JP2594625B2 - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
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- JP2594625B2 JP2594625B2 JP25637588A JP25637588A JP2594625B2 JP 2594625 B2 JP2594625 B2 JP 2594625B2 JP 25637588 A JP25637588 A JP 25637588A JP 25637588 A JP25637588 A JP 25637588A JP 2594625 B2 JP2594625 B2 JP 2594625B2
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- magnetic recording
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- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は耐久性に優れた磁気記録媒体の製造方法に関
する。
する。
従来、磁気記録媒体は合成樹脂フイルム等の非磁性基
体上に金属やそれらの合金等からなる強磁性層を真空蒸
着法等によって形成する方法、強磁性金属粉末と結着材
を含む溶液を塗布乾燥する方法等によって製造されてお
り、これらの磁気記録媒体は高密度記録に適している。
体上に金属やそれらの合金等からなる強磁性層を真空蒸
着法等によって形成する方法、強磁性金属粉末と結着材
を含む溶液を塗布乾燥する方法等によって製造されてお
り、これらの磁気記録媒体は高密度記録に適している。
しかしながら、強磁性層は摩擦により損傷を受けやす
い、空気中で徐々に酸化され最大磁束密度が劣化する等
の欠点を有している。
い、空気中で徐々に酸化され最大磁束密度が劣化する等
の欠点を有している。
このため、強磁性層上に保護膜を積層することが種々
提案されている。たとえば特開昭58−88829号公報には
強磁性金属層上に、金属をターゲットとしてフッ化カー
ボン系のモノマー蒸気をプラズマ重合して金属を含むフ
ッ化カーボン系の重合体からなる保護層を形成すること
が記載されている。
提案されている。たとえば特開昭58−88829号公報には
強磁性金属層上に、金属をターゲットとしてフッ化カー
ボン系のモノマー蒸気をプラズマ重合して金属を含むフ
ッ化カーボン系の重合体からなる保護層を形成すること
が記載されている。
しかしながら、上記方法では金属をターゲットとし、
13、56MHzという高周波でプラズマ重合しているため、
依然として耐久性及び耐食性が不充分であった。
13、56MHzという高周波でプラズマ重合しているため、
依然として耐久性及び耐食性が不充分であった。
本発明の目的は上記欠点に鑑み、耐久性、耐食性等の
すぐれた磁気記録媒体を製造しうる方法を提供すること
にある。
すぐれた磁気記録媒体を製造しうる方法を提供すること
にある。
本発明で使用される積層体は、従来磁気記録媒体とし
て公知の任意のものがあげられ、たとえばポリエチレン
テレフタレートフイルム、ポリアミドフイルム、ポリイ
ミドフイルム等の非磁性基体の一面にCo,Co−Ni,Co−Cr
等が真空蒸着、イオンプレーティング、スパッタリング
されたり、これらの金属を含む磁性塗料が塗布されて形
成された強磁性層が積層された積層体があげられる。
て公知の任意のものがあげられ、たとえばポリエチレン
テレフタレートフイルム、ポリアミドフイルム、ポリイ
ミドフイルム等の非磁性基体の一面にCo,Co−Ni,Co−Cr
等が真空蒸着、イオンプレーティング、スパッタリング
されたり、これらの金属を含む磁性塗料が塗布されて形
成された強磁性層が積層された積層体があげられる。
本発明で使用される有機化合物のモノマーは低周波プ
ラズマ重合しうるものであればよく、テトラフッ化エチ
レン、ヘキサフッ化プロピレン等のフッ素化化合物、エ
チレン、プロピレン、エタン、プロパン等の炭化水素化
合物、及びテトラメチルシラン、オクタメチルシクロテ
