JPH0555942B2 - - Google Patents
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Description
本発明は、光磁気メモリー、磁気記録、表示素
子などに用いられる磁気記録媒体の製造方法に関
し、特に磁気カー効果あるいはフアラデー効果な
どの磁気光学効果を用いて読み出すことのできる
光磁気記録媒体の製造方法における改良に関す
る。 従来、例えば光磁気記録媒体としてはMnBi、
MnCuBi等の多結晶薄膜、GdCo、GdFe、TbFe、
DyFe、GdTbFe、TbDyFe、GdFeCo、
TbFeCo、GdTbCoなどの非晶質薄膜、GdIGな
どの単結晶薄膜などが知られている。 これらの薄膜のうち、大面積の薄膜を室温近傍
の温度で製作する際の成膜性、信号を小さな光熱
エネルギーで書き込むための書き込み効率、およ
び書き込まれた信号をＳ／Ｎ比よく読み出すため
の読み出し効率を勘案して、最近では前記非晶質
薄膜が光磁気記録媒体として優れていると考えら
れている。特に、GdTbFeはカー回転角も大き
く、150℃前後のキユーリー点を持つので、光磁
気記録媒体として最適である。 しかしながら、GdTbFeをはじめとして、一般
に磁気記録媒体に用いる非晶質磁性体は、耐食性
が悪いという欠点を持つている。すなわち、大
気、水蒸気に触れると磁気特性が低下し、最終的
には完全に酸化されて透明化するに至る。即ち、
その信頼性が最大の問題点であつた。 上記問題点を解決するためには、磁性体自体の
改良と同時に、磁性体から成る記録層を、劣化の
原因となる大気（特に酸素）や水分から隔離する
事が必要である。このような隔離の手段として
は、記録層を大気や水分の透過量の少ない物質で
被覆、保護する方法が最も簡便な方法として考え
られ、種々の材料から成る保護層が提案されてい
る。例えば、ZnO、MgO、Al2O3、SiO（特開昭
59−11056）SiO2、ZrO2、CeO2、In2O3、SnO2、
TiO2、LiNbO3、LiTaO3等の酸化物、MgF2、
CaF2、CeF4などのフツ化物、Si3N4、AlN（特開
昭59−11052）等の窒化物などを保護層として用
いるものである。また、ポリプロピレン、ポリエ
チレン、ポリアマイド、ポリアクリロニトリル、
塩化ビニリデン、ポリカーボネートやエチレン−
酸ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル、塩化ビニリ
デン−アクリロニトリルなどの共重合体から成る
有機物の樹脂を溶剤に溶いて塗布したり、フルオ
ロカーボンのプラズマ重合膜を使用する例（特開
昭59−90246）も知られている。 これら従来の保護膜を比較すると、酸化物やふ
つ化物の無機膜は、その工程が蒸着、スパツタな
どのドライプロセスによつてコートでき、簡便で
好ましいが、大気や水分の透過防止の効果が十分
ではなく、記録層の劣化防止には満足する効果が
得られなかつた。一方、有機物の樹脂をコートす
る方法は、その工程が溶剤を使う湿式プロセスで
あり、簡便でない上に、形成された保護層の特性
のバラツキが大きいといつた欠点があつた。 これに対し、プラズマ重合膜は、成膜の工程が
ドライであり、その上透湿性も小さいので保護層
としては理想的である。しかしながら、上記特開
昭59−90246のようにプラズマ重合膜上に記録層
を節ける場合には問題はないが、記録層上にプラ
ズマ重合膜を形成しようとすると、プラズマ重合
のプロセス中に、モノマーガスと磁性膜とが反応
し、磁気特性が劣化してしまう欠点があつた。 本発明の目的は、記録層の磁気特性を劣化させ
ることなく、耐腐食性を著しく向上させた磁気記
録媒体を製造可能とする磁気記録媒体の製造方法
を提供することにある。 本発明の上記目的は、基板上に形成された非晶
質磁性膜の記録層とプラズマ重合膜の保護層とを
有する磁気記録媒体の製造方法において、前記基
板上に記録層を形成後、前記記録層上に蒸着、或
はスパツタリングにより無機材料から成る中間層
を形成し、その後、前記中間層上にプラズマ重合
によりプラズマ重合膜を形成することによつて達
成される。 以下、本発明の製造方法にて作成される磁気記
録媒体について説明する。 第１図は本発明の製造方法にて作成される磁気
