JPS5972653A - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
- Publication number
- JPS5972653A JPS5972653A JP57184299A JP18429982A JPS5972653A JP S5972653 A JPS5972653 A JP S5972653A JP 57184299 A JP57184299 A JP 57184299A JP 18429982 A JP18429982 A JP 18429982A JP S5972653 A JPS5972653 A JP S5972653A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- magnetic recording
- film
- magnetic
- recording medium
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/72—Protective coatings, e.g. anti-static or antifriction
- G11B5/722—Protective coatings, e.g. anti-static or antifriction containing an anticorrosive material
Landscapes
- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は磁性薄膜を磁気記録層とする磁気記録媒体に関
し、特に防蝕性、電磁変換特性、走行性、耐摩耗性にす
ぐれた金属薄膜型磁気記録媒体に関する。
し、特に防蝕性、電磁変換特性、走行性、耐摩耗性にす
ぐれた金属薄膜型磁気記録媒体に関する。
磁気記録媒体としては、非磁性支持体上に磁性粉末を結
合剤中に分散せしめ、塗布乾燥させる塗布型のものが広
く使用されてきている。しかし、近年高密度記録への要
求が高まるにつれ、真空蒸着、スノＱツタリング、イオ
ンブレーティング等のベーノξ−デポジション法あるい
は電気メッキ、無電解メッキ等のメッキ法によシ形成さ
れる強磁性金属薄膜を磁気記録層とする金属薄膜型磁気
記録媒体が注目を浴びておシ実用化に至っている。
合剤中に分散せしめ、塗布乾燥させる塗布型のものが広
く使用されてきている。しかし、近年高密度記録への要
求が高まるにつれ、真空蒸着、スノＱツタリング、イオ
ンブレーティング等のベーノξ−デポジション法あるい
は電気メッキ、無電解メッキ等のメッキ法によシ形成さ
れる強磁性金属薄膜を磁気記録層とする金属薄膜型磁気
記録媒体が注目を浴びておシ実用化に至っている。
金属薄膜型磁気−記録媒体は、飽和磁化の大きな強磁性
金属をバインダーの如き非出性物質を介在させない状態
で、極めて薄い層として形成できるので、電磁変換特性
上非常に有利で、高密度記録にも適している。
金属をバインダーの如き非出性物質を介在させない状態
で、極めて薄い層として形成できるので、電磁変換特性
上非常に有利で、高密度記録にも適している。
しかしながら、金属薄膜型磁気記録媒体についての大き
な問題点は、製造後経時しておくと金属表面が腐蝕し電
磁変換特性が低下してしまうことである。この欠点を防
止する方法として、熱可塑性ポリマー、熱硬化性ポリマ
ーを金屑表面に塗設し、保護層を付与することによって
解決することが提案されている。この方法では、ヘッド
と磁性層間のスペーシング損失のために保護層の厚みを
大きくできないという制約があるため、充分な防蝕性を
付与することはできなかった。（第２図参照）また、磁
性層表面を窒化させる方法（％開昭３Ｏ−３３１ｒＯｔ
号）あるいは酸化させる方法（特公昭４Ｌ２−２００２
１号）などによって防蝕性向上することが知られている
が、これらの方法ではｉｏ分〜λ時間もの長時間処理が
必要であったシ、処理時間を短かくすると充分な防蝕効
果が得られなかった。
