JPH06315865A - 研磨体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 高密度記録用の薄膜ヘッドやアモルファスヘ
ッド、積層ヘッド、ＭＩＧヘッド、ＭＲヘッド等の、巾
の狭いヘッドを平滑にかつ変質層を出現させることな
く、また所望の形状に研磨し良好なヘッド当たりを確保
し、磁気ヘッドへの付着物を有効デプスをあまり減少さ
せずに研磨し得る研磨テープに最適な研磨体を提供する
こと。 【構成】 研磨剤粉末と酸性官能基を有するバインダー
からなる研磨層を支持体上に有してなる研磨体におい
て、該研磨層中に塩基性のカーボンブラックを含有する
ことを特徴とする研磨体。

Description

【発明の詳細な説明】

【産業上の利用分野】本発明は磁気記録再生装置の磁気
ヘッドの研磨もしくはクリーニングに用いる研磨テープ
や研磨シートもしくはクリーニング用途を始めとし、各
種物体（特に磁気記録媒体等）の研磨、バーニッシュ、
テクスチャー等に用いられる研磨体に関し、特にＶＴＲ
あるいはオーディオデッキの磁気ヘッド等の粗研磨、仕
上げ研磨を行う研磨テープもしくはクリーニングテープ
に最適な研磨体に関するものである。

【０００１】

【従来の技術】ビデオ用あるいはオーディオ用磁気ヘッ
ドは、テープ摺動面の平滑性とヘッド摺動面上の付着物
の排除が特に要求されるため、一般に磁気ヘッドを製作
する際粗削りのあとにこの磁気ヘッドを所定の位置に配
し、この磁気ヘッドを挟む２つのリール間に研磨テープ
を走行させて磁気ヘッドのテープ摺動面を平滑に仕上げ
たり、カセット内に研磨テープを配し磁気ヘッド摺動面
上の付着物を除去したりする。このような研磨テープは
非磁性支持体上に微細な研磨粒子とバインダー、もしく
は研磨粒子と強磁性微粉末とバインダー等を設けて作成
したものであり、可撓性を有しているので磁気ヘッドの
テープ摺動面の曲面形状になじんでヘッド面を精密に研
磨し平滑化させ、また付着物の除去を行う事ができる。

【０００２】従来このような研磨テープの研磨層は、研
磨テープと磁気ヘッドとの間のなじみを向上させ滑りを
よくするためシリコンオイルや各種の潤滑剤を添加剤と
して含有させることが知られている。これらは特開昭６
２−９２２０５号公報、特開昭６３−４７０６９号公
報、特公平４−２２２８３号公報等に開示されている。

【０００３】しかしながら、近年高密度記録の進展と共
に、薄膜ヘッドやアモルファスヘッド、積層ヘッド、Ｍ
ＩＧヘッド、ＭＲヘッド等が出現し、より巾の狭いヘッ
ドをより平滑でかつ変質することなく所望の形状に研磨
することや、磁気ヘッドへの付着物をヘッドの有効デプ
スをあまり減少させずに研磨することは極めて困難であ
った。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】本発明は前記問題点を
解決すべくなされたものであり、特に、高密度記録用の
薄膜ヘッドやアモルファスヘッド、積層ヘッド、ＭＩＧ
ヘッド、ＭＲヘッド等の、巾の狭いヘッドを平滑にかつ
変質層を出現させることなく、また所望の形状に研磨し
良好なヘッドあたりを確保し、磁気ヘッドへの付着物を
有効デプスをあまり減少させずに研磨し得る研磨テープ
に最適な研磨体を提供することを目的とするものであ
る。

【０００５】

【課題を解決するための手段】上記本発明の目的は、研
磨剤粉末と酸性官能基を有するバインダーからなる研磨
層を支持体上に有してなる研磨体において、該研磨層中
に塩基性のカーボンブラックを含有することを特徴とす
る研磨体により達成される。さらに、前記カーボンブラ
ックのｐＨが７〜１０であって、平均粒子サイズが０．
０１〜０．１μｍであると本発明の目的はより一層有効
に達成することができる。

【０００６】本発明の研磨体においては、研磨層のバイ
ンダーが酸性官能基を有するのでカーボンブラック粒子
表面の塩基性官能基と結合することによりカーボンブラ
ックの分散が促進され、 １．平滑な研磨層塗布膜を得易く ２．粉落ちがなく ３．研磨層の摩擦係数を低減できる という利点を有する。

【０００７】本発明の研磨体においては、研磨層中には
カーボンブラックがあるので、第一に、Ｒ_sが低く接触
するローラや磁気ヘッドとの間での静電気障害が起こり
にくく、また、研磨層塗布膜が適度な柔軟性を保持し
て、磁気ヘッドによる傷を生じにくく、またそのカーボ
ンブラックが塩基性であるためにバインダーとの混練、
均一分散が容易であり、網目構造上に研磨剤粉末が保持
されていると考えられるのでカーボンブラックや研磨剤
粉末粒子の脱落が起こりにくいという特長がある。

【０００８】そして、前記カーボンブラックの平均粒子
サイズを０．０１〜０．１μｍとすることにより、微粒
子の研磨剤と均一に混和することができ、摩擦抵抗や表
面電気抵抗を充分に下げることができる。

【０００９】以上のように、本発明の研磨体の研磨層
に、カーボンブラックを含むことにより、研磨上がりの
ビデオヘッドの歪層の出現を低減しかつ研磨上がりのヘ
ッド面を平滑にし高出力を達成できたものであって、さ
らに、カーボンブラックのｐＨが７〜１０で平均粒子サ
イズが０．０１〜０．１μｍのカーボンブラックを使用
することにより、バインダーおよび研磨剤粉末との混
合、分散性が改善され、そして、カーボンブラックを研
磨剤粉末に対し適正量用いることにより、表面電気抵抗
が下がり、且つ分散性が非常に改善されるのである。

【００１０】本発明の研磨層中のバインダーは、酸性官
能基を有するものであるが、その酸性官能基としては、
-ＣＯＯＭ，−ＳＯ₃Ｍ、−ＰＯ（ＯＭ）₂、−ＯＳＯ
₃Ｍ，−ＳＯ₂Ｍ（Ｍは、Ｈ、アルカリ金属原子、アルカ
リ土類金属原子）であり、中でも特に望ましいのは、酸
性度が高くカーボンブラック粒子表面に強く吸着すると
いう観点から、ＳＯ₃Ｍ、燐酸塩、カルボキシル基であ
る。

【００１１】酸性官能基を有するバインダー中の酸性官
能基の含有量は、当量で１×１０^-6〜１×１０^-2／ｇの
範囲であることが望ましく、更に望ましくは１×１０^-5
〜１×１０^-3／ｇである。酸性官能基の含有量が余り少
ないとカーボンブラック粒子の脱落が生じたり、分散度
が高まらず、また逆に余り多すぎてもバインダー同士の
凝集が生じて、分散度が低下する。