記録媒体の構成例を示す略断面図である。ここで
１はガラス等から成る基板で、図のように記録・
再生時のトラツキングの為のガイド溝が凹凸の形
で設けられていても良い。２はGdTbFe、
TbFeCo、GdTbfeCo等の非晶質磁性膜から成る
記録層である。この記録層２上には中間層３を介
してプラズマ重合膜４が形成される。中間層３
は、例えばAl2O3、BaO、BeO、CeO2、In2O3、
SiO2、SiO、SnO2、Ta2O5、TiO2、ThO2、
ZrO2、MgF2、CeF4、LaF3或いはこれら２種以
上の混合物などによつて形成される。またこのよ
うな無機材料からなる中間層は、記録層を大気に
触れさせることなく記録層の形成に引き続いて、
蒸着やスパツタリングにより同一真空槽内で連続
成膜される。中間層３の厚さは、その材質によつ
ても異なるが、記録層をプラズマ重合の際のモノ
マーガスの影響から守る為には、60Å以上の厚さ
である事が望ましい。また中間層３があまり厚い
と、そのストレスによつて膜にひび割れが起こる
原因となるので、注意が必要である。従つて中間
層の好ましい厚さは60Å〜10000Åで、更に好ま
しくは60Å〜5000Åである。 プラズマ重合膜４は、どのような材料を用いて
も良いが、特に疎水性に優れたふつ素系モノマ
ー、例えば、テトラフルオロエチレン、ヘキサフ
ルオロプロペン、ヘキサフルオロブチン−２、ヘ
キサフルオロブタジエン−１，３、ヘキサフルオ
ロベンゼン、オクタフルオロ２−ブテン、Ｃ−オ
クタフルオロシクロブタン、クロルトリフルオロ
エチレン、トリフルオロエチン、ヘキサフルオロ
プロピレン、ふつ化ビニル、ふつ化ビニリデン
や、炭化水素系モノマー、例えば、エチレン、ア
セチレン、メタン、スチレン、ベンゼン等が好ま
しい。これらのモノマーは、容量式或いは誘導式
の放電によつてプラズマ重合膜を形成する。プラ
ズマ重合膜は50Å〜数千Åの範囲で形成されるこ
とが望ましい。50Å如何では十分な防湿効果を得
る事が出来ない。 第２図は、本発明の製造方法にて作成される磁
気記録媒体の他の構成例を示し、第１図と共通部
分には同一の符号を付し、詳細な説明は省略す
る。この例では、基板１上にまずプラズマ重合膜
４′を設け、この上に記録層２を形成した後、更
に中間層３を介してプラズマ重合膜４を形成して
いる。このような構成は、特に基板１がPMMA
（ポリメチルメタアクリレート）等の透湿性の大
きい物質から成るときに、記録層の劣化防止に有
効である。 実施例 １ ガラス基板（25mm×75mm×1.8mmのスライドガ
ラス）上に記録層として1500ÅのGdTbfeCo非晶
質磁性膜を、高周波スパツタ装置を使用して形成
した。この記録層の上に、電子ビーム加熱により
中間層としてSiOを3000Åの膜厚で真空蒸着し
た。更に、この中間層の上に、テトラフルオロエ
チレンをモノマーとして容量結合型の平行平板電
極に13.56MHzの高周波電圧を印加し、プラズマ
重合膜を4000Å形成した。 この様にして作製した磁気記録媒体を85℃、相
対湿度85％の恒温恒湿層に入れて耐腐食性試験を
行つた。結果を第３図の11に示す。図の縦軸は保
磁力Hcの変化を保磁力の初期値Hcoに耐する比
（Hc／Hco）で示し、横軸は試験時間〔単位は時
間（hr）〕である。ここで保磁力の低下が激しい
ほど、腐食が進行したことを示す。12、13は比較
例の試験結果を示す。12の比較例は、実施例１と
同一の記録層の上に直接4000Åのプラズマ重合膜
を形成したもの（即ち中間層なし）であり、13の
比較例は実施例１と同一の記録層上に3000Åの
SiO膜のみを形成したもの（即ち、プラズマ重合
膜なし）である。 図から明らかなように、中間層を介してプラズ
マ重合膜を形成した磁気記録媒体が、最も優れた
耐腐食性を有している。 実施例 ２ 実施例１と全く同様の製造方法で形成した記録
層の上に、種々の中間層およびプラズマ重合膜を
設け、その保護効果を調べた。これらの磁気記録
媒体の温度85℃、相対湿度85％、1000時間の耐腐
食性試験後の保磁力の変化〔初期値に耐する比
（Hc／Hco）〕を第１表にまとめて示した。
子などに用いられる磁気記録媒体の製造方法に関
し、特に磁気カー効果あるいはフアラデー効果な
どの磁気光学効果を用いて読み出すことのできる
