JPH05329417A

JPH05329417A - 塗布装置及び塗布方法

Info

Publication number: JPH05329417A
Application number: JP4291809A
Authority: JP
Inventors: Jiyunichirou Hisamichi; 純一郎久道; Takumi Honma; 巧本間
Original assignee: Sony Corp
Current assignee: Sony Corp
Priority date: 1992-03-28
Filing date: 1992-10-29
Publication date: 1993-12-14
Anticipated expiration: 2017-02-18
Also published as: JP3257079B2

Abstract

(57)【要約】【構成】１つめは、グラビアロールによって支持体上
に塗料を転写塗布する塗布装置において、グラビアロー
ルの表面に低摩擦化処理が施されたものである。特にＢ
型粘度計による粘度が５０００〜１００００ｃｐｓであ
る塗料を塗布する際に有効である。または、走行してい
る支持体６上にスリット５より連続的に押し出された塗
料１を均一な厚さをもって塗布するいわゆるエクストル
ージョン型の塗布装置において、ダイ４の先端面４ａの
少なくとも幅方向両端部に低摩擦化処理が施されたもの
である。この低摩擦化処理としては、例えば無電解ニッ
ケル被膜中に四フッ化エチレンの微粒子が分散されてな
るもの等が挙げられる。【効果】塗布ムラのない高品質な塗膜を提供できると
ともに、塗布装置の耐摩耗性も向上する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、塗布装置に関するもの
であり、特に磁気記録媒体を製造する際に磁性塗料等を
塗布するために使用される塗布装置である。

【０００２】

【従来の技術】従来、塗布型の磁気記録媒体を製造する
際の磁性塗料の塗布装置としては、グラビアロールやリ
バースロール等のロールを用いた塗布装置が主流となっ
ており、特に幅広い構造粘性のものを塗布することがで
きるダイレクトグラビア方式によるものが一般的であ
る。

【０００３】上記グラビアロールには、耐摩耗性を考慮
してハードクローム処理等の表面処理が施される。磁性
塗料の構造粘性によっては、ロールから非磁性支持体で
あるベースフィルム上への塗料転写性が損なわれて塗布
厚ムラのための出力変動や塗料飛散によるドロップアウ
ト等が起こりやすい状態となる。そして、高速塗布にな
るにしたがってこれらの問題が顕著になる傾向にある。

【０００４】特に、構造粘性（チクソ性）の高い磁性塗
料、又はメタル系の磁性塗料を厚さ５０μｍ以上の非磁
性支持体上に転写させる場合（フロッピーディスク等）
等はグラビアロールのセル溝と非磁性支持体との間に空
気層ができやすく、転移不良を生じる等問題がある。

【０００５】一方、このような問題を解決し得る新しい
塗布装置として、エクストルージョン（ダイ）型の塗布
装置が注目され、既に一部実用化されている。このエク
ストルージョン型の塗布装置は、先端面に臨んで幅広の
スリットを有するとともに、前記先端部近傍がドクター
エッジ化されてなるダイを備えてなり、走行している非
磁性支持体の表面に向けて連続的に押し出された磁性塗
料が前記ドクターエッジによって均一な厚さをもって上
記非磁性支持体上に塗布されるような構成とされてい
る。

【０００６】このようなエクストルージョン型の塗布装
置は、均一な膜厚を有する塗膜を容易に形成することが
できるとともに、大径を有するロールを用いないために
装置の低価格化や小型化の点で有利であり、これまで写
真フィルムや印画紙等の分野において使用されている。

【０００７】ところで、上記エクストルージョン型の塗
布装置においては、上記ダイ先端に設けられたスリット
の背面側に該スリットの幅と略等しい長さを有するオリ
フィス状の塗料溜りが設けられており、このポケットと
称される上記塗料溜り内に磁性材料からなる塗料が供給
されるようになされている。そして、このポケットから
上記塗料を所定の圧力をもってスリットへと押し出し、
このスリットの先端部より上記非磁性支持体の表面に安
定して一定量の塗料を供給している。

【０００８】ところが、このようにスリットの先端部よ
り塗料を上記非磁性支持体の表面に押し出すと、非磁性
支持体の幅方向の両端部では、押し出された塗料が上記
非磁性支持体の裏面側にまで廻り込んでしまうことがあ
る。このために、上記非磁性支持体を裏面側より支持し
走行せしめている走行ロールの表面に上記廻り込んだ塗
料が付着し、走行ロールが汚染されたり、塗膜の乾燥後
に得られた磁気記録媒体の幅方向の両端部が膨れたよう
な状態になって形状不良が発生したりする等の問題が生
じる。