【００１２】研磨層中の全バインダー中における酸性官
能基を有するバインダーの使用比率は、１０〜５０重量
％の範囲であることが望ましく、更に、望ましくは１５
〜４０重量％である。

【００１３】本発明の前記カーボンブラックは塩基性で
あるがそのｐＨは７〜１０であることが好ましく、更に
好ましくは７．５〜９．５である。カーボンブラックが
酸性になると分散が充分に進まず研磨層塗膜の表面が粗
面となって好ましくない。

【００１４】また、研磨層中におけるカーボンブラック
の含有量は、研磨剤粉末に対し２〜１０重量％であるこ
とが望ましく、さらに望ましくは、３〜８重量％であ
る。含有量が余り多くなると凝集物が発生しそのため面
荒れが生じて、引いては磁気ヘッド傷を誘発することに
なり、また、少なすぎると分散が不足して面が荒れてや
はり磁気ヘッド傷が発生するようになる。

【００１５】さらに、研磨体が研磨テープである場合に
おいて、研磨テープの走行系における摩擦係数を低減す
るために研磨層が存在する可撓性支持体の裏面にカーボ
ンとバインダーとからなるバックコート層を塗設しても
良い。

【００１６】また、研磨テープの研磨層に含まれる研磨
剤粉末を含めた無機粉末１００重量部当たりのバインダ
ー量は、５〜７０重量部で、支持体の厚みは５０μｍ以
下であることが、平滑にかつ所望の形状に磁気ヘッドを
研磨し、磁気ヘッドへの付着物を有効デプスをあまり減
少させずに磁気ヘッドを研磨する上で望ましい。

【００１７】本発明の研磨層およびバック層で用いられ
る研磨剤粉末は、磁気ヘッドを効率よく研削しまたＶＴ
Ｒの磁気ヘッドに対するクリーニング効果を向上させる
ためや各種部材を研削し所望の平滑かや粗面化を達成す
るために用いられ、一般的に研磨作用もしくは琢磨作用
をもつ材料で平均粒子サイズが０．００５〜２０μｍの
酸化クロム、α−アルミナ、炭化珪素、非磁性酸化鉄、
ダイヤモンド、γ−アルミナ，α、γ−アルミナ 熔融
アルミナ，酸化セリウム，コランダム，人造ダイヤモン
ド，ザクロ石，エメリ−（主成分：コランダムと磁鉄
鉱），ガ−ネット，珪石，窒化珪素，窒化硼素，炭化モ
リブデン，炭化硼素，炭化タングステン，チタンカ−バ
イド，トリポリ，ケイソウ土，ドロマイト等で，主とし
てモ−ス硬度６以上の材料が１内至４種迄の組合わせで
使用される．これらの併用される研磨剤のｐＨは２〜１
０のものが使用され，特に好ましくは５〜１０のものが
用いられる。これらの研磨剤は研磨層の主たる構成物質
として用いられる。バック層に用いる場合には後述する
樹脂１００重量部に対して０．０１〜５重量部で用いる
ことが望ましい。これらの具体例としては住友化学
（株）製のＡＫＰ１、ＡＫＰ１５、ＡＫＰ２０、ＡＫＰ
３０、ＡＫＰ５０、ＡＫＰ８０、Ｈｉｔ５０、Ｈｉｔ１
００等のアルミナ、日本化学製のＧ５、Ｓ３、Ｓ１等の
酸化クロムが具体例として挙げられる。

【００１８】本発明の研磨体の研磨層に使用する研磨剤
粉末を含めた無機粉体うちの４０％以下の重量で磁性粉
末を用いてもよい。本発明で使用される強磁性微粉末と
しては，γ−Ｆｅ₂Ｏ₃ ，Ｃｏ含有（被着，変成，ド−
プ）のγ−Ｆｅ₂Ｏ₃，， Ｆｅ ₃ Ｏ₄ ，Ｃｏ含有（被
着，変成，ド−プ）のＦｅ₃Ｏ₄，γ−ＦｅＯ_X ，Ｃｏ含
有（被着，変成，ド−プ）の γ− ＦｅＯ_X （Ｘ＝
１．３３〜 １．５０），ＣｒＯ₂ ，Ｆｅ−Ｃｏ合金，
Ｃｏ−Ｎｉ−Ｐ合金，Ｃｏ−Ｎｉ−Ｆｅ−Ｂ合金，Ｆｅ
−Ｎｉ−Ｚｎ合金，Ｎｉ−Ｃｏ合金，Ｃｏ−Ｎｉ−Ｆｅ
合金など，公知の強磁性微粉末が使用でき，具体的に
は，特公昭４４−１４０９０号公報，特公昭４５−１８
３７２号公報，特公昭４７−２２０６２号公報，特公昭
４７−２２５１３号公報，特公昭４６−２８４６６号公
報，特公昭４６−３８７５５号公報，特公昭４７−４２
８６号公報，特公昭４７−１２４２２号公報，特公昭４
７−１７２８４号公報，特公昭４７−１８５０９号公
報，特公昭４７−１８５７３号公報，特公昭３９−１０
３０７号公報 特公昭４８−２９２８０，特公昭４８−
３９６３９号公報，特公昭５８−２９６０５，特公昭６
０−４４２５４，特開昭５９−１２６６０５，米国特許
３０２６２１５号，同３０３１３４１号，同３１００１
９４号，同３２４２００５号，同３３８９０１４号など
に記載されている。これら強磁性微粉末の粒子サイズは
約０．００５〜１ミクロンの長さで，軸長／軸幅の比
は，１／１〜５０／１程度である。叉，これらの強磁性
体微粉末の比表面積は２０〜８０ｍ² ／ｇより好ましく
は２０〜７０ｍ² ／ｇ、抗磁力（Ｈ_c）は２５０〜２５
００Ｏｅ、含水率は０．１〜２．０重量％、ｐＨは３〜
１１（５ｇ磁性体／１００ｇ水）である。これらの強磁
性微粉末の表面に，後に述べる表面処理剤、分散剤，潤
滑剤，帯電防止剤等をそれぞれの目的の為に分散に先だ
って溶剤中で含浸させて，吸着させてもよい。本発明の
磁気記録媒体はこれら強磁性微粉末がバインダー中に分
散された研磨層を非磁性支持体上に設けたものである。
このほか１００００ｐｐｍ以下の量で記載以外の元素
（Ｓｒ，Ｐｂ，Ｍｎ，Ｃｄ，Ａｌ，Ｓｉ，Ｎａ，Ｃａ，
Ｋ，Ｔｉ，Ｃｕ，Ｚｎ，Ｓ等）を磁気特性向上のためあ
るいは不純物として含む。 特に金属強磁性微粉末は焼
結防止剤としてＡｌ、Ｓｉ化合物を粒子表面に含みその
量は金属成分の１〜１０重量％である。

