JPS6231022A - 磁気記録媒体およびその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は磁気記録媒体およびその製造方法に関し、さ
らに詳しくは摩擦係数が小さくて走行安定性および耐久
性に優れ、かつ耐食性に優れた磁気記録媒体およびその
製造方法に関する。

〔従来の技術〕

一般に、金属もしくはそれらの合金などを真空蒸着、ス
パッタリング等によって基体フィルム上に被着するか、
あるいは磁性粉末を結合剤成分とともに基体フィルム上
に結着してつくられる磁気記録媒体は、記録再生時に磁
気ヘッド等と激しく摺接するため磁性層が摩耗されやす
く、特に真空蒸着等によって形成される強磁性金属薄膜
層は、高密度記録に適した特性を有する反面、磁気ヘッ
ドとの摩擦係数が大きくて摩耗や損傷を受は易く、また
空気中で徐々に酸化を受けて最大磁束密度などの磁気特
性が劣化するなどの難点がある。

このため、従来から磁性層上に種々の保護膜層を設ける
などして、耐久性および耐食性を改善することが行われ
ており、たとえば、フッ素系有機化合物やケイ素系有機
化合物のプラズマ重合保護膜層を磁性層上に設けたり（
特開昭５８−８８８２８号、特開昭５８−６０４２７号
）、さらにはプラズマ重合保護膜層上に潤滑剤層を設け
る（特開昭５９−１５４６４３号）ことが提案されてい
る。

〔発明が解決しようとする問題点〕

ところが、これらのプラズマ重合保護膜層を磁性層上に
設けたもの、さらにはプラズマ重合保護膜層上に潤滑剤
層を設けたものは、耐久性および耐食性を改善するもの
の充分でなく、磁気ヘッドとの摺動により短期間で摩耗
しやすくて、未だ充分に良好な耐久性が得られず、また
潤滑剤層のプラズマ重合保護膜層に対する接着性が充分
に良好でないため、高温あるいは高温多湿雰囲気下に長
時間静置すると潤滑剤層が剥離するなどの難点があり、
走行安定性および耐久性は未だ充分に改善されていない
。

Ｃ問題点を解決するための手段〕 この発明は、かかる現状に鑑み鋭意研究を重ねた結果な
されたもので、磁性層上に、少なくとも炭素原子と、炭
素原子に対して原子数比で０．５倍以上の金属原子とを
含む有機高分子化合物からなる保護膜層を設けることに
よって、有機高分子化合物からなる保護膜層の特に表面
付近の架橋密度を高くし、比較的硬い有機高分子化合物
からなる保護膜層を形成して耐摩耗性および耐食性を改
善するとともに、さらに、この有機高分子化合物からな
る保護膜層上に潤滑剤層を強固に被着させ、摩擦係数を
低減゛して、走行安定性を改善し、耐摩耗性および耐食
性をさらに一段と向上させたものである。

この発明において、磁性層上に被着形成される有機高分
子化合物からなる保護膜層は、処理槽内で、有機金属化
合物のモノマーガスあるいは有機金属化合物のモノマー
ガスと他の有機化合物のモノマーガスとの混合ガスを、
高周波あるいはマイクロ波等によりプラズマ重合させて
磁性層の表面に被着することによって形成される。この
際、プラズマ重合保護膜層中に含まれる金属は触媒的な
作用をしてプラズマ重合を促進するため、橿めて架橋密
度の高いプラズマ重合保護膜層が形成され、耐摩耗性お
よび耐食性が向上される。またプラズマ重合保護膜層中
に含まれる金属によって磁性層との接着性が改善され、
さらにこの上に潤滑剤層を形成すると、プラズマ重合保
護膜層中に含まれる金属原子と潤滑剤層中に含まれる極
性基が有効に化学吸着して、接着性よく強固に潤滑剤層
がプラズマ重合保護膜層上に積層され、潤滑剤層の潤滑
効果が充分に発揮されて、摩擦係数が充分に低減され、
走行安定性が改善されて、耐摩耗性および耐食性が一段
と向上される。

