JPH06145317A - 新規芳香族ポリエステルカーボネート樹脂 - Google Patents
新規芳香族ポリエステルカーボネート樹脂Info
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- JPH06145317A JPH06145317A JP29592592A JP29592592A JPH06145317A JP H06145317 A JPH06145317 A JP H06145317A JP 29592592 A JP29592592 A JP 29592592A JP 29592592 A JP29592592 A JP 29592592A JP H06145317 A JPH06145317 A JP H06145317A
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Landscapes
- Polyesters Or Polycarbonates (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 液晶パネル、オーブン、プリンター、光学レ
ンズ、ヘッドランプレンズ、ハンダ耐熱用途等に適した
特に優れた耐熱性を有し、更に透明性と成形性の優れた
芳香族ポリエステルカーボネート樹脂を提供する。 【構成】 特定量の9,9−ビス(4−ヒドロキシフェ
ニル)フルオレンを含む二価フェノール、特定量の芳香
族ジカルボン酸又はそのエステル形成性誘導体及びカー
ボネート前駆物質からなる新規芳香族ポリエステルカー
ボネート樹脂。
ンズ、ヘッドランプレンズ、ハンダ耐熱用途等に適した
特に優れた耐熱性を有し、更に透明性と成形性の優れた
芳香族ポリエステルカーボネート樹脂を提供する。 【構成】 特定量の9,9−ビス(4−ヒドロキシフェ
ニル)フルオレンを含む二価フェノール、特定量の芳香
族ジカルボン酸又はそのエステル形成性誘導体及びカー
ボネート前駆物質からなる新規芳香族ポリエステルカー
ボネート樹脂。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、新規な芳香族ポリエス
テルカーボネート樹脂に関する。更に詳しくは、特に高
い耐熱性と良好な光学特性を有する新規な芳香族ポリエ
ステルカーボネート樹脂に関する。
テルカーボネート樹脂に関する。更に詳しくは、特に高
い耐熱性と良好な光学特性を有する新規な芳香族ポリエ
ステルカーボネート樹脂に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、代表的な芳香族ポリエステルカー
ボネート樹脂としては2,2−ビス(4−ヒドロキシフ
ェニル)プロパン(以下ビスフェノールAという)とテ
レフタル酸やイソフタル酸又はこれらのエステル形成性
誘導体に、ホスゲンやジフェニルカーボネート等のカー
ボネート前駆物質を反応させて得られるものが知られて
おり、かかる芳香族ポリエステルカーボネート樹脂が透
明性、耐熱性、寸法精度が良い等の優れた性質を有する
ことも知られている。
ボネート樹脂としては2,2−ビス(4−ヒドロキシフ
ェニル)プロパン(以下ビスフェノールAという)とテ
レフタル酸やイソフタル酸又はこれらのエステル形成性
誘導体に、ホスゲンやジフェニルカーボネート等のカー
ボネート前駆物質を反応させて得られるものが知られて
おり、かかる芳香族ポリエステルカーボネート樹脂が透
明性、耐熱性、寸法精度が良い等の優れた性質を有する
ことも知られている。
【0003】しかしながら、近年軽薄短少化を反映して
より過酷な条件での使用が増え、光線透過率等の光学特
性に加えて更に高い耐熱性が求められている。耐熱性の
優れた芳香族カーボネート樹脂を得るために、ビスフェ
ノールAよりも剛直な二価フェノールを使用した芳香族
ポリカーボネート樹脂が提案されている。例えば9,9
−ビス(4−ヒドロキシフェニル)フルオレンにカーボ
ネート前駆物質を反応させると耐熱性の優れた芳香族ポ
リカーボネート樹脂が得られることは公知である(米国
特許第3546165号明細書)。しかしながら、この
芳香族ポリカーボネートを合成する際、溶媒に不溶のゲ
ル状物が多量に生成し、溶媒可溶成分の收率は高々60
〜70%で実用性に乏しい上にこのものを溶融成形しよ
うとしても、溶融粘度が高すぎて成形できないという問
題があった。
より過酷な条件での使用が増え、光線透過率等の光学特
性に加えて更に高い耐熱性が求められている。耐熱性の
優れた芳香族カーボネート樹脂を得るために、ビスフェ
