JPH06234837A - 新規ポリカーボネート重合体およびその製造法 - Google Patents
新規ポリカーボネート重合体およびその製造法Info
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- JPH06234837A JPH06234837A JP2132793A JP2132793A JPH06234837A JP H06234837 A JPH06234837 A JP H06234837A JP 2132793 A JP2132793 A JP 2132793A JP 2132793 A JP2132793 A JP 2132793A JP H06234837 A JPH06234837 A JP H06234837A
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- group
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- halogen
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- Polyesters Or Polycarbonates (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 繰り返し単位中にピラリゾン構造を有する新
規なポリカーボネート重合体およびその製造法を提供す
るものである。 【構成】 下記一般式（Ａ）のＲ9 またはＲ10にピラリ
ゾン構造を有する繰り返し単位および一般式（Ｃ）で表
される繰り返し単位からなり、繰り返し単位の組成がモ
ル比で０＜Ａ／（Ａ＋Ｃ）≦１であるポリカーボネート
重合体。 【化１】 【化２】
規なポリカーボネート重合体およびその製造法を提供す
るものである。 【構成】 下記一般式（Ａ）のＲ9 またはＲ10にピラリ
ゾン構造を有する繰り返し単位および一般式（Ｃ）で表
される繰り返し単位からなり、繰り返し単位の組成がモ
ル比で０＜Ａ／（Ａ＋Ｃ）≦１であるポリカーボネート
重合体。 【化１】 【化２】
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は新規なポリカーボネート
重合体とその製造方法に関する。本発明のポリカーボネ
ート重合体は、繰り返し単位に側鎖状にピラゾリン構造
を有する新規なポリカーボネート重合体であり、プラス
チック成形材料やポリマーアロイ材料として有用のもの
である。
重合体とその製造方法に関する。本発明のポリカーボネ
ート重合体は、繰り返し単位に側鎖状にピラゾリン構造
を有する新規なポリカーボネート重合体であり、プラス
チック成形材料やポリマーアロイ材料として有用のもの
である。
【０００２】
【従来の技術】現在生産されているポリカーボネート樹
脂の大部分は２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）
プロパン（ビスフェノールＡ）を原料とするビスフェノ
ールＡ型ポリカーボネートである。ビスフェノールＡ型
ポリカーボネートはコスト、耐熱性、機械的強度等のバ
ランスのとれたポリカーボネート樹脂であるが、近年ポ
リカーボネートの用途拡大にともない、より優れた物性
を有するポリカーボネートが望まれており、様々な構造
を持つポリカーボネートが開発されている（例えば特開
昭６３−１０８０２３、特開昭６４−６６２３６、特開
平４−１１６２７など）。しかしながら、それらよりも
物性の優れたもの、あるいは特異的な物性を有するポリ
カーボネートについて市場から強い要望があり、新しい
ポリカーボネートの開発が必要とされている。
脂の大部分は２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）
プロパン（ビスフェノールＡ）を原料とするビスフェノ
ールＡ型ポリカーボネートである。ビスフェノールＡ型
ポリカーボネートはコスト、耐熱性、機械的強度等のバ
ランスのとれたポリカーボネート樹脂であるが、近年ポ
リカーボネートの用途拡大にともない、より優れた物性
を有するポリカーボネートが望まれており、様々な構造
を持つポリカーボネートが開発されている（例えば特開
昭６３−１０８０２３、特開昭６４−６６２３６、特開
平４−１１６２７など）。しかしながら、それらよりも
物性の優れたもの、あるいは特異的な物性を有するポリ
カーボネートについて市場から強い要望があり、新しい
ポリカーボネートの開発が必要とされている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明は、従
来のホリカーボネート重合体に比べ、より物性の優れた
ものあるいは特異的な物性を有するポリカーボネート重
合体を提供するものである。
来のホリカーボネート重合体に比べ、より物性の優れた
ものあるいは特異的な物性を有するポリカーボネート重
合体を提供するものである。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、従来の課
題を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、繰り返し単位に
