが主流であったが、固定
磁気ディスク装置の大容量化，小型化に伴い板厚の薄板
化が進んでいる。因に、1.89インチ（48mm）径では0.63
5mm となる傾向がある。
用基板の板厚は、3.5 インチ（95mm）径では1.27mm、2.
5 インチ（65mm）径では0.89mmが主流であったが、固定
磁気ディスク装置の大容量化，小型化に伴い板厚の薄板
化が進んでいる。因に、1.89インチ（48mm）径では0.63
5mm となる傾向がある。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、磁気記
録用基板の板厚の薄板化は次のような問題点を惹起させ
る。即ち、磁気記録媒体の高容量化に伴い保磁力の高い
磁気記録媒体の製造が必要であり、高保磁力を得るには
できるだけ高温下でＣｒ合金磁性膜をスパッタ成膜する
のが有利であるが、板厚の薄い上記の如き磁気記録用基
板を高温に加熱すると、基板変形（反り）が顕在化し
て、磁気記録媒体の平面度が劣化してしまう。
録用基板の板厚の薄板化は次のような問題点を惹起させ
る。即ち、磁気記録媒体の高容量化に伴い保磁力の高い
磁気記録媒体の製造が必要であり、高保磁力を得るには
できるだけ高温下でＣｒ合金磁性膜をスパッタ成膜する
のが有利であるが、板厚の薄い上記の如き磁気記録用基
板を高温に加熱すると、基板変形（反り）が顕在化し
て、磁気記録媒体の平面度が劣化してしまう。
【０００５】そこで上記問題点に鑑み、本発明の課題
は、薄板の磁気記録用基板を用いて高温下でのスパッタ
成膜工程を経ても基板変形が少なく、平面度の良い磁気
記録媒体を提供することにある。
は、薄板の磁気記録用基板を用いて高温下でのスパッタ
成膜工程を経ても基板変形が少なく、平面度の良い磁気
記録媒体を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明の講じた手段は、非磁性基板上に下地層とし
てＮｉ−Ｐめっき膜を施して成る磁気記録用基板を用い
た磁気記録媒体において、板厚が0.635mm 以下であり、
表裏面のＮｉ−Ｐめっき膜の膜厚差が0.35μｍ以下であ
る磁気記録用基板を用いたことを特徴とする。そして、
そのＮｉ−Ｐめっき膜の膜厚としては少なくとも７μｍ
であることが望ましい。非磁性基板としては例えばアル
ミニウム合金を用いることができる。
に、本発明の講じた手段は、非磁性基板上に下地層とし
てＮｉ−Ｐめっき膜を施して成る磁気記録用基板を用い
た磁気記録媒体において、板厚が0.635mm 以下であり、
表裏面のＮｉ−Ｐめっき膜の膜厚差が0.35μｍ以下であ
る磁気記録用基板を用いたことを特徴とする。そして、
そのＮｉ−Ｐめっき膜の膜厚としては少なくとも７μｍ
であることが望ましい。非磁性基板としては例えばアル
ミニウム合金を用いることができる。
【０００７】
【作用】基板変形はＡｌ合金基板だけを高温下に置いて
も起こらないが、これにＮｉ−Ｐめっき膜がコートされ
た薄板の磁気記録用基板で起こり、磁気記録用基板の表
裏面のＮｉ−Ｐめっき膜の膜厚差に起因していることが
判明した。そして、磁気記録媒体の平面度を良くするに
は、表裏面のＮｉ−Ｐめっき膜の膜厚差を少なくすれば
良いことが判明した。本発明では、Ｎｉ−Ｐめっき膜の
膜厚差0.35μｍ以下の磁気記録用基板を用いると、高温
処理後に得られた磁気記録用基板の平面度も良好なもの
で、５μｍ以下の平面度を実現できた。換言すれば、反
り変形の少ない状態で、基板の薄板化とスパッタ成膜の
高温化に対応することができる。
も起こらないが、これにＮｉ−Ｐめっき膜がコートされ
た薄板の磁気記録用基板で起こり、磁気記録用基板の表
裏面のＮｉ−Ｐめっき膜の膜厚差に起因していることが
判明した。そして、磁気記録媒体の平面度を良くするに
は、表裏面のＮｉ−Ｐめっき膜の膜厚差を少なくすれば
良いことが判明した。本発明では、Ｎｉ−Ｐめっき膜の
膜厚差0.35μｍ以下の磁気記録用基板を用いると、高温
処理後に得られた磁気記録用基板の平面度も良好なもの
で、５μｍ以下の平面度を実現できた。換言すれば、反