ノールAよりも剛直な二価フェノールを使用した芳香族
ポリカーボネート樹脂が提案されている。例えば9,9
−ビス(4−ヒドロキシフェニル)フルオレンにカーボ
ネート前駆物質を反応させると耐熱性の優れた芳香族ポ
リカーボネート樹脂が得られることは公知である(米国
特許第3546165号明細書)。しかしながら、この
芳香族ポリカーボネートを合成する際、溶媒に不溶のゲ
ル状物が多量に生成し、溶媒可溶成分の收率は高々60
〜70%で実用性に乏しい上にこのものを溶融成形しよ
うとしても、溶融粘度が高すぎて成形できないという問
題があった。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、液晶
パネル、オーブン、プリンター、光学レンズ、ヘッドラ
ンプレンズ、ハンダ耐熱用途等に適した特に優れた耐熱
性を有し、更に透明性と成形性の良好な芳香族ポリエス
テルカーボネート樹脂を提供することにある。本発明者
は、上記目的を達成せんとして、新規な芳香族ポリエス
テルカーボネートについて鋭意研究を重ねた結果、特定
量の9,9−ビス(4−ヒドロキシフェニル)フルオレ
ンを含む二価フェノールと芳香族ジカルボン酸又はその
エステル形成性誘導体とカーボネート前駆物質を反応さ
せることにより、特に優れた耐熱性を有し、透明性と成
形性の良好な芳香族ポリエステルカーボネート樹脂が得
られることを見出した。本発明はこの知見に基づき完成
したものである。
パネル、オーブン、プリンター、光学レンズ、ヘッドラ
ンプレンズ、ハンダ耐熱用途等に適した特に優れた耐熱
性を有し、更に透明性と成形性の良好な芳香族ポリエス
テルカーボネート樹脂を提供することにある。本発明者
は、上記目的を達成せんとして、新規な芳香族ポリエス
テルカーボネートについて鋭意研究を重ねた結果、特定
量の9,9−ビス(4−ヒドロキシフェニル)フルオレ
ンを含む二価フェノールと芳香族ジカルボン酸又はその
エステル形成性誘導体とカーボネート前駆物質を反応さ
せることにより、特に優れた耐熱性を有し、透明性と成
形性の良好な芳香族ポリエステルカーボネート樹脂が得
られることを見出した。本発明はこの知見に基づき完成
したものである。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明は、0.1〜75
モル%が9,9−ビス(4−ヒドロキシフェニル)フル
オレンである二価フェノール、芳香族ジカルボン酸又は
そのエステル形成性誘導体及びカーボネート前駆物質か
らなり、エステル基の含量がエステル基とカーボネート
基の合計モル数に対して5〜75モル%である新規芳香
族ポリエステルカーボネート樹脂に係るものである。
モル%が9,9−ビス(4−ヒドロキシフェニル)フル
オレンである二価フェノール、芳香族ジカルボン酸又は
そのエステル形成性誘導体及びカーボネート前駆物質か
らなり、エステル基の含量がエステル基とカーボネート
基の合計モル数に対して5〜75モル%である新規芳香
族ポリエステルカーボネート樹脂に係るものである。
【0006】本発明の芳香族ポリエステルカーボネート
樹脂の製造に使用する9,9−ビス(4−ヒドロキシフ
ェニル)フルオレンは、フルオレノンとフェノールの反
応により得られる。このものの不純物の量があまりに多
くなると得られる樹脂の熱安定性が低下するようになる
ので再結晶処理したものが好ましく、特に再結晶処理を
繰返して不純物の量を液体クロマトグラフィーで1%以
下に減少させた純度99%以上のものが好ましい。
樹脂の製造に使用する9,9−ビス(4−ヒドロキシフ
ェニル)フルオレンは、フルオレノンとフェノールの反
応により得られる。このものの不純物の量があまりに多
くなると得られる樹脂の熱安定性が低下するようになる
ので再結晶処理したものが好ましく、特に再結晶処理を
繰返して不純物の量を液体クロマトグラフィーで1%以
下に減少させた純度99%以上のものが好ましい。
【0007】上記9,9−ビス(4−ヒドロキシフェニ
ル)フルオレンと併用する他の二価フェノールとして
は、例えばハイドロキノン、レゾルシン、4,4′−ジ
ヒドロキシジフェニル、ビス(4−ヒドロキシフェニ
ル)メタン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)
エタン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1
−フェニルエタン、ビスフェノールA、2,2−ビス
(3−メチル−4−ヒドロキシフェニル)プロパン、
