JPS62167615A - 磁気記録媒体およびその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は磁気記録媒体およびその製造方法に関し、さ
らに詳しくは耐久性および耐食性に優れた磁気記録媒体
およびその製造方法に関する。

〔従来の技術〕

一般に、金属もしくはそれらの合金などを真空蒸着、ス
パッタリング等によって基体フィルム上に被着するか、
あるいは磁性粉末を結合剤成分とともに基体フィルム上
に結着してつくられる磁気記録媒体は、記録再生時に磁
気ヘッド等と激しく摺接するため磁性層が摩耗されやす
く、特に真空蒸着等によって形成される強磁性全屈薄膜
層は、高密度記録に適した特性を有する反面、磁気ヘッ
ドとの摩擦係数が大きくて摩耗や損傷を受は易く、また
空気中で徐々に酸化を受けて最大磁束密度などの磁気特
性が劣化するなどの難点がある。

このため、従来から磁性層上に種々の保護膜層を設ける
などして耐久性および耐食性を改善することが行われて
おり、たとえば、フッ素系有機化合物やケイ素系有機化
合物のプラズマ重合保護膜層を磁性層上に設けたり（特
開昭５８−８８８２８号、特開昭５８−６０４２７号）
、さらにはプラズマ重合保護模層上に炭素炭素不飽和基
を有する化合物からなる潤滑剤層を設ける（特開昭５９
−１５４６４３号）ことが提案されている。

〔発明が解決しようとする問題点〕

ところが、これらのプラズマ重合保護膜層を磁性層上に
設けたもの、さらにはプラズマ重合保護膜層上に炭素炭
素不飽和基を有する化合物からなる潤滑剤層を設けたも
のは、耐久性および、耐食性を改善するものの未だ充分
でなく、磁気ヘッドとの摺動により短期間で摩耗し易く
て、未だ、充分に良好な耐久性が得られないという難点
がある。

Ｃ問題点を解決するための手段〕 この発明は、かかる現状に鑑み鋭意研究を重ねた結果な
されたもので、磁性層上に、少なくとも炭素原子と水素
原子と酸素原子とを含む高分子化合物からなる第１の保
護膜層、あるいはさらにケイ素原子、金属原子等を含む
高分子化合物からなる第１の保護膜層を設け、比較的硬
い有機高分子化合物からなる第１の保護膜層を形成して
耐摩耗性および耐食性を改善するとともに、さらに、こ
の高分子化合物からなる第１の保護膜層上に、水素原子
の一部もしくは全部をフッ素化した脂肪酸からなる潤滑
性および耐食性に優れた第２の保護膜層を形成すること
によって、耐摩耗性および耐食性をさらに一段と向上さ
せ、耐久性を改善したものである。また、高分子化合物
からなる保護膜層を酸素ガスないし酸素ガスを含むガス
でプラズマ処理して、少なくとも炭素原子と水素原子と
酸素原子とを含みかつ酸素原子の含有量を表面層ほど多
くした有機高分子化合物からなる第１の保護膜層、ある
いはさらにケイ素原子、金属原子等を含む有機高分子化
合物からなる第１の保護膜層を磁性層上に設け、高分子
化合物からなる第１の保護Ｍ’ＡＮの特に表面付近をよ
り強固にするとともに、第２の保護膜層との接着性を向
上させて、耐摩耗性および耐食性をさらに一段と向上さ
せ、耐久性を充分に改善したものである。