な問題点は、製造後経時しておくと金属表面が腐蝕し電
磁変換特性が低下してしまうことである。この欠点を防
止する方法として、熱可塑性ポリマー、熱硬化性ポリマ
ーを金屑表面に塗設し、保護層を付与することによって
解決することが提案されている。この方法では、ヘッド
と磁性層間のスペーシング損失のために保護層の厚みを
大きくできないという制約があるため、充分な防蝕性を
付与することはできなかった。（第２図参照）また、磁
性層表面を窒化させる方法（％開昭３Ｏ−３３１ｒＯｔ
号）あるいは酸化させる方法（特公昭４Ｌ２−２００２
１号）などによって防蝕性向上することが知られている
が、これらの方法ではｉｏ分〜λ時間もの長時間処理が
必要であったシ、処理時間を短かくすると充分な防蝕効
果が得られなかった。
本発明者らは上記欠点を克服するため鋭意研究を重ねた
結果本発明に到達した。
結果本発明に到達した。
本発明の目的は、ヘッドと磁性層間のスペーシング損失
を極力小さくするため超薄層でしかも防蝕性の良好な保
護層を有する金属薄膜磁気記録媒体を得ることにある。
を極力小さくするため超薄層でしかも防蝕性の良好な保
護層を有する金属薄膜磁気記録媒体を得ることにある。
本発明の上記の目的は、強磁性金属薄膜を有する高分子
支持体の金属薄膜上に、厚さ２Ｏ−２７ＯＡのプラズマ
重合層を設けたことを特徴とするＭｉ磁気記録媒体よっ
て達成される。
支持体の金属薄膜上に、厚さ２Ｏ−２７ＯＡのプラズマ
重合層を設けたことを特徴とするＭｉ磁気記録媒体よっ
て達成される。
本発明によるプラズマ重合層は通常のポリマー１−と比
較すると、緻密な架橋構造を有している。
較すると、緻密な架橋構造を有している。
即ち、非常に緻密で、しかも金属薄膜上に均一な厚みの
層として形成されていると考えられる。このために、腐
蝕の原因となる酸素、水分等を金属薄膜から遮断しかつ
酸素、水分等を透過しないことによって防蝕性に優れ、
しかも極めて薄い層として形成できるのでヘッド・磁性
１−間のスペーシング損失が小さくなることによって電
磁変換特性の良好な磁気記録媒体を得ることができる。
層として形成されていると考えられる。このために、腐
蝕の原因となる酸素、水分等を金属薄膜から遮断しかつ
酸素、水分等を透過しないことによって防蝕性に優れ、
しかも極めて薄い層として形成できるのでヘッド・磁性
１−間のスペーシング損失が小さくなることによって電
磁変換特性の良好な磁気記録媒体を得ることができる。
さらに本発明の有利なことは溶剤を全く使わないので、
作業が簡単で乾燥ゾーン等の付帯設備も不要となること
である。しかも、金属薄膜の形成を真空条件下での蒸着
等によるベー・Ｒ−デポジション法ト組合せると、真空
を破ることなく共通のラインで金属薄膜の形成と保護層
とを逐次に形成できるので設備的にも経済的にも有利で
ある。
作業が簡単で乾燥ゾーン等の付帯設備も不要となること
である。しかも、金属薄膜の形成を真空条件下での蒸着
等によるベー・Ｒ−デポジション法ト組合せると、真空
を破ることなく共通のラインで金属薄膜の形成と保護層
とを逐次に形成できるので設備的にも経済的にも有利で
ある。
本発明によるプラズマ重合層の形成に用いる化合物（以
下低分子化合物と称する）としては、λｏ ’ｃ、ｉｏ
’ｔｏｒｒで蒸気圧を有するものなら使用可能であ
るが、沸点が２０００Ｃ以下のものが好ましい。特に好
ましい例としては、下記のものを挙げることができるが
、本発明はこれらの化合物に限定されるものではない。
下低分子化合物と称する）としては、λｏ ’ｃ、ｉｏ
’ｔｏｒｒで蒸気圧を有するものなら使用可能であ
るが、沸点が２０００Ｃ以下のものが好ましい。特に好
ましい例としては、下記のものを挙げることができるが
、本発明はこれらの化合物に限定されるものではない。
即ち、メタン、エタン、フロパン、メタン、ペンタン、
ヘキサン、オクタン等の脂肪族飽和炭化水素、エチレン
、プロピレン、シラン、ヘキサン等の脂肪族飽和炭化水
素、ベンゼン、トルエン、キンレン、スチレン、エチル