り変形の少ない状態で、基板の薄板化とスパッタ成膜の
高温化に対応することができる。
【０００８】膜厚差は0.35μｍ以下とするが、Ｎｉ−Ｐ
めっき膜の膜厚は７μｍ以上とするのが望ましい。７μ
ｍ以上にすると、板厚の薄板化の下でも強度を確保でき
る。
めっき膜の膜厚は７μｍ以上とするのが望ましい。７μ
ｍ以上にすると、板厚の薄板化の下でも強度を確保でき
る。
【０００９】
【実施例】次に、本発明の実施例を添付図面に基づいて
説明する。
説明する。
【００１０】外径1.89インチ（48mm）で板厚0.635mm の
磁気記録用基板（Ａｌ合金基板上にＮｉ−Ｐめっき膜を
施し、研磨したもの）についてめっき膜厚差を変えて加
熱してその変形度，平面度を確認した。ここで、基板に
おいて凸面をＡ面、凹面をＢ面とする。また平面度は、
レーザ光照射によるニュートンリングの干渉縞の本数を
中心から放射方向に数えて中心の変位量を算出するもの
である。凸面はプラス、凹面はマイナスである。なお、
下地膜としてのＮｉ−Ｐめっき膜の膜厚は磁気記録媒体
の強度確保の点で７μｍ以上必要である。
磁気記録用基板（Ａｌ合金基板上にＮｉ−Ｐめっき膜を
施し、研磨したもの）についてめっき膜厚差を変えて加
熱してその変形度，平面度を確認した。ここで、基板に
おいて凸面をＡ面、凹面をＢ面とする。また平面度は、
レーザ光照射によるニュートンリングの干渉縞の本数を
中心から放射方向に数えて中心の変位量を算出するもの
である。凸面はプラス、凹面はマイナスである。なお、
下地膜としてのＮｉ−Ｐめっき膜の膜厚は磁気記録媒体
の強度確保の点で７μｍ以上必要である。
【００１１】図１はＡ面の熱処理後の平面度からＡ面の
熱処理前の平面度を差し引いた値（変形度）のＮｉ−Ｐ
めっき膜厚差の依存性を示すグラフである。熱処理によ
って変形が発生しない場合は、変形度は０である。膜厚
差0.25μｍ以下で、変形度ゼロのデータは数例あった。
１例だけ変形度マイナスのもの（加熱処理によって平面
度が良くなるもの）があったが、この特異データはニュ
ートンリングが非同心円となったものから得られたもの
であるので、割愛できるデータである。図１からすれ
ば、膜厚差が大きくならば変形度（凸面度合い）も大き
くなっている。特性曲線ａは略線形であり、標準偏差±
εに乗る曲線はａ+ , ａ- 、標準偏差±２εに乗る曲線
はａ++ ,ａ--である。
熱処理前の平面度を差し引いた値（変形度）のＮｉ−Ｐ
めっき膜厚差の依存性を示すグラフである。熱処理によ
って変形が発生しない場合は、変形度は０である。膜厚
差0.25μｍ以下で、変形度ゼロのデータは数例あった。
１例だけ変形度マイナスのもの（加熱処理によって平面
度が良くなるもの）があったが、この特異データはニュ
ートンリングが非同心円となったものから得られたもの
であるので、割愛できるデータである。図１からすれ
ば、膜厚差が大きくならば変形度（凸面度合い）も大き
くなっている。特性曲線ａは略線形であり、標準偏差±
εに乗る曲線はａ+ , ａ- 、標準偏差±２εに乗る曲線
はａ++ ,ａ--である。
【００１２】図２はＢ面の熱処理後の平面度からＢ面の
熱処理前の平面度を差し引いた値（変形度）のＮｉ−Ｐ
めっき膜厚差の依存性を示すグラフである。図２のグラ
フは、基板の厚みがあるため、図１のグラフに対して正
負対称ではない。図２からすれば、膜厚差が大きくなら
ば変形度（凹面度合い）も大きくなっている。特性曲線
ｂは略線形であり、標準偏差±εに乗る曲線はｂ+ , ｂ
- 、標準偏差±２εに乗る曲線はｂ++ ,ｂ--である。
熱処理前の平面度を差し引いた値（変形度）のＮｉ−Ｐ
めっき膜厚差の依存性を示すグラフである。図２のグラ
フは、基板の厚みがあるため、図１のグラフに対して正
負対称ではない。図２からすれば、膜厚差が大きくなら
ば変形度（凹面度合い）も大きくなっている。特性曲線
ｂは略線形であり、標準偏差±εに乗る曲線はｂ+ , ｂ
- 、標準偏差±２εに乗る曲線はｂ++ ,ｂ--である。
【００１３】図３はＡ面の熱処理後の平面度のＮｉ−Ｐ
めっき膜厚差の依存性を示すグラフである。この図から
明らかなように、膜厚差が大きいと、加熱後の平面度が