光磁気記録媒体の製造方法における改良に関す
る。 従来、例えば光磁気記録媒体としてはMnBi、
MnCuBi等の多結晶薄膜、GdCo、GdFe、TbFe、
DyFe、GdTbFe、TbDyFe、GdFeCo、
TbFeCo、GdTbCoなどの非晶質薄膜、GdIGな
どの単結晶薄膜などが知られている。 これらの薄膜のうち、大面積の薄膜を室温近傍
の温度で製作する際の成膜性、信号を小さな光熱
エネルギーで書き込むための書き込み効率、およ
び書き込まれた信号をＳ／Ｎ比よく読み出すため
の読み出し効率を勘案して、最近では前記非晶質
薄膜が光磁気記録媒体として優れていると考えら
れている。特に、GdTbFeはカー回転角も大き
く、150℃前後のキユーリー点を持つので、光磁
気記録媒体として最適である。 しかしながら、GdTbFeをはじめとして、一般
に磁気記録媒体に用いる非晶質磁性体は、耐食性
が悪いという欠点を持つている。すなわち、大
気、水蒸気に触れると磁気特性が低下し、最終的
には完全に酸化されて透明化するに至る。即ち、
その信頼性が最大の問題点であつた。 上記問題点を解決するためには、磁性体自体の
改良と同時に、磁性体から成る記録層を、劣化の
原因となる大気（特に酸素）や水分から隔離する
事が必要である。このような隔離の手段として
は、記録層を大気や水分の透過量の少ない物質で
被覆、保護する方法が最も簡便な方法として考え
られ、種々の材料から成る保護層が提案されてい
る。例えば、ZnO、MgO、Al2O3、SiO（特開昭
59−11056）SiO2、ZrO2、CeO2、In2O3、SnO2、
TiO2、LiNbO3、LiTaO3等の酸化物、MgF2、
CaF2、CeF4などのフツ化物、Si3N4、AlN（特開
昭59−11052）等の窒化物などを保護層として用
いるものである。また、ポリプロピレン、ポリエ
チレン、ポリアマイド、ポリアクリロニトリル、
塩化ビニリデン、ポリカーボネートやエチレン−
酸ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル、塩化ビニリ
デン−アクリロニトリルなどの共重合体から成る
有機物の樹脂を溶剤に溶いて塗布したり、フルオ
ロカーボンのプラズマ重合膜を使用する例（特開
昭59−90246）も知られている。 これら従来の保護膜を比較すると、酸化物やふ
つ化物の無機膜は、その工程が蒸着、スパツタな
どのドライプロセスによつてコートでき、簡便で
好ましいが、大気や水分の透過防止の効果が十分
ではなく、記録層の劣化防止には満足する効果が
得られなかつた。一方、有機物の樹脂をコートす
る方法は、その工程が溶剤を使う湿式プロセスで
あり、簡便でない上に、形成された保護層の特性
のバラツキが大きいといつた欠点があつた。 これに対し、プラズマ重合膜は、成膜の工程が
ドライであり、その上透湿性も小さいので保護層
としては理想的である。しかしながら、上記特開
昭59−90246のようにプラズマ重合膜上に記録層
を節ける場合には問題はないが、記録層上にプラ
ズマ重合膜を形成しようとすると、プラズマ重合
のプロセス中に、モノマーガスと磁性膜とが反応
し、磁気特性が劣化してしまう欠点があつた。 本発明の目的は、記録層の磁気特性を劣化させ
ることなく、耐腐食性を著しく向上させた磁気記
録媒体を製造可能とする磁気記録媒体の製造方法
を提供することにある。 本発明の上記目的は、基板上に形成された非晶
質磁性膜の記録層とプラズマ重合膜の保護層とを
有する磁気記録媒体の製造方法において、前記基
板上に記録層を形成後、前記記録層上に蒸着、或
はスパツタリングにより無機材料から成る中間層
を形成し、その後、前記中間層上にプラズマ重合
によりプラズマ重合膜を形成することによつて達
成される。 以下、本発明の製造方法にて作成される磁気記
録媒体について説明する。 第１図は本発明の製造方法にて作成される磁気
記録媒体の構成例を示す略断面図である。ここで
１はガラス等から成る基板で、図のように記録・
再生時のトラツキングの為のガイド溝が凹凸の形
で設けられていても良い。２はGdTbFe、
TbFeCo、GdTbfeCo等の非晶質磁性膜から成る
記録層である。この記録層２上には中間層３を介
してプラズマ重合膜４が形成される。中間層３
は、例えばAl2O3、BaO、BeO、CeO2、In2O3、