このようなプラズマ重合に使用される有機金属化合物の
モノマーガスとしては、たとえば、トリメチルアルミニ
ウム、ジベンゼツクロミウム、フェロセン、コバルトセ
ン、テトラメチルスズ、テトラメチルゲルマニウム、ペ
ンタエトキシタンタル、チタニウムテトライソプロポキ
サイド、ジエチル水銀、ヘキサカルポニルクロミウム、
ペンタカルボニル鉄、ブタジェン鉄トリカルボニルなど
が好ましく使用され、特に、ヘキサカルボニルクロミウ
ム、ペンタカルボニル鉄、ブタジェン鉄トリカルボニル
などの金属カルボニルのモノマーガスは、他の有機化合
物のモノマーガスと混合する場合好適なものとして使用
される。またこれらのモノマーガスと混合して使用され
る有機化合物のモノマーガスとしては、たとえば、メタ
ン、プロパン、エチレン、プロピレンなどの炭化水素系
化合物のモノマーガス、テトラメチルシラン、ヘキサメ
チルジシラン、ヘキサメチルジシラザン、ヘキサメチル
シロキサン、オククメチルシクロテトラシロキサンなど
のケイ素系有機化合物のモノマーガス、ＣＦ４　％　Ｃ
２Ｆ６．０３Ｆ６などのフッ素糸有機化合物のモノマー
ガスが好適なものとして使用される。

これらの有機金属化合物のモノマーガスあるいは有機金
属化合物のモノマーガスと他の有機化合物のモノマーガ
スとの混合ガスは、高周波あるいはマイクロ波等により
ラジカルが生成され、この生成されたラジカルが反応し
重合して被膜となる。これらの有機化合物のモノマーガ
スをプラズマ重合する際、アルゴンガス、ヘリウムガス
および酸素ガス等のキャリアガスを併存させるとこれら
のモノマーガスだけでプラズマ重合する場合に比べて３
〜５倍の速度で析出されるため、これらのキャリアガス
を併存させて行うのが好ましい。これらのキャリアガス
と併存させる際、その組成割合はキャリアガス対前記の
モノマーガスの比にして１対２０〜１対１の範囲内で併
存させるのが好ましく、キャリアガスが少なすぎると析
出速度が低下し、多すぎるとモノマーガスが少なくなっ
てプラズマ重合反応に支障をきたす。

プラズマ重合を行う場合のガス圧および高周波やマイク
ロ波の電力は、ガス圧が高くなるほど被着速度が速くな
る反面モノマーガスが比較的架橋密度低くプラズマ重合
されて硬い保護膜層が得られず、またガス圧を低くして
高周波電力を高くすると被着速度が遅（なる反面架橋密
度が比較的高くて硬い保護膜層が得られる。ところが、
ガス圧を低くして高周波電力を高くしすぎると、モノマ
ーガスが粉末化してしまいプラズマ重合保護膜層が形成
されないため、ガス圧を０．００１〜５トールの範囲内
とし、平方センナあたりの高周波電力を０．０３〜５　
Ｗ　／　ｃｎｌの範囲内とするのが好ましく、ガス圧を
０．００３〜１トールとし、平方センナあたりの高周波
電力を０．０５〜３　Ｗ　／　ｃ＋＋ｌの範囲内とする
のがより好ましい。このようにしてプラズマ重合によっ
て被着形成される金属原子を含む有機化合物のプラズマ
重合保護膜層は緻密で摩擦係数も小さく、従ってこの金
属原子を含む有機化合物のプラズマ重合保護膜層が形成
されると耐摩耗性が向上される。このような金属原子を
含む有機化合物のプラズマ重合保護膜層の膜厚は、２０
〜１０００人の範囲内であることが好ましく、膜厚が薄
すぎるとこの保護膜層による耐久性、耐食性等の効果が
充分に発揮されず、厚すぎるとスペーシングロスが太き
（なりすぎて電磁変換特性に悪影響を及ぼす。

