JPS6122420A - 磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は強磁性金属薄ｌ１ｊｉ層を磁気記録層とする
磁気記録媒体に関し、さらに詳しくは、耐食性および走
行性に優れた前記の磁気記録媒体に関する。

〔従来の技術〕

強磁性金属薄膜層を磁気記録層とする磁気記録媒体は、
適音、金属もしくはそれらの合金などを真空蒸着等によ
って基体フ“イルム上に被着してつくられ、高密度記録
に適した特性を有するが、反面空気中で徐々に酸化を受
けて最大磁束密度などの磁気特性が劣化するなどの難点
がある。

このため、従来から強磁性金属薄膜層上に種々の保護膜
層を設けるなどして耐食性を改善することが行われてお
り、近年、たとえば、フッ素系有機化合物のプラズマ重
合保護膜層を強磁性金属薄膜層上に設けたり（特開昭５
８−８８８２８号、特開昭５８−１０２３３０号）、ま
たは、ケイ素系有機化合物のモノマーガスをプラズマ重
合して、ケイ素系有機化合物のプラズマ重合保護膜層を
設ける（特開昭５７−．８２２２９号、特開昭５８−６
０４２’７号）ことが提案されている。

〔発明が解決しようとする問題点〕

ところが、これらの強磁性金属薄膜層上に設けたプラズ
マ重合保護膜層では強磁性金属薄膜層の表面からの腐食
は良好に抑制することができても、基体裏面側からの腐
食を防止することができず、またこの種の磁気記録媒体
は走行性が充分に良好でないという難点があった。

〔問題点を解決するための手段〕

この発明は、かかる現状に鑑み種々検討を行った結果な
されたもので、基体の裏面もしくは表裏面にプラズマ重
合膜層を形成し、基体表面もしくは基体表面のプラズマ
重合膜層上に強磁性金属薄膜層を形成することによって
、基体裏面側からの腐食を充分に抑制するとともに、記
録再生時の走行性および強磁性金属薄膜層形成時の装置
内における走行性を改善し、さらには強磁性金属薄膜層
の基体に対する接着性をも改善したものである。

この発明において、基体の裏面もしくは表裏面のプラズ
マ重合膜層の形成は、処理槽内で、フッ素系有機化合物
、有機金属化合物、ケイ素系有機化合物、炭化水素系化
合物等のモノマーガスを、高周波あるいはマイクロ波等
によりプラズマ重合させて、基体の裏面もしくは表裏面
に被着形成することによって行われる。このプラズマ重
合膜層を形成するのに使用する七ツマーガスとしては、
たとえば、Ｃ２Ｆ４　、Ｃ３ＦＦ、などのフン素系有機
化合物のモノマーガス、テトラメチルスズ、テトラメチ
ルチタン、テトラメチルゲルマニウムなどの有機金属化
合物のモノマーガス、テトラメチルシラン、オクタメチ
ルシクロテトラシロキザン、ヘキサメチルジシラザンな
どのケイ素系有機化合物のモノマーガス、プロパン、エ
チレン、プロピレン、アセトニド１八ル、プロピオニト
リルなどの炭化水素系有機化合物のモノマーガが好まし
く使用され、これらの有機化合物のモノマーガスは、高
周波あるいはマイクロ波等によりラジカルが生成され、
この生成されたラジカルが反応し重合して被膜となる。

このラジカルはこれらの有機化合物が二重結合または三
重結合を有していたり、また末端に金属元素を有する金
属塩化合物であるか、あるいはＯＨ基等の官能基を有し
ているほど生成しやすいため、これら不飽和結合、金属
元素および官能基等を有するものがより好ましく使用さ
れる。またこれらのモノマーガスをプラズマ重合する際
、アルゴンガス、ヘリウムガスおよび酸素ガス等のキャ
リアガスを併存させると七ツマーガスを単独でプラズマ
重合する場合に比べて３〜５倍の速度で析出されるため
、これらのキャリアガスを併存させて行うのが好ましい
。これらのキャリアガスと併存させる際、その組成割合
はキャリアガス対前記有機化合物のモノマーガスの比に
して１対１〜２０対１の範囲内で併存させるのが好まし
く、キャリアガスが少なすぎると析出速度が低下し、多
すぎるとモノマーガスが少なくなってプラズマ重合反応
に支障をきたす。なお、炭化水素系化合物のモノマーガ
スを使用するときは、酸素ガスをキャリアガスとして使
用すると酸化反応が生じるため、酸素ガスをキャリアガ
スとして使用するのは好ましくない。