トラシロキサン、ヘキサメチルジシラザン等の珪素系化
合物が好適に使用される。
ラズマ重合しうるものであればよく、テトラフッ化エチ
レン、ヘキサフッ化プロピレン等のフッ素化化合物、エ
チレン、プロピレン、エタン、プロパン等の炭化水素化
合物、及びテトラメチルシラン、オクタメチルシクロテ
トラシロキサン、ヘキサメチルジシラザン等の珪素系化
合物が好適に使用される。
本発明で使用される金属としては、コバルト、ニッケ
ル、アルミニウム、銅、タングステン、クロム、珪素、
チタン、タンタル等があげられる。
ル、アルミニウム、銅、タングステン、クロム、珪素、
チタン、タンタル等があげられる。
次に本発明の製造方法を図面を参照して説明する。第
１図は本発明の製造方法を実施する際に使用する装置の
一例を示す模式図である。図中１はガス導入管11及び減
圧ポンプ12が接続された反応槽である。反応槽１内には
低周波電源２に接続された平行平板電極3,3が対に設置
され、平行平板電極3,3の内側に金属板4,4が対に設置さ
れ、さらに内側に円筒状キャン５が設置されている。積
層体６はガイドロール７を介して、強磁性層を外側にし
て円筒状キャン５を周回して巻取りロール８に巻取られ
ている。尚、13は圧力計であり、14はリーフバルブであ
る。
１図は本発明の製造方法を実施する際に使用する装置の
一例を示す模式図である。図中１はガス導入管11及び減
圧ポンプ12が接続された反応槽である。反応槽１内には
低周波電源２に接続された平行平板電極3,3が対に設置
され、平行平板電極3,3の内側に金属板4,4が対に設置さ
れ、さらに内側に円筒状キャン５が設置されている。積
層体６はガイドロール７を介して、強磁性層を外側にし
て円筒状キャン５を周回して巻取りロール８に巻取られ
ている。尚、13は圧力計であり、14はリーフバルブであ
る。
磁気記録媒体を製造するには、積層体と金属板を設置
した後減圧ポンプ12で反応槽１内を減圧する。真空度は
低周波プラズマが安定に発生する範囲であればよく、一
般に10Torr以下であるが、10-1〜10-3Torrが好ましい。
次に有機化合物のモノマーガスを供給するのであるが、
この際にアルゴン、ヘリウム、酸素、窒素等のキャリア
ーガスを併用するのが好ましい。モノマーガスの供給量
は反応系の容積100当り0.1〜200ml（STP）/minが好ま
しく、キャリアーガスの供給量は0.1〜200ml（STP）/mi
nが好ましい。
した後減圧ポンプ12で反応槽１内を減圧する。真空度は
低周波プラズマが安定に発生する範囲であればよく、一
般に10Torr以下であるが、10-1〜10-3Torrが好ましい。
次に有機化合物のモノマーガスを供給するのであるが、
この際にアルゴン、ヘリウム、酸素、窒素等のキャリア
ーガスを併用するのが好ましい。モノマーガスの供給量
は反応系の容積100当り0.1〜200ml（STP）/minが好ま
しく、キャリアーガスの供給量は0.1〜200ml（STP）/mi
nが好ましい。
モノマーガス供給後、平行平板電極３から低周波プラ
ズマを発生し、モノマーガスを低周波プラズマ重合す
る。ここで低周波とは１〜150KHzをいい、好ましくは５
〜125KHzである。
ズマを発生し、モノマーガスを低周波プラズマ重合す
る。ここで低周波とは１〜150KHzをいい、好ましくは５
〜125KHzである。
低周波プラズマ重合すると、強磁性層上に金属を含む
プラズマ重合体層が形成され、磁気記録媒体が得られ
る。プラズマ重合体層の厚みは薄くなると保護効果がな
くなり厚くなると電磁変換特性が低下するので10〜1500
Åが好ましい。
プラズマ重合体層が形成され、磁気記録媒体が得られ
る。プラズマ重合体層の厚みは薄くなると保護効果がな
くなり厚くなると電磁変換特性が低下するので10〜1500
Åが好ましい。
次に本発明の実施例を説明する。
実施例１ 第１図に示した装置を使用し、反応槽１内を10-3Torr
以下に減圧した後、ガス導入管11から窒素ガスを10ml/m
inの速度で供給すると共にテトラメチルシランを30ml/m
inの速度で供給し、反応槽内を２×10-2Torrに保った。