側鎖状にピラゾリン構造を有するポリカーボネート重合
体は文献未記載の新規なポリカーボネートであって、各
種成形材料やポリマーアロイ原料として有用であること
を見いだし、この知見に基づいて本発明を完成するに至
った。 （以下余白）
題を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、繰り返し単位に
側鎖状にピラゾリン構造を有するポリカーボネート重合
体は文献未記載の新規なポリカーボネートであって、各
種成形材料やポリマーアロイ原料として有用であること
を見いだし、この知見に基づいて本発明を完成するに至
った。 （以下余白）
【０００５】すなわち、本発明は下記一般式（Ａ）
【０００６】
【化７】
【０００７】（式中、R1〜R8は、水素、ハロゲン、アル
コキシ基、それぞれ置換基を有してもよいアルキル基、
アルケニル基またはアリール基を示す。R9、R10 は少な
くとも一方が下記一般式（Ｂ）で表されるピラゾリンを
含む基で、残りの一方が水素、それぞれ置換基を有して
もよいアルキル基、アルケニル基、またはアリール基、
またはR9、R10 の両者がともに下記一般式（Ｂ）で表さ
れるピラゾリンを含む基を示す。）一般式（Ｂ）
コキシ基、それぞれ置換基を有してもよいアルキル基、
アルケニル基またはアリール基を示す。R9、R10 は少な
くとも一方が下記一般式（Ｂ）で表されるピラゾリンを
含む基で、残りの一方が水素、それぞれ置換基を有して
もよいアルキル基、アルケニル基、またはアリール基、
またはR9、R10 の両者がともに下記一般式（Ｂ）で表さ
れるピラゾリンを含む基を示す。）一般式（Ｂ）
【０００８】
【化８】
【０００９】（式中、Ｒ11〜Ｒ14は、水素、ハロゲン、
それぞれ置換基を有してもよいアルキル基、アルコキシ
基、アルケニル基、またはアリール基を示し、Ｒ11〜Ｒ
14のうちいずれかが二価基となり、−（ＣＨ2 ）a −と
結合してＲ9 またはＲ10基を形成する。a は０〜５の整
数を表す。）で表されるピラゾリン構造を有する繰り返
し単位（Ａ）及び下記一般式（Ｃ）
それぞれ置換基を有してもよいアルキル基、アルコキシ
基、アルケニル基、またはアリール基を示し、Ｒ11〜Ｒ
14のうちいずれかが二価基となり、−（ＣＨ2 ）a −と
結合してＲ9 またはＲ10基を形成する。a は０〜５の整
数を表す。）で表されるピラゾリン構造を有する繰り返
し単位（Ａ）及び下記一般式（Ｃ）
【００１０】
【化９】
【００１１】（式中、Ｒ15〜Ｒ22は、それぞれ、水素、
ハロゲン、それぞれ置換基を有してもよいアルキル基ま
たはアリール基を示す。Ｘは
ハロゲン、それぞれ置換基を有してもよいアルキル基ま
たはアリール基を示す。Ｘは
【００１２】
【化１０】
【００１３】であり、ここにＲ23、Ｒ24は水素、ハロゲ
ン、それぞれ置換基を有してもよいアルキル基またはア
リール基を表すか、Ｒ23及びＲ24が一緒に結合して、炭
素環または複素環を形成する基を表し、b は 0〜20、c
は 0〜2000の整数を表す。）で表される繰り返し単位
（Ｃ）から選ばれる繰り返し単位からなり、式（Ａ）で
表される繰り返し単位の組成がモル比で０＜（Ａ）／
（（Ａ）＋（Ｃ））≦１であるポリカーボネート重合体
およびその製造方法を提供するものである。
ン、それぞれ置換基を有してもよいアルキル基またはア
リール基を表すか、Ｒ23及びＲ24が一緒に結合して、炭
素環または複素環を形成する基を表し、b は 0〜20、c
は 0〜2000の整数を表す。）で表される繰り返し単位
（Ｃ）から選ばれる繰り返し単位からなり、式（Ａ）で
表される繰り返し単位の組成がモル比で０＜（Ａ）／
（（Ａ）＋（Ｃ））≦１であるポリカーボネート重合体
およびその製造方法を提供するものである。
【００１４】本発明の前記一般式（Ａ）または一般式
（Ａ）と一般式（Ｃ）の共重合体で代表されるピラゾリ
ン構造を持つポリカーボネート重合体は、下記一般式
（Ｄ）
（Ａ）と一般式（Ｃ）の共重合体で代表されるピラゾリ
ン構造を持つポリカーボネート重合体は、下記一般式
（Ｄ）
【００１５】
【化１１】
【００１６】（式中、Ｒ1 〜Ｒ10はそれぞれ前記式
（Ａ）におけると同様の意味を表す。）で表される二価
フェノールまたは該二価フェノール（Ｄ）と下記一般式
（Ｅ）
（Ａ）におけると同様の意味を表す。）で表される二価
フェノールまたは該二価フェノール（Ｄ）と下記一般式
（Ｅ）
【００１７】
【化１２】
【００１８】（式中、Ｒ15〜Ｒ22およびＸはそれぞれ前
記式（Ａ）におけると同様の意味を表す。）で表される
二価フェノール（Ｅ）を炭酸エステル形成性化合物と反
応させて製造することができる。
記式（Ａ）におけると同様の意味を表す。）で表される
二価フェノール（Ｅ）を炭酸エステル形成性化合物と反
応させて製造することができる。
【００１９】前記一般式（Ｄ）で表される二価フェノー
ルにはＲ9 、Ｒ10のうち少なくとも一方が一般式（Ｂ）
で表されるピラゾリン構造を持つもので、具体的には、
下記に例示されるような化合物でトリフェニルアミン、
ヒドラゾン、ベンジジン、スチリル、カルバゾール構造
を含まないピラゾリン構造を有し、−（ＣＨ2 ）a −
（a は０〜５までの整数）で表されるアルキレン基と結
合し、Ｒ9 またはＲ10を形成する。但し、これらの化合