プラズマ重合を行う場合のガス圧及び高周波やマイクし
１波の電力は、ガス圧が高くなるほど被着速度が速くな
る反面上ツマ−ガスが比較的架橋密度低くプラズマ重合
されて硬いプラズマ重合膜層が得られず、またガス圧を
低くして高周波電力を高くすると被着速度が遅くなる反
面架橋密度が比較的高くて硬いプラズマ重合膜層が得ら
れる。ところが、ガス圧を低（して高周波電力を高くし
すぎると、モノマーガスが粉末化してしまいプラズマ重
合膜層が形成されない゛ため、ガス圧を０．００１〜５
トールの範囲内とし、平方センチあたりの高周波電力を
０．０３〜５Ｗ／−の範囲内とするのが好ましく、ガス
圧を０．００３〜１トールとし、平方センナあたりの高
周波電力を０．０５〜３Ｗ／ＣＩｌの範囲内とするのが
より好ましい。

このようにしてプラズマ重合によって被着形成される有
機化合物のプラズマ重合膜層は緻密で摩擦係数も小さく
、従ってこの有機化合物のプラズマ重合膜層１が基体の
裏面もしくは表裏面に形成されると、耐食性が向上され
、またこような摩擦係数の小さい有機化合物のプラズマ
重合膜層が基体裏面に形成されたことによって、記録再
生時の走行性および強磁性金属薄膜層形成時の装置内に
おりる走行性も向上される。また、この有機化合物のプ
ラズマ重合膜層は基体および強磁性金属薄膜層との接着
性がよく、従って、この有機化合物のプラズマ重合膜層
が基体の表面に形成され、さらにこの−にに強磁性金属
薄膜層が形′成されると、強磁性金属薄膜層の基体に対
する接着性も向上する。特に、フッ素系有機化合物のモ
ノマーガスを用いた場合は、フン素原子の優れた疎水性
により、耐食性に優れたプラズマ重合膜層が形成され、
また有機金属化合物のモノマーガスを用いた場合は、金
属の触媒作用により極めて架橋密度が高くて緻密なプラ
ズマ重合膜が得られ、耐食性に優れたプラズマ重合膜層
が形成される。さらに、ケイ素系有機化合物のモノマー
ガスを使用した場合は、潤滑性の良好なプラズマ重合膜
層が形成され、記録再生時の走行性および強磁性金属薄
膜層形成時の装置内における走行性が向上される。この
ような有機化合物のプラズマ重合膜層の膜厚は、２０〜
１０００人の範囲内であることが好ましく、膜厚が薄す
ぎると耐食性および走行性の効果が充分に発揮されず、
厚すぎるとカールなどの変形が生じやすくなる。

このようにして基体の裏面もしくは表裏面にプラズマ重
合膜層を形成した後、基体裏面のプラズマ重合膜層下に
、さらに潤滑剤もしくは樹脂を含むバ・ツクコートＮが
形成されると、基体裏面側からの耐食性が一段と向上さ
れるとともに、記録再生時の走行性および強磁性金属薄
膜層形成時の装置内における走行性も一段と向上される
。

この潤滑剤もしくは樹脂を含むバックコート層は、潤滑
剤を含むバックコート層の場合、潤滑剤を適当な溶剤に
熔解し、溶解によって得られた溶液を、基体裏面のプラ
ズマ重合１ｉｆｆｉ上に塗布または噴霧するなどの方法
で形成され、樹脂を含むバソクコー）Ｉｆの場合は、樹
脂を適当な溶剤にｆ４解したものに、適宜に潤滑剤、充
填剤、分散剤、帯電防止剤等を加え、混合分散して調製
した塗料を基体裏面のプラズマ重合膜層上に塗布するな
どの方法で形成される。このようなハックコート層を形
成する際、使用され゛る潤滑剤としては、脂肪族化合物
、炭化水素系ａｅｌｔ剤、シリコーン系潤滑剤、フッ素
系潤沿剤等がいずれも好適なものとして使用され、樹脂
としては、塩化ビニル−酢酸ビニル系共重合体、ポリビ
ニルブチラール樹脂、繊維素系樹脂、ポリエステル樹脂
、ボリウレクン系樹脂、イソシアネート化合物環一般に
バックコート層に使用される樹脂がいずれも使用される
。また、充旭剤としては、カーボンブランク、炭酸カル
シウム、ベンガラ、硫酸バリウム等一般にバラフコ−１
膜層に使用される充填剤がいずれも好適に使用される。

潤滑剤および樹脂を熔解する溶剤としては、トルエン、
メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトン、シクロ
ヘキ号ノン、酢酸エチル、テトラヒドロフラン、ジメチ
ルホルムアミド、ジオキサン等従来から使用きれている
ものが広く使用される。