このようにして形成された有機高分子化合物からなる保
護膜層における金属原子は、炭素原子に対して原子数比
で０．５〜５倍の割合で含有されていることが好ましく
、０．５倍より少なくては充分に架橋密度の高いプラズ
マ重合保護膜層が形成されず、また磁性層との接着性お
よびこの上にさらに形成される潤滑剤層との接着性が充
分でなくなり、走行安定性、耐摩耗性および耐食性が充
分に向上されない。また５倍より多くなると有機金属化
合物のモノマーガスが気相中で反応して粉末化し、さら
にこれが沈着して形成されるため、架橋密度が高くて緻
密なプラズマ重合保護膜層が形成されず、耐摩耗性およ
び耐食性が充分に改善されない。また、このような有機
高分子化合物からなる保護膜層中における炭素原子、水
素原子、ケイ素原子およびフッ素原子は、保護膜層が炭
素原子と水素原子と金属原子とからなる場合、水素原子
が炭素原子に対して原子数比で２〜６倍であることが好
ましく、さらに保護膜層が炭素原子とケイ素原子と水素
原子と金属原子とからなる場合は、ケイ素原子が炭素原
子に対して原子数比で０．３〜０．７倍、水素原子が同
様に炭素原子に対して原子数比で２〜６倍であることが
好ましい。また保護膜層が炭素原子とフッ素原子と金属
原子とからなる場合は、フッ素原子が炭素原子に対して
原子数比で０．５〜３倍であることが好ましい。

このようにして、形成された有機高分子化合物からなる
保護膜層上に、さらに形成される７ａ滑剤層は、潤滑剤
を、たとえば、メチルイソブチルケトン、メチルエチル
ケトン、イソプロピルアルコール、ベンゼン、トルエン
、フレオン、シクロヘキサノン、酢酸エチル、テトラヒ
ドロフラン、ジメチルホルムアミド、ジオキサン等の適
当な溶剤に熔解し、熔解によって得られた溶液中に有機
高分子化合物からなる保護膜層を浸漬するか、あるいは
上記溶液を予め形成された有機高分子化合物からなる保
護膜層上に塗布または噴霧するなどの方法で被着され、
さらに潤滑剤を真空蒸着等によって有機高分子化合物か
らなる保護膜層上に被着する方法でも被着される。この
ようにして金属原子を含むプラズマ重合保護膜層上に、
潤滑剤層が形成されると、プラズマ重合保護膜層中に含
まれる金属原子と潤滑剤層中に含まれる極性基が有効に
化学吸着して、接着性よく強固に潤滑剤層がプラズマ重
合保護膜層上に積層され、高温あるいは高温多湿雰囲気
下で長時間静置しても、潤滑剤層が剥離したりすること
なく潤滑効果が充分に発揮されて、摩擦係数が充分に低
減され、走行安定性が改善されて、耐摩耗性および耐食
性が一段と向上される。

使用される潤滑剤としては、脂肪族系潤滑剤、フ・ノ素
系潤滑剤、シリコーン系潤滑剤および炭化水素系潤滑剤
等がいずれも好適なものとして使用され、脂肪族系潤滑
剤としては、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸
、ステアリン酸、ベヘン酸等の脂肪酸、ステアリン酸亜
鉛、ステアリン酸コバルト等の脂肪酸の金属塩、ステア
リン酸−ｎ−ブチル、ミリスチン酸オクチノヒ等の脂肪
酸エステル、ステアリルアルコール、ミリスチルアルコ
ール等の脂肪族アルコール、トリメチルステアリルアン
モニウムクロライド、塩化ステアロイル等の塩化物、ス
テアリルアミン、ステアリルアミンアセテート、ステア
リルアミンハイドロクロライド等のアミン等が挙げられ
る。またフッ素系潤滑剤としては、パーフルオロポリエ
ーテル、パーフルオロアルキルポリエーテルなどが好適
なものとして使用され、市販品の具体例としては、ダイ
キン社製グイフロイル＃２０、デュポン社製クライトツ
クスＭ、タライトツクスＨ１バイダソクスＡＲ，モンテ
ジソン社製フォンプリンＺ等が挙げられる。さらにシリ
コーン系潤滑剤としては、シリコーンオイル、変性シリ
コーンオイル等が挙げられ、炭化水素系潤滑剤としては
、パラフィン、スクアラン、ワックス等が挙げられる。

なお、これらの潤滑剤のうち、極性基を有するものは金
属原子を含むプラズマ重合保護膜層との密着性がよく、
特に摩擦係数を下げる効果があるためより好ましく使用
される。

使用に際しては、その１種または２種以上が混合して使
用され、また被着量は、有機高分子化合物からなる保護
膜層上に２０〜２００人の被膜が形成される範囲内で被
着させるのが好ましく、２０人より膜厚が薄いと所期の
効果が得られず、２００人より膜厚が厚いとスペーシン
グロスが大きくなりすぎて電気的特性に悪影響を及ぼす
。