【００１９】また、本発明の研磨層に使用する強磁性微
粉末としては，板状六方晶のバリウムフェライト、変性
バリウムフェライトおよび変性ストロンチウムフェライ
トなども使用できる。バリウムフェライトの粒子サイズ
は約０．００１〜１ミクロンの直径で厚みが直径の１／
２〜１／２０である。バリウムフェライトの比重は４〜
６ｇ／ｃｃで，比表面積は１０〜７０ｍ² ／ｇである。
これらバリウムフェライトは必要に応じて希土類元素を
１０ｗｔ％以下の量で含み、そのよのアルカリ金属、ア
ルカリ土類金属を磁気特性向上のためあるいは不純物と
して含む。これらの強磁性微粉末の表面には後に述べる
分散剤，潤滑剤，帯電防止剤等をそれぞれの目的の為に
分散に先立って溶剤中で含浸させて，吸着させてもよ
い。

【００２０】本発明のバック層に使用されるカーボンブ
ラックはゴム用ファ−ネス，ゴム用サ−マル，カラ−用
ブラック，アセチレンブラック等を用いる事ができる。
これらカーボンブラックはテープの帯電防止剤、遮光
剤、摩擦係数調節剤、耐久性向上を目的として使用され
る。 これらカ−ボンブラックの米国における略称の具
体例をしめすとＳＡＦ，ＩＳＡＦ，ＩＩＳＡＦ，Ｔ，Ｈ
ＡＦ，ＳＰＦ，ＦＦ，ＦＥＦ，ＨＭＦ，ＧＰＦ，ＡＰ
Ｆ，ＳＲＦ，ＭＰＦ，ＥＣＦ，ＳＣＦ，ＣＦ，ＦＴ，Ｍ
Ｔ，ＨＣＣ，ＨＣＦ，ＭＣＦ，ＬＦＦ，ＲＣＦ等があ
り，米国のＡＳＴＭ規格のＤ−１７６５−８２ａに分類
されているものを使用することができる。本発明に使用
されるこれらカ−ボンブラックの平均粒子サイズは ５
〜１０００ミリミクロン（電子顕微鏡），窒素吸着法比
表面積は１〜８００ｍ²／ｇ，ｐＨは４〜１１（ＪＩＳ
規格Ｋ−６２２１−１９８２法），ジブチルフタレ−ト
（ＤＢＰ）吸油量は１０〜８００ｍｌ／１００ｇ（ＪＩ
Ｓ規格Ｋ−６２２１−１９８２法）である。本発明に使
用されるカ−ボンブラックのサイズは，塗布膜の表面電
気抵抗を下げる目的で ５〜１００ミリミクロンのカ−
ボンブラックを，また塗布膜の強度を制御するときに５
０〜１０００ミリミクロンのカ−ボンブラックをもちい
る。また塗布膜の表面粗さを制御する目的でスペ−シン
グロス減少のための平滑化のためにより微粒子のカ−ボ
ンブラック（１００ミリミクロン未満）を，粗面化して
摩擦係数を下げる目的で粗粒子のカ−ボンブラック（１
００ミリミクロン以上）をもちいる。このようにカ−ボ
ンブラックの種類と添加量は研磨テープもしくはクリー
ニングテープに要求される目的に応じて使い分けらる。
また，これらのカ−ボンブラックを，後述の分散剤など
で表面処理したり，樹脂でグラフト化して使用してもよ
い。また，カ−ボンブラックを製造するときの炉の温度
を２０００℃以上で処理して表面の一部をグラファイト
化したものも使用できる。また，特殊なカ−ボンブラッ
クとして中空カ−ボンブラックを使用することもでき
る。これらのカ−ボンブラックは研磨層の場合無機粉末
１００重量部に対して０．１〜１００重量部で用いるこ
とが望ましい。またバック層の場合後述する樹脂１００
重量部に対して２０〜４００重量部で用いることが望ま
しい。本発明に使用できるカ−ボンブラックは例えば
『カ−ボンブラック便覧』，カ−ボンブラック協会編，
（昭和４６年発行）を参考にすることができる。

【００２１】本発明の研磨体の研磨層とバック層に使用
されるバインダ−としては、従来公知の熱可塑性樹脂，
熱硬化性樹脂，反応型樹脂、電子線硬化型樹脂、紫外線
硬化型樹脂、可視光線硬化型樹脂やこれらの混合物が使
用される。 熱可塑性樹脂としては軟化温度が１５０℃
以下，平均分子量が１００００〜３０００００，重合度
が約５０〜２０００程度のものでより好ましくは２００
〜７００程度であり，例えば塩化ビニル酢酸ビニル共重
合体，塩化ビニル共重合体，塩化ビニル酢酸ビニルビニ
ルアルコール共重合体，塩化ビニルビニルアルコール共
重合体，塩化ビニル塩化ビニリデン共重合体，塩化ビニ
ルアクリロニトリル共重合体，アクリル酸エステルアク
リロニトリル共重合体，アクリル酸エステル塩化ビニリ
デン共重合体，アクリル酸エステルスチレン共重合体，
メタクリル酸エステルアクリロニトリル共重合体，メタ
クリル酸エステル塩化ビニリデン共重合体，メタクリル
酸エステルスチレン共重合体，ウレタンエラストマ−，
ナイロン−シリコン系樹脂，ニトロセルロ−ス−ポリア
ミド樹脂，ポリフッカビニル，塩化ビニリデンアクリロ
ニトリル共重合体，ブタジエンアクリロニトリル共重合
体，ポリアミド樹脂，ポリビニルブチラ−ル，セルロ−
ス誘導体（セルロ−スアセテ−トブチレ−ト，セルロ−
スダイアセテ−ト，セルロ−ストリアセテ−ト，セルロ
−スプロピオネ−ト，ニトロセルロ−ス，エチルセルロ
−ス，メチルセルロ−ス，プロピルセルロ−ス，メチル
エチルセルロ−ス，カルボキシメチルセルロ−ス，アセ
チルセルロ−ス等），スチレンブタジエン共重合体，ポ
リエステル樹脂，ポリカーボネート樹脂、クロロビニル
エ−テルアクリル酸エステル共重合体，アミノ樹脂，各
種の合成ゴム系の熱可塑性樹脂及びこれらの混合物等が
使用される。