物に限定されるものではない。
ルにはＲ9 、Ｒ10のうち少なくとも一方が一般式（Ｂ）
で表されるピラゾリン構造を持つもので、具体的には、
下記に例示されるような化合物でトリフェニルアミン、
ヒドラゾン、ベンジジン、スチリル、カルバゾール構造
を含まないピラゾリン構造を有し、−（ＣＨ2 ）a −
（a は０〜５までの整数）で表されるアルキレン基と結
合し、Ｒ9 またはＲ10を形成する。但し、これらの化合
物に限定されるものではない。
【００２０】
【化１３】
【００２１】前記一般式（Ｅ）で表される二価フェノー
ルとしては、具体的にはビス（４−ヒドロキシフェニ
ル）メタン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）エーテ
ル、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホン、ビス
（４−ヒドロキシフェニル）スルホキシド、ビス（４−
ヒドロキシフェニル）スルファイド、ビス（４−ヒドロ
キシフェニル）ケトン、1,1-ビス（４−ヒドロキシフェ
ニル）エタン、2,2-ビス（４−ヒドロキシフェニル）プ
ロパン（ビスフェノ−ルＡ；BPA ）、2,2-ビス（４−ヒ
ドロキシフェニル）ブタン、1,1-ビス（４−ヒドロキシ
フェニル）シクロヘキサン（ビスフェノ−ルZ；BPZ
）、2,2-ビス（４−ヒドロキシ−3,5-ジブロモフェニ
ル）プロパン、2,2-ビス（４−ヒドロキシ−3,5-ジクロ
ロフェニル）プロパン、2,2-ビス（４−ヒドロキシ−3-
ブロモフェニル）プロパン、2,2-ビス（４−ヒドロキシ
−3-クロロフェニル）プロパン、2,2-ビス（４−ヒドロ
キシ−3-メチルフェニル）プロパン、、2,2-ビス（４−
ヒドロキシ−3,5-ジメチルフェニル）プロパン、1,1-ビ
ス（４−ヒドロキシフェニル）-1- フェニルエタン、ビ
ス（４−ヒドロキシフェニル）ジフェニルメタン、α,
ω- ビス［３−（Ｏ−ヒドロキシフェニル）プロピル］
ポリジメチルシロキサン、ビスフェノールなどが例示さ
れる。
ルとしては、具体的にはビス（４−ヒドロキシフェニ
ル）メタン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）エーテ
ル、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホン、ビス
（４−ヒドロキシフェニル）スルホキシド、ビス（４−
ヒドロキシフェニル）スルファイド、ビス（４−ヒドロ
キシフェニル）ケトン、1,1-ビス（４−ヒドロキシフェ
ニル）エタン、2,2-ビス（４−ヒドロキシフェニル）プ
ロパン（ビスフェノ−ルＡ；BPA ）、2,2-ビス（４−ヒ
ドロキシフェニル）ブタン、1,1-ビス（４−ヒドロキシ
フェニル）シクロヘキサン（ビスフェノ−ルZ；BPZ
）、2,2-ビス（４−ヒドロキシ−3,5-ジブロモフェニ
ル）プロパン、2,2-ビス（４−ヒドロキシ−3,5-ジクロ
ロフェニル）プロパン、2,2-ビス（４−ヒドロキシ−3-
ブロモフェニル）プロパン、2,2-ビス（４−ヒドロキシ
−3-クロロフェニル）プロパン、2,2-ビス（４−ヒドロ
キシ−3-メチルフェニル）プロパン、、2,2-ビス（４−
ヒドロキシ−3,5-ジメチルフェニル）プロパン、1,1-ビ
ス（４−ヒドロキシフェニル）-1- フェニルエタン、ビ
ス（４−ヒドロキシフェニル）ジフェニルメタン、α,
ω- ビス［３−（Ｏ−ヒドロキシフェニル）プロピル］
ポリジメチルシロキサン、ビスフェノールなどが例示さ
れる。
【００２２】一方、炭酸エステル形成性化合物として
は、例えばホスゲンや、ジフェニルカーボネート、ジ−
ｐ−トリルカーボネート、フェニル−ｐ−トリルカーボ
ネート、ジ−ｐ−クロロフェニルカーボネート、ジナフ
チルカーボネートなどのビスアリルカーボネートが挙げ
られる。
は、例えばホスゲンや、ジフェニルカーボネート、ジ−
ｐ−トリルカーボネート、フェニル−ｐ−トリルカーボ
ネート、ジ−ｐ−クロロフェニルカーボネート、ジナフ
チルカーボネートなどのビスアリルカーボネートが挙げ
られる。
【００２３】前記一般式（Ｄ）で表される二価フェノー
ルは、フェノール類とピラゾリン構造を有するケトン類
またはアルデヒド類とを公知の方法、例えば、ケトン類
またはアルデヒド類１モルに対し３〜３０モルの過剰の
フェノール類を加え、塩化水素などの酸触媒下で反応さ
せることによって容易に製造できる。
ルは、フェノール類とピラゾリン構造を有するケトン類
またはアルデヒド類とを公知の方法、例えば、ケトン類
またはアルデヒド類１モルに対し３〜３０モルの過剰の
フェノール類を加え、塩化水素などの酸触媒下で反応さ
せることによって容易に製造できる。
【００２４】本発明の重合体の製法としては、ビスフェ
ノールＡからポリカーボネートを製造する際に用いられ
ている公知の方法、例えば二価フェノールとホスゲンと
の直接反応（ホスゲン法）、あるいは二価フェノールと
ビスアリールカーボネートとのエステル交換反応（エス
テル交換法）などの方法を採用することができる。
ノールＡからポリカーボネートを製造する際に用いられ
ている公知の方法、例えば二価フェノールとホスゲンと
の直接反応（ホスゲン法）、あるいは二価フェノールと