基体上に形成される磁性層は、γ−Ｆｅ２０３粉末、Ｆ
ｅ３Ｏ４粉末、Ｃｏ含有ｒ−Ｆｅ２０３粉末、Ｃｏ合有
Ｆｅ３Ｏ４粉末、Ｆｅ粉末、Ｃ。

粉末、Ｆｅ−Ｎｉ粉末などの磁性粉末を結合剤成分およ
び有機溶剤等とともに基体上に塗布、乾燥するか、ある
いは、Ｃ０％　Ｆｅ、、Ｎｉ、Ｃｏ−Ｎｉ合金、Ｃｏ−
Ｃｒ合金、Ｃｏ−Ｐ合金、Ｃｏ−Ｎ１−Ｐ合金などの強
磁性材を、真空蒸着、イオンブレーティング、スパッタ
リング、メッキ等の手段によって基体上に被着するなど
の方法で形成される。

また、磁気記録媒体としては、ポリエステルフィルム、
ポリイミドフィルムなどの合成樹脂フィルムを基体とす
る磁気テープ、合成樹脂フィルム、アルミニウム板およ
びガラス板等からなる円盤やドラムを基体とする磁気デ
ィスクや磁気ドラムなど、磁気ヘッドと摺接する構造の
種々の形態を包含する。

〔実施例〕

次に、この発明の実施例について説明する。

実施例１ 厚さ１０μｍのポリエステルフィルムを真空蒸着装置に
装填し、５Ｘ１０−５）−ルの真空下でコバルト−ニッ
ケル合金（重量比８：２）を加熱蒸発させてポリエステ
ルフィルム上に厚さ１０００人のコバルト−ニッケル合
金からなる強磁性金属薄膜層を形成した。次いで、第１
図に示すプラズマ処理装置を使用し、強磁性金属薄膜層
を形成したポリエステルフィルム１を処理槽２内の上部
に配設した基Ｆｉ、３の下面にセットし、処理Ｍ２に取
りつけたガス導入管４からトリメチルアルミニウムのモ
ノマーガスをｌｏｓｃｃｍの流量で導入してガス圧を０
．０３　トールとし、電極５の高周波電力密度Ｑ　、　
’ｌ　Ｗ　／　ｃａでプラズマ重合を行い、厚さ１５０
人のアルミニウムを含む炭化水素系化合物からなるプラ
ズマ重合保護膜層を形成した。このときのプラズマ重合
保護膜層中におけるアルミニウム原子の含有量は、炭素
原子に対して原子数比で２倍であった。次いで、このプ
ラズマ重合保護膜層上に、ステアリン酸の０．１重量％
トルエン溶液を塗布し、乾燥してステアリン酸からなる
厚さが５０人の潤滑剤層を形成した。しかる後、所定の
巾に裁断して第２図に示すようなポリエステルフィルム
１上に強磁性金属薄膜層８、プラズマ重合保護膜層９お
よび潤滑剤層１０を順次に積層形成した磁気テープＡを
つくった。なお、第１図中６は処理槽２内を減圧するた
めの排気系であり、７は電極５に高周波を印加するため
の高周波電源である。

実施例２ 実施例１におけるプラズマ重合保護膜層の形成において
、トリメチルアルミニウムのモノマーガスに代えて、フ
ェロセンのモノマーガスを５　ｓｅｃｍの流量で導入し
て、ガス圧を０．０２１−−ルとした以外は実施例１と
同様にして厚さ１００人のプラズマ重合保護膜層を形成
し、さらに実施例１における潤滑剤層の形成において、
ステアリン酸の０．１重量％トルエン溶液に代えて、ク
ライトソクスＨ（デュポン社製、パーフルオロアルキル
ポリエーテル）の０．１重量％フレオン溶液を使用した
以外は、実施例１と同様にして厚さ１００人の潤滑剤層
を形成し、磁気テープＡをつくった。このときのプラズ
マ重合保護Ｈ’Ａ層中における鉄原子の含有量は、炭素
原子に対して原子数比で０．８倍であった。