この発明において、磁性層上に被着形成される高分子化
合物からなる第１の保護膜層は、この保護膜層が、プラ
ズマ重合によって形成される場合は、処理槽内で、炭化
水素系化合物、ケイ素系有機化合物および有機金属化合
物等の七ツマーガスを、高周波あるいはマイクロ波等に
よりプラズマ重合させて、磁性層上に被着することによ
って形成される。このプラズマ重合保護膜層を形成する
のに使用するモノマーガスとしては、たとえば、メタン
、プロパン、エチレン、プロピレンなどの炭化水素系化
合物のモノマーガス、テトラメチルシラン、ヘキサメチ
ルジシラン、ヘキサメチルジシラザン、ヘキサメチルシ
ロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサンなどの
ケイ素系有機化合物のモノマーガス、テトラメチルスズ
、テトラメチルゲルマニウム、フェロセン、ペンタエト
キシタンタル、チタニウムテトライソプロポキサイドな
どの有機金属化合物等が好ましく使用され、これらの有
機化合物のモノマーガスは、高周波あるいはマイクロ波
等によりラジカルが生成され、この生成されたラジカル
が反応し重合して被膜となる。これらの有機化合物の七
ツマーガスは、それぞれ単独で使用する他、混合して使
用してもよく、またこれらの有機化合物のモノマーガス
をプラズマ重合する際、アルゴンガス、ヘリウムガスお
よび酸素ガス等のキャリアガスを併存させるとモノマー
ガスを単独でプラズマ重合する場合に比べて３〜５倍の
速度で析出されるため、これらのキャリアカニスを併存
させて行うのが好ましい。これらのキャリアガスと併存
させる際、その組成割合はキャリアガス対前記有機化合
物のモノマーガスの比にして１対１〜１対２０の範囲内
で併存させるのが好ましく、キャリアガスが少なすぎる
と析出速度が低下し、多すぎるとモノマーガスが少なく
なってプラズマ重合反応に支障をきたす。特に、酸素ガ
スを併存させてプラズマ重合する場合は、全体に酸素原
子を含有したプラズマ重合保護膜層が得られ、保護膜層
の架橋密度が向上するとともに、この上にさらに形成さ
れる第２の保護膜層との接着性が向上される。

プラズマ重合を行う場合のガス圧および高周波やマイク
ロ波の電力は、ガス圧が高くなるほど被着速度が速くな
る反面モノマーガスが比較的架橋密度低くプラズマ重合
されて硬い保護膜層が得られず、またガス圧を低くして
高周波電力を高くすると被着速度が遅くなる反面架橋密
度が比較的高くて硬い保護膜層が得られる。ところが、
ガス圧を低くして高周波電力を高くしすぎると、モノマ
ーガスが粉末化してしまいプラズマ重合保護膜層が形成
されないため、ガス圧を０．００１〜５トールの範囲内
とし、平方センチあたりの高周波電力を０．０３〜５Ｗ
／ａｎ！の範囲内とするのが好ましく、ガス圧を０．０
０３〜１トールとし、平方センナあたりの高周波電力を
０．０５〜３　Ｗ／ｅｌｌ！の範囲内とするのがより好
ましい。このようにしてプラズマ重合によって被着形成
される有機化合物のプラズマ重合保護膜層は緻密で摩擦
係数も小さく、従ってこの有機化合物のプラズマ重合保
護Ｂ’ＡＮが形成されると耐摩耗性および耐食性が向上
される。このような有機化合物のプラズマ重合保護膜層
の膜厚は、２０〜１０００人の範囲内であることが好ま
しく、膜厚が薄すぎるとこの保護膜層による耐久性の効
果が充分に発揮されず、厚すぎるとスペーシングロスが
大きくなりすぎて電磁変換特性に悪影響を及ぼす。

また、高分子化合物からなる第１の保護膜層をスパッタ
リングによって形成する場合は、処理槽内で、耐熱性の
良好な樹脂をアルゴンガス等の存在下で高周波によりス
パッタリングさせて、磁性層上に析出することによって
形成される。このとき保護膜層中に酸素原子を含有させ
る場合は、酸素原子を含有する化学構造の樹脂を用いた
り、アルゴンガスに酸素ガスを混合して行われ、このよ
うに酸素原子が含有されると保護膜層の架橋密度が向上
するとともに、この上にさらに形成される第２の保護膜
層との接着性が向上される。このようなスパッタリング
によって保護膜層を形成するのに使用される樹脂として
は、２００℃以上の温度で軟化したり分解することのな
い耐熱性に優れた樹脂が好ましく使用され、たとえば、
イミド系樹脂、シリコーン系樹脂、フェノール系樹脂、
メラミン系樹脂、ホルマリン系樹脂、尿素系樹脂、フラ
ン系樹脂、エポキシ系樹脂等が好適なものとして使用さ
れる。

