JPS61160853A - 光学的記録媒体 - Google Patents
光学的記録媒体Info
- Publication number
- JPS61160853A JPS61160853A JP15585A JP15585A JPS61160853A JP S61160853 A JPS61160853 A JP S61160853A JP 15585 A JP15585 A JP 15585A JP 15585 A JP15585 A JP 15585A JP S61160853 A JPS61160853 A JP S61160853A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- film
- optical recording
- recording medium
- carbide
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、光ビームにより記録会再生を行うことが可能
な光学的記録媒体に関するものである。
な光学的記録媒体に関するものである。
従来より、光ディスクに用いられる光学的記録媒体とし
ては希土類−遷移金属の合金薄膜、非晶質から結晶質へ
の相転移を利用したカルコゲン化合物等の還元性酸化物
薄膜、ヒートモード記録媒体、サーモプラスチック記録
媒体等が知られている０例えば、希土類−遷移金属の合
金薄膜で形成される光磁気記録媒体としては、 ＭｎＢ
１． Ｍｎ（：ｕＢｉなどの多結晶薄膜、ＧｄＣｏ、
ＧｄＦｅ、 ＴｂＦｅ、 Ｄ７Ｆｅ。
ては希土類−遷移金属の合金薄膜、非晶質から結晶質へ
の相転移を利用したカルコゲン化合物等の還元性酸化物
薄膜、ヒートモード記録媒体、サーモプラスチック記録
媒体等が知られている０例えば、希土類−遷移金属の合
金薄膜で形成される光磁気記録媒体としては、 ＭｎＢ
１． Ｍｎ（：ｕＢｉなどの多結晶薄膜、ＧｄＣｏ、
ＧｄＦｅ、 ＴｂＦｅ、 Ｄ７Ｆｅ。
ＧｄＴｂＦｅ、 ＴｂＤｙＦｅ、 ＧｄＦｅＣｏ、 Ｔ
ｂＦｅＣｏ、 ＧｄＴＭ：ｏなどの非晶質薄膜、ＧｄＩ
Ｇなどの単結晶薄膜などが知られている。
ｂＦｅＣｏ、 ＧｄＴＭ：ｏなどの非晶質薄膜、ＧｄＩ
Ｇなどの単結晶薄膜などが知られている。
これらの薄膜のうち、大面積の薄膜を室温近傍の温度で
製作する際の成膜性、信号を小さな光熱エネルギーで書
き込むための書き込み効率、および書き込まれた信号を
Ｓ／Ｎ比よく読み出すための読み出し効率等を勘案して
、最近では前記非晶質薄膜が光磁気記録媒体用として優
れていると考えられている。特に、１５０〜２００℃程
度のキューリ一温度を持つＧｄＴｂＦｅやカー回転角が
大きく再生性能に優れたＧｄＴｂＦｅＣｏ （特開昭５
８−１９６８３９）等が光磁気記録媒体用として最適で
ある。
製作する際の成膜性、信号を小さな光熱エネルギーで書
き込むための書き込み効率、および書き込まれた信号を
Ｓ／Ｎ比よく読み出すための読み出し効率等を勘案して
、最近では前記非晶質薄膜が光磁気記録媒体用として優
れていると考えられている。特に、１５０〜２００℃程
度のキューリ一温度を持つＧｄＴｂＦｅやカー回転角が
大きく再生性能に優れたＧｄＴｂＦｅＣｏ （特開昭５
８−１９６８３９）等が光磁気記録媒体用として最適で
ある。
しかしながら、一般に前記ＧｄＴｂＦｅ等の光磁気記録
媒体をはじめとする磁気記録媒体に用いられる非晶質磁
性体は、耐食性が悪いという欠点を持つている、すなわ
ち、大気、水蒸気に触れると磁気特性が低下し、最終的
には完全に酸化されて透明化するに至る。
媒体をはじめとする磁気記録媒体に用いられる非晶質磁
性体は、耐食性が悪いという欠点を持つている、すなわ
ち、大気、水蒸気に触れると磁気特性が低下し、最終的
には完全に酸化されて透明化するに至る。
このような欠点を除くために、従来から光学的記録層の
上に各種の保護層、例えばＳｉＯ□、 Ｓｉｎ。
上に各種の保護層、例えばＳｉＯ□、 Ｓｉｎ。
Ａ１２０３など透明物質の保護層を設けたり、さらに不
活性ガスにより封じ込めたディスク状記録媒体が提案さ
れている。
活性ガスにより封じ込めたディスク状記録媒体が提案さ
れている。