金属板４としてコバルトを設置し、厚さ1000Åのコバル
ト槽が真空蒸着された厚さ10μｍのポリエチレンテレフ
タレートフイルムをコバルト槽が表になるように1.5m/m
inの速度で走行し、8KHz,100Wの低周波を印加してプラ
ズマ重合を行ない、コバルト層上にコバルトを5wt％含
有する厚さ300Åのプラズマ重合体層が形成された磁気
記録媒体を得た。得られた磁気記録媒体の耐久性試験及
び耐食性試験を行った。耐久性試験は摺動試験機でプラ
ズマ重合体層に傷が付くまでの摺動回数を測定し、耐食
性試験は製造直後及び得られた磁気記録媒体を60℃、90
％RHの恒温室に７日間放置した後最大磁束密度を測定
し、最大磁束密度の減少率を百分率で計算した。結果を
第１表に示した。
以下に減圧した後、ガス導入管11から窒素ガスを10ml/m
inの速度で供給すると共にテトラメチルシランを30ml/m
inの速度で供給し、反応槽内を２×10-2Torrに保った。
金属板４としてコバルトを設置し、厚さ1000Åのコバル
ト槽が真空蒸着された厚さ10μｍのポリエチレンテレフ
タレートフイルムをコバルト槽が表になるように1.5m/m
inの速度で走行し、8KHz,100Wの低周波を印加してプラ
ズマ重合を行ない、コバルト層上にコバルトを5wt％含
有する厚さ300Åのプラズマ重合体層が形成された磁気
記録媒体を得た。得られた磁気記録媒体の耐久性試験及
び耐食性試験を行った。耐久性試験は摺動試験機でプラ
ズマ重合体層に傷が付くまでの摺動回数を測定し、耐食
性試験は製造直後及び得られた磁気記録媒体を60℃、90
％RHの恒温室に７日間放置した後最大磁束密度を測定
し、最大磁束密度の減少率を百分率で計算した。結果を
第１表に示した。
実施例２ テトラメチルシランに代えてテトラフッ化エチレンを
使用した以外は実施例１で行ったと同様にして、コバル
トを4wt％含有し、厚さが200Åのプラズマ重合体層を有
する磁気記録媒体を得た。得られた磁気記録媒体の耐久
性試験及び耐食性試験を行い結果を第１表に示した。
使用した以外は実施例１で行ったと同様にして、コバル
トを4wt％含有し、厚さが200Åのプラズマ重合体層を有
する磁気記録媒体を得た。得られた磁気記録媒体の耐久
性試験及び耐食性試験を行い結果を第１表に示した。
実施例３ コバルトに代えてクロムを使用した以外は実施例１で
行ったと同様にして、クロムを3wt％含有し、厚さ250Å
のプラズマ重合体層を有する磁気記録媒体を得た。得ら
れた磁気記録媒体の耐久性試験及び耐食性試験を行い結
果を第１表に示した。
行ったと同様にして、クロムを3wt％含有し、厚さ250Å
のプラズマ重合体層を有する磁気記録媒体を得た。得ら
れた磁気記録媒体の耐久性試験及び耐食性試験を行い結
果を第１表に示した。
実施例４ コバルトに代えてチタンを使用した以外は実施例１で
行ったと同様にして、チタンを7wt％含有し、厚さ230Å
のプラズマ重合体層を有する磁気記録媒体を得た。得ら
れた磁気記録媒体の耐久性試験及び耐食性試験を行い結
果を第１表に示した。
行ったと同様にして、チタンを7wt％含有し、厚さ230Å
のプラズマ重合体層を有する磁気記録媒体を得た。得ら
れた磁気記録媒体の耐久性試験及び耐食性試験を行い結
果を第１表に示した。
実施例５ テトラメチルシランに代えてエチレンを使用した以外
は実施例１で行ったと同様にして、コバルトを5.5wt％
含有し、厚さ250Åのプラズマ重合体層を有する磁気記
録媒体を得た。得られた磁気記録媒体の耐久性試験及び
耐食性試験を行い結果を第１表に示した。
は実施例１で行ったと同様にして、コバルトを5.5wt％
含有し、厚さ250Åのプラズマ重合体層を有する磁気記
録媒体を得た。得られた磁気記録媒体の耐久性試験及び
耐食性試験を行い結果を第１表に示した。
比較例１ コバルトの金属板を使用しない以外は実施例１で行っ
たと同様にして厚さ200Åのプラズマ重合体層を有する
磁気記録媒体を得た。得られた磁気記録媒体の耐久性試
験及び耐食性試験を行い結果を第１表に示した。
たと同様にして厚さ200Åのプラズマ重合体層を有する
磁気記録媒体を得た。得られた磁気記録媒体の耐久性試