スパッタリングを行う場合のアルゴンガス等のガス圧お
よび高周波の電力は、析出速度を良好にしかつ高分子の
分解を防止するため、ガス圧を、０．００１〜０．１ト
ールとし、平方センナあたりの高周波電力を０．１〜２
　Ｗ　／　ｃｔＡの範囲内とするのが好ましい。このよ
うにしてスパッタリングによって析出形成される耐熱性
樹脂からなる保護膜層は緻密で摩擦係数も小さく、従っ
てこの耐熱性樹脂からなる保護膜層が形成されると耐摩
耗性および耐食性が向上される。このような耐熱性樹脂
からなる保護膜層の膜厚は、２０〜１０００人の範囲内
であることが好ましく、膜厚が薄すぎるとこの保護膜層
による耐久性の効果が充分に発揮されず、厚すぎるとス
ペーシングロスが大きくなりすぎて電磁変換特性に悪影
響を及ぼす。

このようにして形成された高分子化合物からなる保護膜
層は、次いで、処理槽内で、高周波電極で発生させた酸
素ガスや酸素ガスと希ガスとの混合ガスのプラズマ中に
さらすなどの方法でプラズマ処理されると、プラズマ化
した酸素ガスが高エネルギーを有しているため保護膜層
の表面が良好に酸化され、保護膜層の特に表面付近の架
橋密度がより高くなり、摩擦係数が小さく、かつ緻密で
硬い高分子化合物からなる第１の保護膜層が形成されて
、耐摩耗性が一段と向上される。また、この酸化された
保護膜層の表面は親水性が強くて接着性に優れ、この上
にさらに水素原子の一部もしくは全部をフッ素化した脂
肪酸からなる第２の保護膜層を形成すると、この種の水
素原子の一部もしくは全部をフッ素化した脂肪酸の分子
の極性基が高分子化合物からなる保護膜層の表面に良好
に被着し、第２の保護膜層が強固に被着されるとともに
、水素原子の一部もしくは全部をフッ素化した脂肪酸の
分子が良好に配列されて摩擦係数が充分に低減され、耐
摩耗性がさらに一段と向上される。このような酸素ガス
や酸素ガスと希ガスとの混合ガスのプラズマによる酸化
処理を施して得られる高分子化合物からなる第１の保護
膜層における酸素原子の濃度分布は、保護膜層の特に表
面付近の架橋密度を充分に高くし、かつこの上にさらに
被着形成される第２の保護膜層に対する接着性を充分に
向上させるため、表面から２０人の間に５〜７０重量％
含有されていることが好ましく、またこの酸素原子は高
分子化合物からなる保護膜層の表面層とともに、全体に
含有されるとさらに良好な効果が得られ、この場合は酸
素原子を表面から２０人の間に５〜７０重１％含有され
るとともに、全体で５〜５０重量％含有されていること
が好ましい。また、このような高分子化合物からなる保
護膜層中における炭素原子および水素原子は、保護膜層
が炭素原子と水素原子と酸素原子、さらにはこれらと金
属原子とからなる場合、炭素原子を１０〜５０重量％、
水素原子を５〜３０重量％含有していることが好ましく
、さらに保護膜層がケイ素原子と炭素原子と水素原子と
酸素原子、さらにはこれらと金属原子とからなる場合は
、炭素原子が原子数比でケイ素原子に対して０．５〜２
．５倍、水素原子が原子数比でケイ素原子に対して５倍
以下であることが好ましい。

このような酸素ガスないし酸素ガスを含むガスのプラズ
マによる酸化処理は、保護膜層の表面を良好に酸化し、
特に表面付近の架橋密度を充分に高くするとともに、こ
の上にさらに被着形成される第２の保護膜層に対する接
着性を充分に向上させるため、酸素ガスのガス圧を０．
００３〜１トールの範囲内とし、平方センナあたりの高
周波電力を０．０３〜５　Ｗ　／　ｃａの範囲内として
行うのが好ましく、ガス圧を０．０１〜０．５トールと
し、平方センチあたりの高周波電力を０．０５〜３　Ｗ
／ｃｏ！の範囲内とするのがより好ましい。