強磁性金属薄膜層の形成材料としては、Ｃｏ、Ｆｅ、、
Ｎｉ、、Ｃｏ−Ｎｉ合金、Ｃｏ−Ｃｒ合金、Ｃｏ−Ｐ合
金、Ｇｏ−Ｎｉ−Ｐ合金などの強磁性材が使用され、こ
れらの強磁性材からなる強磁性金属薄膜層は、真空蒸着
、イオンブレーティング、スパッタリング、メッキ等の
手段によって基体上に被着形成される。

また、基体としては、ポリイミドフィルム、ポリエステ
ルフィルム、ポリアミドフィルム、ポリプロピレンフィ
ルム、ポリカーボネートフィルム、ポリエチレンフィル
ムなど、一般に使用されているプラスチックフィルムが
いずれも好適に使用される。

また、磁気記録媒体としては、ポリエステルフィルム、
ポリイミドフィルムなどの合成樹脂フィルムを基体とす
る磁気テープ、合成樹脂フィルム、アルミニウム板およ
びガラス板等からなる円盤やドラムを基体とする磁気デ
ィスクや磁気ドラムなど、磁気ヘッドと摺接する構造の
種々の形態を包含する。

〔実施例〕

次に、この発明の実施例について説明する。

実施例１ 第１図に示すプラズマ処理装置を使用し、厚さ１０μの
ポリエステルフィルム１を処理槽２内で原反ロール３か
らガイドロール４を介して円筒状キャン５の周側面に沿
って移動させ、ガイドロール６を介して巻き取りロール
７に巻き取るようにセントした。次いで、処理槽２に取
りつげたガス導入管８からＣ２Ｆ４のモノマーガスを５
０ｓｅｃｍの流量で導入し、ガス圧を０．０３１−−ル
どもて一４電極９の１３．５６Ｍｌ１ｚの高周波電力密
度を０．５Ｗ／ｃｍにしてポリエステルフィルム１を送
り速度５’ｍ／ｍｉｎで走行させながら、プラズマ重合
を行い、ポリエステルフィルム１の表面にプラズマ重合
膜層を形成した。これを、−・旦プラズマ処理装置から
取り出した後、再び同じ処理装置にポリエステルフィル
ム１の裏面側が電極９と対向して円筒状キャン５の周側
面に沿二、で移動するようにセットし、前記と同様にし
てプラズマ重合を行い、ポリエステルフィルム１の裏面
に表面と同しプラズマ重合膜層を形成した。このときポ
リエステルフィルム１の表裏面に形成されたプラズマ重
合膜層の厚みはいずれも１００人であった。なお、図中
１０は処理槽２内を減丁するための排気系であり、１１
は電極９に高周波を印加するための高周波電源である。

次いで、この表裏面にプラズマ重合膜層を形成したポリ
エステルフィルム１を真空蒸着装置に装填し、５Ｘ１０
−５）−ルの真空下で、コバルト−ニッケル合金（重量
比８：２）を加熱蒸発させて、厚さ１０００人のコバル
ト−ニッケル合金からなる強磁性金属薄膜層を形成した
。しかる後、所定の巾に裁断して第２図に示すようなポ
リエステルフィルム１の表面にプラズマ重合膜層１２お
よび強磁性金属薄膜層１３を順次に積層形成し、かつポ
リエステルフィルム１の裏面にプラズマ重合膜層１４を
形成した磁気テープＡをつくった。

実施例２ 実施例１と同様にして、ポリエステルフィルム１の表裏
面にプラズマ重合膜層を形成し、基体表面のプラズマ重
合膜層上に強磁性金属薄膜層を形成した後、さらに、基
体裏面のプラズマ重合膜層上に、下記のバックコート層
塗料を、乾燥厚が１μとなるように塗布、乾燥してバソ
クコー）ＩＷを形成した。しかる後、所定の巾に裁断し
て第３図に示すようなポリエステルフィルム１の表面に
プラズマ重合膜層１２および強磁性金属薄膜層１３を順
次に積層形成し、かつポリエステルフィルム１の裏面に
プラズマ重合膜層１４およびバ・ノクコ−Ｈ？４１５を
積層形成した磁気テープＢをつくった。

バックコート層塗料 Ｖ　ＹＩ（Ｈ（Ｕ、Ｃ，Ｃ社製、塩化ビ　　６０重量部
ニル−酢酸ビニル共重合体） カーボンブラック　　　　　　　　４０１１ＣａＣＯ３
３０／／ パルミチン酸　　　　　　　　　　２　〃メチルイソブ
チルケトン　　　　１５０〃トルエン　　　　　　　　
　　　１５０〃実施例３ 実施例１におけるプラズマ重合膜層の形成において、Ｃ
２Ｆ４のモノマーガスに代えて、テトラメチルスズのモ
ノマーガスを同量使用した以外は実施例１と同様にして
プラズマ重合膜層を形成し１、磁気テープＡをつくった
。