【００２２】また、熱硬化性樹脂又は反応型樹脂として
は塗布液の状態では２０００００以下の分子量であり，
塗布，乾燥後に加熱加湿することにより，縮合，付加等
の反応により分子量は無限大のものとなる。叉，これら
の樹脂のなかで，樹脂が熱分解するまでの間に軟化又は
溶融しないものが好ましい。具体的には例えばフェノ−
ル樹脂，フェノキシ樹脂，エポキシ樹脂，ポリウレタン
樹脂，ポリエステル樹脂、ポリウレタンポリカーボネー
ト樹脂，尿素樹脂，メラミン樹脂，アルキッド樹脂，シ
リコン樹脂，アクリル系反応樹脂（電子線硬化樹脂），
エポキシ−ポリアミド樹脂，ニトロセルロ−スメラミン
樹脂，高分子量ポリエステル樹脂とイソシアネ−トプレ
ポリマ−の混合物，メタクリル酸塩共重合体とジイソシ
アネ−トプレポリマ−の混合物，ポリエステルポリオ−
ルとポリイソシアネ−トとの混合物，尿素ホルムアルデ
ヒド樹脂，低分子量グリコ−ル／高分子量ジオ−ル／ト
リフェニルメタントリイソシアネ−トの混合物，ポリア
ミン樹脂，ポリイミン樹脂及びこれらの混合物等であ
る。これらの熱可塑，熱硬化性樹脂，反応型樹脂は，主
たる官能基以外に官能基としてカルボン酸（ＣＯＯ
Ｍ），スルフィン酸，スルフェン酸、スルホン酸（ＳＯ
₃Ｍ），燐酸（ＰＯ（ＯＭ）（ＯＭ）），ホスホン酸、
硫酸（ＯＳＯ₃Ｍ），及びこれらのエステル基等の酸性
基（ＭはＨ、アルカリ金属、アルカリ土類金属、炭化水
素基）、アミノ酸類；アミノスルホン酸類，アミノアル
コ−ルの硫酸または燐酸エステル類，スルフォベタイ
ン、ホスホベタイン、アルキルベタイン型等の両性類
基，アミノ基，イミノ基，イミド基，アミド基等また，
水酸基，アルコキシル基，チオ−ル基，アルキルチオ
基、ハロゲン基（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ），シリル基，シ
ロキサン基、エポキシ基、イソシアナト基、シアノ基、
ニトリル基、オキソ基、アクリル基、フォスフィン基を
通常１種以上６種以内含み，各々の官能基は樹脂１ｇあ
たり１×１０^-6〜１×１０^-2ｅｑ含むことが好ましい。

【００２３】これらのバインダーの単独又は組合わされ
たものが使われ，ほかに添加剤が加えられる。研磨層の
研磨剤および／もしくは強磁性微粉末とバインダーとの
混合割合は重量比で研磨剤およびもしくは強磁性微粉末
との合計１００重量部に対してバインダー５〜７０重量
部の範囲で使用される。バック層の微粉末とバインダー
の混合割合は重量比で微粉末１００重量部に対してバイ
ンダー ８〜４００重量部の範囲で使用される。添加剤
としては分散剤，潤滑剤，帯電防止剤，酸化防止剤，防
黴剤、着色剤、溶剤等がくわえられる。

【００２４】本発明の研磨層及び或いはバック層に硬化
剤として用いるポリイソシアネ−トとしては，トリレン
ジイソシアネ−ト，４、４’−ジフェニルメタンジイソ
シアネ−ト，ヘキサメチレンジイソシアネ−ト，キシリ
レンジイソシアネ−ト，ナフチレン−１、５−ジイソシ
アネ−ト，ｏ−トルイジンジイソシアネ−ト，イソホロ
ンジイソシアネ−ト，トリフェニルメタントリイソシア
ネ−ト，イソホロンジイソシアネ−ト等のイソシアネ−
ト類，叉当該イソシアネ−ト類とポリアルコ−ルとの生
成物，叉イソシアネ−ト類の縮合に依って生成した２〜
１０量体のポリイソシアネ−ト、又ポリイソシアネート
とポリウレタンとの生成物で末端官能基がイソシアネー
トであるもの等を使用することができる。これらポリイ
ソシアネ−ト類の平均分子量は１００〜２００００のも
のが好適である。これらポリイソシアネ−トの市販され
ている商品名としては，コロネ−トＬ，コロネ−トＨ
Ｌ，コロネ−ト２０３０，コロネ−ト２０３１，ミリオ
ネ−トＭＲ，ミリオネ−トＭＴＬ（日本ポリウレタン株
製），タケネ−トＤ−１０２，タケネ−トＤ−１１０
Ｎ，タケネ−トＤ−２００，タケネ−トＤ−２０２，タ
ケネ−ト３００Ｓ，タケネ−ト５００（武田薬品株
製），スミジュ−ルＴ−８０，スミジュ−ル４４Ｓ，ス
ミジュ−ルＰＦ，スミジュ−ルＬ，スミジュ−ルＮデス
モジュ−ルＬ，デスモジュ−ルＩＬ，デスモジュ−ル
Ｎ，デスモジュ−ルＨＬ，デスモジュ−ルＴ６５，デス
モジュ−ル１５，デスモジュ−ルＲ，デスモジュ−ルＲ
Ｆ，デスモジュ−ルＳＬ，デスモジュ−ルＺ４２７３
（住友バイエル社製）等があり，これらを単独もしくは
硬化反応性の差を利用して二つもしくはそれ以上の組み
合わせによって使用することができる。叉，硬化反応を
促進する目的で，水酸基（ブタンジオ−ル，ヘキサンジ
オ−ル、分子量が１０００〜１００００のポリウレタ
ン、水等），アミノ基（モノメチルアミン，ジメチルア
ミン，トリメチルアミン等）を有する化合物や金属酸化
物の触媒や鉄アセチルアセトネート等の触媒を併用する
事もできる。これらの水酸基やアミノ基を有する化合物
は多官能である事が望ましい。これらポリイソシアネ−
トは研磨層、バック層ともバインダー樹脂とポリイソシ
アネ−トの総量１００重量部あたり２〜７０重量部で使
用することが好ましく、よりこのましくは５〜５０重量
部である。

【００２５】本発明の研磨層とバック層に使用される粉
末状潤滑剤としては，グラファイト、二硫化モリブデ
ン，窒化硼素，弗化黒鉛，炭酸カルシウム，硫酸バリウ
ム，酸化珪素，酸化チタン，酸化亜鉛，酸化錫，二硫化
タングステン等の無機微粉末，アクリルスチレン系樹脂
微粉末，ベンゾグアナミン系樹脂微粉末，メラミン系樹
脂微粉末，ポリオレフイン系樹脂微粉末，ポリエステル
系樹脂微粉末，ポリアミド系樹脂微粉末，ポリイミド系
樹脂微粉末，ポリフッカエチレン系樹脂微粉末等の樹脂
微粉末等がある。