SiO2、SiO、SnO2、Ta2O5、TiO2、ThO2、
ZrO2、MgF2、CeF4、LaF3或いはこれら２種以
上の混合物などによつて形成される。またこのよ
うな無機材料からなる中間層は、記録層を大気に
触れさせることなく記録層の形成に引き続いて、
蒸着やスパツタリングにより同一真空槽内で連続
成膜される。中間層３の厚さは、その材質によつ
ても異なるが、記録層をプラズマ重合の際のモノ
マーガスの影響から守る為には、60Å以上の厚さ
である事が望ましい。また中間層３があまり厚い
と、そのストレスによつて膜にひび割れが起こる
原因となるので、注意が必要である。従つて中間
層の好ましい厚さは60Å〜10000Åで、更に好ま
しくは60Å〜5000Åである。 プラズマ重合膜４は、どのような材料を用いて
も良いが、特に疎水性に優れたふつ素系モノマ
ー、例えば、テトラフルオロエチレン、ヘキサフ
ルオロプロペン、ヘキサフルオロブチン−２、ヘ
キサフルオロブタジエン−１，３、ヘキサフルオ
ロベンゼン、オクタフルオロ２−ブテン、Ｃ−オ
クタフルオロシクロブタン、クロルトリフルオロ
エチレン、トリフルオロエチン、ヘキサフルオロ
プロピレン、ふつ化ビニル、ふつ化ビニリデン
や、炭化水素系モノマー、例えば、エチレン、ア
セチレン、メタン、スチレン、ベンゼン等が好ま
しい。これらのモノマーは、容量式或いは誘導式
の放電によつてプラズマ重合膜を形成する。プラ
ズマ重合膜は50Å〜数千Åの範囲で形成されるこ
とが望ましい。50Å如何では十分な防湿効果を得
る事が出来ない。 第２図は、本発明の製造方法にて作成される磁
気記録媒体の他の構成例を示し、第１図と共通部
分には同一の符号を付し、詳細な説明は省略す
る。この例では、基板１上にまずプラズマ重合膜
４′を設け、この上に記録層２を形成した後、更
に中間層３を介してプラズマ重合膜４を形成して
いる。このような構成は、特に基板１がPMMA
（ポリメチルメタアクリレート）等の透湿性の大
きい物質から成るときに、記録層の劣化防止に有
効である。 実施例 １ ガラス基板（25mm×75mm×1.8mmのスライドガ
ラス）上に記録層として1500ÅのGdTbfeCo非晶
質磁性膜を、高周波スパツタ装置を使用して形成
した。この記録層の上に、電子ビーム加熱により
中間層としてSiOを3000Åの膜厚で真空蒸着し
た。更に、この中間層の上に、テトラフルオロエ
チレンをモノマーとして容量結合型の平行平板電
極に13.56MHzの高周波電圧を印加し、プラズマ
重合膜を4000Å形成した。 この様にして作製した磁気記録媒体を85℃、相
対湿度85％の恒温恒湿層に入れて耐腐食性試験を
行つた。結果を第３図の11に示す。図の縦軸は保
磁力Hcの変化を保磁力の初期値Hcoに耐する比
（Hc／Hco）で示し、横軸は試験時間〔単位は時
間（hr）〕である。ここで保磁力の低下が激しい
ほど、腐食が進行したことを示す。12、13は比較
例の試験結果を示す。12の比較例は、実施例１と
同一の記録層の上に直接4000Åのプラズマ重合膜
を形成したもの（即ち中間層なし）であり、13の
比較例は実施例１と同一の記録層上に3000Åの
SiO膜のみを形成したもの（即ち、プラズマ重合
膜なし）である。 図から明らかなように、中間層を介してプラズ
マ重合膜を形成した磁気記録媒体が、最も優れた
耐腐食性を有している。 実施例 ２ 実施例１と全く同様の製造方法で形成した記録
層の上に、種々の中間層およびプラズマ重合膜を
設け、その保護効果を調べた。これらの磁気記録
媒体の温度85℃、相対湿度85％、1000時間の耐腐
食性試験後の保磁力の変化〔初期値に耐する比
（Hc／Hco）〕を第１表にまとめて示した。
【表】
【表】
以上説明した様に、本発明は基板上に記録層を
形成後、前記記録層上に蒸着、或はスパツタリン
グにより無機材料から成る中間層を形成し、その
後、前記中間層上にプラズマ重合によりプラズマ
重合膜を形成することによつて、記録層の磁気特
性を劣化させることなく、耐腐食性を著しく向上
させた磁気記録媒体を製造可能とした。
形成後、前記記録層上に蒸着、或はスパツタリン
グにより無機材料から成る中間層を形成し、その
後、前記中間層上にプラズマ重合によりプラズマ
重合膜を形成することによつて、記録層の磁気特
