JPH07258399A - 芳香族ポリカーボネート樹脂 - Google Patents

芳香族ポリカーボネート樹脂

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JPH07258399A
JPH07258399A JP6318737A JP31873794A JPH07258399A JP H07258399 A JPH07258399 A JP H07258399A JP 6318737 A JP6318737 A JP 6318737A JP 31873794 A JP31873794 A JP 31873794A JP H07258399 A JPH07258399 A JP H07258399A
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JP
Japan
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hydrocarbon group
bis
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Application number
JP6318737A
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English (en)
Inventor
Toshimasa Tokuda
俊正 徳田
Hiroshi Tamura
宏 田村
Tomoyuki Shimada
知幸 島田
Tsutomu Nakajima
努 中島
Masaomi Sasaki
正臣 佐々木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ricoh Co Ltd
Teijin Ltd
Original Assignee
Teijin Chemicals Ltd
Ricoh Co Ltd
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  • Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 液晶パネル、 OPCバインダー、光カード、光
ディスク、各種フィルム等に有用な優れた透明性に加え
て高い耐熱性を有する芳香族ポリカーボネート樹脂を提
供する。 【構成】 下記一般式[1] [式中、R1 、R2 及びR3 は夫々独立して炭素原子数
1〜5の炭化水素基又はハロゲン原子、R4 は水素原子
又は炭素原子数1〜5の炭化水素基、m、n及びpは夫
々独立して0〜4の整数、Ar1 及びAr2 は置換又は
非置換の芳香族炭化水素基である。]で表される第三級
アミノ基を有する構成単位を持つ芳香族ポリカーボネー
ト樹脂。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、新規な芳香族ポリカー
ボネート樹脂に関する。更に詳しくは、優れた透明性に
加えて高い耐熱性を有する新規な芳香族ポリカーボネー
ト樹脂に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、代表的な芳香族ポリカーボネート
樹脂としては、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニ
ル)プロパン(以下ビスフェノールAと略称する)にホ
スゲンやジフェニルカーボネート等のカーボネート前駆
物質を反応させて得られるものが知られている。かかる
ビスフェノールAからのポリカーボネート樹脂は透明
性、耐熱性、寸法精度がよい等多くの優れた性質を有し
ていることから多くの分野に用いられている。しかしな
がら、近年軽薄短少化を反映して、より過酷な条件での
使用が増え、光線透過率等の光学特性に加えて更に高い
耐熱性が求められている。ビスフェノールAからの芳香
族ポリカーボネート樹脂よりも耐熱性の優れた芳香族ポ
リカーボネート樹脂を提供するために、ビスフェノール
Aよりも更に剛直な二価フェノールを使用する種々の芳
香族ポリカーボネート樹脂が提案されているが、未だ満
足できるものはなく、優れた光学特性や耐熱性を有する
新しい素材の開発が望まれている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、液晶
パネル、 OPCバインダー、光カード、光ディスク、各種
フィルム等に有用な優れた透明性に加えて高い耐熱性を
有する芳香族ポリカーボネート樹脂を提供することにあ
る。