実施例４ 実施例１におけるプラズマ重合膜層の形成において、０
２Ｆ４のモノマーガスに代えて、ヘキサメチルジシラザ
ンの七ツマーガスを同量使用した以外は実施例１と同様
にしてプラズマ重合膜層を形成し、磁気テープＡをつく
った。

実施例５ 実施例１におけるプラズマ重合膜層の形成において、Ｃ
２Ｆ４のモノマーガスに代えて、アセトニトリルの七ツ
マーガスを同量使用した以外は実施例１と同様にしてプ
ラズマ重合膜層を形成し、磁気テープＡをつくった。

実施例６ 実施例１におけるプラズマ重合膜層の形成において、ポ
リエステルフィルム１の表面側のプラズマ重合膜層の形
成を省いた以外は、実施例１と同様にしてポリエステル
フィルム１の裏面側にプラズマ重合膜層を形成して、第
４図に示すようなポリエステルフィルム１の表面に強磁
性金属薄膜層１３を形成し、裏面にプラズマ重合膜層１
４を形成した磁気テープＣをつくった。

実施例７ 実施例２におけるプラズマ重合膜層の形成において、ポ
リエステルフィルム１の表面側のプラズマ重合膜層の形
成を省いた以外は、実施例２と同様にしてポリエステル
フィルム１の裏面側にプラズマ重合ＲＡＭを形成して、
第５図に示すようなポリエステルフィルム１の表面に強
磁性金属薄膜層１３を形成し、裏面にプラズマ重合膜層
１４およびバックコート層１５を積層形成した磁気テー
プＤをつくった。

実施例８ 実施例１において、厚さ１０μのポリエステルフィルム
に代えて、厚さ５０μのポリイミドフィルムを使用し、
これを真空蒸着装置に装填し、ポリイミドフィルムを３
００℃に加熱しなから３×１０−６１−ルの真空下でコ
ハル１−−クロム合金を加熱蒸発させて、ポリイミドフ
ィルム上に厚さ３５００人のコバルト−クロム合金（モ
ル比８０：２０）からなる強磁性金属薄膜層を形成した
以外は、実施例１と同様にしてプラズマ重合膜層を形成
し、磁気テープＡをつくった。

比較例１ 実施例１において、ポリエステルフィルム１の表裏面の
プラズマ重合膜層の形成を省いた以外は実施例１と同様
にして強磁性金属薄膜層を形成し、磁気テープをつくっ
た。

各実施例および比較例で得られた磁気テープについて、
耐食性および走行性を試験した。また実施例１，３，４
，５．８および比較例１で得られた磁気テープについて
接着性を調べた。耐食性試験は、得られた磁気テープを
６０℃、９０％ＲＨの条件下に７日間放置して、最大磁
束密度を測定し、放置前の磁気テープの最大磁束密度を
１００％とし、これと比較した値でその劣化率を調べて
行った。また走行性試験は、得られた磁気テープをＶ　
ＨＳ方式ビデオテープレコーダに装填し、走行させて巻
き取り側のテープ張力を測定して行った。さらに接着性
は、得られた磁気テープの強磁性金属薄膜層側をエポキ
シ接着剤でＳＵＳに接着し、ポリエステルフィルムを９
０度の角度で引っ張って、強磁性金属薄膜層がポリエス
テルフィルムから剥離するのに要した引張力を測定した
。

下表はその結果である。

表 〔発明の効果〕 上表から明らかなように、この発明で得られた磁気テー
プ（実施例１〜８）は、いずれも比較例１で得られた磁
気テープに比し、劣化率が小さくて、張力が小さく、ま
た、接着力が大きく、このことからこの発明で得られた
磁気テープは、耐食性および走行性に優れ、接着性も改
善されていることがわかる。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの発明のプラズマ重合膜層を形成する際に使
用するプラズマ処理装置の１例を示す概略断面図、第２
図ないし第５図はこの発明の各実施例によって得られた
磁気テープの部分拡大断面図である。 １・・・ポリエステルフィルム（基体）、１２．１４・
・・プラズマ重合膜層、１３・・・強磁性金属薄膜層、
１５・・・バックコート層、Ａ、Ｂ、Ｃ，Ｄ・・・磁気
テープ（′磁気記録媒体）

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、基体の裏面もしくは表裏面にプラズマ重合膜層を形
   成し、基体表面もしくは基体表面のプラズマ重合膜層上
   に強磁性金属薄膜層を形成したことを特徴とする磁気記
   録媒体 ２、基体裏面のプラズマ重合膜層上に、さらに潤滑剤も
   しくは樹脂を含むバックコート層を設けてなる特許請求
   の範囲第１項記載の磁気記録媒体