ビスアリールカーボネートとのエステル交換反応（エス
テル交換法）などの方法を採用することができる。
【００２５】前者のホスゲン法においては、通常酸結合
剤および溶媒の存在下において、前記一般式（Ｄ）また
は一般式（Ｄ）と一般式（Ｅ）で表される二価フェノー
ルとホスゲンを反応させる。酸結合剤としては、例えば
ピリジンや、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどの
アルカリ金属の水酸化物などが用いられ、また溶媒とし
ては、例えば塩化メチレン、クロロホルム、クロロベン
ゼン、キシレンなどが用いられる。さらに、縮重合反応
を促進するために、トリエチルアミンのような第三級ア
ミンまたは第四級アンモニウム塩などの触媒を、また重
合度を調節するために、フェノールやｐ−ｔ−ブチルフ
ェノールなどの分子量調節剤を添加して反応を行うこと
が望ましい。また、所望に応じ亜硫酸ナトリウム、ハイ
ドロサルファイトなどの酸化防止剤や、フロログルシ
ン、イサチンビスフェノールなど分岐化剤を小量添加し
てもよい。反応は通常０〜１５０℃、好ましくは５〜４
０℃の範囲とするのが適当である。反応時間は反応温度
によって左右されるが、通常０．５分〜１０時間、好ま
しくは１分〜２時間である。また、反応中は、反応系の
pHを１０以上に保持することが望ましい。
剤および溶媒の存在下において、前記一般式（Ｄ）また
は一般式（Ｄ）と一般式（Ｅ）で表される二価フェノー
ルとホスゲンを反応させる。酸結合剤としては、例えば
ピリジンや、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどの
アルカリ金属の水酸化物などが用いられ、また溶媒とし
ては、例えば塩化メチレン、クロロホルム、クロロベン
ゼン、キシレンなどが用いられる。さらに、縮重合反応
を促進するために、トリエチルアミンのような第三級ア
ミンまたは第四級アンモニウム塩などの触媒を、また重
合度を調節するために、フェノールやｐ−ｔ−ブチルフ
ェノールなどの分子量調節剤を添加して反応を行うこと
が望ましい。また、所望に応じ亜硫酸ナトリウム、ハイ
ドロサルファイトなどの酸化防止剤や、フロログルシ
ン、イサチンビスフェノールなど分岐化剤を小量添加し
てもよい。反応は通常０〜１５０℃、好ましくは５〜４
０℃の範囲とするのが適当である。反応時間は反応温度
によって左右されるが、通常０．５分〜１０時間、好ま
しくは１分〜２時間である。また、反応中は、反応系の
pHを１０以上に保持することが望ましい。
【００２６】一方後者のエステル交換法においては、前
記一般式（Ｄ）または一般式（Ｄ）と一般式（Ｅ）で表
される二価フェノールとビスアリールカーボネートとを
混合し、減圧下で高温において反応させる。反応は通常
１５０〜３５０℃、好ましくは２００〜３００℃の範囲
の温度において行われ、また減圧度は最終で好ましくは
１mmHg以下にして、エステル交換反応により生成した該
ビスアリールカーボネートから由来するフェノール類を
系外へ留去させる。反応時間は反応温度や減圧度などに
よって左右されるが、通常１〜４時間程度である。反応
は窒素やアルゴンなどの不活性ガス雰囲気下で行うこと
が好ましく。また、所望に応じ、前記の分子量調節剤、
酸化防止剤や分岐化剤を添加して反応を行ってもよい。
記一般式（Ｄ）または一般式（Ｄ）と一般式（Ｅ）で表
される二価フェノールとビスアリールカーボネートとを
混合し、減圧下で高温において反応させる。反応は通常
１５０〜３５０℃、好ましくは２００〜３００℃の範囲
の温度において行われ、また減圧度は最終で好ましくは
１mmHg以下にして、エステル交換反応により生成した該
ビスアリールカーボネートから由来するフェノール類を
系外へ留去させる。反応時間は反応温度や減圧度などに
よって左右されるが、通常１〜４時間程度である。反応
は窒素やアルゴンなどの不活性ガス雰囲気下で行うこと
が好ましく。また、所望に応じ、前記の分子量調節剤、
酸化防止剤や分岐化剤を添加して反応を行ってもよい。
【００２７】
【実施例】次に実施例により、本発明をさらに詳細に説
明するが、本発明はこれらの例によってなんら限定され
るものではない。
明するが、本発明はこれらの例によってなんら限定され
るものではない。
【００２８】実施例１ 8.8%(w/v) の水酸化ナトリウム水溶液580ml に、次の構
造式（１）で示される
造式（１）で示される
【００２９】
【化１４】
【００３０】ピラゾリン構造を有する二価フェノール25
5.2g及びハイドロサルファイト0.1gを加え溶解した。こ
れにメチレンクロライド360ml を加え、15℃に保ちなが
ら撹拌しつつ、p-t-ブチルフェノール（PTBP）2.0gを加
え、ついでホスゲン51g を60分を要して導入した。導入
終了後、激しく撹拌して、反応液を乳化させ、乳化後0.
2ml のトリエチルアミンを加え、約１時間撹拌し重合さ
せた。
5.2g及びハイドロサルファイト0.1gを加え溶解した。こ
れにメチレンクロライド360ml を加え、15℃に保ちなが
ら撹拌しつつ、p-t-ブチルフェノール（PTBP）2.0gを加
え、ついでホスゲン51g を60分を要して導入した。導入
終了後、激しく撹拌して、反応液を乳化させ、乳化後0.