【0004】本発明者は、上記目的を達成せんとして、
新規な芳香族ポリカーボネート樹脂について鋭意研究を
重ねた結果、第三級アミノ基を有する特定の構造の二価
フェノール類とカーボネート前駆物質を反応させること
により、優れた透明性に加えて高い耐熱性を有する芳香
族ポリカ−ボネ−ト樹脂が得られることを見出した。本
発明はこの知見に基づいて完成したものである。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明の1は、下記一般
式[1]
【0006】
【化4】
【0007】[式中、R1 、R2 及びR3 は夫々独立し
て炭素原子数1〜5の炭化水素基又はハロゲン原子、R
4 は水素原子又は炭素原子数1〜5の炭化水素基、m、
n及びpは夫々独立して0〜4の整数、Ar1 及びAr
2 は置換又は非置換の芳香族炭化水素基である。]で表
される第三級アミノ基を有する構成単位からなり、その
0.7g を塩化メチレン100mlに溶解した溶液の20
℃における比粘度が0.068〜1.9である芳香族ポ
リカーボネート樹脂に係るものである。
【0008】本発明の2は、上記一般式[1]で表され
る第三級アミノ基を有する構成単位及び下記一般式
[2]
【0009】
【化5】
【0010】[式中、R5 及びR6 は夫々独立して炭素
原子数1〜5の炭化水素基又はハロゲン原子、q及びr
は夫々独立して0〜4の整数、Wは単結合、炭素原子数
1〜12の直鎖状、枝分かれ状若しくは環状の炭化水素
基であってベンゼン環を含んでいてもよい基、オキシド
基、スルフィド基、スルホキシド基、スルホン基又はケ
トン基である。]で表される構成単位からなり、その
0.7g を塩化メチレン100mlに溶解した溶液の20
℃における比粘度が0.168〜1.9である芳香族ポ
リカーボネート樹脂に係るものである。
【0011】本発明の新規芳香族ポリカーボネート樹脂
は、下記一般式[3]
【0012】
【化6】
【0013】[式中、R1 、R2 及びR3 は夫々独立し
て炭素原子数1〜5の炭化水素基又はハロゲン原子、R
4 は水素原子又は炭素原子数1〜5の炭化水素基、m、
n及びpは夫々独立して0〜4の整数、Ar1 及びAr
2 は置換又は非置換の芳香族炭化水素基である。]で表
される第三級アミノ基を有する二価フェノールとカーボ
ネート前駆物質とを反応させて製造される。ここで使用
する第三級アミノ基を有する二価フェノールとしては例
えば1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1−
(4−N,N−ジトリルアミノフェニル)メタン、1,
1−ビス(3−メチル−4−ヒドロキシフェニル)−1
−(4−N,N−ジトリルアミノフェニル)メタン、
1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1−(4−
N,N−ジトリルアミノフェニル)エタン、1,1−ビ
ス(3−メチル−4−ヒドロキシフェニル)−1−(4
−N,N−ジトリルアミノフェニル)エタン、1,1−
ビス(3−ブロモ−4−ヒドロキシフェニル)−1−
(4−N,N−ジトリルアミノフェニル)エタン、1,
1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1−(4−N,
N−ジトリルアミノフェニル)プロパン、1,1−ビス
(4−ヒドロキシフェニル)−1−(4−N,N−ビス
(ビフェニリル)アミノフェニル)メタン、1,1−ビ
ス(4−ヒドロキシフェニル)−1−[4−N,N−ビ
ス(ビフェニリル)アミノフェニル]エタン、1,1−
ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1−[4−N,N−
ビス(ビフェニリル)アミノフェニル]プロパン、1,
1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1−(4−N,
N−ビス(p−メトキシフェニル)アミノフェニル)メ
タン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1−
(4−N,N−ジ−p−トリルアミノフェニル)エタ
ン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1−
(4−N,N−ビス(p−メトキシフェニル)アミノフ
ェニル)エタン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニ
ル)−1−(4−N,N−ビス(p−メトキシフェニ