1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサ
ン、2,2−ビス(3−フェニル−4−ヒドロキシフェ
ニル)プロパン、2,2−ビス(3−イソプロピル−4
−ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−
ヒドロキシフェニル)ブタン、2,2−ビス(3,5−
ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2
−ビス(3,5−ジブロモ−4−ヒドロキシフェニル)
プロパン、4,4′−ジヒドロキシジフェニルスルホ
ン、4,4′−ジヒドロキシジフェニルスルホキシド、
4,4′−ジヒドロキシジフェニルスルフィド、3,
3′−ジメチル−4,4′−ジヒドロキシジフェニルス
ルフィド、4,4′−ジヒドロキシジフェニルオキシド
等があげられる。なかでもビスフェノールAが特に好ま
しい。
ル)フルオレンと併用する他の二価フェノールとして
は、例えばハイドロキノン、レゾルシン、4,4′−ジ
ヒドロキシジフェニル、ビス(4−ヒドロキシフェニ
ル)メタン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)
エタン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1
−フェニルエタン、ビスフェノールA、2,2−ビス
(3−メチル−4−ヒドロキシフェニル)プロパン、
1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサ
ン、2,2−ビス(3−フェニル−4−ヒドロキシフェ
ニル)プロパン、2,2−ビス(3−イソプロピル−4
−ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−
ヒドロキシフェニル)ブタン、2,2−ビス(3,5−
ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2
−ビス(3,5−ジブロモ−4−ヒドロキシフェニル)
プロパン、4,4′−ジヒドロキシジフェニルスルホ
ン、4,4′−ジヒドロキシジフェニルスルホキシド、
4,4′−ジヒドロキシジフェニルスルフィド、3,
3′−ジメチル−4,4′−ジヒドロキシジフェニルス
ルフィド、4,4′−ジヒドロキシジフェニルオキシド
等があげられる。なかでもビスフェノールAが特に好ま
しい。
【0008】9,9−ビス(4−ヒドロキシフェニル)
フルオレンと他の二価フェノールの使用割合は、前者が
0.1〜75モル%、後者が99.9〜25モル%であ
り、好ましくは前者が2〜60モル%、後者が98〜4
0モル%である。前者の量が0.1モル%より少いとき
は、充分な耐熱性が得られ難く、75モル%より多くな
ると成形性が悪化するようになる。
フルオレンと他の二価フェノールの使用割合は、前者が
0.1〜75モル%、後者が99.9〜25モル%であ
り、好ましくは前者が2〜60モル%、後者が98〜4
0モル%である。前者の量が0.1モル%より少いとき
は、充分な耐熱性が得られ難く、75モル%より多くな
ると成形性が悪化するようになる。
【0009】また、本発明の芳香族ポリエステルカーボ
ネート樹脂の製造に使用する芳香族ジカルボン酸として
は、例えばテレフタル酸、イソフタル酸、5−tert−ブ
チルイソフタル酸、4,4′−ジフェニルエーテルジカ
ルボン酸、3,4′−ベンゾフェノンジカルボン酸、
3,3′−ジフェニルジカルボン酸、4,4′−ジフェ
ニルジカルボン酸、4,4′−ジフェニルスルホンジカ
ルボン酸、2,2−ビス(4−カルボキシフェニル)プ
ロパン、ナフタレンジカルボン酸、トリメチル−3−フ
ェニルインダン−4,5−ジカルボン酸等があげられ
る。なかでもテレフタル酸やイソフタル酸が特に好まし
い。また、これらの誘導体としてはこれらの酸クロライ
ド、エステル類が用いられる。
ネート樹脂の製造に使用する芳香族ジカルボン酸として
は、例えばテレフタル酸、イソフタル酸、5−tert−ブ
チルイソフタル酸、4,4′−ジフェニルエーテルジカ
ルボン酸、3,4′−ベンゾフェノンジカルボン酸、
3,3′−ジフェニルジカルボン酸、4,4′−ジフェ
ニルジカルボン酸、4,4′−ジフェニルスルホンジカ
ルボン酸、2,2−ビス(4−カルボキシフェニル)プ
ロパン、ナフタレンジカルボン酸、トリメチル−3−フ
ェニルインダン−4,5−ジカルボン酸等があげられ
