JP2565411B2

JP2565411B2 - 塗布装置

Info

Publication number: JP2565411B2
Application number: JP2061190A
Authority: JP
Inventors: 靖人平木; 伸輔高橋; 直義千野
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Holdings Corp
Priority date: 1990-03-14
Filing date: 1990-03-14
Publication date: 1996-12-18
Anticipated expiration: 2011-12-18
Also published as: JPH03262566A

Description

【発明の詳細な説明】〔産業上の利用分野〕本発明は塗布装置に関して、プラスチックフイルム、
紙、金属箔等を形成してなる可撓性支持体（以下、ウエ
ブという）に、少なくとも磁性体及びバインダーを含む
磁性液を塗布する塗布装置に関するものである。

〔従来技術〕

従来、ウエブに塗布液を塗布する塗布方法としては、
例えばエクストルージョン型塗布装置、カーテンフロー
型塗布装置、ブレードドクター型塗布装置、スライドコ
ート型塗布装置などが一般的である。この中でも、エク
ストルージョン型塗布装置を用いた塗布方法は、均一な
薄層塗布が可能であり各分野で用いられている（特開昭
58−104666号、同60−238179号公報、特願平01−84711
号明細書等）。

従来、前記特開昭58−104666号公報の塗布装置はその
ドクターエッジが鈍角で交わる２平面から成る三角形状
であるので、加工精度がよく支持体及び塗布液の加圧状
態を適当にすることができ、支持体の張力変動等に対し
て対応性がよく、その他高速塗布時の同伴空気の進入防
止も効果的にでき塗布膜厚のばらつきを抑えることがで
きた。しかし、それまでの塗布速度、例えば200m/min〜
300m/min程度の比較的速い塗布速度が要求されてくる
と、前記ドクターエッジの頂部に支持体や塗布液中の異
物がトラップされ易く、これによるスジむらの発生も大
きな問題としてクローズアップされてきた。

そこで、前記特開昭60−238179号公報においては、ド
クターエッジ面とバックエッジ面との位置関係を特定の
範囲に設定すると共にドクターエッジ面の湾曲率も特定
の範囲に設定した塗布装置を提案した。この提案は前記
特開昭58−104666号公報において残されていたスジむら
の課題を、前記ドクターエッジ面の湾曲面構造により、
塗布時における支持体に体する加圧状態をある程度範囲
をもって広くでき、加圧状態が一点集中型によるスジむ
らの問題を効果的に解消できた。しかし、近年の高速塗
布においては従来の速度に比べて、例えば300m/min以上
と云うように極めて驚くべき高速塗布性能および膜厚10
cc/m²以下と云う薄層化が要求されてきているので、同
伴空気の進入の問題が再度大きな問題としてクローズア
ップされてきた。

このような状況下において特願平01−84711号明細書
にしめすような塗布装置を提案した。この塗布装置は、
ドクターエッジ面の湾曲を2mm以下と云うようにある一
定の範囲にて小さく設定することにより、塗布圧力を大
きくして同伴空気を排斥しようとした構造のものであ
る。しかしながら、このような構造の装置であると新た
な問題が生じてきた。その問題とは、前記ドクターエッ
ジ面を小さい湾曲面にて構成すると、該エッジ面の面長
を自ずと制約が生じてしまい長くすることが不可能にな
ること。このことは、例えば、湾曲率を5mm以下におい
て、エッジ面長を長くしようとすると、支持体のラップ
角を深くしてその長さを稼がなければならない。この結
果、塗布時においてラップ角の深まりにより支持体に必
要以上の負荷を与えなければならないだけでなく、バッ
クエッジがより鋭角に構成される必要が生じるために、
支持体の削れ、伸びによる故障、品質の低下、酷いばあ
いには支持体の破断する場合もあった。

このように、上記の如きエクストルージョン型塗布装
置を用いた塗布方法は、均一な塗布膜厚を得ることがき
るが、その良好な塗布条件が狭い範囲でしか得ることが
できない。