実施例３ 実施例１におけるプラズマ重合保護膜層の形成において
、トリメチルアルミニウムのモノマーガスに代えて、ヘ
キサカルボニルクロミウムのモノマーガスを５　ｓｅｃ
ｍの流量で導入するとともに、エチレンのモノマーガス
を５　ｓｅｃｍの流量で導入して、ガス圧を０．０２）
−−ルとした以外は実施例１と同様にして厚さ１５０人
のプラズマ重合保護膜層を形成し、さらに実施例工にお
ける潤滑剤層の形成において、ステアリン酸の０．１重
量％トルエン溶液に代えて、クロロホルム８％と四塩化
炭素１２％とｎ−デカン８０％の混合溶液にオクタデシ
ルトリクロルシランを溶解したオクタデシルトリクロル
シランの０．１重量％混合溶液を使用した以外は、実施
例１と同様にして厚さ５０人の潤滑剤層を形成し、磁気
テープＡをつくった。このときのプラズマ重合保護膜層
中におけるクロム原子の含有量は、炭素原子に対して原
子数比で１，５倍であった。

実施例４ 実施例１における潤滑剤層の形成において、ステアリン
酸の０．１重量％トルエン溶液中への浸漬処理に代えて
、プラズマ重合保護膜層が形成されたポリエステルフィ
ルムを真空蒸着装置に装填し、ｌＸｌ０−”）−ルの真
空下でステアリン酸を加熱蒸発させて真空蒸着を行い、
プラズマ重合保護膜層上にステアリン酸からなる厚さが
５０人の潤滑剤層を形成した以外は、実施例１と同様に
して磁気テープＡをつくった。

実施例５ α−Ｆｅ磁性粉末　　　　　　　６００重量部エスレッ
クＣＮ（積木化学工業　　８０〃社製、塩化ビニル−酢
酸ビニ ル共重合体） バンデックスＴ−５２５０（大　　３０〃日本インキ化
学工業社製、ウ レタンエラストマー） コロネートＬ（日本ポリウレタ　　１０〃ン工業社製、
三官能性低分子 量イソシアネート化合物） メチルイソブチルケトン　　　　４００〃トルエン　　
　　　　　　　　　４００〃この組成物をボールミル中
で７２時間混合分散して磁性塗料をｇｉし、この磁性塗
料を厚さ１０μｍのポリエステルフィルム上に乾燥圧が
４μｍとなるように塗布、乾燥して磁性層を形成した。

次いで、これに実施例１と同様にしてプラズマ重合保護
膜層および潤滑剤層を形成し、磁気テープをつくった。

実施例６ 実施例１において、ステアリン酸からなる潤滑剤層の形
成を省いた以外は実施例１と同様にして磁気テープをつ
（った。

実施例７ 実施例２において、クライトックスＨからなる潤滑剤層
の形成を省いた以外は実施例２と同様にして磁気テープ
をつくった。

実施例８ 実施例３において、オクタデシルトリクロルシランから
なる潤滑剤層の形成を省いた以外は実施例３と同様にし
て磁気テープをつくった。

比較例１ 実施例１におけるプラズマ重合保護膜層の形成において
、トリメチルアルミニウムのモノマーガスに代えて、エ
チレンのモノマーガスを８　ｓｅｃｍの流量で導入して
、ガス圧を０．０２　トールとした以外は実施例１と同
様にして厚さ１５０人のプラズマ重合保護膜層を形成し
、磁気テープをつくった。

比較例２ 実施例２におけるプラズマ重合保護膜層の形成において
、フェロセンのモノマーガスの流量を５ｓｅｃｍから３
　ｓｅｃｍに変更してガス圧を０．０１　トールとし、
電力密度を０．２Ｗ／ｃＪから２　Ｗ／ｃｄに変更した
以外は実施例２と同様にして厚さ１００人のプラズマ重
合保護膜層を形成し、磁気テープをつくった。このとき
のプラズマ重合保護膜層中における鉄原子の含有量は、
炭素原子に対して原子数比で０．３倍であった。