ル)アミノフェニル)プロパン、1,1−ビス(4−ヒ
ドロキシフェニル)−1−(4−N,N−ジピレニルア
ミノフェニル)エタン,1,1−ビス(4−ヒドロキシ
フェニル)−1−[4−(N−トリル−N−ビフェニリ
ル)アミノフェニル]エタン、1,1−ビス(4−ヒド
ロキシフェニル)−1−[4−(N,N−ビス(4−メ
チルビフェニリル)アミノフェニル]エタン、1,1−
ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1−(4−N,N−
ジフェニルアミノフェニル)エタン、1,1−ビス(4
−ヒドロキシフェニル)−1−(4−N−トリル−N−
ピレニルアミノフェニル)エタン等が挙げられる。
【0014】また、カーボネート前駆物質としては例え
ばホスゲン、ジフェニルカーボネート、ジ−p−トリル
カーボネート、フェニル−p−トリルカーボネート、ジ
−p−クロロフェニルカーボネート、ジナフチルカーボ
ネート、上記二価フェノール類のビスクロロホーメート
等が挙げられ、なかでもホスゲンとジフェニルカーボネ
ートが好ましい。
【0015】上記一般式[3]で表される第三級アミノ
基を有する二価フェノールとカーボネート前駆物質の反
応としては、従来の芳香族ポリカーボネート樹脂を製造
する際に用いる反応、例えば二価フェノールとホスゲン
との反応、又は二価フェノールとビスアリールカーボネ
ートとのエステル交換反応が好ましく用いられる。
【0016】二価フェノールとホスゲンの反応では、通
常酸結合剤及び溶媒の存在下に反応を行う。酸結合剤と
しては例えば水酸化ナトリウムや水酸化カリウム等のア
ルカリ金属水酸化物、ピリジン等が用いられる。溶媒と
しては例えば塩化メチレン、クロロベンゼン等のハロゲ
ン化炭化水素が用いられる。また、反応促進のために例
えば第三級アミン、第四級アンモニウム塩等の触媒を用
いることができ、分子量調節剤として例えばフェノー
ル、 p−tert−ブチルフェノール等の末端停止剤を用い
ることが望ましい。反応温度は通常0〜40℃、反応時
間は数分〜5時間であり、反応中の pH は通常10以上
に保つのが好ましい。
【0017】エステル交換反応では、不活性ガス存在下
に二価フェノールとビスアリールカーボネートを混合
し、通常減圧下120〜350℃で反応させる。減圧度
は段階的に変化させ、最終的には1mmHg以下にして生成
するフェノール類を系外に留去させる。反応時間は通常
1〜4時間程度である。また、必要に応じて分子量調節
剤や酸化防止剤を加えてもよい。
【0018】かくして得られる新規芳香族ポリカーボネ
ート樹脂は成形品や他の芳香族ポリカーボネート樹脂の
耐熱性改善のための改質剤として有用であり、溶媒とし
て塩化メチレンを使用して0.7 g/100ml濃度で2
0℃で測定した溶液の比粘度が0.168〜1.9のも
のは成形品や改質剤として好ましく、0.068〜0.
168未満のものは脆くて成形品としては実用性がない
が、改質剤としては好ましく使用される。
【0019】また、上記一般式[3]で表される第三級
アミノ基を有する二価フェノールとカーボネート前駆物
質を反応させて本発明の芳香族ポリカーボネート樹脂を
製造する際に、下記一般式[4]
【0020】
【化7】
【0021】[式中、R5 及びR6 は夫々独立して炭素
原子数1〜5の炭化水素基又はハロゲン原子、q及びr
は夫々独立して0〜4の整数、Wは単結合、炭素原子数
1〜12の直鎖状、枝分かれ状若しくは環状の炭化水素
基であってベンゼン環を含んでいてもよい基、オキシド
基、スルフィド基、スルホキシド基、スルホン基又はケ
トン基を表す。]で表される二価フェノールを併用する
ことによって上記一般式[1]で表される第三級アミノ
基を有する構造単位と上記一般式[2]で表される構造
単位からなる芳香族ポリカーボネート樹脂を製造するこ
とができ、こうすることによって所望の特性を備えた芳
香族ポリカーボネート樹脂が得られる。上記一般式
[1]で表される第三級アミノ基を有する構造単位と上
記一般式[2]で表される構造単位との割合は所望の特
性により広い範囲から選択することができる。
【0022】ここで使用する上記一般式[4]で表され
る二価フェノールとしては例えば4,4′−ジヒドロキ
シジフェニル、ビス(4−ヒドロキシフェニル)メタ
ン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)エタン、
1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1−フェニ