悪くなっており、膜厚差を少なくすることが必要であ
る。特性曲線Ａは略線形であり、標準偏差±εに乗る曲
線はＡ+ , Ａ- 、標準偏差±２εに乗る曲線はＡ++ ,Ａ
--である。加熱後の平面度は一般に５μｍ以下にする必
要があるので、Ａ面の平面度５μｍ以下にするには、め
っき膜厚差は0.35μｍ以下の磁気記録用基板を選定する
必要がある。
めっき膜厚差の依存性を示すグラフである。この図から
明らかなように、膜厚差が大きいと、加熱後の平面度が
悪くなっており、膜厚差を少なくすることが必要であ
る。特性曲線Ａは略線形であり、標準偏差±εに乗る曲
線はＡ+ , Ａ- 、標準偏差±２εに乗る曲線はＡ++ ,Ａ
--である。加熱後の平面度は一般に５μｍ以下にする必
要があるので、Ａ面の平面度５μｍ以下にするには、め
っき膜厚差は0.35μｍ以下の磁気記録用基板を選定する
必要がある。
【００１４】図４はＢ面の熱処理後の平面度のＮｉ−Ｐ
めっき膜厚差の依存性を示すグラフである。この図から
明らかなように、膜厚差が大きいと、加熱後の平面度が
悪くなっている。Ｂ面の平面度５μｍ以下にするには、
めっき膜厚差は0.375 μｍ以下の磁気記録用基板を選定
する必要がある。
めっき膜厚差の依存性を示すグラフである。この図から
明らかなように、膜厚差が大きいと、加熱後の平面度が
悪くなっている。Ｂ面の平面度５μｍ以下にするには、
めっき膜厚差は0.375 μｍ以下の磁気記録用基板を選定
する必要がある。
【００１５】従って、Ａ面，Ｂ面を共に平面度５μｍ以
下にするには、磁気記録用基板のめっき膜厚差を0.35μ
ｍ以下に設定する必要がある。このような微小差の膜厚
差の設定は、例えば研磨工程において、砥粒の選定や、
研磨材の押し付け圧力を弱くしたり、研磨時間を短くす
ることにより達成される。
下にするには、磁気記録用基板のめっき膜厚差を0.35μ
ｍ以下に設定する必要がある。このような微小差の膜厚
差の設定は、例えば研磨工程において、砥粒の選定や、
研磨材の押し付け圧力を弱くしたり、研磨時間を短くす
ることにより達成される。
【００１６】なお、上述のような膜厚差は、アルミニウ
ム合金基板に限らず、ガラス，チタン等の非磁性基板の
上にＮｉ−Ｐめっき膜を施した磁気記録用基板にも適用
でき、平面度の良好な磁気記録媒体が得られる。また、
本発明は1.89インチの媒体に限らず、それ以上の外径の
媒体にも適用可能ある。
ム合金基板に限らず、ガラス，チタン等の非磁性基板の
上にＮｉ−Ｐめっき膜を施した磁気記録用基板にも適用
でき、平面度の良好な磁気記録媒体が得られる。また、
本発明は1.89インチの媒体に限らず、それ以上の外径の
媒体にも適用可能ある。
【００１７】
【発明の効果】以上説明したように、本発明に係る磁気
記録媒体は、非磁性基板上に下地層としてＮｉ−Ｐめっ
き膜を施して成る磁気記録用基板を用いた磁気記録媒体
において、板厚が0.635mm 以下であり、表裏面のＮｉ−
Ｐめっき膜の膜厚差が0.35μｍ以下である磁気記録用基
板を用いたことを特徴とするものであるから、次の効果
を奏する。
記録媒体は、非磁性基板上に下地層としてＮｉ−Ｐめっ
き膜を施して成る磁気記録用基板を用いた磁気記録媒体
において、板厚が0.635mm 以下であり、表裏面のＮｉ−
Ｐめっき膜の膜厚差が0.35μｍ以下である磁気記録用基
板を用いたことを特徴とするものであるから、次の効果
を奏する。
【００１８】 基板変形は磁気記録用基板の表裏面の
Ｎｉ−Ｐめっき膜の膜厚差に起因していることが判明し
たが、Ｎｉ−Ｐめっき膜の膜厚差0.35μｍ以下の磁気記
録用基板を用いると、高温処理後に得られた磁気記録媒
体の平面度も良好なもので、５μｍ以下の平面度を実現
できた。換言すれば、反り変形の少ない状態で、基板の
薄板化に対応可能であり、またスパッタ成膜の高温化に
対応可能で高保磁力の磁気記録媒体を実現できる。
Ｎｉ−Ｐめっき膜の膜厚差に起因していることが判明し
たが、Ｎｉ−Ｐめっき膜の膜厚差0.35μｍ以下の磁気記
録用基板を用いると、高温処理後に得られた磁気記録媒