2ml のトリエチルアミンを加え、約１時間撹拌し重合さ
せた。
【００３１】重合液を水相と有機相に分離し、有機相を
リン酸で中和し、洗液のpHを中性になるまで水洗を繰り
返した後、イソプロパノール470ml を加え、重合物を沈
澱させた。沈澱物を濾過後、乾燥して粉末状重合体を得
た。この重合体は、塩化メチレンを溶媒とする濃度0.5g
／dlの溶液の温度20℃における極限粘度［η］は0.47dl
／g であった。
リン酸で中和し、洗液のpHを中性になるまで水洗を繰り
返した後、イソプロパノール470ml を加え、重合物を沈
澱させた。沈澱物を濾過後、乾燥して粉末状重合体を得
た。この重合体は、塩化メチレンを溶媒とする濃度0.5g
／dlの溶液の温度20℃における極限粘度［η］は0.47dl
／g であった。
【００３２】得られた上記重合体を赤外線吸収スペクト
ルより分析した結果、1650cm-1の位置にカルボニル基に
よる吸収、1240cm-1の位置にエーテル結合による吸収が
認められ、カーボネート結合を有することが確認され
た。また、3650〜3200cm-1の位置に水酸基由来の吸収は
ほとんど認められなかった。よって、この重合体は下記
繰り返し単位からなるポリカーボネート重合体と認めら
れた。
ルより分析した結果、1650cm-1の位置にカルボニル基に
よる吸収、1240cm-1の位置にエーテル結合による吸収が
認められ、カーボネート結合を有することが確認され
た。また、3650〜3200cm-1の位置に水酸基由来の吸収は
ほとんど認められなかった。よって、この重合体は下記
繰り返し単位からなるポリカーボネート重合体と認めら
れた。
【００３３】
【化１５】
【００３４】実施例２ 構造式（１）の二価フェノールの代わりに、構造式
（１）の二価フェノール127.6gとビスフェノールＡ45.6
g を用いた以外は、実施例１と同様に行った。得られた
重合体の極限粘度［η］は0.46dl／g で、赤外吸収スペ
クトル分析よりこの重合体は下記繰り返し単位を有する
ポリカーボネート重合体と認められた。
（１）の二価フェノール127.6gとビスフェノールＡ45.6
g を用いた以外は、実施例１と同様に行った。得られた
重合体の極限粘度［η］は0.46dl／g で、赤外吸収スペ
クトル分析よりこの重合体は下記繰り返し単位を有する
ポリカーボネート重合体と認められた。
【００３５】
【化１６】
【００３６】
【発明の効果】本発明のポリカーボネート重合体は、繰
り返し単位に側鎖状にピラゾリン構造を有するポリマー
であって、各種成形材料やポリマーアロイ原料に使用す
る新規なポリカーボネートを提供することができる。本
発明のポリカーボネート重合体は、例えば溶解パラメー
ターが変化することより他のポリマーとの相溶性や溶媒
選択性などの改質が期待される。
り返し単位に側鎖状にピラゾリン構造を有するポリマー
であって、各種成形材料やポリマーアロイ原料に使用す
る新規なポリカーボネートを提供することができる。本
発明のポリカーボネート重合体は、例えば溶解パラメー
ターが変化することより他のポリマーとの相溶性や溶媒
選択性などの改質が期待される。
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成６年２月４日
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正内容】
【特許請求の範囲】
【化１】 （式中、R1〜R8は、水素、ハロゲン、アルコキシ基、そ
れぞれ置換基を有してもよいアルキル基、アルケニル基
またはアリール基を示す。R9、R10 は少なくとも一方が
下記一般式（Ｂ）で表されるピラゾリンを含む基で、残
りの一方が水素、それぞれ置換基を有してもよいアルキ
ル基、アルケニル基、またはアリール基、またはR9、R
10 の両者がともに下記一般式（Ｂ）で表されるピラゾ
リンを含む基を示す。）一般式（Ｂ）
れぞれ置換基を有してもよいアルキル基、アルケニル基
またはアリール基を示す。R9、R10 は少なくとも一方が
下記一般式（Ｂ）で表されるピラゾリンを含む基で、残
りの一方が水素、それぞれ置換基を有してもよいアルキ
ル基、アルケニル基、またはアリール基、またはR9、R
10 の両者がともに下記一般式（Ｂ）で表されるピラゾ
リンを含む基を示す。）一般式（Ｂ）
【化２】 （式中、Ｒ11〜Ｒ14は水素、ハロゲン、それぞれ置換基
を有してもよいアルキル基、アルコキシ基、アルケニル
基、またはアリール基を示し、Ｒ11〜Ｒ14のうちいずれ
かが二価基となり、−（ＣＨ2 ）a −と結合してＲ9 ま
たはＲ10基を形成する。a は０〜５の整数を表す。）
を有してもよいアルキル基、アルコキシ基、アルケニル
基、またはアリール基を示し、Ｒ11〜Ｒ14のうちいずれ
かが二価基となり、−（ＣＨ2 ）a −と結合してＲ9 ま
たはＲ10基を形成する。a は０〜５の整数を表す。）
【化３】 （式中、Ｒ15〜Ｒ22はそれぞれ、水素、ハロゲンまたは
置換基を有してもよいアルキル基又はアリール基を示
す。Ｘは下記で示される。
置換基を有してもよいアルキル基又はアリール基を示
す。Ｘは下記で示される。
【化４】 ここにＲ23、Ｒ24は、水素、ハロゲン、それぞれ置換基
を有してもよいアルキル基またはアリール基を表すか、
Ｒ23及びＲ24が一緒に結合して、炭素環または複素環を
形成する基を表し、b は 0〜20、ｃは 0〜2000の整数を
表す。）
を有してもよいアルキル基またはアリール基を表すか、
Ｒ23及びＲ24が一緒に結合して、炭素環または複素環を
形成する基を表し、b は 0〜20、ｃは 0〜2000の整数を
表す。）
【化５】 （式中、Ｒ1 〜Ｒ10はそれぞれ前記式（Ａ）におけると
同様の意味を表す。）
同様の意味を表す。）
【化６】 （式中、Ｒ15〜Ｒ22およびＸはそれぞれ前記式（Ａ）に
おけると同様の意味を表す。）
おけると同様の意味を表す。）
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正内容】
【０００５】すなわち、本発明は下記一般式（Ａ）で表
されるピラゾリン構造を有する繰り返し単位、または前
記一般式（Ａ）と下記一般式（Ｃ）で表される繰り返し
単位からなる重合体であり、式（Ａ）で表される繰り返
し単位の組成がモル比で、０＜（（Ａ）＋（Ｃ））≦１
であるポリカーボネート重合体およびその製造方法を提
供するものである。
されるピラゾリン構造を有する繰り返し単位、または前
記一般式（Ａ）と下記一般式（Ｃ）で表される繰り返し
単位からなる重合体であり、式（Ａ）で表される繰り返
し単位の組成がモル比で、０＜（（Ａ）＋（Ｃ））≦１
であるポリカーボネート重合体およびその製造方法を提
供するものである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正内容】
【０００９】（式中、Ｒ11〜Ｒ14は、水素、ハロゲン、