特に、磁気記録媒体の高密度化や多層化が進み、それ
に伴って磁気記録媒体の製造工程においても非磁性支持
体上に塗布する磁性層の塗布厚みの薄層化が必要となっ
てきている昨今においては、生産性向上のため、ウエブ
上へ塗布液を塗布する塗布スピードのアップも今まで以
上に望まれている。更に、磁性体の改良が進み、高S_BET
値の酸化磁性粉やバリウムフェライト材料の使用が図ら
れ、高記録密度化を進める結果、塗布液が高粘度化して
いることにより、特に、前述したドクターエッジ面の面
長の設定を大きく出来ない塗布装置であると、塗布面の
表面性の向上が望めないと云う問題があった。ここで云
う表面性とは塗布液の高凝集性により塗布層表面の表面
性が顕微鏡で見たレベルで悪化し、安定した良好な塗布
層が得られないといった問題がある。

〔発明が解決しようとする課題〕

特に磁性体のS_BET値が高くて粘度の高い塗布液（S_BET
が45m²/g以上）ほど所望の電磁変換特性を得ることが難
しかった。

従って、本発明の目的は上記問題点を解消すること、
即ち、極めて高速で且つ薄層塗布を可能にし、磁性体の
S_BET値が高くて粘度の高い塗布液を塗布した際にも塗布
面の表面性をよくでき磁気記録媒体の磁気変換特性が、
十分に満足できる磁気記録媒体の塗布装置を提供するこ
とにある。

〔課題を解決するための手段〕

本発明の上記目的は、バックエッジ面及びドクターエ
ッジ面に沿って連続的に走行する可撓性支持体表面にス
ロット先端部から塗布液を連続的に押出して該支持体表
面に塗布液を塗布する磁気記録媒体の塗布装置であっ
て、前記ドクターエッジ部が前記スロット出口端部に連
続する湾曲面と該湾曲面のほぼ接線上をドクターエッジ
下流側に延長してなる平面により形成されており、塗布
装置断面における前記ドクターエッジ部の湾曲部分と平
面部分との交点をＥ、前記バックエッジ部のスロット出
口端部をＢとし、前記Ｂを通るように前記バックエッジ
部のバックエッジ面に引いた接線と前記Ｅにおいて引い
た接線とのなす角をθ_１、前記Ｂにおいて前記バックエ
ッジ面に引いた接線と該Ｂから前記ドクターエッジ部に
引いた接線とのなす角をθ_２としたときに「θ_１＜θ_２
＜180゜」の条件を満たした位置に前記Ｂがあり、前記
ドクターエッジ部の湾曲率がその湾曲半径をＲとして、
「Ｒ≦8.0mm」及び湾曲半径Ｒの中心を０とし、前記ド
クターエッジ面のスロット出口端部をＣとしたときに、
「＜COE≦30゜」の条件を満たし、更に前記ドクターエ
ッジ面の支持体走行方向に沿った面長が2mm以上に構成
されたことを特徴とする磁気記録媒体の塗布装置により
達成することができる。

〔実施態様〕

以下、図面に例示した本発明の塗布装置の一実施態様
を詳細に説明する。

第１図及び第２図は本発明の実施態様の塗布ヘッドの
要部横断面図であり、第１図は実際の塗布状態を示した
断面図であり、第２図はヘッド先端形状を示すための断
面図である。

塗布ヘッド１は、第１図に示す様な給液系２、ポケッ
ト部３、スロット部４、ドクターエッジ部５及びバック
エッジ部６から成り、一定速度で搬送されるウエブ８上
に磁性塗布液９を均一な厚さに塗布するものである。

前記給液系２は、前記塗布ヘッド１の躯体よりも外部
にあって前記磁性塗布液９を連続的にかつ一定の流量で
送液可能な定量送液ポンプ手段（図示せず）、並びに前
記塗布ヘッド１の躯体内部を前記ウエブ８の幅方向に透
設した前記ポケット部３と前記ポンプ手段を連通せしめ
る配管部材を夫々具備して成っている。

前記スロット部４は、前記ポケット部３から前記ウエ
ブ８に向け、開口幅をもって前記塗布ヘッド１の躯体内
部を貫通しかつ前記ポケット部３と同じように前記ウエ
ブ８の幅方向に延長された比較的狭い流路であり、前記
ウエブ８の幅方向の開口長さは塗布幅とほぼ等しい。