このような従来の光学的記録媒体の一例を第２図に示す
、書き込み側基板ｌａ上にＳｉｎ、 ＳｉＯ□の下引き
層２を形成し、光学的記録層３．スペーサ一層４、反射
層５、接着層７を介して、保護用基板ｔｂと貼り合わせ
て得られる。
、書き込み側基板ｌａ上にＳｉｎ、 ＳｉＯ□の下引き
層２を形成し、光学的記録層３．スペーサ一層４、反射
層５、接着層７を介して、保護用基板ｔｂと貼り合わせ
て得られる。
しかし、この構成でも保護層或いは下引き層等の補助層
からの酸素、水分のしみ出しにより記録層が酸化される
という間届かあり、記録特性が劣化し、十分な耐食性は
得られなかった。
からの酸素、水分のしみ出しにより記録層が酸化される
という間届かあり、記録特性が劣化し、十分な耐食性は
得られなかった。
また、下引き層２として、窒化物又は炭化物又は窒化物
と炭化物の混合膜を単独に用いると、特にプラスチック
基板に対して、密着力が弱く、クラックが生じやすいと
いう欠点があった。
と炭化物の混合膜を単独に用いると、特にプラスチック
基板に対して、密着力が弱く、クラックが生じやすいと
いう欠点があった。
本発明は以上の点に鑑みなされたものであり。
従来の記録媒体に比べ更に耐腐食性に優れた光学的記録
媒体を提供することを目的とする。
媒体を提供することを目的とする。
本発明の目的は、以下の光学的記録媒体によって達成さ
れる。
れる。
すなわち、基板に相接して酸化ケイ素からなる下引き層
が設けてあり、少なくとも該下引き層と光学的記録層の
間に窒化物又は炭化物又は窒化物と炭化物の混合膜から
なる保護膜および金属膜を設けたことを特徴とする光学
的記録媒体である。
が設けてあり、少なくとも該下引き層と光学的記録層の
間に窒化物又は炭化物又は窒化物と炭化物の混合膜から
なる保護膜および金属膜を設けたことを特徴とする光学
的記録媒体である。
酸化ケイ素膜としては、ＳｉＯ又は５ｉ０２が用いられ
、膜厚は、５００〜２００ＯＡが適している。
、膜厚は、５００〜２００ＯＡが適している。
窒化物又は炭化物又は窒化物と炭化物の混合膜からなる
保護膜および金属膜は、少なくとも下引き層と光学的記
録層の間に設けられれば、本発明の目的を達成すること
ができるが、光学的記録層の両側に設けられてもよい。
保護膜および金属膜は、少なくとも下引き層と光学的記
録層の間に設けられれば、本発明の目的を達成すること
ができるが、光学的記録層の両側に設けられてもよい。
前記保護膜トシテは、ＺｒＮ、 ＣｒＮ、 ＯＮ、 Ａ
ｊＮ。
ｊＮ。
Ｓｉ３Ｎ４等の窒化物、又はＳｉＣ，Ｂ、Ｃ等の炭化物
。
。
又はＳｉ３ Ｎ４−９ｉｎ、 ＺｒＮ−ＳｉＣ等の窒化
物と炭化物の混合物からなる膜が用いられる。膜厚は１
５０八〜２０００ Ａが適している。 １５０Ａより
薄いと十分な保護効果が得られず２０００Ａより厚いと
記録感度が低下したり、亀裂等が生じて好ましくない。
物と炭化物の混合物からなる膜が用いられる。膜厚は１
５０八〜２０００ Ａが適している。 １５０Ａより
薄いと十分な保護効果が得られず２０００Ａより厚いと
記録感度が低下したり、亀裂等が生じて好ましくない。
前記金属膜としては、 Ａｊｌ、 Ｃｒ、 Ｓｉ、旧、
Ｔｉ。
Ｔｉ。
Ｇｏ、 Ｚｒ、 Ｔａ、 Ｎｂ等が用いられ記録感度の
点から膜厚は５ＱＡ以下が好ましい。
点から膜厚は５ＱＡ以下が好ましい。
本発明の磁気記録媒体の実施態様を第１図に示す。第１
図の記録媒体は、書き込み側基板ｌａ上に酸化ケイ素よ
りなる下引き層２を形成せしめ、順次保護膜８、金属８
９、記録層３．スペーサ一層４、反射層５、保護層６を
設け、さらに接着層７を介して保護用基板１ｂと貼り合
わせることにより得られる。
図の記録媒体は、書き込み側基板ｌａ上に酸化ケイ素よ
りなる下引き層２を形成せしめ、順次保護膜８、金属８
９、記録層３．スペーサ一層４、反射層５、保護層６を
設け、さらに接着層７を介して保護用基板１ｂと貼り合
わせることにより得られる。
１ａの書き込み側基板としては、使用光に対して透明な
ものが用いることかでさ、ガラス、アクリル系樹脂等の
プラスチックを用いることができる。
ものが用いることかでさ、ガラス、アクリル系樹脂等の