る。なかでもテレフタル酸やイソフタル酸が特に好まし
い。また、これらの誘導体としてはこれらの酸クロライ
ド、エステル類が用いられる。
【0010】芳香族ジカルボン酸成分の使用量は、得ら
れる芳香族ポリエステルカーボネート樹脂中のエステル
基の含量がエステル基とカーボネート基の合計モル数に
対して5〜75モル%になる量、即ち二価フェノールの
全使用モル数に対する芳香族ジカルボン酸成分の使用モ
ル数が5〜75モル%になる量である。芳香族ジカルボ
ン酸成分の使用量が上記量より少いと得られる樹脂成形
品の寸法精度が劣るようになり、上記量より多いと溶融
時の流動性が劣り成形性が低下し、いずれも本発明の目
的が達成されない。
れる芳香族ポリエステルカーボネート樹脂中のエステル
基の含量がエステル基とカーボネート基の合計モル数に
対して5〜75モル%になる量、即ち二価フェノールの
全使用モル数に対する芳香族ジカルボン酸成分の使用モ
ル数が5〜75モル%になる量である。芳香族ジカルボ
ン酸成分の使用量が上記量より少いと得られる樹脂成形
品の寸法精度が劣るようになり、上記量より多いと溶融
時の流動性が劣り成形性が低下し、いずれも本発明の目
的が達成されない。
【0011】本発明の芳香族ポリエステルカーボネート
樹脂の製造に使用するカーボネート前駆物質としては、
例えばホスゲン、上記二価フェノール類のビスクロロホ
ーメート及びビスアリールカーボネート等があげられ、
ビスアリールカーボネートの例としてはジフェニルカー
ボネート、ジ−p−トリルカーボネート、フェニル−p
−トリルカーボネート、ジ−p−クロロフェニルカーボ
ネート、ジナフチルカーボネート等があげられる。これ
らの中でもホスゲンとジフェニルカーボネートが好まし
い。本発明の芳香族ポリエステルカーボネートを製造す
るには、通常のポリエステルカーボネートを製造する際
に用いる方法、例えば二価フェノールと芳香族ジカルボ
ン酸又はその酸クロライドとホスゲンとの界面反応、又
は二価フェノールと芳香族ジカルボン酸とビスアリール
カーボネートとのエステル交換反応が好ましく採用され
る。
樹脂の製造に使用するカーボネート前駆物質としては、
例えばホスゲン、上記二価フェノール類のビスクロロホ
ーメート及びビスアリールカーボネート等があげられ、
ビスアリールカーボネートの例としてはジフェニルカー
ボネート、ジ−p−トリルカーボネート、フェニル−p
−トリルカーボネート、ジ−p−クロロフェニルカーボ
ネート、ジナフチルカーボネート等があげられる。これ
らの中でもホスゲンとジフェニルカーボネートが好まし
い。本発明の芳香族ポリエステルカーボネートを製造す
るには、通常のポリエステルカーボネートを製造する際
に用いる方法、例えば二価フェノールと芳香族ジカルボ
ン酸又はその酸クロライドとホスゲンとの界面反応、又
は二価フェノールと芳香族ジカルボン酸とビスアリール
カーボネートとのエステル交換反応が好ましく採用され
る。
【0012】二価フェノールと芳香族ジカルボン酸又は
その酸クロライドとホスゲンとの反応では、通常酸結合
剤及び有機溶媒の存在下に行う。酸結合剤としては例え
ば水酸化ナトリウムや水酸化カリウム等のアルカリ金属
の水酸化物、ピリジン等が用いられる。有機溶媒として
は例えば塩化メチレン、クロロベンゼン等のハロゲン化
炭化水素が用いられる。また、反応促進のために例えば
第三級アミンや第四級アンモニウム塩等の触媒を用いる
ことができ、分子量調節剤として例えばフェノールやp-
tert−ブチルフェノール等の末端停止剤を用いることが
好ましい。反応温度は通常0〜40℃、反応時間は数分
〜5時間、反応中のpHは通常10以上に保つのが好まし
いが、ジカルボン酸を用いる方法ではエステルカーボネ
ート無水物を経由するので、エステルカーボネート無水
物を生じる反応ではpH7〜9に、これを脱炭酸する反応
ではpH8〜10に調節するのが好ましい。
その酸クロライドとホスゲンとの反応では、通常酸結合
剤及び有機溶媒の存在下に行う。酸結合剤としては例え
ば水酸化ナトリウムや水酸化カリウム等のアルカリ金属
の水酸化物、ピリジン等が用いられる。有機溶媒として
は例えば塩化メチレン、クロロベンゼン等のハロゲン化
炭化水素が用いられる。また、反応促進のために例えば
第三級アミンや第四級アンモニウム塩等の触媒を用いる
ことができ、分子量調節剤として例えばフェノールやp-
tert−ブチルフェノール等の末端停止剤を用いることが
好ましい。反応温度は通常0〜40℃、反応時間は数分
〜5時間、反応中のpHは通常10以上に保つのが好まし
いが、ジカルボン酸を用いる方法ではエステルカーボネ