前記バックエッジ部６は、前記スロット部４の出口か
ら前記ウエブ８の上流側に位置し、且つ前記ウエブ８に
対向するエッジ面を有している。

前記ドクターエッジ部５は、前記スロット部４の出口
から前記ウエブ８の走行の下流側に位置し、且つ前記ウ
エブ８に対向するエッジ面は上流エッジ面5aと下流エッ
ジ面5bとで構成されている。そして、前記上流エッジ面
5aは前記スロット部４の出口端部に連続する湾曲面に構
成されており、前記下流エッジ5bは前記上流エッジ5aの
接線上をドクターエッジ下流側に延長してなる平面によ
り構成されている。また、前記塗布ヘッド１の断面にお
ける前記ドクターエッジ部５の湾曲部分と平面部分との
交点をＥ点とし、バックエッジ面のスロット出口端部を
Ｂとし、このＢ点を通るように前記バックエッジ部６の
バックエッジ面に引いた接線と前記Ｅ点において引いた
接線とのなす角をθ_１とし、前記Ｂ点においてバックエ
ッジ面に引いた接線と該Ｂ点から前記ドクターエッジ部
５のドクターエッジ面に引いた接線とのなす角をθ_２と
したときに「θ_１＜θ_２＜180゜」の条件を満たした位
置に前記バックエッジ面のスロット出口端部である前記
Ｂ点が存在するように構成されている。このように前記
θ_１及び前記θ_２が180゜以下であり且つθ_１＜θ_２で
あることにより、前記バックエッジ部６の頂部よりも前
記ドクターエッジ部５の頂部の方が前記ウエブ８対して
退いた位置にて適宜湾曲していることを保証して、前記
上流エッジ面5aの湾曲面による液圧の適性化ができる。

更に、前記ドクターエッジ面の湾曲率はその湾曲半径
をＲとして、「Ｒ≦8.0mm」に形成されていると共に、
湾曲半径Ｒの中心を０とし前記ドクターエッジ面のスロ
ット出口端部をＣとしたときに、「＜COE≦30゜」の条
件を満たすように構成することは、前記Ｒの長さにより
湾曲の大きさが特定範囲内に設定され、＜COEの角度を
一定以下に規定することにより前記上流エッジ5aの湾曲
長さ（ウエブ走行方向に沿った長さ）を特定範囲内に設
定することができる。

更に前記ドクターエッジ面の面長、すなわち、エッジ
面前縁Ｃからエッジ後縁Ａまでの長さが2mm以上に構成
されている。前記ドクターエッジ部５がこのように構成
されると、前記塗布ヘッド１によって前記ウエブ８上に
塗布液９を塗布する際の前記ドクターエッジ面と前記ウ
エブ８表面との間隙において適当な液圧を発生させるこ
とができ、又、前記塗布液９には適当な剪断力が比較的
長い間加えられるので、塗布液の流動性を適宜保つこと
ができ極めて良好な塗布表面を形成することができる。
これは、前記上流エッジ5aの湾曲部分により極めて高い
液圧を生じさせることができるので、同伴空気の排斥が
効果的に行うことができ、更に例えば該塗布液９が再凝
集性等の特性がある高S_BET値で粘度の高い磁性塗布液で
あった場合でも、前記上流エッジ5aの部分にて発生した
高液圧状態に連続して前記下流エッジ5bて塗布液の流動
性を適宜保持した状態を比較的長い間保って該塗布液の
スムージングが良好な条件でできることが、従来にはな
い驚くべき効果をもたらすものと推定される。また、前
記下流エッジ5bは平坦面であるので、その加工性も良く
加工精度を高め易いことも塗布面性の向上に寄与してい
ると云うことができる。

尚、本発明に用いる可撓性支持体としては、ポリエチ
レンテレフタレート等の高分子フィルム、紙、金属シー
ト等が挙げられる。

前記給液系２は例えば第４図に示すように、両端のシ
ールド板70,80の一方に接続された単管90により供給す
るようにしても良いし、第５図に示すように一方の単管
90から供給し、他方の単管91から適量を押し出すか引き
抜く構成でも良いし、更に、第６図に示すように前記ポ
ケット部３のほぼ中央部分の下方から単管92にて供給
し、左右両端部の両単管90,91から適量を押し出すか引
き抜く構成にすることもできる。