それぞれ置換基を有してもよいアルキル基、アルコキシ
基、アルケニル基、またはアリール基を示し、Ｒ11〜Ｒ
14のうちいずれかが二価基となり、−（ＣＨ2)a −と結
合してＲ9 またはＲ10基を形成する。a は0 〜5 の整数
を表す。)
それぞれ置換基を有してもよいアルキル基、アルコキシ
基、アルケニル基、またはアリール基を示し、Ｒ11〜Ｒ
14のうちいずれかが二価基となり、−（ＣＨ2)a −と結
合してＲ9 またはＲ10基を形成する。a は0 〜5 の整数
を表す。)
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正内容】
【００１１】（式中、Ｒ15〜Ｒ22は、それぞれ、水素、
ハロゲン、それぞれ置換基を有してもよいアルキル基ま
たはアリール基を示す。Ｘは下記に示すものである。
ハロゲン、それぞれ置換基を有してもよいアルキル基ま
たはアリール基を示す。Ｘは下記に示すものである。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正内容】
【００１３】ここにＲ23、Ｒ24は水素、ハロゲン、それ
ぞれ置換基を有してもよいアルキル基またはアリール基
を表すか、Ｒ23及びＲ24が一緒に結合して、炭素環また
は複素環を形成する基を表し、b は 0〜20、c は 0〜20
00の整数を表す。）
ぞれ置換基を有してもよいアルキル基またはアリール基
を表すか、Ｒ23及びＲ24が一緒に結合して、炭素環また
は複素環を形成する基を表し、b は 0〜20、c は 0〜20
00の整数を表す。）
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正内容】
【００１４】本発明の前記一般式（Ａ）で表される重合
体または一般式（Ａ）と一般式（Ｃ）の共重合体で代表
されるピラゾリン構造を持つポリカーボネート重合体
は、下記一般式（Ｄ）で表される二価フェノールまたは
該二価フェノール（Ｄ）と下記一般式（Ｅ）で表される
二価フェノールを炭酸エステル形成性化合物と反応させ
ることにより製造することができる。
体または一般式（Ａ）と一般式（Ｃ）の共重合体で代表
されるピラゾリン構造を持つポリカーボネート重合体
は、下記一般式（Ｄ）で表される二価フェノールまたは
該二価フェノール（Ｄ）と下記一般式（Ｅ）で表される
二価フェノールを炭酸エステル形成性化合物と反応させ
ることにより製造することができる。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正内容】
【００１６】（式中、Ｒ1 〜Ｒ10はそれぞれ前記式
（Ａ）におけると同様の意味を表す。）
（Ａ）におけると同様の意味を表す。）
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正内容】
【００１８】（式中、Ｒ15〜Ｒ22およびＸはそれぞれ前
記式（Ａ）におけると同様の意味を表す。）
記式（Ａ）におけると同様の意味を表す。）
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正内容】
【００２１】前記一般式（Ｅ）で表される二価フェノー
ルとしては、具体的にはビス（４−ヒドロキシフェニ
ル）メタン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）エーテ
ル、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホン、ビス
（４−ヒドロキシフェニル）スルホキシド、ビス（４−
ヒドロキシフェニル）スルファイド、ビス（４−ヒドロ
キシフェニル）ケトン、1,1-ビス（４−ヒドロキシフェ
ニル）エタン、2,2-ビス（４−ヒドロキシフェニル）プ
ロパン（ビスフェノ−ルＡ；BPA ）、2,2-ビス（４−ヒ
ドロキシフェニル）ブタン、1,1-ビス（４−ヒドロキシ
フェニル）シクロヘキサン（ビスフェノ−ルZ；BPZ
）、2,2-ビス（４−ヒドロキシ−3,5-ジブロモフェニ
ル）プロパン、2,2-ビス（４−ヒドロキシ−3,5-ジクロ
ロフェニル）プロパン、2,2-ビス（４−ヒドロキシ−3-
ブロモフェニル）プロパン、2,2-ビス（４−ヒドロキシ
−3-クロロフェニル）プロパン、2,2-ビス（４−ヒドロ
キシ−3-メチルフェニル）プロパン、、2,2-ビス（４−
ヒドロキシ−3,5-ジメチルフェニル）プロパン、1,1-ビ
ス（４−ヒドロキシフェニル）-1- フェニルエタン、ビ
ス（４−ヒドロキシフェニル）ジフェニルメタン、α,
ω- ビス［３−（Ｏ−ヒドロキシフェニル）プロピル］
ポリジメチルシロキサン、ビフェノールなどが例示され
る。
ルとしては、具体的にはビス（４−ヒドロキシフェニ
ル）メタン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）エーテ
ル、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホン、ビス
（４−ヒドロキシフェニル）スルホキシド、ビス（４−
ヒドロキシフェニル）スルファイド、ビス（４−ヒドロ
キシフェニル）ケトン、1,1-ビス（４−ヒドロキシフェ
ニル）エタン、2,2-ビス（４−ヒドロキシフェニル）プ
ロパン（ビスフェノ−ルＡ；BPA ）、2,2-ビス（４−ヒ
ドロキシフェニル）ブタン、1,1-ビス（４−ヒドロキシ
フェニル）シクロヘキサン（ビスフェノ−ルZ；BPZ
）、2,2-ビス（４−ヒドロキシ−3,5-ジブロモフェニ
ル）プロパン、2,2-ビス（４−ヒドロキシ−3,5-ジクロ
ロフェニル）プロパン、2,2-ビス（４−ヒドロキシ−3-
ブロモフェニル）プロパン、2,2-ビス（４−ヒドロキシ
−3-クロロフェニル）プロパン、2,2-ビス（４−ヒドロ
キシ−3-メチルフェニル）プロパン、、2,2-ビス（４−
ヒドロキシ−3,5-ジメチルフェニル）プロパン、1,1-ビ
ス（４−ヒドロキシフェニル）-1- フェニルエタン、ビ
ス（４−ヒドロキシフェニル）ジフェニルメタン、α,
ω- ビス［３−（Ｏ−ヒドロキシフェニル）プロピル］
ポリジメチルシロキサン、ビフェノールなどが例示され
る。
Claims (2)
- 【請求項１】下記一般式（Ａ） 【化１】 （式中、R1〜R8は、水素、ハロゲン、アルコキシ基、そ
れぞれ置換基を有してもよいアルキル基、アルケニル基
またはアリール基を示す。R9、R10 は少なくとも一方が
下記一般式（Ｂ）で表されるピラゾリンを含む基で、残
りの一方が水素、それぞれ置換基を有してもよいアルキ
ル基、アルケニル基、またはアリール基、またはR9、R
10 の両者がともに下記一般式（Ｂ）で表されるピラゾ
リンを含む基を示す。）一般式（Ｂ） 【化２】 （式中、Ｒ11〜Ｒ14は水素、ハロゲン、それぞれ置換基
を有してもよいアルキル基、アルコキシ基、アルケニル
基、またはアリール基を示し、Ｒ11〜Ｒ14のうちいずれ