ルエタン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プ
ロパン(以下ビスフェノールAと略称する)、2,2−
ビス(3−メチル−4−ヒドロキシフェニル)プロパ
ン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘ
キサン(以下ビスフェノールZと略称する)、2,2−
ビス(3−フェニル−4−ヒドロキシフェニル)プロパ
ン、2,2−ビス(3−イソプロピル−4−ヒドロキシ
フェニル)プロパン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフ
ェニル)ブタン、2,2−ビス(3,5−ジメチル−4
−ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(3,
5−ジブロモ−4−ヒドロキシフェニル)プロパン、
4,4′−ジヒドロキシジフェニルスルホン、4,4′
−ジヒドロキシジフェニルスルホキシド、4,4′−ジ
ヒドロキシジフェニルスルフィド、3,3′−ジメチル
−4,4′−ジヒドロキシジフェニルスルフィド、4,
4′−ジヒドロキシジフェニルオキシド等が挙げられ、
なかでもビスフェノールA、ビスフェノールZが好まし
い。
【0023】また、少量の三官能化合物を分岐剤として
用いることもでき、ビスフェノールの一部をジカルボン
酸で置き換えることもできる。かくして得られる上記一
般式[1]で表される構造単位と上記一般式[2]で表
される構造単位とからなる芳香族ポリカーボネート樹脂
の分子量は、ポリマー0.7g を塩化メチレン100ml
に溶解した溶液の20℃における比粘度が0.168〜
1.9のものが適当である。
【0024】本発明の芳香族ポリカーボネート樹脂は、
例えば射出成形法、圧縮成形法、押出成形法、溶液キャ
スティング法等任意の方法で成形することができるが、
ガラス転移温度が著しく高いものはキャスティング法が
好ましい。
【0025】なお、本発明の芳香族ポリカーボネート樹
脂には、必要に応じて熱安定剤、酸化防止剤、光安定
剤、着色剤、帯電防止剤、滑剤、離型剤等の添加剤を加
えることができる。
【0026】
【実施例】以下に実施例を挙げて本発明を更に説明す
る。なお、実施例中の部及び%は重量部及び重量%であ
り、比粘度はポリマー0.7g を塩化メチレン100ml
に溶解して20℃で測定し、ガラス転移温度はデュポン
社製DSC−910型にて測定した。
【0027】[実施例1]温度計、撹拌機及び滴下漏斗
付き反応器にイオン交換水154.2部、48%水酸化
ナトリウム水溶液19.7部を入れ、1,1−ビス(4
−ヒドロキシフェニル)−1−(4−N,N−ジ−p−
トリルアミノフェニル)エタン38.7部、 p−tert−
ブチルフェノール0.14部及びハイドロサルファイト
0.07部を溶解した後、塩化メチレン108.8部及
びトリエチルアミン0.04部を加え、撹拌下15〜2
0℃でホスゲン9.5部を45分を要して吹込んだ。ホ
スゲン吹込み終了後、48%水酸化ナトリウム水溶液
3.3部を加えて28〜33℃で約1時間撹拌して反応
を終了した。反応終了後生成物を塩化メチレンで希釈し
て水洗した後、塩酸酸性にして水洗し、水相の導電率が
イオン交換水と殆ど同じになったところで塩化メチレン
を蒸発して無色のポリマー38.8部を得た(収率95
%)。このポリマーは比粘度が0.403、ガラス転移
温度は199℃であり、このポリマーの塩化メチレン溶
液からの0.2mm厚みのキャスティングフィルムの全光
線透過率は91%であった。
【0028】[実施例2]1,1−ビス(4−ヒドロキ
シフェニル)−1−(4−N,N−ジ−p−トリルアミ
ノフェニル)エタン38.7部の代わりに1,1−ビス
(4−ヒドロキシフェニル)−1−(4−N,N−ジ−
p−トリルアミノフェニル)エタン19.3部及びビス
フェノールZ10.7部を使用する以外は実施例1と同
様にしてポリマー48.2部(収率97%)を得た。こ
のポリマーの比粘度は0.688、ガラス転移温度は1
93℃であり、実施例1と同様にして評価した全光線透
過率は91%であった。
【0029】[実施例3]1,1−ビス(4−ヒドロキ
シフェニル)−1−(4−N,N−ジ−p−トリルアミ
ノフェニル)エタン38.7部の代わりに1,1−ビス
(4−ヒドロキシフェニル)−1−(3−N,N−ジ−
p−トリルアミノフェニル)エタン38.7部を使用す
る以外は実施例1と同様にして無色のポリマー39.6
部(収率97%)を得た。このポリマーの比粘度は0.