プラスチックを用いることができる。
３の光学的記録層としては、例えば各種の非晶質磁性Ｔ
ｉ４膜を使用できる。この非晶質磁性薄膜として、Ｇｄ
Ｇｏ、 ＧｄＦｅ、 ＴｂＦｅ、 ＤｙＦｅ、 ＧｄＴ
ｂＦｅ、 Ｔｂ０ｙＦｅ等の非晶質磁性薄膜が好ましい
、なかでも。
ｉ４膜を使用できる。この非晶質磁性薄膜として、Ｇｄ
Ｇｏ、 ＧｄＦｅ、 ＴｂＦｅ、 ＤｙＦｅ、 ＧｄＴ
ｂＦｅ、 Ｔｂ０ｙＦｅ等の非晶質磁性薄膜が好ましい
、なかでも。
ＧｄＴｂＦｅ、 ＧｄＴｂＦｅＣｏはカー回転角が大き
イ（７）−ｒｓ特 ゛に、好ましい、非晶質磁性薄膜
の層厚は記録層としての機能を果す範囲内の所望の層厚
に形成されるが通常１８０〜１００ＯＡ程度である。記
録再生感度を向上させるには１ＢＯＡ程度が望ましい。
イ（７）−ｒｓ特 ゛に、好ましい、非晶質磁性薄膜
の層厚は記録層としての機能を果す範囲内の所望の層厚
に形成されるが通常１８０〜１００ＯＡ程度である。記
録再生感度を向上させるには１ＢＯＡ程度が望ましい。
４のスペーサ一層としては、Ｓｉｎ、 ５ｉ０２の酸化
ケイ素膜、 ＺｒＮ、 ＣｒＨの窒化物膜、ＳｉＣの炭
化物膜、 Ｓｉ３Ｎ４−Ｓ ｉ（：の混合膜等を用い
ることが出来る。スペーサ一層の膜厚は５００〜３００
０Ａが適している。５の反射層としては、４ｏＯ〜１０
０ＯＡ厚のＭ、又はＣｕ膜を用いることが出来る。６の
保護層としてはスペーサ一層４と同様の材料を用いるこ
とが出来、その膜厚は５００〜３０００ Ａが適してい
、 る、７の接着層としては、シリコーン系接着剤、例
えば東しシリコーン■製５Ｅ１７００などが１０μｓ程
度の厚さで用いられる。
ケイ素膜、 ＺｒＮ、 ＣｒＨの窒化物膜、ＳｉＣの炭
化物膜、 Ｓｉ３Ｎ４−Ｓ ｉ（：の混合膜等を用い
ることが出来る。スペーサ一層の膜厚は５００〜３００
０Ａが適している。５の反射層としては、４ｏＯ〜１０
０ＯＡ厚のＭ、又はＣｕ膜を用いることが出来る。６の
保護層としてはスペーサ一層４と同様の材料を用いるこ
とが出来、その膜厚は５００〜３０００ Ａが適してい
、 る、７の接着層としては、シリコーン系接着剤、例
えば東しシリコーン■製５Ｅ１７００などが１０μｓ程
度の厚さで用いられる。
ｔｂの保護用基板としては、ガラス、プラスチックなど
が用いられる。
が用いられる。
スペーサ一層、反射層、保護層、接着層、保護用基板は
、必要に応じ設けても設けなくてもよい。又、他の補助
層を設けてもよい。
、必要に応じ設けても設けなくてもよい。又、他の補助
層を設けてもよい。
第１図には貼り合わせ構造の光学的記録媒体を示したが
、不活性ガスを封じ込めたエアーサンドイッチ構造であ
ってもよい。
、不活性ガスを封じ込めたエアーサンドイッチ構造であ
ってもよい。
本発明を更に具体的に説明するために、以下に実施例を
示す。
示す。
実施例１
第１図に示す構造の光磁気記録媒体を以下のように製造
した。
した。
アクリル材の１．２ｓ＋ｍ厚のプラスチック基板ｌａ上
に下引：！！層２として１００ＯＡのＳ １０１１を形
成し。
に下引：！！層２として１００ＯＡのＳ １０１１を形
成し。
保Ｘｉ ｌ１５Ｉ ８として５００ Ａ厚のＺｒＮｆｌ
を形成し、さらに金属膜９として４０Ａ厚のＺｒ膜を形
成し、その上に高周波スパッタによりＧｄＴｂＦｅ１ｌ
ｌ：ｏを膜厚１８０Ａに成膜し、磁性膜より成る記録層
３を形成した。更にスペーサ一層４として、約７０ＯＡ
のＳ ｉ ＯＩｌｌ、反射層５として、約５０ＯＡのＭ
膜を蒸着し、保護層６として２０００ ＡのＳｉＣ膜を
設け、接着層７としてシリコン系接着剤（東しシリコー
ン■％ ： ５Ｅ１７００）を１０μ厚にスクリーン印
刷し、保護用プラスチック基板１ｂと貼り合わせて光磁
気記録媒体とした。
を形成し、さらに金属膜９として４０Ａ厚のＺｒ膜を形
成し、その上に高周波スパッタによりＧｄＴｂＦｅ１ｌ
ｌ：ｏを膜厚１８０Ａに成膜し、磁性膜より成る記録層
３を形成した。更にスペーサ一層４として、約７０ＯＡ
のＳ ｉ ＯＩｌｌ、反射層５として、約５０ＯＡのＭ
膜を蒸着し、保護層６として２０００ ＡのＳｉＣ膜を
設け、接着層７としてシリコン系接着剤（東しシリコー
ン■％ ： ５Ｅ１７００）を１０μ厚にスクリーン印