かが二価基となり、−（ＣＨ2 ）a −と結合してＲ9 ま
たはＲ10基を形成する。a は０〜５の整数を表す。）で
表されるピラゾリン構造を有する繰り返し単位（Ａ）及
び下記一般式（Ｃ） 【化３】 （式中、Ｒ15〜Ｒ22はそれぞれ、水素、ハロゲンまたは
置換基を有してもよいアルキル基又はアリール基を示
す。Ｘは 【化４】 であり、ここにＲ23、Ｒ24は、水素、ハロゲン、それぞ
れ置換基を有してもよいアルキル基またはアリール基を
表すか、Ｒ23及びＲ24が一緒に結合して、炭素環または
複素環を形成する基を表し、b は 0〜20、ｃは 0〜2000
の整数を表す。）で表される繰り返し単位（Ｃ）から選
ばれる繰り返し単位からなり、式（Ａ）で表される繰り
返し単位の組成がモル比で０＜（Ａ）／（（Ａ）＋
（Ｃ））≦１であるポリカーボネート重合体。 （以下余白） - 【請求項２】 下記一般式（Ｄ） 【化５】 （式中、Ｒ1 〜Ｒ10はそれぞれ前記式（Ａ）におけると
同様の意味を表す。）で表される二価フェノールまたは
該二価フェノール（Ｄ）と下記一般式（Ｅ） 【化６】 （式中、Ｒ15〜Ｒ22およびＸはそれぞれ前記式（Ａ）に
おけると同様の意味を表す。）で表される二価フェノー
ル（Ｅ）を炭酸エステル形成性化合物と反応させて請求
項１記載のポリカーボネート重合体を得ることを特徴と
するポリカーボネート重合体の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2132793A JPH06234837A (ja) | 1993-02-09 | 1993-02-09 | 新規ポリカーボネート重合体およびその製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2132793A JPH06234837A (ja) | 1993-02-09 | 1993-02-09 | 新規ポリカーボネート重合体およびその製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06234837A true JPH06234837A (ja) | 1994-08-23 |
Family
ID=12052049
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2132793A Pending JPH06234837A (ja) | 1993-02-09 | 1993-02-09 | 新規ポリカーボネート重合体およびその製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06234837A (ja) |
Cited By (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7181156B2 (en) | 2003-07-25 | 2007-02-20 | Ricoh Company, Ltd. | Image forming apparatus using a cleaning member for preventing noises and process cartridge therefor |
| US7416823B2 (en) | 2004-01-15 | 2008-08-26 | Ricoh Company, Ltd. | Electrophotographic photoconductor, and image formation method, image formation apparatus, and process cartridge for image formation apparatus using the same |
| EP2017676A1 (en) | 2006-04-17 | 2009-01-21 | Ricoh Company, Ltd. | Image forming apparatus, image forming method, and process cartridge |
| EP2146251A1 (en) | 2008-07-15 | 2010-01-20 | Ricoh Company, Ltd. | Electrophotographic photoconductor, image forming apparatus using the same, and process cartridge |
| US7718335B2 (en) | 2005-12-27 | 2010-05-18 | Ricoh Company Limited | Image bearing member, and image forming apparatus and process cartridge using the same |
| US7865114B2 (en) | 2006-11-21 | 2011-01-04 | Ricoh Company Limited | Image forming apparatus, image forming method and process cartridge |
| EP2278407A1 (en) | 2009-07-23 | 2011-01-26 | Ricoh Company, Ltd. | Image forming apparatus |
| US7897313B2 (en) | 2006-04-27 | 2011-03-01 | Ricoh Company Limited | Electrostatic latent image bearing member, and image forming apparatus and process cartridge using the electrostatic latent image bearing member |
| US7914959B2 (en) | 2005-11-28 | 2011-03-29 | Ricoh Company, Limited | Image bearing member, image forming method, and image forming apparatus |
| US7995950B2 (en) | 2005-07-15 | 2011-08-09 | Ricoh Co., Ltd. | Image forming apparatus, image forming method and process cartridge involving the use of a cleaning blade that removes toner remaining on a surface of an image bearing member |
| US8043773B2 (en) | 2006-11-16 | 2011-10-25 | Ricoh Company, Limited | Image bearing member, image forming apparatus and process cartridge |