ベンゼン等の芳香族炭化水素、フロロメタン、ジフロロ
メタン、トリフロロメタン、テトラフロロメタン、ジフ
ロロエタン、テトラフロロエチレン、ヘキサフロロプロ
ピレン、テトラフロロシラン、ンクロロエチレン、テト
ラクロロエタン等の飽和又は、不飽和のノ・ロゲン化合
物、アルコール傾、ケトン類、エーテル類、脂肪酸類な
どを単独又は混合して用いることができる。
ヘキサン、オクタン等の脂肪族飽和炭化水素、エチレン
、プロピレン、シラン、ヘキサン等の脂肪族飽和炭化水
素、ベンゼン、トルエン、キンレン、スチレン、エチル
ベンゼン等の芳香族炭化水素、フロロメタン、ジフロロ
メタン、トリフロロメタン、テトラフロロメタン、ジフ
ロロエタン、テトラフロロエチレン、ヘキサフロロプロ
ピレン、テトラフロロシラン、ンクロロエチレン、テト
ラクロロエタン等の飽和又は、不飽和のノ・ロゲン化合
物、アルコール傾、ケトン類、エーテル類、脂肪酸類な
どを単独又は混合して用いることができる。
プラズマ重合処理の装置と１．では無電極放電型、電極
放電型のいずれを用いてもよく、また電極が重合槽の中
にある内部電極型、重合槽の外に電極を有する昇り電極
型を用いてもよい。さらに、後グロー中に低分子ガスを
導入する方法も可能である。％に好ましくは、安定なプ
ラズマ状態が得られ易い、内部電極型（第１図参照）及
び後グロー中に、低分子化合物を導入する方法である。
放電型のいずれを用いてもよく、また電極が重合槽の中
にある内部電極型、重合槽の外に電極を有する昇り電極
型を用いてもよい。さらに、後グロー中に低分子ガスを
導入する方法も可能である。％に好ましくは、安定なプ
ラズマ状態が得られ易い、内部電極型（第１図参照）及
び後グロー中に、低分子化合物を導入する方法である。
重合槽中の低分子化合物の圧力は、ｌ〜ｌ０−４ｔｏｒ
ｒが好ましく、更に好ましくは、ｌθ 〜ｊＸ ／
０−３ｔｏｒｒである。これより圧力が高いときはプラ
ズマ重合層が粉状で形成されたり、プラズマ槽内部の汚
れが大きく、低いときは重合層の形成に時間を要したり
するので好ましくない。
ｒが好ましく、更に好ましくは、ｌθ 〜ｊＸ ／
０−３ｔｏｒｒである。これより圧力が高いときはプラ
ズマ重合層が粉状で形成されたり、プラズマ槽内部の汚
れが大きく、低いときは重合層の形成に時間を要したり
するので好ましくない。
ｄｌ’に応じて窒素ガス、アルゴンガス等の不活性気体
を重合槽内に導入することができる。
を重合槽内に導入することができる。
プラズマの発振周波数は特に限定されるものではないが
、／３゜ｊｌ、ＭＨｚが便利である。
、／３゜ｊｌ、ＭＨｚが便利である。
プラズマ重合層の好ましい厚みは、２０〜２７０λであ
り、更に好ましくはｊＯ〜２００λである。
り、更に好ましくはｊＯ〜２００λである。
この範囲を越えて厚くなろとヘッド磁性層のスペーシン
グ損失が太きくなるし、湧くなると防蝕性が低下したり
、プラズマ重合条件の許容範囲が狭くなって好ましくな
い、 プラズマ重合層の上に更に潤滑剤Ｌ−を設けることも可
能である。潤滑剤としては、脂肪酸、金属石けん、脂肪
酸アミド、脂肪酸エステル、鉱油、鯨油等の動植物油、
高級アルコール、シリコンオイル、フロロカーボ′／類
などを単独又は混合して用いることができる。
グ損失が太きくなるし、湧くなると防蝕性が低下したり
、プラズマ重合条件の許容範囲が狭くなって好ましくな
い、 プラズマ重合層の上に更に潤滑剤Ｌ−を設けることも可
能である。潤滑剤としては、脂肪酸、金属石けん、脂肪
酸アミド、脂肪酸エステル、鉱油、鯨油等の動植物油、
高級アルコール、シリコンオイル、フロロカーボ′／類
などを単独又は混合して用いることができる。
本発明に使用される高分子支持体としては、酢酸セルロ
ーズ；硝酸セルローズ；エチルセルローズ；メチルセル
ローズ；ポリアミド；ポリメチルメタクリレート；ポリ
テトラフルオルエチレン；ポリトリフルオルエチレン；
エチレン、フロピレンのようなα−オレフィンの重合体
あるいは共重合体；塩化ビニルの重合体あるいは共重合