ート無水物を経由するので、エステルカーボネート無水
物を生じる反応ではpH7〜9に、これを脱炭酸する反応
ではpH8〜10に調節するのが好ましい。
【0013】エステル交換反応では、不活性ガスの存在
下に二価フェノールと芳香族ジカルボン酸又はそのジエ
ステルとビスアリールカーボネートを混合し、通常減圧
下120〜350℃で反応させる。減圧度は段階的に変
化させ、最終的には1mmHg以下にして生成したフェノー
ル類を系外に留去させる。反応時間は通常1〜4時間程
度である。また、必要に応じて分子量調節剤や酸化防止
剤を加えてもよい。
下に二価フェノールと芳香族ジカルボン酸又はそのジエ
ステルとビスアリールカーボネートを混合し、通常減圧
下120〜350℃で反応させる。減圧度は段階的に変
化させ、最終的には1mmHg以下にして生成したフェノー
ル類を系外に留去させる。反応時間は通常1〜4時間程
度である。また、必要に応じて分子量調節剤や酸化防止
剤を加えてもよい。
【0014】かくして得られる芳香族ポリエステルカー
ボネート樹脂は、その分子量があまりに小さいと得られ
る成形品が脆くなるので、その0.7g を塩化メチレン
100mlに溶解して20℃で測定した比粘度が0.16
5以上のものが好ましい。
ボネート樹脂は、その分子量があまりに小さいと得られ
る成形品が脆くなるので、その0.7g を塩化メチレン
100mlに溶解して20℃で測定した比粘度が0.16
5以上のものが好ましい。
【0015】本発明の芳香族ポリエステルカーボネート
樹脂は任意の方法で、例えば射出成形法、圧縮成形法、
押出成形法、溶液キャスティング法等で成形することが
できるが、そのガラス転移温度が著しく高いものはキャ
スティング法が好ましい。なお、本発明の芳香族ポリエ
ステルカーボネート樹脂には、必要に応じて例えば熱安
定剤、酸化防止剤、光安定剤、着色剤、帯電防止剤、滑
剤、離型剤等の添加剤を加えることができる。
樹脂は任意の方法で、例えば射出成形法、圧縮成形法、
押出成形法、溶液キャスティング法等で成形することが
できるが、そのガラス転移温度が著しく高いものはキャ
スティング法が好ましい。なお、本発明の芳香族ポリエ
ステルカーボネート樹脂には、必要に応じて例えば熱安
定剤、酸化防止剤、光安定剤、着色剤、帯電防止剤、滑
剤、離型剤等の添加剤を加えることができる。
【0016】
【実施例】以下に実施例をあげて本発明を更に説明す
る。なお、実施例中の部及び%は重量部及び重量%であ
り、比粘度はポリマー0.7g を塩化メチレン100ml
に溶解し20℃で測定し、ガラス転移温度はDSC(デ
ュポン社製910型)にて測定した。
る。なお、実施例中の部及び%は重量部及び重量%であ
り、比粘度はポリマー0.7g を塩化メチレン100ml
に溶解し20℃で測定し、ガラス転移温度はDSC(デ
ュポン社製910型)にて測定した。
【0017】
【実施例1】温度計、撹拌機及び滴下漏斗付き反応器に
イオン交換水507部及び48%水酸化ナトリウム水溶
液33.3部を仕込み、9,9−ビス(4−ヒドロキシ
フェニル)フルオレン3.5部、ビスフェノールA2
0.7部及びハイドロサルファイト0.07部を溶解し
た後塩化メチレン301部を加え、撹拌下15〜25℃
でホスゲン8部を25分を要して吹込んだ。ホスゲン吹
込みと同時にテレフタル酸ジクロライド8.8部及びp-
tert−ブチルフェノール0.30部を塩化メチレン10
0部に溶解して滴下した。得られたオリゴマー混合液を
攪拌して乳化させた後トリエチルアミン0.06部を加
え、28〜33℃で約2時間撹拌して反応を終了した。
反応終了後生成物を塩化メチレンで希釈して水洗し、更
に塩酸酸性にして水洗し、水相の導電率がイオン交換水
と殆ど同じになったところで塩化メチレンを蒸発して無
色のポリマー27部を得た(収率86%)。このポリマ
ーの比粘度は0.720であり、ガラス転移温度は19
2℃と高い耐熱性を示した。
イオン交換水507部及び48%水酸化ナトリウム水溶
液33.3部を仕込み、9,9−ビス(4−ヒドロキシ
フェニル)フルオレン3.5部、ビスフェノールA2
0.7部及びハイドロサルファイト0.07部を溶解し
た後塩化メチレン301部を加え、撹拌下15〜25℃
でホスゲン8部を25分を要して吹込んだ。ホスゲン吹
込みと同時にテレフタル酸ジクロライド8.8部及びp-
tert−ブチルフェノール0.30部を塩化メチレン10
0部に溶解して滴下した。得られたオリゴマー混合液を
攪拌して乳化させた後トリエチルアミン0.06部を加