また、ドクターエッジ面の平面部分である前記下流エ
ッジ5bが前記上流エッジ5aの湾曲面の接線に対して前記
交点Ｅを中心にドクターエッジ本体方向、即ち、第３図
に示すように前記下流エッジ5bがウェブ走行方向下流に
向かって前記ウェブ８から後退するように該接線となす
角βが「０゜≦β＜５゜」の範囲になるように構成され
たことにより、前記上流エッジ5aの部分において高めら
れた液圧をむりなく徐々に低めることができ塗布液の表
面性の悪化を回避することができる。

前記実施態様においては、バックエッジ部６のエッジ
面が適宜湾曲した構成としたが、本発明の装置において
はこの構成に限るものではなく、前記バックエッジ面が
平面であってもよいことは勿論である。なお、このとき
は、バックエッジに引いた接線とは、該バックエッジ面
の延長線とすることができる。

本発明の塗布装置は単層塗布に限られるものではな
く、重層塗布を行う装置にも適用できることは勿論であ
る。なお、重層塗布装置の場合においては、最上層の塗
布に関与するドクターエッジ部が塗布液の表面性に大き
な影響を及ぼすことから、少なくとも最上層の塗布に関
与するドクターエッジ部の構成が本発明の構成であれば
よい。

〔発明の効果〕

本発明の塗布装置は、ドクターエッジ面がスロット出
口端部に連続する湾曲面と該湾曲面の接線上をドクター
エッジ下流側に延長してなる平面により形成されている
ので、前記塗布装置の塗布ヘッドによって支持体（ウエ
ブ）上に塗布液を塗布するときに前記ドクターエッジ面
と前記支持体表面との間隙において適当な液圧を発生さ
せることができ、且つ前記塗布液には塗布中に適当な剪
断力が比較的長い間加えられる。これは湾曲部分により
極めて高い液圧を生じさせることができるので、同伴空
気の排斥が効果的に行うことができ、高速塗布性能が高
めることができ、更に粘度の高い磁性塗布液であった場
合でも、前記湾曲部分にて発生した高液圧状態に連続し
て下流の平面部分にて塗布液の流動性を適宜保持した状
態を比較的長い間保って該塗布液のスムージングができ
るので、塗布膜の表面性を極めて良好にすることができ
る。

従って、本発明の塗布装置によれば、塗布性、特に磁
性体のS_BET値が高くて粘度の高い塗布液を塗布した場合
でも極めて高速で薄層の塗布ができ磁気記録媒体の電磁
変換特性が十分に満足できる磁気記録媒体を提供するこ
とができる。

（実施例）以下、本発明の一実施例により本発明の新規な効果を
より明確にする。

実施例−１塗布液は下記第１表に示す組成成分の磁性塗布液をボ
ールミルに入れて10.5時間混合分散して塗布液A,Bを調
製した。但し、該塗布液A,B,は、それぞれ分散される合
金磁性体のS_BET値ならびに主バインダーである塩化ビニ
ル−酢酸ビニル共重合体及びウレタンを第２表の組成と
して塗布液を作製した。

第１表組成・合金磁性体（メタル磁性粉、金属Fe） 100 重量部・塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体（スルフォン酸ソーダ、エポキシ基含有）Ｘ重量部・ウレタン（スルフォン酸基含有ポリウレタン）Ｙ重量部・硬化剤（コロネートＬ） 5 重量部・ステアリン酸 0.5重量部・オレイン酸 0.5重量部・ブチルステアレート 1 重量部・カーボンブラック（平均粒径＝80mμｍ） 1 重量部・研磨剤（αAl₂O₃） 10 重量部・メチルエチルケトン 180 重量部・シクロヘキサノン 120 重量部前記Ａ、Ｂの２塗布液を下記する条件にて単層塗布し
た。

厚さ20μｍ、幅300mmのポリエチレンテレフタレート
支持体（ウェブ）上に、塗布速度を200m/min、300m/mi
n、400m/min、塗布部張力を4kg/300mm幅、塗布液の塗布
厚を５μｍ、10μｍ、15μｍ（ウェット液状態における
厚み）とした。

塗布ヘッドは、サンプルNo.1が第１図に示した本発明
の実施態様の装置を用いて、Ｒを1.0mmとしドクターエ
ッジ面全長を5.0mmとした。サンプルNo.2は特開昭58−1
04666号公報に示された塗布ヘッドを使用し、ドクター
エッジ頂角165゜でドクターエッジ面全長5mmとした。サ
ンプルNo.3は特開平１−84711号公報に示した塗布ヘッ
ドを使用し、Ｒを1.0mmでドクターエッジ面全長0.3mmと
した。