このようにして、磁性層上に形成した前記の高分子化合
物からなる第１の保護膜層、さらには表面を酸素ガスな
いし酸素ガスを含むガスでプラズマ処理した高分子化合
物からなる第１の保護膜層上に、さらに、水素原子の一
部もしくは全部をフッ素化した脂肪酸からなる第２の保
護膜層が形成されると、耐摩耗性および耐食性がさらに
一段と向上される。このような水素原子の一部もしくは
全部をフ・ノ素化した脂肪酸としては、ラウリン酸、ミ
リスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸等
の、炭素原子数が１１以上の脂肪酸の水素原子の一部も
しくは全部がフッ素置換されたものが好適なものとして
使用され、たとえば、Ｃｙ　　　Ｆ１５　　　（ＣＨ２
）　　　１０　　Ｃ０ＯＨ，Ｃ３Ｆ７　　　　（ＣＩ（
２）＋５ＣＯＯＩｌ、ＣＦ３　　（ＣＨ２）＋５ＣＯＯ
Ｆ等の分子式で表されるものが好ましく使用される。

使用に際しては、その１種または２種以上を、例えば、
クロロホルム、メチルイソブチルケトン、メチルエチル
ケトン、イソプロピルアルコール、ベンゼン、トルエン
、フレオン、シクロヘキサノン、酢酸エチル、テトラヒ
ドロフラン、ジメチルホルムアミド、ジオキサン等の適
当な溶剤に溶解し、溶解によって得られた溶液中に高分
子化合物からなる第１の保護膜層を浸漬するが、或いは
上記溶液を予め形成された高分子化合物からなる第１の
保護膜層上に塗布または噴霧するなどの方法で被着され
る。また水素原子の一部もしくは全部をフッ素化した脂
肪酸を真空蒸着等によって高分子化合物からなる第１の
保護膜層上に被着する方法でも被着される。被着量は、
高分子化合物からなる第１の保護膜層上に２０〜２００
人の被膜が形成される範囲内で被着させるのが好ましく
、２０人より膜厚が薄いと所期の効果が得られず、２０
０人より膜厚が厚いとスペーシングロスが大きくなりす
ぎて電気的特性に悪影響を及ぼす。

このように、磁性層上に高分子化合物からなる保護膜層
を形成し、この保護膜層の表面を酸素ガスないし酸素ガ
スを含むガスでプラズマ処理すると、耐久性および耐食
性が向上され、さらに酸素ガスないし酸素ガスを含むガ
スでプラズマ処理後、水素原子の一部もしくは全部をフ
ッ素化した脂肪酸の第２の保護膜層を形成すると耐久性
がさらに一段と向上されるが、これらの保護膜層を形成
する前に、例えば、コバルトを主成分として含む強磁性
金属″ａ膜層を、少なくとも酸素と水分の存在下におい
て熱処理し、強磁性金属薄膜層の表面に主にアモルファ
スの３価コバルトの含水１化物を生成するなどして、磁
性層の表面を緩やかに酸化すると、耐久性がさらに向上
される。

基体上に形成される磁性層は、γ−Ｆｅ２０３粉末、Ｆ
ｅ３Ｏ４粉末、ＣＯ含有ｒ−Ｆｅ２０３粉末、Ｃｏ含有
Ｆｅ３Ｏ４粉末、Ｆｅ粉末、ＣＯ粉末、Ｆｅ−Ｎｉ粉末
などの磁性粉末を結合剤成分および有機溶剤等とともに
基体上に塗布、乾燥するか、あるいは、Ｃｏ、Ｆｅ、Ｎ
ｉ、、Ｃｏ−Ｎｉ合金、Ｃｏ−Ｃｒ合金、Ｃｏ−Ｐ合金
、Ｃｏ−Ｎ１−Ｐ合金などの強磁性材を、真空蒸着、イ
オンブレーティング、スパッタリング、メッキ等の手段
によって基体上に被着するなどの方法で形成される。

また、磁気記録媒体としては、ポリエステルフィルム、
ポリイミドフィルムなどの合成樹脂フィルムを基体とす
る磁気テープ、合成樹脂フィルム、アルミニウム板およ
びガラス板等からなる円盤やドラムを基体とする磁気デ
ィスクや磁気ドラムなど、磁気ヘッドと摺接する構造の
種々の形態を包含する。