体；ポリ塩化ビニリデン；ポリカーボネート；ポリイミ
ド；ポリエチレンテレフタレートのようなポリエステル
類等である。
ーズ；硝酸セルローズ；エチルセルローズ；メチルセル
ローズ；ポリアミド；ポリメチルメタクリレート；ポリ
テトラフルオルエチレン；ポリトリフルオルエチレン；
エチレン、フロピレンのようなα−オレフィンの重合体
あるいは共重合体；塩化ビニルの重合体あるいは共重合
体；ポリ塩化ビニリデン；ポリカーボネート；ポリイミ
ド；ポリエチレンテレフタレートのようなポリエステル
類等である。
本発明における強磁性釜属薄膜は、ペーパーテボンンヨ
ンあるいはメッキ法により形成される。
ンあるいはメッキ法により形成される。
ペーパーデポジション法とは、不活性ガスあるいは酸素
等の気体あるいは真空空間中において、膜として形成せ
しめようという物質又はその化合物を蒸気あるいはイオ
ン化した蒸気として発生もしくは導入させて所望の支持
体上に膜として析出させる方法で、真空蒸着法、スノξ
ツタリング法、イオンプレーテング法、イオンビームデ
ポジション法、化学気相メッキ法等がこれに相当する。
等の気体あるいは真空空間中において、膜として形成せ
しめようという物質又はその化合物を蒸気あるいはイオ
ン化した蒸気として発生もしくは導入させて所望の支持
体上に膜として析出させる方法で、真空蒸着法、スノξ
ツタリング法、イオンプレーテング法、イオンビームデ
ポジション法、化学気相メッキ法等がこれに相当する。
またメッキ法とは電気メッキあるいは無電解メッキ法等
の液相より支持体上にｄ質を膜として形成させる方法を
ぎう。強４Ｂ性金属薄膜の材料としては、Ｆｅ％Ｃｏ、
Ｎｉその他の強磁性金属あるいはこれらの合金、さらに
Ｆｅ−８ｉ％Ｆｅ Ｒｈ。
の液相より支持体上にｄ質を膜として形成させる方法を
ぎう。強４Ｂ性金属薄膜の材料としては、Ｆｅ％Ｃｏ、
Ｎｉその他の強磁性金属あるいはこれらの合金、さらに
Ｆｅ−８ｉ％Ｆｅ Ｒｈ。
Ｆｅ Ｖｓ Ｆｅ Ｔｉｓ Ｃｏ Ｐｓ Ｃｏ
ＢｓＣｏ−８ｉ、 Ｃｏ −Ｖ、 Ｃｏ −Ｙ、 Ｃ
ｏ−８ｍ５Ｃｏ−Ｍｎ、 Ｃｏ−Ｎ ｉ −Ｐ、 Ｃｏ
−Ｎ ｉ−Ｂ％Ｃｏ−Ｃｒｓ Ｃｏ −Ｎ ｉ−Ｃｒ
％Ｃｏ−Ｎ ｉ−Ａｇ、Ｃｏ −Ｎ １−Ｐｄ、 Ｃｏ
−Ｎ １−Ｚｎｂ Ｃｏ−ＣｕｂＣｏ−Ｎ ｉ−Ｃｕ、
Ｃｃ） −Ｗ、 Ｃｏ−Ｎ ｉ −ＷｓＣｏ−Ｍｎ−
Ｐ、 Ｃｏ−３ｍ Ｃｕ、 Ｃｏ−Ｎ１−Ｚｎ−Ｐｓ
Ｃｏ−Ｖ−Ｃｒ、等が用いられる。特に好ましくは、強
磁性薄膜はＣｏを、ｔ Ｏｗ ｔ％以上含有する、本発
明による磁気記録媒体の強磁性薄膜の膜厚は一般に１１
０．０２ｐｍ−！μｔｎ、好ましくＦｉｏ。
ＢｓＣｏ−８ｉ、 Ｃｏ −Ｖ、 Ｃｏ −Ｙ、 Ｃ
ｏ−８ｍ５Ｃｏ−Ｍｎ、 Ｃｏ−Ｎ ｉ −Ｐ、 Ｃｏ
−Ｎ ｉ−Ｂ％Ｃｏ−Ｃｒｓ Ｃｏ −Ｎ ｉ−Ｃｒ
％Ｃｏ−Ｎ ｉ−Ａｇ、Ｃｏ −Ｎ １−Ｐｄ、 Ｃｏ
−Ｎ １−Ｚｎｂ Ｃｏ−ＣｕｂＣｏ−Ｎ ｉ−Ｃｕ、
Ｃｃ） −Ｗ、 Ｃｏ−Ｎ ｉ −ＷｓＣｏ−Ｍｎ−
Ｐ、 Ｃｏ−３ｍ Ｃｕ、 Ｃｏ−Ｎ１−Ｚｎ−Ｐｓ
Ｃｏ−Ｖ−Ｃｒ、等が用いられる。特に好ましくは、強
磁性薄膜はＣｏを、ｔ Ｏｗ ｔ％以上含有する、本発
明による磁気記録媒体の強磁性薄膜の膜厚は一般に１１
０．０２ｐｍ−！μｔｎ、好ましくＦｉｏ。
θｊμｍ−λμｍである。高分子支持体の厚さは７μｍ
−Ａ；０μｍが好ましい。強磁性薄膜の密着向上、磁気
特性の改良のために高分子支持体上に下地層を設けても
いい。高分子支持体の磁性層と反対側にバックコート層
を設けてもよい。
−Ａ；０μｍが好ましい。強磁性薄膜の密着向上、磁気
特性の改良のために高分子支持体上に下地層を設けても
いい。高分子支持体の磁性層と反対側にバックコート層
を設けてもよい。
磁気記録媒体の形状はテープ、シート、カード、デスク
等いずれでも良すが、特に好ましいのはテープ形状であ
る。
等いずれでも良すが、特に好ましいのはテープ形状であ
る。
次に本発明の実施例について説明するが、本発明は下記