そして、前記各塗布液毎に製造された磁性層表面を観
察すると共に、磁性変換特性を調べて各塗布液毎に評価
した。その結果を下記第３表に及び第４表に示す。

なお、第３表は主に同伴空気による影響について観察
した。そして、表中の評価は ×……同伴空気により塗布面の均一性が悪く目視でも面
粗れが分かる。

△……良好な結果を得ることもあるが再現性が悪い。

○……同伴空気の影響がなく良好に塗布できた。

第４表は主に塗布表面の顕微鏡視的な表面性について
観察した。そして、表中の評価は ×……微細スジが発生し、目視でも面粗れが分かる。

△……微細スジが若干発生するが、電磁変換特性に問題
なし。

○……微細スジの発生がなく、電磁変換特性が良好であ
った。

上記表から明らかな様に、本発明の実施例は他の比較
例に比べ特に磁性体のS_BET値が45m²/gと粘度の高い塗布
液の場合並びに高速塗布時において顕著な効果を発揮す
ることがわかる。

実施例−２実施例−１の塗布ヘッド構造で、ドクターエッジ面長
を1mm,2mm,4mm,6mm,10mmに変えて前記Ｂ液を用いて塗布
を行い塗布面性を観察した。

なお、塗布速度は300m/minで，塗布膜厚は5,10,15μ
ｍとし、その他の条件は実施例−１と同様にした。

この結果を第５表に示す。表中の評価に関しては ×……微細スジが発生し、目視でも面粗れが分かる。

○……微細スジの発生がなく、良好な電磁変換特性が得
られる。

上記第５表から明らかのように、ドクターエッジ面長
は少なくとも2mm以上必要であることが判る。

実施例−３実施例−１の塗布ヘッド構造で、ドクターエッジ部の
湾曲部分の曲率を4mm,6mm,8mm,10mm,12mmに変えて前記
Ｂ液を用いて塗布を行い塗布面性を観察した。

この結果を第６表に示す。表中の評価に関しては ×……微細スジが発生し、目視でも面粗れが分かる。

上記第６表から明らかのように、ドクターエッジ部湾
曲部分の曲率半径は略8mmの付近に境界点があり、これ
より小さい方が液圧を効果的に高められ良い塗布結果が
得られた。

実施例−４前記実施例−１にて使用した塗布ヘッドにおいて、ド
クターエッジ面の湾曲面部分の接線と平面部分のなす角
βを１゜、３゜、５゜、７゜を変えて前記Ｂ液を塗布し
た。

ウェブ走行速度は300m/minで、塗布膜厚み５μm,10μ
m,15μｍであり、塗布全長は4000mとし、その他の条件
に関しては前記実施例の場合と同様とした。その結果を
第７表に示した。なお、評価に関しては、顕微鏡視的に
見て塗布全幅においてスジむらの発生本数を調べた。

上記第７表から明らかのように、ドクターエッジ面の
角度βはその角度上限として５゜以下が望ましいことが
判り、また、下限は０゜以上が望ましいことは容易に推
定できる。

実施例−５前記実施例１にて使用した塗布ヘッドにおいて、ドク
ターエッジ面の湾曲面部分の大きさ（長さ）を規定する
∠COEの角度を変えて前記Ｂ液を塗布した。なお、Ｒの
大きさは上限の8mmとした。

ウェブ走行速度は300m/minで、塗布膜厚み５μm,10μ
m,15μｍであり、塗布全長は4000mとし、その他の条件
に関しては前記実施例の場合と同様とした。その結果を
第８表に示した。なお、評価に関しては、顕微鏡視的に
見て塗布全幅においてスジむらの発生本数ならびに同伴
空気の影響等の総合評価を調べた。表中の評価に関して
は ×……微細スジが発生し、目視でも面粗れが分かる。