比較例３ 実施例３におけるプラズマ重合保護膜層の形成において
、ヘキサカルポニルクロミウムのモノマーガスの流量を
５　ｓｃｃｍから１０１０５ｃに変更し、エチレンのモ
ノマーガスの流量を５　ｓｅｃｍから２ｓｅｃｍに変更
してガス圧を０．０２　）−ルとした以外は実施例３と
同様にして厚さ１００人のプラズマ重合保護膜層を形成
し、磁気テープをつくった。このときのプラズマ重合保
護膜層中におけるクロム原子の含有量は、炭素原子に対
して原子数比で６倍であった・ 比較例４ 比較例１において、ステアリン酸からなる潤滑剤層の形
成を省いた以外は比較例１と同様にして磁気テープをつ
くった。

比較例５ 比較例２において、タライトツクスＨからなる潤滑剤層
の形成を省いた以外は比較例２と同様にして磁気テープ
をつくった。

比較例６ 比較例３において、オクタデシルトリクロルシランから
なる潤滑剤層の形成を省いた以外は比較例３と同様にし
て磁気テープをつくった。

比較例７ 実施例１において、プラズマ重合保護膜層の形成を省い
た以外は実施例１と同様にして磁気テープをつくった。

比較例８ 実施例１において、プラズマ重合保護膜層および潤滑剤
層の形成を省いた以外は実施例１と同様にして磁気テー
プをつくった。

各実施例および比較例で得られた磁気テープについて、
製造直後と６０℃、９０％ＲＨの条件下で７日間静置後
の摩擦係数を測定し、耐久性および耐食性を試験した。

耐久性試験は磁気テープを摺動試験し、磁性層に傷がつ
くまでの摺動回数を測定して行った。また、耐食性試験
は、得られた磁気テープを６０℃、９０％ＲＨの条件下
に７日間放置して最大磁束密度を測定し、放置前の磁気
テープの最大磁束密度を１００％としてこれと比較した
値でその劣化率を調べて行った。

下表はその結果である。

〔発明の効果〕

上表から明らかなように、この発明で得られた磁気テー
プ（実施例１ないし８）は、いずれも比較例１ないし８
で得られた磁気テープに比し、製造直後および７日静置
後の摩擦係数が小さく、また摺動回数が多くて劣化率が
小さく、このことからこの発明によって得られる磁気記
録媒体は、一段と走行安定性が良好で、耐久性および耐
食性に優れていることがわかる。

【図面の簡単な説明】

第１図はプラズマ重合保護膜層を形成する際に使用する
プラズマ処理装置の１例を示す概略断面図、第２図はこ
の発明の製造方法によって得られた磁気テープの部分拡
大断面図である。 １・・・ポリエステルフィルム（基体）、８・・・強磁
性金属薄膜層（磁性層）、９・・・プラズマ重合保護膜
層（有機高分子化合物からなる保護膜層）、１０・・・
潤滑剤層、Ａ・・・磁気テープ（磁気記録媒体）第１図 第２図