【００２６】また、有機化合物系潤滑剤としてはシリコ
ンオイル（ジアルキルポリシロキサン、ジアルコキシポ
リシロキサン、フェニルポリシロキサン、フルオロアル
キルポリシロキサン），脂肪酸変性シリコンオイル，フ
ッ素アルコ−ル，ポリオレフィン（ポリエチレンワック
ス、ポリプロピレン等），ポリグリコ−ル（エチレング
リコール、ポリエチレンオキシドワックス等），テトラ
フルオロエチレンオキシドワックス，ポリテトラフルオ
ログリコ−ル，パーフルオロアルキルエーテル，パ−フ
ルオロ脂肪酸，パ−フルオロ脂肪酸エステル，パ−フル
オロアルキル硫酸エステル，パ−フルオロアルキルスル
ホン酸エステル，パ−フルオロアルキルベンゼンスルホ
ン酸エステル，パ−フルオロアルキル燐酸エステル等の
弗素や珪素を導入した化合物、アルキル硫酸エステル、
アルキルスルホン酸エステル、アルキルホスホン酸トリ
エステル、アルキルホスホン酸モノエステル、アルキル
ホスホン酸ジエステル、アルキル燐酸エステル，琥珀酸
エステル等の有機酸および有機酸エステル化合物、トリ
アザインドリジン、テトラアザインデン、ベンゾトリア
ゾール、ベンゾトリアジン、ベンゾジアゾール、ＥＤＴ
Ａ等の窒素・硫黄を含む複素（ヘテロ）環化合物、炭素
数１０〜４０の一塩基性脂肪酸と炭素数２〜４０個の一
価のアルコ−ルもしくは二価のアルコ−ル，三価のアル
コ−ル，四価のアルコ−ル，六価のアルコ−ルのいずれ
か１つもしくは２つ以上とから成る脂肪酸エステル類，
炭素数１０個以上の一塩基性脂肪酸と該脂肪酸の炭素数
と合計して炭素数が１１〜７０個と成る一価〜六価のア
ルコ−ルから成る脂肪酸エステル類、炭素数８〜４０の
脂肪酸或いは脂肪酸アミド類，脂肪酸アルキルアミド
類、脂肪族アルコ−ル類も使用できる。

【００２７】これら化合物の具体的な例としては，カプ
リル酸ブチル，カプリル酸オクチル，ラウリン酸エチ
ル，ラウリン酸ブチル，ラウリン酸オクチル，ミリスチ
ン酸エチル，ミリスチン酸ブチル，ミリスチ酸オクチ
ル，ミリスチン酸２エチルヘキシル、パルミチン酸エチ
ル，パルミチン酸ブチル，パルミチン酸オクチル，パル
ミチン酸２エチルヘキシル、ステアリン酸エチル，ステ
アリン酸ブチル，ステアリン酸イソブチル、ステアリン
酸オクチル，ステアリン酸２エチルヘキシル、ステアリ
ン酸アミル，ステアリン酸イソアミル、ステアリン酸２
エチルペンチル、ステアリン酸２ヘキシルデシル、ステ
アリン酸イソトリデシル、ステアリン酸アミド、ステア
リン酸アルキルアミド、ステアリン酸ブトキシエチル、
アンヒドロソルビタンモノステアレ−ト，アンヒドロソ
ルビタンジステアレ−ト，アンヒドロソルビタントリス
テアレ−ト，アンヒドロソルビタンテトラステアレ−
ト，オレイルオレ−ト，オレイルアルコ−ル，ラウリル
アルコ−ル、モンタンワックス、カルナウバワックス、
等が有り単独もしくは組み合わせで使用できる。

【００２８】また、本発明の研磨体の研磨層に使用され
る潤滑剤としては所謂潤滑油添加剤も単独もしくは組合
わせで使用でき，防錆剤としてしられている酸化防止剤
（アルキルフェノ−ル、ベンゾトリアジン、テトラアザ
インデン、スルファミド、グアニジン、核酸、ピリジ
ン、アミン、ヒドロキノン、ＥＤＴＡ等の金属キレート
剤 ），錆どめ剤（ナフテン酸，アルケニルコハク酸，
燐酸、ジラウリルフォスフェ−ト等），油性剤（ナタネ
油，ラウリルアルコ−ル等），極圧剤（ジベンジルスル
フィド，トリクレジルフォスフェ−ト，トリブチルホス
ファイト等），清浄分散剤，粘度指数向上剤，流動点降
下剤，泡どめ剤等がある。これらの潤滑剤はバインダー
１００重量部に対して０．０１〜３０重量部の範囲で添
加される。

【００２９】これらについては，アイビ−エムテクニカ
ル デイ スクロジャ−ブリテン（ＩＢＭ Ｔｅｃｈｎｉ
ｃａｌ Ｄｉｓｃｌｏｓｕｒｅ Ｂｕｌｌｅｔｉｎ）Ｖ
ｏｌ．９，Ｎｏ７，ｐ７７９（１９６６年１２月）、エ
レクトロニク（ＥＬＥＫＴＲＯＮＩＫ）１９６１年Ｎｏ
１２，ｐ３８０、化学便覧，応用編，ｐ９５４−９６
７，１９８０年丸善株発行等に開示されて化合物を参照
できる。

【００３０】本発明に使用する分散剤、分散助剤として
は，カプリル酸，カプリン酸，ラウリン酸，ミリスチン
酸，パルミチン酸，ステアリン酸，オレイン酸，エライ
ジン酸，リノ−ル酸，リノレン酸，ステアロ−ル酸、ベ
ヘン酸、マレイン酸、フタル酸等の炭素数２〜４０個の
脂肪酸（Ｒ₁ ＣＯＯＨ，Ｒ₁ は炭素数１〜３９個のアル
キル基、フェニル基、アラルキル基），前記の脂肪酸の
アルカリ金属（Ｌｉ，Ｎａ，Ｋ，ＮＨ⁴⁺ 等）またはア
ルカリ土類金属（Ｍｇ，Ｃａ，Ｂａ等），Ｃｕ，Ｐｂ等
から成る金属石鹸（オレイン酸銅），脂肪酸アミド；レ
シチン（大豆油レシチン）等が使用される。この他に炭
素数４〜４０の高級アルコ−ル，（ブタノ−ル，オクチ
ルアルコ−ル，ミリスチルアルコ−ル，ステアリルアル
コ−ル）及びこれらの硫酸エステル，スルホン酸、フェ
ニルスルホン酸、アルキルスルホン酸、スルホン酸エス
テル、燐酸モノエステル，燐酸ジエステル、燐酸トリエ
ステル、アルキルホスホン酸、フェニルホスホン酸、ア
ミン化合物等も使用可能である。また，ポリエチレング
リコール、ポリエチレンオキサイド，スルホ琥珀酸，ス
ルホ琥珀酸金属塩、スルホ琥珀酸エステル等も使用可能
である。これらの分散剤は通常一種類以上で用いられ，
一種類の分散剤はバインダー１００重量部に対して０．
００５〜２０重量部の範囲で添加される。これら分散剤
の使用方法は，強磁性微粉末や非磁性微粉末の表面に予
め被着させても良く，また分散途中で添加してもよい。