え、28〜33℃で約2時間撹拌して反応を終了した。
反応終了後生成物を塩化メチレンで希釈して水洗し、更
に塩酸酸性にして水洗し、水相の導電率がイオン交換水
と殆ど同じになったところで塩化メチレンを蒸発して無
色のポリマー27部を得た(収率86%)。このポリマ
ーの比粘度は0.720であり、ガラス転移温度は19
2℃と高い耐熱性を示した。
【0018】
【実施例2】ホスゲンの使用量を8.8部、9,9−ビ
ス(4−ヒドロキシフェニル)フルオレンの使用量を1
8.4部、ビスフェノールAの使用量を12.0部、テ
レフタル酸ジクロライドの使用量を9.2部にする以外
は実施例1と同様にして無色のポリマー34部を得た
(収率89%)。このポリマーの比粘度は0.816で
あり、ガラス転移温度は245℃と高い耐熱性を示し
た。
ス(4−ヒドロキシフェニル)フルオレンの使用量を1
8.4部、ビスフェノールAの使用量を12.0部、テ
レフタル酸ジクロライドの使用量を9.2部にする以外
は実施例1と同様にして無色のポリマー34部を得た
(収率89%)。このポリマーの比粘度は0.816で
あり、ガラス転移温度は245℃と高い耐熱性を示し
た。
【0019】
【実施例3】ホスゲンの使用量を6.9部、9,9−ビ
ス(4−ヒドロキシフェニル)フルオレンの使用量を
3.0部、ビスフェノールAの使用量を17.8部、酸
クロライドの使用量をテレフタル酸ジクロライド8.8
部及びイソフタル酸ジクロライド2.9部にする以外は
実施例1と同様にして無色のポリマーを得た。このポリ
マーの比粘度は0.754であり、ガラス転移温度は2
25℃と高い耐熱性を示した。
ス(4−ヒドロキシフェニル)フルオレンの使用量を
3.0部、ビスフェノールAの使用量を17.8部、酸
クロライドの使用量をテレフタル酸ジクロライド8.8
部及びイソフタル酸ジクロライド2.9部にする以外は
実施例1と同様にして無色のポリマーを得た。このポリ
マーの比粘度は0.754であり、ガラス転移温度は2
25℃と高い耐熱性を示した。
【0020】
【比較例1】9,9−ビス(4−ヒドロキシフェニル)
フルオレンを使用しないでビスフェノールAの使用量を
23.0部にする以外は実施例1と同様にして無色のポ
リマー30部を得た(収率97%)。このポリマーの比
粘度は0.314であり、ガラス転移温度は165℃と
低く耐熱性が劣るものであった。
フルオレンを使用しないでビスフェノールAの使用量を
23.0部にする以外は実施例1と同様にして無色のポ
リマー30部を得た(収率97%)。このポリマーの比
粘度は0.314であり、ガラス転移温度は165℃と
低く耐熱性が劣るものであった。
【0021】
【比較例2】ビスフェノールAを使用しないで9,9−
ビス(4−ヒドロキシフェニル)フルオレンの使用量を
35.4部にする以外は実施例1と同様にして反応を行
ったところ、ゲル状物が析出して濾過不能であった。
ビス(4−ヒドロキシフェニル)フルオレンの使用量を
35.4部にする以外は実施例1と同様にして反応を行
ったところ、ゲル状物が析出して濾過不能であった。
【0022】
【発明の効果】本発明の芳香族ポリエステルカーボネー
ト樹脂は新規なものであり、特に優れた耐熱性を有し、
更に透明性と成形性にも優れているので、液晶パネル、
オーブン、プリンター、光学レンズ、ヘッドランプレン
ズ、ハンダ耐熱用途等に極めて有用である。
ト樹脂は新規なものであり、特に優れた耐熱性を有し、
更に透明性と成形性にも優れているので、液晶パネル、
オーブン、プリンター、光学レンズ、ヘッドランプレン
ズ、ハンダ耐熱用途等に極めて有用である。
Claims (1)
- 【請求項1】 0.1〜75モル%が9,9−ビス(4
−ヒドロキシフェニル)フルオレンである二価フェノー
ル、芳香族ジカルボン酸又はそのエステル形成性誘導体
及びカーボネート前駆物質からなり、エステル基の含量
がエステル基とカーボネート基の合計モル数に対して5
〜75モル%である新規芳香族ポリエステルカーボネー
ト樹脂。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP29592592A JPH06145317A (ja) | 1992-11-05 | 1992-11-05 | 新規芳香族ポリエステルカーボネート樹脂 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP29592592A JPH06145317A (ja) | 1992-11-05 | 1992-11-05 | 新規芳香族ポリエステルカーボネート樹脂 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06145317A true JPH06145317A (ja) | 1994-05-24 |