刷し、保護用プラスチック基板１ｂと貼り合わせて光磁
気記録媒体とした。
害られた記録媒体のカー回転角θに、保磁力Ｈｃの測定
とともに、温度４５℃、相対湿度８５％の恒温恒湿槽に
て５００時間の耐湿テストを行なった。
とともに、温度４５℃、相対湿度８５％の恒温恒湿槽に
て５００時間の耐湿テストを行なった。
比較のため保護膜８．金属膜９を設けない他は、同様の
構成を有する記録媒体を同様にして製造し、同時に試験
を行なった。
構成を有する記録媒体を同様にして製造し、同時に試験
を行なった。
結果は第１表に示すとおりで１本発明の光磁気記録媒体
は、Ｆａ気時特性劣化も認あられず、耐久性が向上した
。尚、第１表の数値は初期値を １．０とした場合の比
率で示した。
は、Ｆａ気時特性劣化も認あられず、耐久性が向上した
。尚、第１表の数値は初期値を １．０とした場合の比
率で示した。
実施例２
実施例１の保護膜８のＺｒＮ膜にかえてＳｉＣ膜を用い
、さらに金属膜９のＺｒ膜にかえてＳｉ膜を用いた他は
実施例１と同様にして記録媒体を得た。この記録媒体も
実施例１と同様にして耐久テストを行い１、同様に良好
な結果を得た。
、さらに金属膜９のＺｒ膜にかえてＳｉ膜を用いた他は
実施例１と同様にして記録媒体を得た。この記録媒体も
実施例１と同様にして耐久テストを行い１、同様に良好
な結果を得た。
実施例３
実施例２の保２Ｉ Ｉｔ！１８のＳｊＣ膜にかえて、Ｓ
１Ｃ−Ｓｉ３Ｎ４の混合膜を用いた他は実施例２と同
様にして記録媒体を得た。混合膜はＡｒ ： Ｎ２ ：
ＣＨ４のガス導入量の比が９０：５：５の混合ガス雰
囲気中での反応性スパッタリングによって得た。この記
録媒体も実施例１と同様にして耐久テストを行い同様に
良好な結果を得た。
１Ｃ−Ｓｉ３Ｎ４の混合膜を用いた他は実施例２と同
様にして記録媒体を得た。混合膜はＡｒ ： Ｎ２ ：
ＣＨ４のガス導入量の比が９０：５：５の混合ガス雰
囲気中での反応性スパッタリングによって得た。この記
録媒体も実施例１と同様にして耐久テストを行い同様に
良好な結果を得た。
第１表
〔発明の効果〕
本発明の光学的記録媒体においては、記録層が数百八属
の磁性層であっても、ＳｉＯ又は５ｉ０２の下引き層、
酸素を含まない窒化物、又は炭化物、又は窒化物と炭化
物の混合物からなる保護層、耐食性、密着性の良好な金
属膜を順次設け、該金属股上に８１気記録層を形成する
ことにより、基板、特にプラスチック基板との密着性に
優れ、かつ耐腐食性に優れた光学的記録媒体の提供が可
能である。
の磁性層であっても、ＳｉＯ又は５ｉ０２の下引き層、
酸素を含まない窒化物、又は炭化物、又は窒化物と炭化
物の混合物からなる保護層、耐食性、密着性の良好な金
属膜を順次設け、該金属股上に８１気記録層を形成する
ことにより、基板、特にプラスチック基板との密着性に
優れ、かつ耐腐食性に優れた光学的記録媒体の提供が可
能である。
尚、本発明は光磁気記録媒体に限定されるものでなく、
たとえばカルコゲン化合物の薄膜等、酸化され易い記録
層を有する他の光学的記録媒体の耐久性向上に関しても
同様に効果的である。
たとえばカルコゲン化合物の薄膜等、酸化され易い記録
層を有する他の光学的記録媒体の耐久性向上に関しても
同様に効果的である。
第１図は本発明の光学的記録媒体の略断面図であり、第
２図は従来の光学的記録媒体の略断面図である。 ｌａ・・・・・・書き込み側基板 ｔｂ・・・・・・保護用基板 ２・・・・・・下引き層 ３・・・・・・光学的記録層 ４・・・・・・スペーサ一層 ５・・・・・・反射層 ６・・・・・・保護層 ７・・・・・・接着層 ８・・・・・・保護膜 ９・・・・・・金属膜 第１図 第２図
２図は従来の光学的記録媒体の略断面図である。 ｌａ・・・・・・書き込み側基板 ｔｂ・・・・・・保護用基板 ２・・・・・・下引き層 ３・・・・・・光学的記録層 ４・・・・・・スペーサ一層 ５・・・・・・反射層 ６・・・・・・保護層 ７・・・・・・接着層 ８・・・・・・保護膜 ９・・・・・・金属膜 第１図 第２図
Claims (1)
- 基板に相接して酸化ケイ素からなる下引き層が設けてあ
り、少なくとも該下引き層と光学的記録層の間に窒化物