【０００９】この問題に対して、上記スリットの幅方向
の両端側にスペーサーを介在させることによってスリッ
トの幅を実質的に狭め、このスリットより上記非磁性支
持体表面に塗料が供給される領域を規制する方法が行わ
れている。この方法によれば、上記非磁性支持体の幅方
向の両端部に３〜１０ｍｍ程度の幅を有して未塗布部
（塗料が塗布されない部分）を形成することができ、該
非磁性支持体の裏面側に上記塗料が廻り込むのを回避す
ることができる。

【００１０】しかしながら、上述のように非磁性支持体
上に未塗布部分が形成されるように塗布を行う場合で
は、図６に示すように、非磁性支持体２１表面の未塗布
部２２とダイ２４の先端面２５が直に接触するようにな
る。上記ダイ２４の材質としては、一般にステンレス鋼
やスチール鋼等の焼結合金（超硬合金）、高速度鋼、或
いは炭素工具鋼等が使用され、その表面には鏡面加工が
施されているが、上述のようにダイ２４と直に接触され
た状態で上記非磁性支持体２１が連続走行されると、ダ
イ２４との摩擦によって上記未塗布部２２の表面が削ら
れ、これら未塗布部２２と先端面２５の当接面で塵埃２
６が発生したり、上記先端面９に摩耗による傷が生じた
りする。このように塵埃２６の発生や先端面９の損傷が
生じると、上記塗膜２３の非磁性支持体２１に対する付
着力の低下やスリット精度の低下等が起こり、得られる
磁気記録媒体の品質特性に大きな悪影響を及ぼす。

【００１１】

【発明が解決しようとする課題】そこで本発明は上述の
従来の実情に鑑みて提案されたものであり、磁性塗料が
転移しやすく塗布ムラを起こさないようなグラビアロー
ルを用いた塗布装置及び塗布方法を提供することを目的
とする。また、本発明は、ダイの先端面と支持体表面の
接触による悪影響を防止できるエクストルージョン型の
塗布装置を提供することを目的とする。

【００１２】

【課題を解決するための手段】本願第１の発明の塗布装
置は、上述の目的を達成するため、グラビアロールの表
面に供給される塗料を連続的に走行する支持体上に転写
塗布する塗布装置において、前記グラビアロールの表面
に低摩擦化処理が施されていることを特徴とするもので
ある。

【００１３】特に、Ｂ型粘度計による粘度が５０００〜
１００００ｃｐｓである塗料は、表面に低摩擦化処理が
施されたグラビアロールによって塗布されることが好ま
しい。

【００１４】上記塗布装置は、表面にセルパターンが刻
設されたグラビアロールによって塗料がピックアップさ
れて支持体に付着し、バックアップロールによって圧着
されることによって塗布がなされるものである。上記グ
ラビアロール表面には低摩擦化処理が施されているの
で、上記のような高粘度の塗料を用いても転写性に優
れ、支持体に対して塗布ムラを起こすことなく安定して
塗膜を形成することができる。

【００１５】上記低摩擦化処理としては、潤滑性を有す
る微粒子を含む複合メッキ被膜による表面処理が適して
おり、例えば無電解ニッケル被膜中に四フッ化エチレン
（商品名、テフロン）の微粒子が分散されてなるもの
や、電解ニッケル被膜中に四フッ化エチレンの微粒子が
分散されてなるもの等が挙げられる。そして、上記複合
メッキ被膜は水に対する接触角が４５°程度となるよう
に形成されることが好ましく、上記接触角が小さいと上
述のように非磁性支持体への転写性が悪く、逆に上記接
触角が大きすぎると塗料がセル溝に入りにくくなるため
に充填ムラとなり目飛びが発生する。

【００１６】本願第２の発明である塗布装置は、塗料が
供給される塗料溜りを有してなるダイを備え、連続的に
走行する支持体上に前記ダイ先端に設けられたスリット
より塗料を押し出しながら塗布するエクストルージョン
型の塗布装置において、前記ダイの先端面の少なくとも
幅方向両端部に低摩擦化処理が施されていることを特徴
とするものである。