の実施例に制限されるものではない。実施例中「部」は
「重量部」を示す。
の実施例に制限されるものではない。実施例中「部」は
「重量部」を示す。
ｌ＋２μｍ厚のポリエチレンテレフタレートフィルムの
表面に、斜め蒸着によってＣｏ −Ｎ １（Ｎｉ、２０
ｗｔ係）磁性膜（膜厚１ｏｏｏ人）を設けたものを実施
例に使用した。
表面に、斜め蒸着によってＣｏ −Ｎ １（Ｎｉ、２０
ｗｔ係）磁性膜（膜厚１ｏｏｏ人）を設けたものを実施
例に使用した。
実施例１
第１図の装置を用いて、ＣＨ４ガスとＮ２ガスの混合比
が／／１０．重合槽内の圧力／ ０ ”ｔｏｒｒ、。
が／／１０．重合槽内の圧力／ ０ ”ｔｏｒｒ、。
、ｊ０ｗａｔｔ’ｔ’電極間の滞在時間が７０秒間にな
るようにしてプラズマ重合処理を行ないザンプノ１４１
を得た。
るようにしてプラズマ重合処理を行ないザンプノ１４１
を得た。
実施例２
第１図の装置を用いて、ＣＦ＝ＣＦ２ガスとＮ２カスの
混合比が／／１０．重合槽内の圧力ｒＸ／ ｏ ｔ
ｏｒｒ 、！（ｌＪｗａｔｔで電極間の滞在時間が１０
秒１）ｊｌＶｃなるようにしてプラズマ重合処理を行な
艷サンプルＡ２を得た。
混合比が／／１０．重合槽内の圧力ｒＸ／ ｏ ｔ
ｏｒｒ 、！（ｌＪｗａｔｔで電極間の滞在時間が１０
秒１）ｊｌＶｃなるようにしてプラズマ重合処理を行な
艷サンプルＡ２を得た。
実施例
第１図の重合槽内の圧力がｒ×１０ ｔｏｒｒにな
るようにスチレンを蒸発させ、他は実施例１と同じ条件
でサンプル＆３を得た。
るようにスチレンを蒸発させ、他は実施例１と同じ条件
でサンプル＆３を得た。
実施例４
第１図の重合槽内の圧力が７ｘ１０ ｔｏｒｒＫな
るようにＣ２Ｈ６ガスを導入する他は実施例１と同様に
処理してサンプル＆≠ヲ得り。
るようにＣ２Ｈ６ガスを導入する他は実施例１と同様に
処理してサンプル＆≠ヲ得り。
実施例５
電極間内の滞在時間を以下のように変える以外は実施列
１と同一条件で行なった。
１と同一条件で行なった。
６０秒間・・・・・・・・・サンプル盃！、２夕秒間
す 洗ｔ ５秒間 多 高７ ２秒間 ’） ＡＩ １秒間 脅 ／１６ Ｆ 比較例１ ニトロセルロース（ダイセル社ＨＲ８７Ｈ）０゜０ｔ％
ＭＥＫ溶液をＣｏ −Ｎ ｉ磁性層上に塗布乾燥しサン
プル＆ｉｏを得た。
す 洗ｔ ５秒間 多 高７ ２秒間 ’） ＡＩ １秒間 脅 ／１６ Ｆ 比較例１ ニトロセルロース（ダイセル社ＨＲ８７Ｈ）０゜０ｔ％
ＭＥＫ溶液をＣｏ −Ｎ ｉ磁性層上に塗布乾燥しサン
プル＆ｉｏを得た。
比較例２
スチレンブタジェン共重合体の０．ｊ％ＭＥＫ溶液をＣ
ｏ−Ｎｉ磁性１−上に塗布し乾燥してサンプル屋／／を
得た。
ｏ−Ｎｉ磁性１−上に塗布し乾燥してサンプル屋／／を
得た。
上記サンプルを用いて以下の耐候試験を行ない防蝕性の
効果を調べた。
効果を調べた。
結果を第１表に示す。
耐候試験は、ｔｏ ０ｃ、ｔｏ％ＲＨの雰囲気で７日間
さらしたのち、目視で判定した。
さらしたのち、目視で判定した。
厚みの測定はエリプソメ） ＩＪ−で行った。ただし第
１表中朱印は、重合時間からの推定した厚みである。
１表中朱印は、重合時間からの推定した厚みである。
これらの結果を見ると本発明によっていかに防蝕性良好
でかつスペーシング損失の少ない超Ｍ層の保＠層である
か明らかである。
でかつスペーシング損失の少ない超Ｍ層の保＠層である
か明らかである。
第１図は内部電極型プラズマ重合装置である。
ｌ：サンプル送出部 ２：サンプル巻取部３：平行板電
極部 ≠：サンプル よ：雰囲気ガ、ス導入部 ｔ：真空部との接続部７：バ
ルン ｒ：流量計 第２図は、記録波長ｉ、ｓμにおけるヘッドテープ間の
スペーシング＜ｉ）とスペーシングロス＋ｄＢ）との関
係を示すグラフである。
極部 ≠：サンプル よ：雰囲気ガ、ス導入部 ｔ：真空部との接続部７：バ
ルン ｒ：流量計 第２図は、記録波長ｉ、ｓμにおけるヘッドテープ間の
スペーシング＜ｉ）とスペーシングロス＋ｄＢ）との関
係を示すグラフである。
Claims (1)