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、基体上に磁性層を形成し、この磁性層上に少なくと
   も炭素原子と、炭素原子に対して原子数比で０．５倍以
   上の金属原子とを含む有機高分子化合物からなる保護膜
   層を設けたことを特徴とする磁気記録媒体 ２、磁性層上に形成した有機高分子化合物からなる保護
   膜層中にさらに水素原子を含む特許請求の範囲第１項記
   載の磁気記録媒体 ３、磁性層上に形成した有機高分子化合物からなる保護
   膜層中にさらに水素原子およびケイ素原子を含む特許請
   求の範囲第１項記載の磁気記録媒体 ４、磁性層上に形成した有機高分子化合物からなる保護
   膜層中にさらにフッ素原子を含む特許請求の範囲第１項
   記載の磁気記録媒体 ５、磁性層上に形成した有機高分子化合物からなる保護
   膜層がプラズマ重合保護膜層である特許請求の範囲第１
   項ないし第４項記載の磁気記録媒体 ６、磁性層上に形成した有機高分子化合物からなる保護
   膜層中に含まれる金属原子が、Ａｌ、Ｃｒ、Ｃｏ、Ｓｎ
   、Ｇｅ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｈｇ、Ｆｅから選ばれる少なくと
   も１種である特許請求の範囲第１項ないし第５項記載の
   磁気記録媒体 ７、基体上に磁性層を形成し、この磁性層上に少なくと
   も炭素原子と、炭素原子に対して原子数比で０．５倍以
   上の金属原子とを含む有機高分子化合物からなる保護膜
   層を設け、この有機高分子化合物からなる保護膜層上に
   さらに潤滑剤層を設けたことを特徴とする磁気記録媒体 ８、磁性層上に形成した有機高分子化合物からなる保護
   膜層中にさらに水素原子を含む特許請求の範囲第７項記
   載の磁気記録媒体 ９、磁性層上に形成した有機高分子化合物からなる保護
   膜層中にさらに水素原子およびケイ素原子を含む特許請
   求の範囲第７項記載の磁気記録媒体 １０、磁性層上に形成した有機高分子化合物からなる保
   護膜層中にさらにフッ素原子を含む特許請求の範囲第７
   項記載の磁気記録媒体 １１、磁性層上に形成した有機高分子化合物からなる保
   護膜層がプラズマ重合保護膜層である特許請求の範囲第
   ７項ないし第１０項記載の磁気記録媒体 １２、磁性層上に形成した有機高分子化合物からなる保
   護膜層中に含まれる金属原子が、Ａｌ、Ｃｒ、Ｃｏ、Ｓ
   ｎ、Ｇｅ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｈｇ、Ｆｅから選ばれる少なく
   とも１種である特許請求の範囲第７項ないし第１１項記
   載の磁気記録媒体 １３、基体上に磁性層を形成し、次いで、この磁性層を
   、有機金属化合物のモノマーガスもしくは有機金属化合
   物のモノマーガスを含む有機化合物の混合モノマーガス
   中にさらしてプラズマ重合を行い、磁性層上に少なくと
   も炭素原子と、炭素原子に対して原子数比で０．５倍以
   上の金属原子とを含む有機高分子化合物からなる保護膜
   層を形成することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法 １４、磁性層上に形成した有機高分子化合物からなる保
   護膜層中にさらに水素原子を含む特許請求の範囲第１３
   項記載の磁気記録媒体の製造方法 １５、磁性層上に形成した有機高分子化合物からなる保
   護膜層中にさらに水素原子およびケイ素原子を含む特許
   請求の範囲第１３項記載の磁気記録媒体の製造方法 １６、磁性層上に形成した有機高分子化合物からなる保
   護膜層中にさらにフッ素原子を含む特許請求の範囲第１
   ３項記載の磁気記録媒体の製造方法 １７、磁性層上に形成した有機高分子化合物からなる保
   護膜層中に含まれる金属原子が、Ａｌ、Ｃｒ、Ｃｏ、Ｓ
   ｎ、Ｇｅ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｈｇ、Ｆｅから選ばれる少なく
   とも１種である特許請求の範囲第１３項ないし第１６項
   記載の磁気記録媒体 １８、基体上に磁性層を形成し、次いで、この磁性層を
   、有機金属化合物のモノマーガスもしくは有機金属化合
   物のモノマーガスを含む有機化合物の混合モノマーガス
   中にさらしてプラズマ重合を行い、磁性層上に少なくと
   も炭素原子と、炭素原子に対して原子数比で０．５倍以
   上の金属原子とを含む有機高分子化合物からなる保護膜
   層を形成した後、さらにこの高分子化合物からなる保護
   膜層上に潤滑剤層を設けて、磁性層上に少なくとも炭素
   原子と、炭素原子に対して原子数比で０．５倍以上の金
   属原子とを含む有機高分子化合物からなる保護膜層を設
   け、さらにその上に潤滑剤層を形成することを特徴とす
   る磁気記録媒体の製造方法 １９、磁性層上に形成した有機高分子化合物からなる保
   護膜層中にさらに水素原子を含む特許請求の範囲第１８
   項記載の磁気記録媒体の製造方法 ２０、磁性層上に形成した有機高分子化合物からなる保
   護膜層中にさらに水素原子およびケイ素原子を含む特許
   請求の範囲第１８項記載の磁気記録媒体の製造方法 ２１、磁性層上に形成した有機高分子化合物からなる保
   護膜層中にさらにフッ素原子を含む特許請求の範囲第１
   ８項記載の磁気記録媒体の製造方法 ２２、磁性層上に形成した有機高分子化合物からなる保
   護膜層中に含まれる金属原子が、Ａｌ、Ｃｒ、Ｃｏ、Ｓ
   ｎ、Ｇｅ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｈｇ、Ｆｅから選ばれる少なく
   とも１種である特許請求の範囲第１８項ないし第２１項
   記載の磁気記録媒体