【００１７】上記エクストルージョン方式とは、先端面
に臨んで幅広のスリットが形成されるとともに、前記先
端面近傍がドクターエッジ化されてなるダイを用い、走
行している支持体の表面に向けて連続的に押し出した塗
料を前記ドクターエッジによって均一な厚さをもって上
記支持体上に塗布する方式である。

【００１８】本発明では、上記ダイの先端面の少なくと
も幅方向の両端部に低摩擦化処理が施される。これによ
り、上記先端面の摩擦係数が低減化され、この先端面に
対して上記支持体の表面が接触された状態で該支持体を
連続走行させても、該支持体表面から塵埃が発生するこ
とがなく、安定して塗膜を形成することができる。

【００１９】上記低摩擦化処理としては、良好な潤滑効
果が長時間持続されることが要求されることから、潤滑
性を有する微粒子を含む複合メッキ被膜による表面処理
が適している。上記潤滑性を有する微粒子を含む複合メ
ッキ被膜は、無電解メッキ被膜中に上記潤滑性を有する
微粒子が均一に分散されて共析されてなるものであり、
例えば無電解ニッケル被膜中に四フッ化エチレン（商品
名、テフロン）の微粒子が分散されてなるもの等が挙げ
られる。

【００２０】この複合メッキ被膜の膜厚は、３〜３０μ
ｍとされることが好ましい。複合メッキ被膜の膜厚が３
μｍよりも薄いと、ダイの先端面の摩擦係数を十分に低
減化させることができず、支持体表面からの塵埃の発生
を抑えることができない。逆に、膜厚が３０μｍよりも
厚くなると、この複合メッキ被膜が形成された部分の支
持体がもちあげられたようになり、該支持体の表面に塗
膜を安定に供給することができなくなる。

【００２１】上述の塗布装置は、何れも塗布型の磁気記
録媒体における磁性塗料の塗布に応用して好適である
が、その場合、非磁性支持体や磁性塗膜を構成する磁性
粉末、樹脂結合剤等は従来公知のものがいずれも使用可
能で、何ら限定されるものではない。例示するならば、
上記非磁性支持体としては、ポリエチレンテレフタレー
ト、ポリエチレン−２，６−ナフタレート等のポリエス
テル樹脂や芳香族ポリアミドフィルム、ポリイミド樹脂
フィルム等が挙げられる。

【００２２】強磁性粉末としては、Ｆｅ，Ｃｏ，Ｎｉ等
の強磁性金属材料や、Ｆｅ−Ｃｏ，Ｆｅ−Ｎｉ，Ｆｅ−
Ｃｏ−Ｎｉ，Ｃｏ−Ｎｉ，Ｆｅ−Ｍｎ−Ｚｎ，Ｆｅ−Ｎ
ｉ−Ｚｎ，Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ−Ｃｒ，Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ
−Ｐ，Ｆｅ−Ｃｏ−Ｂ，Ｆｅ−Ｃｏ−Ｃｒ−Ｂ，Ｆｅ−
Ｃｏ−Ｖ等のＦｅ，Ｃｏ，Ｎｉを主成分とする各種強磁
性合金材料からなる強磁性金属粒子が好適である。

【００２３】上記磁気記録媒体用の強磁性粉末において
は、種々の特性を改善する目的でＡｌ，Ｓｉ，Ｔｉ，Ｃ
ｒ，Ｍｎ，Ｃｕ，Ｚｎ，Ｍｇ，Ｐ等の元素が添加されて
も良い。

【００２４】結合剤としては、塩化ビニル、酢酸ビニ
ル、ビニルアルコール、塩化ビニリデン、アクリル酸エ
ステル、メタクリル酸エステル、スチレン、ブタジエ
ン、アクリロニトリル等の重合体、或いはこれら二種以
上を組み合わせた共重合体、ポリウレタン樹脂、ポリエ
ステル樹脂、エポキシ樹脂等が例示される。これら結合
剤に上記強磁性粉末を分散して磁性層を形成する。