〔実施例〕

次に、この発明の実施例について説明する。

実施例１ 厚さ１０μｍのポリエステルフィルムを真空蒸着装置に
装填し、ｌＸｌ０’トールの真空下でコバルトを加熱蒸
発させてポリエステルフィルム上に厚さ１０００人のコ
バルトからなる強磁性金属薄膜層を形成した。次いで、
第１図に示すプラズマ処理装置を使用し、強磁性金属薄
膜層を形成したポリエステルフィルムｌを処理槽２内で
供給ロール３からガイドロール４および５を介して巻き
取りロール６に巻き取るようにセットし、た。次ぎに、
処理槽２に取りつけたガス導入管７からメタンのモノマ
ーガスを１００ｓｅｃｍの流量で導入し、ガス圧０．０
５　トール、処理槽２内下部に配設した下部電極８の高
周波電力密度０．５Ｗ／ｃＪでプラズマ重合を行い、厚
さ５０人のプラズマ重合保護膜層を形成した。次いでこ
れをＣｙ　Ｆ１５　（ＣＨ２）　ｔ。

Ｃ０ＯＨの０．１重量％クロロホルム溶液中に浸漬し、
乾燥して、厚さが５０人のフッ素化脂肪酸からなる第２
の保護膜層を形成した。しかる後、所定の巾に裁断して
第２図に示すようなポリエステルフィルム１上に強磁性
金属薄膜層１２、プラズマ重合保護膜層１３およびフッ
素化脂肪酸からなる第２の保護膜層１４を順次に積層形
成した磁気テープＡをつくった。なお、第１図中９はガ
イドロール４および５間を移動するポリエステルフィル
ム１の直上に配設した上部電極であり、１０は処理槽２
内を減圧するための排気系、１１は下部電極８に高周波
を印加するだめの高周波電源である。

実施例２ 実施例１におけるプラズマ重合保護膜層の形成において
、プラズマ重合に引続き、処理槽２に取りつけたガス導
入管７から酸素ガスを２００ｓｅｃｍの流量で導入し、
ガス圧０’、０６トール、下部電極８の高周波電力密度
０．５Ｗ／ｃ＋ｄでプラズマ処理を行った以外は、実施
例１と同様にしてプラズマ重合保護膜層を形成し、磁気
テープＡをつくった。

実施例３ 実施例１におけるプラズマ重合保護膜層の形成において
、ガス導入管７からメタンの七ツマーガスに代えて、テ
トラメチルシランのモノマーガスを１００ｓｅｃｍの流
量で導入して、ガス圧を０．０７　）−ルとした以外は
実施例１と同様にしてプラズマ重合保護膜層を形成し、
磁気テープＡをつくった。このときのプラズマ重合保護
膜層の層厚は１００人であった。

実施例４ 実施例１におけるプラズマ重合保護膜層の形成において
、メタンの七ツマーガスに代えて、テトラメチルスズの
モノマーガスを５Ｑｓｃｃｍの流量で導入し、ガス圧を
０．０３　）−ルとした以外は、実施例１と同様にして
プラズマ重合保護膜層を形成し、磁気テープＡをつくっ
た。このときのプラズマ重合保護膜層の層厚は３０人で
あった。

実施例５ 実施例１におけるプラズマ重合保護膜層の形成に代えて
、処理槽２内の下部電極８上にカプトンをターゲットと
してセットし、ガス導入管７からアルゴンガスを２００
ｓｅｃｍの流量で真空槽２内に導入し、アルゴンガスの
ガス圧３ＸＩＱ’ｌ−−ルで、下部電極８の高周波電力
密度を０　、８　Ｗ　／　ＣＩＡとしてスパッタリング
を行い、厚さ５０人の第１の保護膜層を形成した以外は
、実施例１と同様にして磁気テープをつくった。

実施例６ 実施例１におけるフッ素化脂肪酸からなる潤滑剤層の形
成において、Ｃ７Ｆ＋ｓ　　（ＣＩ２　）　＋ｏ　Ｃ０
ＯＨの０．１重量％クロロホルム溶液に代えて、Ｃ３Ｆ
、（ＣＨ２）＋ｅＣＯＯＨの０．１重量％クロロホルム
溶液を使用した以外は、実施例１と同様にして厚さ６０
人のフ・７素化脂肪酸からなる第２の保護膜層を形成し
、磁気テープＡをつくった。