406、ガラス転移温度は157℃であり、実施例1と
同様にして評価した全光線透過率は91%であった。
【0030】[実施例4〜11]実施例1の1,1−ビ
ス(4−ヒドロキシフェニル)−1−(4−N,N−ジ
−p−トリルアミノフェニル)エタンの代わりに、各種
の二価フェノールおよびジカルボン酸成分を用いて表1
〜3のポリカーボネート構造式のポリマーを得た。これ
らポリマーの特性(ガラス転移温度、比粘度)を表4に
示す。この実施例4〜11のポリマーは OPCバインダー
として特に有用である。
【0031】
【表1】
【0032】
【表2】
【0033】
【表3】
【0034】
【表4】
【0035】[比較例1]ビスフェノールAとホスゲン
から常法によって得た比粘度0.561の芳香族ポリカ
ーボネート樹脂のガラス転移温度は150℃であった。
【0036】
【発明の効果】本発明の芳香族ポリカーボネート樹脂は
優れた透明性に加えて高い耐熱性を有しており、液晶パ
ネル、 OPCバインダー、光カード、光ディスク、各種蒸
着フィルム、蒸着プラスチック反射鏡、レンズ等に極め
て有用であり、その奏する効果は格別なものである。
フロントページの続き (72)発明者 島田 知幸 東京都大田区中馬込1丁目3番6号 株式 会社リコー内 (72)発明者 中島 努 東京都大田区中馬込1丁目3番6号 株式 会社リコー内 (72)発明者 佐々木 正臣 東京都大田区中馬込1丁目3番6号 株式 会社リコー社内

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 下記一般式[1] 【化1】 [式中、R1 、R2 及びR3 は夫々独立して炭素原子数
    1〜5の炭化水素基又はハロゲン原子、R4 は水素原子
    又は炭素原子数1〜5の炭化水素基、m、n及びpは夫
    々独立して0〜4の整数、Ar1 及びAr2 は置換又は
    非置換の芳香族炭化水素基である。]で表される第三級
    アミノ基を有する構成単位からなり、その0.7g を塩
    化メチレン100mlに溶解した溶液の20℃における比
    粘度が0.068〜1.9である芳香族ポリカーボネー
    ト樹脂。
  2. 【請求項2】 下記一般式[1] 【化2】 [式中、R1 、R2 及びR3 は夫々独立して炭素原子数
    1〜5の炭化水素基又はハロゲン原子、R4 は水素原子
    又は炭素原子数1〜5の炭化水素基、m、n及びpは夫
    々独立して0〜4の整数、Ar1 及びAr2 は置換又は
    非置換の芳香族炭化水素基である。]で表される第三級
    アミノ基を有する構成単位及び下記一般式[2] 【化3】 [式中、R5 及びR6 は夫々独立して炭素原子数1〜5
    の炭化水素基又はハロゲン原子、q及びrは夫々独立し
    て0〜4の整数、Wは単結合、炭素原子数1〜12の直
    鎖状、枝分かれ状若しくは環状の炭化水素基であってベ
    ンゼン環を含んでいてもよい基、オキシド基、スルフィ
    ド基、スルホキシド基、スルホン基又はケトン基であ
    る。]で表される構成単位からなり、その0.7g を塩
    化メチレン100mlに溶解した溶液の20℃における比
    粘度が0.168〜1.9である芳香族ポリカーボネー
    ト樹脂。
JP6318737A 1993-12-22 1994-12-21 芳香族ポリカーボネート樹脂 Pending JPH07258399A (ja)

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JP (1) JPH07258399A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7625681B2 (en) 2005-06-01 2009-12-01 Sharp Kabushiki Kaisha Asymmetric bis-hydroxyenamine compound, electrophotographic photoreceptor and image forming apparatus
US7754403B2 (en) 2006-03-03 2010-07-13 Sharp Kabushiki Kaisha Electrophotoconductor and image forming apparatus

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