【００３１】本発明に用いる防黴剤としては２−（４−
チアゾリル）−ベンズイミダゾール、Ｎ−（フルオロジ
クロロメチルチオ）−フタルイミド、１０，１０’−オ
キシビスフェノキサルシン、２，４，５，６テトラクロ
ロイソフタロニトリル、Ｐ−トリルジヨードメチルスル
ホン、トリヨードアリルアルコール、ジヒドロアセト
酸、フェニルオレイン酸水銀、酸化ビス（トリブチル
錫）、サルチルアニライド等がある。 このようなもの
は，例えば「微生物災害と防止技術」１９７２年工学図
書、「化学と工業」３２，９０４（１９７９）等に於い
て示されている。

【００３２】本発明に用いるカーボンブラック以外の帯
電防止剤としてはグラファイト，変成グラファイト，カ
−ボンブラックグラフトポリマ−，酸化錫−酸化アンチ
モン，酸化錫，酸化チタン−酸化錫−酸化アンチモン，
等の導電性粉末；サポニン等の天然界面活性剤；アルキ
レンオキサイド系，グリセリン系，グリシド−ル系，多
価アルコ−ル，多価アルコ−ルエステル，アルキルフェ
ノ−ルＥＯ付加体等のノニオン界面活性剤；高級アルキ
ルアミン類，環状アミン，ヒダントイン誘導体，アミド
アミン，エステルアミド，第四級アンモニウム塩類，ピ
リジンそのほかの複素環類，ホスホニウムまたはスルホ
ニウム類等のカチオン界面活性剤；カルボン酸，スルホ
ン酸，ホスホン酸、燐酸，硫酸エステル基，ホスホン酸
エステル、燐酸エステル基などの酸性基を含むアニオン
界面活性剤；アミノ酸類；アミノスルホン酸類，アミノ
アルコ−ルの硫酸または燐酸エステル類，アルキルベタ
イン型等の両性界面活性剤等が使用される。 これら帯
電防止剤として使用し得る界面活性剤化合物例の一部
は、小田良平他著『界面活性剤の合成とその応用』（槙
書店１９７２年版）；Ａ．Ｗ．ベイリ著『サ−フエス
アクテイブ エ−ジエンツ』（インタ−サイエンス パ
ブリケ−ション コ−ポレイテッド１９８５年版）；
Ｔ．Ｐ．シスリ−著『エンサイクロペディア オブ サ
−フエスアクティブ エ−ジェンツ，第２巻』（ケミカ
ルパブリシュカンパニ−１９６４年版）；『界面活性剤
便覧』第六刷（産業図書株式会社，昭和４１年１２月２
０日）；丸茂秀雄著『帯電防止剤』幸書房（１９６８）
等の成書に記載されている。 これらの界面活性剤は単
独または混合して添加しても良い。研磨層におけるこれ
らの界面活性剤の使用量は，研磨剤およびもしくは強磁
性微粉末の合計１００重量部当たり０．０１〜１０重量
部である。またバック層での使用量はバインダー１００
重量部当たり０．０１〜３０重量部である。これらは帯
電防止剤として用いられるものであるが，時としてその
ほかの目的，例えば分散，磁気特性の改良，潤滑性の改
良，塗布助剤、湿潤剤、硬化促進剤、分散促進剤として
適用される場合もある。

【００３３】本発明の分散，混練，塗布の際に使用する
有機溶媒としては，任意の比率でアセトン，メチルエチ
ルケトン，メチルイソブチルケトン，シクロヘキサノ
ン，イソホロン，テトラヒドロフラン等のケトン系；メ
タノ−ル，エタノ−ル，プロパノ−ル，ブタノ−ル，イ
ソブチルアルコ−ル，イソプロピルアルコ−ル，メチル
シクロヘキサノ−ルなどのアルコ−ル系；酢酸メチル，
酢酸エチル，酢酸ブチル，酢酸イソブチル，酢酸イソプ
ロピル，乳酸エチル，酢酸グリコ−ルモノエチルエ−テ
ル等のエステル系；ジエチルエ−テル，テトラヒドロフ
ラン，グリコ−ルジメチルエ−テル，グリコ−ルモノエ
チルエ−テル，ジオキサンなどのエ−テル系；ベンゼ
ン，トルエン，キシレン，クレゾ−ル，クロルベンゼ
ン，スチレンなどのタ−ル系（芳香族炭化水素）；メチ
レンクロライド，エチレンクロライド，四塩化炭素，ク
ロロホルム，エチレンクロルヒドリン，ジクロルベンゼ
ン等の塩素化炭化水素，Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアルデ
ヒド，ヘキサン等のものが使用できる。またこれら溶媒
は通常任意の比率で２種以上で用いる。また１重量％以
下の量で微量の不純物（その溶媒自身の重合物、水分、
原料成分等）を含んでもよい。 これらの溶剤は研磨層
塗布液もしくはバック液、下塗液の合計固形分１００重
量部に対して１００〜２００００重量部で用いられる。
好ましい塗布液の固形分率は１〜４０重量％である。
またバック液の好ましい固形分率は１〜２０重量％で
ある。 有機溶媒の代わりに水系溶媒（水、アルコー
ル、アセトン等）を使用することもできる。

【００３４】研磨層の形成は上記の組成などを任意に組
合せて有機溶媒に溶解し，塗布溶液として支持体上に塗
布・乾燥また必要により配向する。研磨テ−プとして使
用する場合には支持体の厚み２．５〜５００ミクロン，
好ましくは３〜５０ミクロンが好ましい。また非磁性支
持体の長手もしくは幅方向のいずれかのヤング率が４０
０Ｋｇ／ｍｍ²以上である事が望ましい。素材としては
ポリエチレンテレフタレ−ト，ポリエチレンナフタレ−
ト等のポリエステル類，ポリプロピレン等ポリオレフイ
ン類，セルロ−ストリアセテ−ト，セルロ−スダイアセ
テ−ト等のセルロ−ス誘導体，ポリ塩化ビニル等のビニ
ル系樹脂類，ポリカ−ボネ−ト，ポリイミド、ポリアミ
ド，ポリスルホン、ポリフェニルスルホン、ポリベンゾ
オキサゾール等のプラスチックのほかにアルミニウム，
銅等の金属，ガラス等のセラミックス等も使用できる。
このなかで特にポリエチレンナフタレートもしくはポリ
アミドが好ましい。これらの支持体は塗布に先立って，
コロナ放電処理，プラズマ処理，下塗処理，熱処理，除
塵埃処理，金属烝着処理，アルカリ処理をおこなっても
よい。これら支持体に関しては例えば 西独特許３３３
８８５４Ａ，特開昭５９−１１６９２６号，特開昭６１
−１２９７３１号，米国特許４３８８３６８号；三石幸
夫著，『繊維と工業』３１巻 ｐ５０〜５５，１９７５
年などに記載されている。研磨テープ等の場合これら支
持体の中心線平均表面粗さは０．００１〜１．５ミクロ
ン（カットオフ値０．２５ｍｍ）が好ましい。