実施例７ α−Ｆｅ磁性粉末　　　　　　　６００重量部エスレソ
クＣＮ（漬水化学工業　　８０〃社製、塩化ビニル−酢
酸ビニ ル共重合体） バンデックスＴ−５２５０（大　　３０〃ロ本インキ化
学工業社製、ウ レタンエラストマー） コロネートしく日本ボリウレタ　　１０〃ン工業社製、
三官能性低分子 量インシアネート化合物） メチルイソブチルケトン　　　　４００〃トルエン　　
　　　　　　　　　４００〃この組成物をボールミル中
で７２時間混合分散して磁性塗料を調製し、この磁性塗
料を厚さ１０μｍのポリエステルフィルム上に乾燥厚が
４μｍとなるように塗布、乾燥して磁性層を形成した。

次いで、これに実施例１と同様にしてプラズマ重合保護
膜層およびフッ素化脂肪酸からなる第２の保護膜層を形
成し、磁気テープをつくった。

実施例８ 実施例１において、コバルトからなる強磁性全屈薄膜層
を形成した後、これを真空蒸着装置から取り出し、大気
圧に保たれた熱処理槽において処理温度６０℃、相対湿
度３０％で、３時間加熱処理した以外は、実施例１と同
様にしてプラズマ重合保護膜層およびフッ素化脂肪酸か
らなる第２の保護膜層を形成し、磁気テープＡをつくっ
た。

比較例１ 実施例１において、プラズマ重合保護膜層の形成および
フッ素化脂肪酸からなる第２の保護膜層の形成を省いた
以外は、実施例１と同様にして磁気テープをつくった。

比較例２ 実施例１において、フッ素化脂肪酸からなる第２の保護
膜層の形成を省いた以外は実施例１と同様にして磁気テ
ープをつくった。

各実施例および比較例で得られた磁気テープについて、
摩擦係数を測定し、耐久性および耐食性を試験した。耐
久性試験は磁気テープを摺動試験し、プラズマ重合保護
膜層もしくは磁性層に傷がつくまでの摺動回数を測定し
て行った。また、耐食性試験は、得られた磁気テープを
６０°Ｃ１９０％ＲＩ−１の条件下に７日間放置して最
大磁束密度を測定し、放置前の磁気テープの最大磁束密
度を１００％としてこれと比較した値でその劣化率を調
べて行った。

下表はその結果である。

〔発明の効果〕

上表から明らかなように、この発明で得られた磁気テー
プ（実施例１ないし８）は、いずれも比較例１および２
で得られた磁気テープに比し、摩擦係数が小さく、また
摺動回数が多くて劣化率が小さく、このことからこの発
明によって得られる磁気記録媒体は、一段と耐久性およ
び耐食性に優れていることがわかる。

【図面の簡単な説明】

第１図はプラズマ重合保護膜層を形成する際に使用する
プラズマ処理装置の１例を示す概略断面図、第２図はこ
の発明の製造方法によって得られた磁気テープの部分拡
大断面図である。 １・・・ポリエステルフィルム（基体）、１２・・・強
磁性金属薄膜Ｍ（磁性層）、１３・・・プラズマ重合保
護膜層（有機高分子化合物からなる第１の保護膜層）、
１４・・・フッ素化脂肪酸からなる第２の保護膜層、Ａ
・・・磁気テープ（磁気記録媒体）特許出願人　　日立
マクセル株式会社 第１図