Family
ID=17826906
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP29592592A Pending JPH06145317A (ja) | 1992-11-05 | 1992-11-05 | 新規芳香族ポリエステルカーボネート樹脂 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH06145317A (ja) |
Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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US5516877A (en) * | 1994-08-16 | 1996-05-14 | The Dow Chemical Company | Crosslinkable carbonate polymers of dihydroxyaryl fluorene |
US5718967A (en) * | 1995-10-13 | 1998-02-17 | The Dow Chemical Company | Coated plastic substrate |
JPH11315199A (ja) * | 1998-02-04 | 1999-11-16 | General Electric Co <Ge> | フォトクロミック性ポリカ―ボネ―ト製品 |
US6417318B1 (en) | 2000-02-10 | 2002-07-09 | Bayer Aktiengesellschaft | Process for the removal of dissolved oxygen from phenol |
US6469127B1 (en) | 1999-01-12 | 2002-10-22 | Space Environmental Technology Company, Inc, | Polycarbonate resin having low tendency of releasing environmental endocrine disruptors |
US6858701B2 (en) * | 2000-06-01 | 2005-02-22 | Teijin Limited | Wholly aromatic polyester carbonate and process therefor |
WO2011010741A1 (ja) * | 2009-07-24 | 2011-01-27 | 帝人化成株式会社 | 光学レンズ用ポリエステルカーボネート共重合体および光学レンズ |
US11261294B2 (en) | 2017-08-30 | 2022-03-01 | Teijin Limited | Thermoplastic resin and optical member |
US11566102B2 (en) | 2018-03-12 | 2023-01-31 | Teijin Limited | Polyester resin or polyester carbonate resin, and optical member using said resin |
US11578168B2 (en) | 2018-03-30 | 2023-02-14 | Teijin Limited | Polycarbonate resin and optical member containing same |
-
1992
- 1992-11-05 JP JP29592592A patent/JPH06145317A/ja active Pending
Cited By (13)
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US6417318B1 (en) | 2000-02-10 | 2002-07-09 | Bayer Aktiengesellschaft | Process for the removal of dissolved oxygen from phenol |
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