又は炭化物又は窒化物と炭化物の混合膜からなる保護膜
および金属膜を設けたことを特徴とする光学的記録媒体
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15585A JPS61160853A (ja) | 1985-01-07 | 1985-01-07 | 光学的記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15585A JPS61160853A (ja) | 1985-01-07 | 1985-01-07 | 光学的記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61160853A true JPS61160853A (ja) | 1986-07-21 |
Family
ID=11466150
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15585A Pending JPS61160853A (ja) | 1985-01-07 | 1985-01-07 | 光学的記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61160853A (ja) |
-
1985
- 1985-01-07 JP JP15585A patent/JPS61160853A/ja active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4658388A (en) | Optical recording medium which includes a corrosion resistant film of a mixture of a carbide and a nitride | |
| US4579777A (en) | Opto-magnetic recording medium | |
| US4920007A (en) | Magneto-optical recording medium with 9:1-1:9 aluminum or silicon oxide and aluminum or silicon nitride mixture | |
| US4695510A (en) | Opto-magnetic recording medium | |
| US4711821A (en) | Opto-magnetic recording medium | |
| JPH04219650A (ja) | 光学的記録媒体 | |
| JPS60219655A (ja) | 光学的記録媒体 | |
| JPH0352143B2 (ja) | ||
| JPS61160853A (ja) | 光学的記録媒体 | |
| US4939023A (en) | Opto-magnetic recording medium | |
| JPS60191449A (ja) | 光学的記録媒体 | |
| JPS6132242A (ja) | 光熱磁気記録媒体 | |
| JPS61278061A (ja) | 光磁気記録媒体 | |
| JPS60197965A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JP2590925B2 (ja) | 光磁気記録媒体 | |
| JPS6192458A (ja) | 光学的記録媒体 | |
| JPS62121943A (ja) | 光学的記録媒体 | |
| JPS60205845A (ja) | 光学的記録媒体 | |
| JPS62295232A (ja) | 光学的記録媒体 | |
| JPS6192457A (ja) | 光学的記録媒体 | |
| JPS6192456A (ja) | 光学的記録媒体 | |
| JPS6381640A (ja) | 光学的記録媒体 | |
| JP2912725B2 (ja) | 光磁気記録体 | |
| JPS6252743A (ja) | 光学的記録媒体 | |
| JPS6391841A (ja) | 光学的記録媒体 |