- 強磁性金属薄膜を有する高分子支持体の金属薄膜上に、
厚さ、ｚｏ−，２ｙｏＸのプラズマ重合層を設けたこと
を特徴とする磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57184299A JPS5972653A (ja) | 1982-10-20 | 1982-10-20 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57184299A JPS5972653A (ja) | 1982-10-20 | 1982-10-20 | 磁気記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5972653A true JPS5972653A (ja) | 1984-04-24 |
Family
ID=16150899
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57184299A Pending JPS5972653A (ja) | 1982-10-20 | 1982-10-20 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5972653A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6150236A (ja) * | 1984-08-18 | 1986-03-12 | Canon Inc | 磁気記録媒体の製造方法 |
| JPS61160824A (ja) * | 1984-11-09 | 1986-07-21 | Tdk Corp | 磁気記録媒体 |
| US4770924A (en) * | 1986-07-02 | 1988-09-13 | Tdk Corporation | Magnetic recording medium |
| US5013616A (en) * | 1987-07-07 | 1991-05-07 | Kubota Ltd. | Magnetic recording medium of thin metal film type |
| US5472778A (en) * | 1991-05-17 | 1995-12-05 | Tdk Corporation | Magnetic recording medium |
| KR100383170B1 (ko) * | 2001-02-16 | 2003-05-12 | 주식회사 엘지이아이 | 플라즈마를 이용한 고분자 막 연속증착장치 |
-
1982
- 1982-10-20 JP JP57184299A patent/JPS5972653A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6150236A (ja) * | 1984-08-18 | 1986-03-12 | Canon Inc | 磁気記録媒体の製造方法 |
| JPH0555942B2 (ja) * | 1984-08-18 | 1993-08-18 | Canon Kk | |
| JPS61160824A (ja) * | 1984-11-09 | 1986-07-21 | Tdk Corp | 磁気記録媒体 |
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| US5472778A (en) * | 1991-05-17 | 1995-12-05 | Tdk Corporation | Magnetic recording medium |
| KR100383170B1 (ko) * | 2001-02-16 | 2003-05-12 | 주식회사 엘지이아이 | 플라즈마를 이용한 고분자 막 연속증착장치 |
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