| US8148038B2 (en) | 2007-07-02 | 2012-04-03 | Ricoh Company, Ltd. | Image bearing member, process cartridge, image forming apparatus and method of forming image bearing member |
| WO2012099182A1 (en) | 2011-01-21 | 2012-07-26 | Ricoh Company, Ltd. | Electrophotographic photoconductor, and image forming method, image forming apparatus, and process cartridge using the electrophotographic photoconductor |
-
1993
- 1993-02-09 JP JP2132793A patent/JPH06234837A/ja active Pending
Cited By (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7295802B2 (en) | 2003-07-25 | 2007-11-13 | Ricoh Company, Ltd | Image forming apparatus using a cleaning unit for preventing noises |
| US7181156B2 (en) | 2003-07-25 | 2007-02-20 | Ricoh Company, Ltd. | Image forming apparatus using a cleaning member for preventing noises and process cartridge therefor |
| US7416823B2 (en) | 2004-01-15 | 2008-08-26 | Ricoh Company, Ltd. | Electrophotographic photoconductor, and image formation method, image formation apparatus, and process cartridge for image formation apparatus using the same |
| US7995950B2 (en) | 2005-07-15 | 2011-08-09 | Ricoh Co., Ltd. | Image forming apparatus, image forming method and process cartridge involving the use of a cleaning blade that removes toner remaining on a surface of an image bearing member |
| US7914959B2 (en) | 2005-11-28 | 2011-03-29 | Ricoh Company, Limited | Image bearing member, image forming method, and image forming apparatus |
| US7718335B2 (en) | 2005-12-27 | 2010-05-18 | Ricoh Company Limited | Image bearing member, and image forming apparatus and process cartridge using the same |
| EP2017676A1 (en) | 2006-04-17 | 2009-01-21 | Ricoh Company, Ltd. | Image forming apparatus, image forming method, and process cartridge |
| US7897313B2 (en) | 2006-04-27 | 2011-03-01 | Ricoh Company Limited | Electrostatic latent image bearing member, and image forming apparatus and process cartridge using the electrostatic latent image bearing member |
| US8043773B2 (en) | 2006-11-16 | 2011-10-25 | Ricoh Company, Limited | Image bearing member, image forming apparatus and process cartridge |
| US7865114B2 (en) | 2006-11-21 | 2011-01-04 | Ricoh Company Limited | Image forming apparatus, image forming method and process cartridge |
| US8148038B2 (en) | 2007-07-02 | 2012-04-03 | Ricoh Company, Ltd. | Image bearing member, process cartridge, image forming apparatus and method of forming image bearing member |
| EP2146251A1 (en) | 2008-07-15 | 2010-01-20 | Ricoh Company, Ltd. | Electrophotographic photoconductor, image forming apparatus using the same, and process cartridge |
| EP2278407A1 (en) | 2009-07-23 | 2011-01-26 | Ricoh Company, Ltd. | Image forming apparatus |
| WO2012099182A1 (en) | 2011-01-21 | 2012-07-26 | Ricoh Company, Ltd. | Electrophotographic photoconductor, and image forming method, image forming apparatus, and process cartridge using the electrophotographic photoconductor |
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