上記第８表から明らかのように、ドクターエッジ面の
湾曲部分の大きさを規定する∠COEの角度は30゜以下で
あれば良好な塗布ができた。

実施例−６実施例−１に示した酸化鉄系のＡ液を下層にし、メタ
ル系のＢ液を上層として２層同時塗布を行った。

−支持体は材質・・ポリエチレンテレフタレート厚さ・・20μｍ幅・・300mm 張力・・4Kg/全幅支持体移動速度・・200m/min,300m/min,400m/min −塗布ヘッドは（サンプルNo.4）・・・特開平１−84711号公報に示し
た塗布ヘッド（第７図参照）を基礎として上層を形成さ
せる第２ドクターエッジに本発明を適用した。なお、第
１ドクターエッジの曲率半径Ｒ＝1.0mmで面長0.3mm、第
２ドクターエッジの曲率半径Ｒ＝5.0mmで面長4mmとし
た。

（サンプルNo.5）・・・特開平１−84711号公報に示し
た塗布ヘッドを適用した。なお、第１ドクターエッジの
曲率半径Ｒ＝1.0mmで面長0.3mm、第２ドクターエッジの
曲率半径Ｒ＝5.0mmで面長1.5mmとした。

−塗布膜厚み（液状態における厚み）下層を15μｍとし上層を２μｍ、４μｍ、６μｍにて
それぞれ塗布した。

以上の結果を第９表に示す。

注） ×……微細スジが発生し、目視でも面粗れが分かる。

上記第９表においては、重層同時塗布の場合は最上層
を形成するためのドクターエッジ面部分の構成が本発明
の構成であれば良好な結果が得られることが判る。

以上、前記実施例−１乃至実施例−６から明らかな様
に、粘度の高い塗布液の場合でも、本発明の塗布装置に
よれば高速塗布が可能で且つ塗布液の表面性がよく電磁
変換特性が良好な磁性層を得ることができることが分か
った。

【図面の簡単な説明】

第１図及び第２図は本発明の一実施態様のエクストルー
ジョン型塗布装置の要部横断面図であり、第１図は実際
の塗布状態を示した断面図、第２図はヘッド先端形状の
詳細を示すための断面図、第３図は本発明の塗布装置の
他の実施態様の要部断面図、第４図、第５図及び第６図
は第１図のエクストルージョン型塗布装置の夫々塗布液
供給系の異なった形態を示した斜視図、第７図は本発明
を多重塗布ヘッドに適用したときの一実施態様の要部断
面図である。（図中の符号）１……エクストルージョンヘッド２……給液系、３……ポケット部４……スロット部、５……ドクターエッジ部 5a……上流エッジ面、5b……下流エッジ面６……バックエッジ部、８……ウエブ９……塗布液、70,80……シールド板 90,91,92……単管。

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】バックエッジ面及びドクターエッジ面に沿
って連続的に走行する可撓性支持体表面にスロット先端
部から塗布液を連続的に押出して該支持体表面に塗布液
を塗布する磁気記録媒体の塗布装置であって、前記ドク
ターエッジ部が前記スロット出口端部に連続する湾曲面
と該湾曲面のほぼ接線上をドクターエッジ下流側に延長
してなる平面により形成されており、塗布装置断面にお
ける前記ドクターエッジ部の湾曲部分と平面部分との交
点をＥ、前記バックエッジ部のスロット出口端部をＢと
し、前記Ｂを通るように前記バックエッジ部のバックエ
ッジ面に引いた接線と前記Ｅにおいて引いた接線とのな
す角をθ_１、前記Ｂにおいて前記バックエッジ面に引い
た接線と該Ｂから前記ドクターエッジ部に引いた接線と
のなす角をθ_２としたときに「θ_１＜θ_２＜180゜」の
条件を満たした位置に前記Ｂがあり、前記ドクターエッ
ジ部の湾曲率がその湾曲半径をＲとして、「Ｒ≦8.0m
m」及び湾曲半径Ｒの中心を０とし、前記ドクターエッ
ジ面のスロット出口端部をＣとしたときに、「＜COE≦3
0゜」の条件を満たし、更に前記ドクターエッジ面の支
持体走行方向に沿った面長が2mm以上に構成されたこと
を特徴とする磁気記録媒体の塗布装置。
【請求項２】バックエッジ面の平面が湾曲面の接線に対
して前記交点Ｅを中心にドクターエッジ本体方向にあ
り、該接線と平面とのなす角βが「０゜≦β≦５゜」の
範囲に設定されたことを特徴とする請求項１に記載の塗
布装置。