体の平面度も良好なもので、５μｍ以下の平面度を実現
できた。換言すれば、反り変形の少ない状態で、基板の
薄板化に対応可能であり、またスパッタ成膜の高温化に
対応可能で高保磁力の磁気記録媒体を実現できる。
【００１９】 Ｎｉ−Ｐめっき膜の膜厚を７μｍ以上
にすると、板厚の薄板化の下でも基板強度を確保でき
る。
にすると、板厚の薄板化の下でも基板強度を確保でき
る。
【図１】本発明の実施例において、磁気記録用基板のＡ
面の熱処理後の平面度からＡ面の熱処理前の平面度を差
し引いた値（変形度）のＮｉ−Ｐめっき膜厚差の依存性
を示すグラフである。
面の熱処理後の平面度からＡ面の熱処理前の平面度を差
し引いた値（変形度）のＮｉ−Ｐめっき膜厚差の依存性
を示すグラフである。
【図２】本発明の実施例において、磁気記録用基板のＢ
面の熱処理後の平面度からＢ面の熱処理前の平面度を差
し引いた値（変形度）のＮｉ−Ｐめっき膜厚差の依存性
を示すグラフである。
面の熱処理後の平面度からＢ面の熱処理前の平面度を差
し引いた値（変形度）のＮｉ−Ｐめっき膜厚差の依存性
を示すグラフである。
【図３】本発明の実施例において、磁気記録用基板のＡ
面の熱処理後の平面度のＮｉ−Ｐめっき膜厚差の依存性
を示すグラフである。
面の熱処理後の平面度のＮｉ−Ｐめっき膜厚差の依存性
を示すグラフである。
【図４】本発明の実施例において、磁気記録用基板のＢ
面の熱処理後の平面度のＮｉ−Ｐめっき膜厚差の依存性
を示すグラフである。
面の熱処理後の平面度のＮｉ−Ｐめっき膜厚差の依存性
を示すグラフである。
【図５】一般的な金属薄膜磁気記録ディスク（媒体）の
断面構造を示す模式的断面図である。
断面構造を示す模式的断面図である。
１…非磁性基板 １ａ…Ｎｉ−Ｐめっき膜 ２…Ｃｒ下地膜 ３…Ｃｏ合金磁性膜 ４…カーボン保護膜 ５…潤滑膜。
Claims (3)
- 【請求項１】 非磁性基板上に下地層としてＮｉ−Ｐめ
っき膜を施して成る磁気記録用基板を用いた磁気記録媒
体において、 前記磁気記録用基板の板厚が0.635mm 以下であって、前
記磁気記録用基板の表裏面の前記Ｎｉ−Ｐめっき膜の膜
厚差が0.35μｍ以下であることを特徴とする磁気記録媒
体。 - 【請求項２】 請求項１に記載の磁気記録媒体におい
て、前記Ｎｉ−Ｐめっき膜の膜厚が７μｍ以上であるこ
とを特徴とする磁気記録媒体。 - 【請求項３】 請求項１又は請求項２に記載の磁気記録
媒体において、前記非磁性基板はアルミニウム合金であ
ることを特徴とする磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13233094A JPH087251A (ja) | 1994-06-15 | 1994-06-15 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13233094A JPH087251A (ja) | 1994-06-15 | 1994-06-15 | 磁気記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH087251A true JPH087251A (ja) | 1996-01-12 |
Family
ID=15078806
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13233094A Pending JPH087251A (ja) | 1994-06-15 | 1994-06-15 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH087251A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6740383B2 (en) | 1998-05-27 | 2004-05-25 | Fujitsu Limited | Magnetic recording medium possessing a ratio of Hc(perpendicular) to Hc(horizontal) that is not more than 0.22 and magnetic recording disk device |