【００３５】分散、混練の方法には特に制限はなく，ま
た各成分の添加順序（樹脂、粉体、潤滑剤、溶媒等）、
分散・混練中の添加位置、分散温度（０〜８０°Ｃ）な
どは適宜設定することができる。研磨層塗料およびバッ
ク層塗料の調製には通常の混練機，例えば，二本ロ−ル
ミル，三本ロ−ルミル，ボ−ルミル，ペブルミル，トロ
ンミル，サンドグラインダ−，ツエ グバリ（Ｓｚｅｇｖ
ａｒｉ）アトライタ−，高速インペラ−，分散機，高速
スト−ンミル，高速度衝撃ミル，ディスパ−，ニ−ダ
−，高速ミキサ−，リボンブレンダ−，コニ−ダ−，イ
ンテンシブミキサ−，タンブラ−，ブレンダ−，ディス
パ−ザ−，ホモジナイザ−，単軸スクリュ−押し出し
機，二軸スクリュ−押し出し機，及び超音波分散機など
を用いることができる。通常分散・混練にはこれらの分
散・混練機を複数備え、連続的に処理を行う。混練分散
に関する技術の詳細は，Ｔ．Ｃ．ＰＡＴＴＯＮ著（テ
−．シ−．パットン）“Ｐａｉｎｔ Ｆｌｏｗ ａｎｄ
Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｄｉｓｐｅｒｓｉｏｎ”（ペイント
フロ− アンド ピグメント デイ スパ−ジョン）
１９６４年Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ ＆ Ｓｏｎｓ社発行
（ジョン ウイリ− アンド サンズ））や田中信一著
『工業材料』２５巻３７（１９７７）などや当該書籍の
引用文献に記載されている。これら分散、混練の補助材
料として分散・混練を効率よく進めるため、球相当径で
１０ｃｍφ〜０．０５ｍｍφの径のスチールボール、ス
チールビーズ、セラミツクビーズ、ガラスビーズ、有機
ポリマービーズを用いることができる。またこれら材料
は球形に限らない。また，米国特許第２５８１４１４号
及び同第２８５５１５６号などの明細書にも記載があ
る。本発明においても上記の書籍や当該書籍の引用文献
などに記載された方法に準じて混練分散を行い研磨層塗
料およびバック層塗料を調製することができる。支持体
上へ前記の研磨層用塗布液ならびにバック層用塗布液を
塗布する方法としては塗布液の粘度を１〜２００００セ
ンチストークス（２５°Ｃ）に調整し、エア−ドクタ−
コ−ター，ブレ−ドコ−ター，エアナイフコ−ター，ス
クイズコ−ター，含浸コ−ター，リバ−スロ−ルコ−タ
ー，トランスファ−ロ−ルコ−ター，グラビアコ−タ
ー，キスコ−ター，キヤストコ−ター，スプレイコ−タ
ー、ロッドコ−ター、正回転ロ−ルコ−ター、カ−テン
コ−ター、押出コ−ター、バ−コ−ター、リップコータ
等が利用でき，その他の方法も可能であり，これらの具
体的説明は朝倉書店発行の『コ−テイング工学』２５３
頁〜２７７頁（昭和４６．３．２０．発行）等に詳細に
記載されている。これら塗布液の塗布の順番は任意に選
択でき、また所望の液の塗布の前に下塗り層あるいは支
持体との密着力向上のためにコロナ放電処理等を行って
も良い。また研磨層もしくはバック層を多層で構成した
いときは、同時多層塗布、逐次多層塗布等を行ってもよ
い。これらは，例えば，特開昭５７−１２３５３２号公
報，特公昭６２−３７４５１号公報，特開昭５９−１４
２７４１号公報、特開昭５９−１６５２３９号公報の明
細書等にしめされている。

【００３６】このような方法により，支持体上に約１〜
１００μｍほどで塗布された研磨層塗布液は、必要によ
り層中の磁性粉末を５００〜５０００ガウスで磁場配向
させながら直ちに２０〜１３０°Ｃで多段階で乾燥させ
る処理を施したのち，形成した研磨層を０．１〜１０μ
ｍ厚みに乾燥する。このときの支持体の搬送速度は，通
常１０〜９００ｍ／分でおこなわれ，複数の乾燥ゾーン
で乾燥温度を２０℃〜１３０℃で制御し塗布膜の残留溶
剤量を０．１〜４０ｍｇ／ｍ² とする。叉必要により同
様の手順でバック層を設けてもよく、引き続き表面平滑
化加工を施し研磨層もしくはバック層の中心線平均表面
粗さを０．００１〜０．３ミクロン（カットオフ０．２
５ｍｍ）とし，所望の形状に裁断したりして，本発明の
研磨テープを製造する。これらの製造方法は粉体の予備
処理・表面処理、混練・分散、塗布・配向・乾燥、平滑
処理、熱処理、ＥＢ処理、表面クリーニング処理、裁
断、巻き取りの工程を連続して行うことが望ましい。
このように作成した研磨テープを裁断したあと所望のプ
ラスチックや金属のリールに巻き取る。巻き取る直前な
いしはそれ以前の工程において研磨テープ（研磨層、バ
ック層、エッジ端面、ベース面）をバーニシュおよびま
たはクリーニングすることが望ましい。バーニツシュは
研磨テープの表面粗度と研磨力を制御するために具体的
にはサファイア刃、剃刀刃、超硬材料刃、ダイアモンド
刃、セラミックス刃のような硬い材料により研磨テープ
表面の突起部分をそぎおとし均一にもしくは平滑にす
る。これら材料のモース硬度は８以上が好ましいが特に
制限はなく突起を除去できるものであれば良い。これら
材料の形状は特に刃である必要はなく、角型、丸型、ホ
イール（回転する円筒形状の周囲にこれらの材質を付与
しても良い）のような形状でも使用できる。また研磨テ
ープのクリーニングは、研磨テープ表面の汚れや余分な
潤滑剤を除去する目的で研磨テープ表層を不織布などで
研磨層面、バック層面、エッジ端面、バック側のベース
面をワイピングすることにより行う。このようなワイピ
ングの材料としては例えば日本バイリーン製の各種バイ
リーンや東レ製のトレシー、エクセーヌ、商品名キムワ
イプ、また不織布はナイロン製不織布、ポリエステル製
不織布、レーヨン製不織布、アクリロニトリル製不織
布、混紡不織布など、ティッシュペーパー等が使用でき
る。