【００２５】上記磁性塗料の溶剤としては、従来公知の
ものがいずれも使用可能で、何ら限定されるものではな
いが、アセトン，メチルエチルケトン，メチルイソブチ
ルケトン，シクロヘキサノン等のケトン系、酢酸メチ
ル，酢酸エチル，酢酸ブチル，乳酸エチル，酢酸グリコ
ールモノエチルエーテル等のエステル系、グリコールジ
メチルエーテル，グリコールモノエチルエーテル，ジオ
キサン等のグリコールエーテル系、ベンゼン，トルエ
ン，キシレン等の芳香族炭化水素、ヘキサン，ヘプタン
等の脂肪族炭化水素、メチレンクロライド，エチレンク
ロライド，四塩化炭素，クロロホルム，エチレンクロル
ヒドリン，ジクロルベンゼン等の塩素化炭化水素等が挙
げられる。

【００２６】さらに上記磁性層には、前記の結合剤、強
磁性粉末の他に添加剤として分散剤、潤滑剤、研磨剤、
帯電防止剤、防錆剤等が加えられても良い。更に、上記
磁気記録媒体には、必要に応じて、バックコート層やト
ップコート層等が形成されても良い。この場合、バック
コート層、トップコート層等の成膜条件は、通常この種
の磁気記録媒体の製造方法に適用される方法であれば良
く、特に限定されない。

【００２７】そして、本発明の塗布装置は、このような
塗布型の磁気記録媒体の製造工程において、磁性塗料の
塗布のみでなく、バックコート層やトップコート層を塗
布する際に使用することも可能である。

【００２８】また、本発明の低摩擦化処理を施した塗布
装置は、磁性塗料の塗布に使用する以外にも印刷用に用
いたりすることも可能であるし、製版ロールに本発明の
低摩擦化処理を適用することも考えられる。

【００２９】

【作用】本発明の低摩擦化処理を施したグラビアロール
表面は、ハードクローム処理を施したものに比べて表面
張力が低いため、水に対する接触角が大きい（ヌレ性が
小）ものとなっている。よって、セルパターンの溝に塗
料が付着しにくく、支持体への転写性に優れている。特
にチクソ性の高い塗料を用いる際にもセル溝と支持体と
の間に空気層ができてしまうこともなく、塗料が支持体
に転移しやすい。

【００３０】また、上記の塗布装置を用いると、塗料の
転写が円滑且つ均一に行うことができるため、従来の２
倍以上の速度で塗布することが可能となる。さらに、塗
料を支持体に圧着させるためのバックアップロールの圧
力を低減することができニップ幅が狭くなるため、支持
体との接触抵抗が減少し、グラビアロールの耐摩耗性が
向上する。

【００３１】エクストルージョン方式の塗布装置におい
ては、支持体上に塗料を供給せしめるダイの先端面の少
なくとも幅方向両端部に低摩擦化処理を施すことによ
り、上記先端面の摩擦係数が低減される。このため、こ
の先端面との接触がなされた状態で上記支持体を走行さ
せても、摺動性が良く、摩耗による上記支持体表面から
の塵埃の発生が減少する。

【００３２】また、上記低摩擦化処理として低摩擦化処
理が潤滑性を有する微粒子を含む複合メッキ被膜による
表面処理を用いることにより、上記先端面に良好な潤滑
性が付与されるとともに、その効果が長時間持続され
る。

【００３３】

【実施例】以下、本発明を適用した具体的な実施例につ
いて図面を参照しながら詳細に説明する。＜実験１＞先ず、本発明のグアラビアロールを用いて、
磁性塗料を非磁性支持体に塗布する場合について説明す
る。

【００３４】図７にダイレクトグラビアロールなる塗布
装置を示す。上記塗布装置３１は、表面にセルパターン
が刻設されたグラビアロール３２と、前記グラビアロー
ル３２でピックアップされた磁性塗料３３を計量するた
めのドクターブレード３４と、非磁性支持体をグラビア
ロール３２に圧着させるためのバックアップロール３５
よりなるものである。

【００３５】このような装置による塗布は、上記グラビ
アロール３２のセルパターンによって磁性塗料をピック
アップさせ、上記ドクターブレード３４により一定量に
制限した磁性塗料を非磁性支持体３６上に付着させ、さ
らに、この磁性塗料をグラビアロール３２とバックアッ
プロール３５を回転させることによって連続的に均一に
行われる。

【００３６】なお、非磁性支持体上に転写された磁性塗
料はグラビアロール３２のセルパターンの凹凸状に塗布
されるが、スムージング３８によって平滑化される。

【００３７】一方、上記巻き出し側から巻き取り側に亘
って移動走行される非磁性支持体３６は、ガイドロール
３７によって支持され走行せしめられるとともに、これ
らガイドロール３７等により適当なテンションがかけら
れ、円滑な走行が行われるようになされている。