| WO2021061237A3 (en) * | 2019-09-25 | 2021-08-05 | Western Digital Technologies, Inc. | Magnetic recording apparatus comprising disk with reduced thickness and reduced disk flatness |
| US11205453B2 (en) | 2016-12-28 | 2021-12-21 | Toyo Kohan Co., Ltd. | Hard disk substrate and hard disk device including the hard disk substrate |
| US20230335162A1 (en) * | 2022-04-13 | 2023-10-19 | Western Digital Technologies, Inc. | Magnetic recording disk with metallic layers having thicknesses configured to balance weight and rigidity of the disk |
-
1994
- 1994-06-15 JP JP13233094A patent/JPH087251A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6740383B2 (en) | 1998-05-27 | 2004-05-25 | Fujitsu Limited | Magnetic recording medium possessing a ratio of Hc(perpendicular) to Hc(horizontal) that is not more than 0.22 and magnetic recording disk device |
| US11205453B2 (en) | 2016-12-28 | 2021-12-21 | Toyo Kohan Co., Ltd. | Hard disk substrate and hard disk device including the hard disk substrate |
| WO2021061237A3 (en) * | 2019-09-25 | 2021-08-05 | Western Digital Technologies, Inc. | Magnetic recording apparatus comprising disk with reduced thickness and reduced disk flatness |
| CN113632166A (zh) * | 2019-09-25 | 2021-11-09 | 西部数据技术公司 | 包括具有减缩厚度和减缩盘平坦度的盘的磁记录装置 |
| JP2022514733A (ja) * | 2019-09-25 | 2022-02-15 | ウェスタン デジタル テクノロジーズ インコーポレーテッド | 低減された厚さ及び低減されたディスク平坦度を有するディスクを備える磁気記録装置 |
| CN113632166B (zh) * | 2019-09-25 | 2024-02-23 | 西部数据技术公司 | 包括具有减缩厚度和减缩盘平坦度的盘的磁记录装置 |
| US20230335162A1 (en) * | 2022-04-13 | 2023-10-19 | Western Digital Technologies, Inc. | Magnetic recording disk with metallic layers having thicknesses configured to balance weight and rigidity of the disk |
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