性を劣化させることなく、耐腐食性を著しく向上
させた磁気記録媒体を製造可能とした。
第１図および第２図は夫々本発明の製造方法に
て作成される磁気記録媒体の構成例を示す略断面
図、第３図は本発明の実施例にて作成された磁気
記録媒体の耐腐食性試験の結果を示す図である。 １……基板、２……記録層、３……中間層、
４，４′……プラズマ重合膜。
て作成される磁気記録媒体の構成例を示す略断面
図、第３図は本発明の実施例にて作成された磁気
記録媒体の耐腐食性試験の結果を示す図である。 １……基板、２……記録層、３……中間層、
４，４′……プラズマ重合膜。
Claims (1)
- １ 基板上に形成された非晶質磁性膜の記録層と
プラズマ重合膜の保護層とを有する磁気記録媒体
の製造方法において、前記基板上に記録層を形成
後、前記記録層上に蒸着、或はスパツタリングに
より無機材料から成る中間層を形成し、その後、
前記中間層上にプラズマ重合によりプラズマ重合
膜を形成することを特徴とする磁気記録媒体の製
造方法。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59172239A JPS6150236A (ja) | 1984-08-18 | 1984-08-18 | 磁気記録媒体の製造方法 |
| GB8520483A GB2164269B (en) | 1984-08-18 | 1985-08-15 | Magnetic recording medium |
| FR8512462A FR2571533B1 (fr) | 1984-08-18 | 1985-08-16 | Support d'enregistrement magnetique |
| DE19853529580 DE3529580A1 (de) | 1984-08-18 | 1985-08-19 | Magnetischer aufzeichnungstraeger |
| US07/173,042 US4925733A (en) | 1984-08-18 | 1988-03-28 | Magnetic recording medium |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59172239A JPS6150236A (ja) | 1984-08-18 | 1984-08-18 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6150236A JPS6150236A (ja) | 1986-03-12 |
| JPH0555942B2 true JPH0555942B2 (ja) | 1993-08-18 |
Family
ID=15938194
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59172239A Granted JPS6150236A (ja) | 1984-08-18 | 1984-08-18 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
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| JP (1) | JPS6150236A (ja) |
| DE (1) | DE3529580A1 (ja) |
| FR (1) | FR2571533B1 (ja) |
| GB (1) | GB2164269B (ja) |
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- 1985-08-16 FR FR8512462A patent/FR2571533B1/fr not_active Expired - Fee Related
- 1985-08-19 DE DE19853529580 patent/DE3529580A1/de active Granted
-
1988
- 1988-03-28 US US07/173,042 patent/US4925733A/en not_active Expired - Lifetime
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