【００３８】以上はこの塗布装置の基本的な構成である
が、この塗布装置においては、上記グラビアロール３２
の表面が低摩擦化処理が施されていることを特徴として
おり、以下にこのグラビアロール３２の表面の構成につ
いて詳説する。図８，９に示すようにグラビアロール３
２表面にはヘリカル環状の凸部が多条ネジとして刻設さ
れている。

【００３９】また、図１０は図９中Ａ−Ａ’で示される
線における断面を拡大したものである。４０はメッキ被
膜であり、軟材ＳＴＫＭ鋼３９がパターニングされた上
に形成されている。

【００４０】そして、グラビアロールの表面処理の種類
を以下のように変化させた塗布装置により、非磁性支持
体上に磁性材料の塗膜を形成し、これを磁性層とする各
種磁気テープを製造した。

【００４１】表面処理の種類実施例１：無電界ニッケル被膜中に四フッ化エチレン樹
脂の微粒子を分散させた複合メッキ被膜の形成実施例２：電界ニッケル−リン被膜中に四フッ化エチレ
ン樹脂の微粒子を分散させた複合メッキ被膜の形成比較例１：ハードクローム処理比較例２：Ｔｉ−Ｎ（窒化被膜）の形成比較例３：四フッ化エチレン樹脂の溶射

【００４２】ここで、上記実施例１，２に示される複合
メッキ被膜の特徴は、主として優れた離型性と高い硬度
にある。さらに適当な熱処理を行うことによって被膜表
面に四フッ化エチレン樹脂が溶解し、薄い被膜を形成す
るため、離型性が一段と向上する。その上、ニッケル−
リン被膜中に四フッ化エチレン樹脂の微粒子を分散させ
た複合メッキ被膜においては、この熱処理により硬度も
上昇する。従って、これら複合メッキ被膜に熱処理を組
み合わせることによってより高性能な被膜を得ることが
できるため、本実施例においては実施例１及び実施例２
の複合メッキ被膜に対して熱処理を行った。

【００４３】なお、上記四フッ化エチレン樹脂の微粒子
は直径０．１５〜０．２μｍ程度の大きさのものを用い
た。そして、上記複合メッキ被膜の最大可能膜厚は１０
μｍであり、硬さはビッカース（ＨＶ）硬度でハードク
ロームに近い５００〜９００とした。また、被膜中の四
フッ化エチレン樹脂含有率は、実施例１が７〜１０重量
％であり、実施例２が６〜７重量％である。

【００４４】上述の表面処理を施したグラビアロールを
用い磁性塗料の塗布を行う際、非磁性支持体としてはポ
リエチレンテレフタレートを用い、磁性塗料には以下の
材料を用いた。磁性粉末：Ｃｏ被着γ−Ｆｅ₂Ｏ₃ 結合剤：塩化ビニル系共重合体ポリウレタン樹脂溶媒：メチルエチルケトン，シクロヘキサノ
ン，トルエン添加剤：レシチン

【００４５】なお、上記磁性塗料は固形分を４０％、５
８００ｃｐｓなる粘度のものとし、種々の表面処理が施
されたグラビアロールによって非磁性支持体に塗布され
た。

【００４６】そして、各塗布装置について、グラビアロ
ール表面の水に対する接触角、磁性塗料の転写状態、耐
摩耗性を調べた。この結果を表１に示す。なお、表１
中、転写状態の評価は、○印は転写状態の良いものを表
し、×印は目飛びが発生し塗布ムラのあるものを表し、
△印はスムージングによって平滑化できる程度のものを
示す。

【００４７】

【表１】

【００４８】なお、耐摩耗性は、１００００ｍの非磁性
支持体に対して塗布を行った後、グラビアロールのヘリ
カル形状の山部幅の変位差（図９中ｗで示す。）で評価
した。また、接触角は、株式会社エルマ社製，商品名
Ｇ−１（１３−１００−０）なる接触角測定器によって
測定した。

【００４９】表１に示すように、本実施例のようにグラ
ビアロール表面に低摩擦処理として無電解ニッケル被膜
中に四フッ化エチレンの微粒子が均一に分散されて共析
された複合メッキ被膜を形成した場合や、電界中にニッ
ケル或いはニッケルリン中に四フッ化エチレンの微粒子
が均一に分散されて共析された複合メッキ被膜を形成し
た場合では、２００ｍ/min以上の速い塗布速度において
も塗布ムラのない安定した塗膜形成を行うことができ
た。これは、上述のような複合メッキ被膜を形成するこ
とにより、グラビアロールから非磁性支持体への磁性塗
料の転写性に優れた塗布装置となったことを示してい
る。

【００５０】さらに、グラビアロールの耐摩耗性にも優
れていることもわかる。

【００５１】これに対して、単にハードクロムメッキ処
理を施した場合や、窒化被膜を設けた場合、四フッ化エ
チレン樹脂を溶射した場合等は、高粘度の磁性塗料を塗
布して塗布ムラのない転写状態を得ることはできず、グ
ラビアロール表面の摩耗量も多い。

【００５２】接触角の小さいハードクロムメッキ処理を
施したグラビアロールや、窒化被膜を設けたグラビアロ
ールを用いると、チクソ性の高い磁性塗料はグラビアロ
ールのセル溝から非磁性支持体状に転写することができ
ない部分（目飛び）を生じ、スムージングで表面を平滑
化しても磁性層が薄くなり塗布ムラとなってしまう。ま
た、磁性塗料を非磁性支持体状に転写するために大きな
力で圧着する必要があり、グラビアロール表面の摩耗量
も多くなるのである。

【００５３】また、接触角の大きすぎる四フッ化エチレ
ン樹脂を溶射したグラビアロールを用いると、磁性塗料
がセル溝に入り込むことができず、非磁性支持体に磁性
塗料を付着させることができない。

【００５４】従って、良好な塗布状態を得るには、接触
角が４５°前後になるような四フッ化エチレンの微粒子
等のように潤滑性を有する微粒子を含む電界又は無電解
ニッケル被膜等による複合メッキ被膜処理を施したもの
が好適であることが判った。

【００５５】＜実験２＞次に、本発明のエクストルージ
ョン型の塗布装置を用いて磁性塗料を非磁性支持体に塗
布する方法について説明する。

【００５６】この塗布装置においては、図１に示すよう
に、非磁性支持体６が巻き出し側から巻き取り側に亘っ
て順次走行される中途部に、所定の幅を持った略直方体
の金属ブロックからなるダイ（エクストルーダ）４が配
設される。このダイ４は、図中上方から下方に向かって
走行する非磁性支持体６の側方に配設され、該ダイ４の
先端面４ａが上記非磁性支持体６の表面に対向するよう
に配設される。

【００５７】このダイ４は、図３に示すように、先端面
４ａ近傍が直線的に斜めに削り取られ、所謂くさび形と
されるとともに、その先端面４ａが超硬合金等によって
形成されドクターエッジ化されている。また、このダイ
４には、先端面４ａに臨んでスリット５が塗布幅に応じ
た幅を有して形成されている。このスリット５は、磁性
材料からなる塗料１が押し出される隙間となるものであ
って、通常０．０１〜２．０ｍｍ程度の非常に狭い隙間
とされる。

【００５８】上記スリット５の背面側には、該スリット
５と通ずるポケット（塗液溜り）３が形成される。この
ポケット３は、上記スリット５の幅と略等しい長さをも
ってオリフィス状の空間として形成されている。このポ
ケット３の両端部には、図示しない塗液供給口が上記ダ
イ４の両端面に開口する如く設けられており、これら塗
液供給口には上記塗料１を導入するための塗液供給管９
が接続されている。また、この塗液供給管９の中途部に
は、ポンプ２が取り付けられており、このポンプ２によ
り上記塗料１が上記塗液供給管９から上記ポケット３内
に所定の圧力で圧送されるようになされている。従っ
て、上記ポケット３は、圧送される上記塗料１を受ける
空間となり、アキュームレータの機能を持つことにな
る。

【００５９】このポケット３内に圧送された塗料１は、
上記スリット５内に供給され、更に前記スリット５の先
端部より走行する上記非磁性支持体６の表面に押し出さ
れて、塗膜７として形成される。一方、上記巻き出し側
から巻き取り側に亘って移動走行される非磁性支持体６
は、ガイドロール１０ａ，１０ｂによって支持され走行
せしめられるとともに、これらガイドロール１０ａ，１
０ｂにより適当なテンションがかけられ、円滑な走行が
行われるようになされている。

【００６０】従って、この塗布装置においては、図２に
示すように、上記巻き出し側から送り出され、図中矢印
Ａ方向に走行する非磁性支持体６の表面に対して上記ダ
イ４の先端面４ａが当接され、この当接面で前記先端面
４ａに臨んで形成されたスリット５より磁性材料が押し
出されて塗膜７が形成される。この時、上記スリット５
の幅を規制することにより、幅Ｗ₁を有する上記非磁性
支持体６上に形成される塗膜７の塗布幅Ｗ₂を制限し、
上記非磁性支持体６の幅方向の両端部に３〜１０ｍｍ程
度の幅を有して未塗布部８が形成されるようにする。こ
れにより、押し出された磁性材料が上記非磁性支持体６
の裏面側に廻り込むことがなくなり、良好な塗膜形成を
行うことができる。

【００６１】以上はこの塗布装置の基本的な構成である
が、この塗布装置においては、上記ダイ４の先端面４ａ
の幅方向両端部に低摩擦化処理が施されていることを特
徴としており、以下にこのダイ４の先端面４ａの構成に
ついて詳説する。このダイ４の先端面４ａにおいては、
図４に示すように、該先端面４ａの略中央部にスリット
５が開口するかたちで形成される。このスリット５の幅
方向の両端側には、スペーサー１２，１２がそれぞれ配
されており、これらスペーサー１２，１２により上記ス
リット５より押し出される磁性材料の塗布幅Ｗ₂が規制
される。

【００６２】この先端面４ａにおける上記スリット５の
外方側、即ち上記先端面４ａの幅方向両端部（図中、斜
線領域）には、低摩擦化処理として無電解ニッケル被膜
中に四フッ化エチレンの微粒子が均一に分散されて共析
された複合メッキ被膜１１が形成されている。この複合
メッキ被膜１１が形成された領域は、上述の非磁性支持
体の未塗布部（図示せず。）と直に接触される部分であ
り、この部分に低摩擦化処理を施すことにより、上記非
磁性支持体の表面に対する摩擦係数が低減され、良好な
摺動性が得られる。この結果、この先端面４ａと上記非
磁性支持体表面との接触による該非磁性支持体表面から
の塵埃の発生や上記先端面４ａの損傷等が防止され、安
定な塗膜を形成することが可能となる。

【００６３】なお、この複合メッキ被膜１１は、本実施
例のように、少なくとも上記先端面４ａの幅方向両端部
に形成されていれば良く、例えば図５に示すように、上
記先端面４ａの幅方向の全域に亘って形成されても何ら
支障はない。

【００６４】そこで、このような構成を有する塗布装置
を用い、上記低摩擦化処理の種類を変化させて（以下に
実施例３，４、比較例４〜９として示す。）非磁性支持
体上に磁性材料の塗膜を形成し、これを磁性層とする各
種磁気テープを製造した。なお、上記ダイの材質として
は、ステンレス鋼、超硬合金、炭素工具鋼のうちの１種
から選択した。また、非磁性支持体としては、１４μｍ
厚のポリエステルフィルムを使用し、この非磁性支持体
の走行速度は、塗料を塗布せず単に非磁性支持体を走行
させた時の速度が３００ｍ／分となるように設定した。

【００６５】そして、得られた磁気テープについて、非
磁性支持体表面からの塵埃の発生状況とダイの先端面に
おける傷の有無を調べた。この結果を表２に示す。な
お、表２中、各評価項目において、○印は非磁性支持体
からの塵埃が発生していない状態、或いはダイの先端面
における傷が生じていない状態を示し、×印は上記塵埃
又は上記先端面の傷が多く発生した状態を示し、△印は
上記先端面に若干傷が生じた状態を示す。

【００６６】

【表２】

【００６７】表２に示すように、本実施例のように、非
磁性支持体上に塗膜を形成する際に、走行される非磁性
支持体の未塗布部と直に接触されるダイの先端面の幅方
向両端部に低摩擦処理として無電解ニッケル被膜中に四
フッ化エチレンの微粒子が均一に分散されて共析された
複合メッキ被膜を形成した場合では、この先端面との接
触による上記非磁性支持体表面からの塵埃の発生や該先
端面の損傷が皆無となり、塗膜形成を安定して行うこと
ができた。これは、上述のような複合メッキ被膜を上記
ダイの先端面の幅方向両端部に形成することにより、優
れた潤滑効果が得られ、且つその効果を長時間持続させ
ることができたためである。