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、基体上に磁性層を形成し、この磁性層上に少なくと
   も炭素原子と水素原子と酸素原子とを含む高分子化合物
   からなる第１の保護膜層を設け、さらにこの高分子化合
   物からなる第１の保護膜層上に、水素原子の一部もしく
   は全部をフッ素化した脂肪酸からなる第２の保護膜層を
   設けたことを特徴とする磁気記録媒体 ２、磁性層上に形成した高分子化合物からなる第１の保
   護膜層中に含まれる酸素原子の含有量を表面層ほど多く
   した特許請求の範囲第１項記載の磁気記録媒体 ３、磁性層上に形成した高分子化合物からなる第１の保
   護膜層中にさらにケイ素原子を含む特許請求の範囲第１
   項および第２項記載の磁気記録媒体 ４、磁性層上に形成した高分子化合物からなる第１の保
   護膜層中にさらに金属原子を含む特許請求の範囲第１項
   ないし第３項記載の磁気記録媒体 ５、基体上に磁性層を形成し、次いで、この磁性層上に
   少なくとも炭素原子と水素原子と酸素原子とを含む有機
   化合物のモノマーガスをプラズマ重合させて、少なくと
   も炭素原子と水素原子と酸素原子とを含む高分子化合物
   からなる第１の保護膜層を形成し、さらにこの高分子化
   合物からなる第１の保護膜層上に、水素原子の一部もし
   くは全部をフッ素化した脂肪酸からなる第２の保護膜層
   を形成することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法 ６、磁性層上に形成した高分子化合物からなる第１の保
   護膜層中にさらにケイ素原子を含む特許請求の範囲第５
   項記載の磁気記録媒体の製造方法 ７、磁性層上に形成した高分子化合物からなる第１の保
   護膜層中にさらに金属原子を含む特許請求の範囲第５項
   および第６項記載の磁気記録媒体の製造方法 ８、基体上に磁性層を形成し、次いで、この磁性層上に
   少なくとも炭素原子と水素原子と酸素原子とを含む高分
   子化合物をスパッタリングして、少なくとも炭素原子と
   水素原子と酸素原子とを含む高分子化合物からなる第１
   の保護膜層を形成し、さらにこの高分子化合物からなる
   第１の保護膜層上に、水素原子の一部もしくは全部をフ
   ッ素化した脂肪酸からなる第２の保護膜層を形成するこ
   とを特徴とする磁気記録媒体の製造方法 ９、磁性層上に形成した高分子化合物からなる第１の保
   護膜層中にさらにケイ素原子を含む特許請求の範囲第８
   項記載の磁気記録媒体の製造方法 １０、磁性層上に形成した高分子化合物からなる第１の
   保護膜層中にさらに金属原子を含む特許請求の範囲第８
   項および第９項記載の磁気記録媒体の製造方法 １１、基体上に磁性層を形成し、次いで、この磁性層上
   に少なくとも炭素原子と水素原子とを含む有機化合物の
   モノマーガスをプラズマ重合させて、少なくとも炭素原
   子と水素原子とを含む高分子化合物からなる保護膜層を
   形成し、しかる後、この高分子化合物からなる保護膜層
   を酸素ガスないし酸素ガスを含むガスでプラズマ処理し
   て、少なくとも炭素原子と水素原子と酸素原子とを含み
   かつ酸素原子の含有量を表面層ほど多くした高分子化合
   物からなる第１の保護膜層を形成し、さらにその上に、
   水素原子の一部もしくは全部をフッ素化した脂肪酸から
   なる第２の保護膜層を形成することを特徴とする磁気記
   録媒体の製造方法 １２、磁性層上に形成した高分子化合物からなる第１の
   保護膜層中にさらにケイ素原子を含む特許請求の範囲第
   １１項記載の磁気記録媒体の製造方法 １３、磁性層上に形成した高分子化合物からなる第１の
   保護膜層中にさらに金属原子を含む特許請求の範囲第１
   １項および第１２項記載の磁気記録媒体の製造方法 １４、基体上に磁性層を形成し、次いで、この磁性層上
   に少なくとも炭素原子と水素原子とを含む高分子化合物
   をスパッタリングして、少なくとも炭素原子と水素原子
   とを含む高分子化合物からなる保護膜層を形成し、しか
   る後、この高分子化合物からなる保護膜層を酸素ガスな
   いし酸素ガスを含むガスでプラズマ処理して、少なくと
   も炭素原子と水素原子と酸素原子とを含みかつ酸素原子
   の含有量を表面層ほど多くした高分子化合物からなる第
   １の保護膜層を形成し、さらにその上に、水素原子の一
   部もしくは全部をフッ素化した脂肪酸からなる第２の保
   護膜層を形成することを特徴とする磁気記録媒体の製造
   方法 １５、磁性層上に形成した高分子化合物からなる第１の
   保護膜層中にさらにケイ素原子を含む特許請求の範囲第
   １４項記載の磁気記録媒体の製造方法 １６、磁性層上に形成した高分子化合物からなる第１の
   保護膜層中にさらに金属原子を含む特許請求の範囲第１
   ４項および第１５項記載の磁気記録媒体の製造方法