【００３７】本発明の研磨体の研磨層に使用される研磨
剤およびもしくは強磁性微粉末叉は非磁性粉末，バイン
ダー，添加剤（潤滑剤，分散剤，帯電防止剤，表面処理
剤，カ−ボンブラック，研磨剤，遮光剤，酸化防止剤，
防黴剤，等），溶剤及び支持体（下塗層，バック層，バ
ック下塗層を有してもよい）或いはその製法に関して
は、特公昭５６−２６８９０号等に記載されている磁気
記録媒体の製造方法等を参考にできる。

【００３８】以下に本発明を実施例により更に具体的に
説明する。ここに示す成分，割合，操作順序等は本発明
の精神から逸脱しない範囲において変更しうるものであ
ることは本業界に携わるものにとつては容易に理解され
ることである。従って，本発明は 下記の実施例に制限
されるべきではない。なお、実施例中の部は重量部を示
す。

【００３９】

【実施例】

（実施例１〜実施例４及び比較例１〜比較例３）厚さ３
０μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）支持体
上にポリエステルポリウレタン樹脂からなる下塗り層を
０．１μｍ厚に塗布し、その上に下記の組成で調整した
研磨塗布液を、乾燥後１０μｍ厚さとなるようにバーコ
ート塗布を行いサンプルを作成した。

【００４０】＜研磨層用塗布液組成＞ 研磨剤（ＳｉＣ、粒状、平均粒径２μｍ、モース硬度
９）：９５部 研磨剤（ダイアモンド、粒状、平均粒径１．０μｍ、モ
ース硬度１０）：５部 結合剤（塩酢ビ樹脂、４００Ｘ）：３部 結合剤（ポリアミド樹脂）：４部 結合剤（ポリウレタン、エポキシ基 １×１０^-5当量／
ｇ樹脂、スルホン酸ナトリウム２×１０^-3当量／ｇ樹脂
含有、Ｍｗ７００００）：４部 結合剤（ポリイソシアネート、トリメチロールプロパン
（１モル）のＴＤＩ（３モル）付加物：２部 分散剤（オレイン酸銅／フタロシアニン＝１／１）：
０．１部 潤滑剤（オレイン酸／オレイン酸オレイル）：０．１部 希釈剤（メチルエチルケトン／シクロヘキサノン＝２／
１）：２００部 希釈剤（トルエン／ＭＩＢＫ） ： １５０部 添加剤（カーボンブラック） ： Ｘ部（第１表参照）

【００４１】作成した研磨テープでＳ−ＶＨＳ用の磁気
ヘッドを研磨し仕上げ、そのヘッドをＶＴＲに搭載し富
士写真フィルム株式会社製Ｓ−ＶＨＳテープを用い出力
を求めた。その結果を表１に示した。

【００４２】出力の測定方法：Ｓ−ＶＨＳのＶＴＲにて
４ＭＨｚ単一周波で記録を行い、再生出力を測定した。 ヘッド傷の測定方法：実施例、比較例で作成した研磨テ
ープで磨いたヘッド摺動面の傷を観察した。（ｎ＝５の
平均値） Ｒｓの測定方法：研磨テープ表層の電気抵抗。（Ω／Ｓ
Ｑ）竹田理研ＴＲ８６１１Ａで測定した。

【００４３】

【表１】

【００４４】第１表の結果より、カーボンを含む研磨層
が有効である。カーボンが研磨剤の２％以上添加される
とゴミつきによると思われるヘッド傷も少なくなる。ま
た１２％の添加では、塗布膜がカーボンの添加により柔
らかくなるためか出力が低下し傷も認められる。

【００４５】（実施例５、６及び比較例４〜６）厚さ２
５μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）支持体
上にポリエステルポリウレタン樹脂からなる下塗り層を
０．１μｍ厚に塗布し、その上に下記の組成で調整した
研磨塗布液を、乾燥後２５μｍ厚さとなるようにバーコ
ート塗布を行いピンク色のサンプルを作成した。 塗布液組成 研磨剤（α−アルミナ、粒状、平均粒径１μｍ、モース
硬度９）：１００部 結合剤（塩酢ビ樹脂、日本ゼオン（株）製ＭＲ１１０、
エポキシ基 １×１０ ^-5当量／ｇ樹脂）： ６部 結合剤（ポリウレタン、スルホン酸ナトリウム２×１０
^-3当量／ｇ樹脂含有、Ｍｗ７００００）： ４部 結合剤（ポリイソシアネート、トリメチロールプロパン
（１モル）のＴＤＩ（３モル）付加物）： ６部 分散剤（オレイン酸銅／シアニン色素 ＝１／１）：
０．１部 潤滑剤（ミリスチン酸／ステアリン酸トリデシル（ＴＤ
Ｓ））：０．１部 希釈剤（メチルエチルケトン／シクロヘキサノン＝１／
１）：２００部 希釈剤（トルエン／ＭＩＢＫ）：２００部 添加剤（カーボンブラック）： Ｘ部（表２参照） 作成した研磨テープでＳ−ＶＨＳ用磁気ヘッドを研磨し
仕上げ、その磁気ヘッドをＶＴＲに搭載し富士写真フィ
ルム株式会社製Ｓ−ＶＨＳテープを用い出力を求めた結
果を表２に示した。

【００４６】光沢度の測定方法：ＪＩＳ Ｚ８７４１に
従い４５度の入射光にて測定した。 段差摩耗量の測定方法：ギャップ近傍の段差をＡＦＭで
測定した。

【００４７】

【表２】 表２の結果より、カーボンのｐＨは７以上が有効であっ
た。また、カーボンのサイズは１０〜１００ｍμのもの
が有用であることが分かった。

【発明の効果】研磨層中に塩基性のカーボンブラックを
含有することにより、磁気ヘッドのヘッド傷が少なく精
密研磨ができ、高い出力が得られる磁気ヘッドとするこ
とができる。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 研磨剤粉末と酸性官能基を有するバイン
   ダーからなる研磨層を支持体上に有してなる研磨体にお
   いて、該研磨層中に塩基性のカーボンブラックを含有す
   ることを特徴とする研磨体。
2. 【請求項２】 前記カーボンブラックは、ｐＨが７〜１
   ０であって、平均粒子サイズが０．０１〜０．１μｍで
   ある請求項１に記載の研磨体。 【０００１】