【００６８】これに対して、単に上記ダイの先端面の幅
方向両端部にクロムメッキ処理を施した場合や、潤滑性
を有する微粒子を保持せしめた場合では、非磁性支持体
表面からの塵埃の発生を抑えつつ、上記先端面の損傷を
防止することはできず、良好な効果は得られなかった。
従って、上記非磁性支持体との接触による悪影響を防止
するためには、四フッ化エチレンの微粒子等のように潤
滑性を有する微粒子を含む無電解ニッケル被膜等による
複合メッキ被膜処理が好適であることが判った。

【００６９】

【発明の効果】以上の説明からも明らかなように、本発
明の低摩擦化処理を施したグラビアロール表面は、水に
対する接触角が大きい（ヌレ性が小である。）ので、セ
ルパターンの溝に塗料が付着しにくく、支持体への転写
性に優れた塗布装置となる。

【００７０】また、本発明の塗布装置を用いると、塗料
の転写が円滑且つ均一に行うことができるので、従来の
２倍以上の速度で塗布でき高い生産性が得られる。さら
に、塗料の転写性が良く、支持体に圧着させるためにバ
ックアップロールに大きな圧力かける必要がないので、
グラビアロールの耐摩耗性に優れている。

【００７１】また、本発明のエクストルージョン型の塗
布装置では、支持体上に塗膜を形成するに際し、走行さ
れる支持体表面との接触が直になされるダイの先端面に
低摩擦処理を施しているので、良好な摺動性を確保する
ことができ、上記支持体表面からの塵埃の発生や上記先
端面の損傷を解消することができる。このため、上記支
持体の表面に塗料を安定して塗布することができ、上記
ダイに設けられるスリットの精度劣化が少なくなる。従
って、得られる塗膜の耐久性等の特性が著しく向上した
高品質なものとなる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明を適用した磁性層の形成工程において使
用される塗布装置の構成を示す模式的な断面図である。

【図２】走行される支持体とダイの先端面が当接された
状態を示す要部拡大平面図である。

【図３】ダイの先端面近傍の構成を示す要部拡大断面図
である。

【図４】ダイの先端面の構成を示す要部拡大正面図であ
る。

【図５】ダイの先端面の幅方向の全域に低摩擦化処理が
施された状態を示す断面図である。

【図６】従来のダイの先端面と走行される支持体が当接
された状態を示す断面図である。

【図７】本発明を適用した磁性層の形成工程において使
用される塗布装置の構成を示す模式図である。

【図８】グラビアロールのセルパターンの一例を示す斜
視図である。

【図９】図８のグラビアロールの正面図である。

【図１０】グラビアロールの表面の拡大断面図である。

【符号の説明】

１・・・塗料３・・・ポケット４・・・ダイ５・・・スリット６・・・非磁性支持体７・・・塗膜８・・・未塗布部１１・・・低摩擦化処理がなされる領域３２・・・グラビアロール３３・・・塗料３４・・・ドクターブレード３５・・・バックアップロール３６・・・非磁性支持体４０・・・被膜メッキ

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】グラビアロール表面に供給される塗料を
連続的に支持体上に転写塗布する塗布装置において、前記グラビアロール表面に低摩擦化処理が施されている
ことを特徴とする塗布装置。
【請求項２】Ｂ型粘度計による粘度が５０００〜１０
０００ｃｐｓである塗料を表面に低摩擦処理が施された
グラビアロールによって塗布することを特徴とする塗布
方法。
【請求項３】塗料が供給される塗料溜りを有してなる
ダイを備え、連続的に走行する支持体上に前記ダイ先端
に設けられたスリットより塗料を押し出しながら塗布す
るエクストルージョン型の塗布装置において、前記ダイの先端面の少なくとも幅方向両端部に低摩擦化
処理が施されていることを特徴とする塗布装置。
【請求項４】前記低摩擦化処理が潤滑性を有する微粒
子を含む複合メッキ被膜による表面処理であることを特
徴とする請求項１又は請求項３記載の塗布装置。
【請求項５】前記低摩擦化処理が無電解ニッケル被膜
中に四フッ化エチレンの微粒子が均一に分散されて共析
された複合メッキ被膜による表面処理であることを特徴
とする請求項１又は請求項３記載の塗布装置。