験及び耐食性試験を行い結果を第１表に示した。
比較例２ テトラメチルシランに代えてオクタメチルテトラシロ
キサンを使用した以外は比較例１で行ったと同様にして
厚さ220Åのプラズマ重合体層を有する磁気記録媒体を
得た。得られた磁気記録媒体の耐久性試験及び耐食性試
験を行い結果を第１表に示した。
キサンを使用した以外は比較例１で行ったと同様にして
厚さ220Åのプラズマ重合体層を有する磁気記録媒体を
得た。得られた磁気記録媒体の耐久性試験及び耐食性試
験を行い結果を第１表に示した。
比較例３ 13.56MHzの高周波を印加してプラズマ重合した以外は
実施例１で行ったと同様にしてコバルトを微量含有す
る、厚さが220Åのプラズマ重合体層を有する磁気記録
媒体を得た。得られた磁気記録媒体の耐久性試験及び耐
食性試験を行い結果を第１表に示した。
実施例１で行ったと同様にしてコバルトを微量含有す
る、厚さが220Åのプラズマ重合体層を有する磁気記録
媒体を得た。得られた磁気記録媒体の耐久性試験及び耐
食性試験を行い結果を第１表に示した。
〔発明の効果〕 本発明の磁気記録媒体の製造方法の構成は上述の通り
であり、金属を共存させて低周波プラズマ重合するの
で、プラズマ重合体層は強磁性層に強度に接着してお
り、耐久性及び耐食性がすぐれている。従って磁気テー
プの他、磁気シート、磁気ディスク、磁気ドラム等に好
適に使用できる。
であり、金属を共存させて低周波プラズマ重合するの
で、プラズマ重合体層は強磁性層に強度に接着してお
り、耐久性及び耐食性がすぐれている。従って磁気テー
プの他、磁気シート、磁気ディスク、磁気ドラム等に好
適に使用できる。
第１図は本発明の磁気記録媒体の製造方法を実施する際
に使用する装置の一例を示す模式図である。 １……反応槽、２……低周波電源、３……平行平板電
極、４……金属板、５……円筒状キャン、６……積層
体、11……ガス導入管、12……減圧ポンプ
に使用する装置の一例を示す模式図である。 １……反応槽、２……低周波電源、３……平行平板電
極、４……金属板、５……円筒状キャン、６……積層
体、11……ガス導入管、12……減圧ポンプ
Claims (1)
- 【請求項１】有機化合物のモノマーガス雰囲気下に金属
を共存させ、低周波プラズマ重合して、非磁性基体と強
磁性層よりなる積層体の強磁性層上に金属を含むプラズ
マ重合体層を形成することを特徴とする磁気記録媒体の
製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25637588A JP2594625B2 (ja) | 1988-10-11 | 1988-10-11 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25637588A JP2594625B2 (ja) | 1988-10-11 | 1988-10-11 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02103725A JPH02103725A (ja) | 1990-04-16 |
| JP2594625B2 true JP2594625B2 (ja) | 1997-03-26 |
Family
ID=17291814
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25637588A Expired - Fee Related JP2594625B2 (ja) | 1988-10-11 | 1988-10-11 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2594625B2 (ja) |
-
1988
- 1988-10-11 JP JP25637588A patent/JP2594625B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH02103725A (ja) | 1990-04-16 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |