JPS62157324A - 磁気記録媒体およびその製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体およびその製造方法Info
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- JPS62157324A JPS62157324A JP60299027A JP29902785A JPS62157324A JP S62157324 A JPS62157324 A JP S62157324A JP 60299027 A JP60299027 A JP 60299027A JP 29902785 A JP29902785 A JP 29902785A JP S62157324 A JPS62157324 A JP S62157324A
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- Japan
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- film layer
- magnetic
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は磁気記録媒体およびその製造方法に関し、さ
らに詳しくは摩擦係数が小さくて走行安定性および耐久
性に優れた磁気記録媒体およびその製造方法に関する。
らに詳しくは摩擦係数が小さくて走行安定性および耐久
性に優れた磁気記録媒体およびその製造方法に関する。
一般に、金属もしくはそれらの合金などを真空蒸着、ス
パッタリング等によって基体フィルム上に被着するか、
あるいは磁性粉末を結合剤成分とともに基体フィルム上
に被着してつくられる磁気記録媒体は、記録再生時に磁
気ヘッド等と激しく摺接するため磁性層が摩耗されやす
く、特に真空蒸着等によって形成される強磁性金属薄膜
層は、高密度記録に適した特性を有する反面、磁気ヘッ
ドとの摩擦係数が大きくて摩耗や損傷を受は易く、耐久
性に劣るという難点がある。
パッタリング等によって基体フィルム上に被着するか、
あるいは磁性粉末を結合剤成分とともに基体フィルム上
に被着してつくられる磁気記録媒体は、記録再生時に磁
気ヘッド等と激しく摺接するため磁性層が摩耗されやす
く、特に真空蒸着等によって形成される強磁性金属薄膜
層は、高密度記録に適した特性を有する反面、磁気ヘッ
ドとの摩擦係数が大きくて摩耗や損傷を受は易く、耐久
性に劣るという難点がある。
このため、従来から磁性層上に種々の保護膜層を設ける
などして、耐久性を改善することが行われており、たと
えば、ケイ素系有機化合物のプラズマ重合保護膜層を磁
性層上に設けたり（特開昭５７−８２２２９号、特開昭
５８−６０４２７号）、フッ素系有機化合物のプラズマ
重合保護膜層を磁性層上に設ける（特開昭５８−８８８
２８号、特開昭５８−１０２３３０号）ことが提案され
ている。
などして、耐久性を改善することが行われており、たと
えば、ケイ素系有機化合物のプラズマ重合保護膜層を磁
性層上に設けたり（特開昭５７−８２２２９号、特開昭
５８−６０４２７号）、フッ素系有機化合物のプラズマ
重合保護膜層を磁性層上に設ける（特開昭５８−８８８
２８号、特開昭５８−１０２３３０号）ことが提案され
ている。
ところが、ケイ素系有機化合物のプラズマ重合保護膜層
を磁性層上に設けたものは、耐摩耗性に優れるものの摩
擦係数が大きくて走行性に劣り、フッ素系有機化合物の
プラズマ重合保護膜層を磁性層上に設けたものは、摩擦
係数が小さくて走行性に優れるものの耐摩耗性にに劣る
という難点があり、未だ、耐久性と走行性がともに良好
なものは得られていない。
を磁性層上に設けたものは、耐摩耗性に優れるものの摩
擦係数が大きくて走行性に劣り、フッ素系有機化合物の
プラズマ重合保護膜層を磁性層上に設けたものは、摩擦
係数が小さくて走行性に優れるものの耐摩耗性にに劣る
という難点があり、未だ、耐久性と走行性がともに良好
なものは得られていない。
この発明は、かかる現状に鑑み鋭意研究を重ねた結果な
されたもので、磁性層上に、少なくとも炭素原子と、水
素原子と、フッ素原子と、金属原子とを含む有機高分子
化合物からなる保護膜層を設け、金属原子の触媒的な作
用によりプラズマ重合反応を促進させ、有機高分子化合
物からなる保護膜層の強度を強化して耐久性を充分に改
善するとともに、無極性のフッ素原子による潤滑作用に
より摩擦係数を充分に低減して、走行性を充分に改善し
たものである。
されたもので、磁性層上に、少なくとも炭素原子と、水
素原子と、フッ素原子と、金属原子とを含む有機高分子
化合物からなる保護膜層を設け、金属原子の触媒的な作
用によりプラズマ重合反応を促進させ、有機高分子化合
物からなる保護膜層の強度を強化して耐久性を充分に改
善するとともに、無極性のフッ素原子による潤滑作用に
より摩擦係数を充分に低減して、走行性を充分に改善し
たものである。
この発明において、磁性層上に被着形成される有機高分
子化合物からなる保護膜層は、処理槽内で、有機金属化
合物のモノマーガスとフッ素系有機化合物のモノマーガ
スとの混合ガスを、高周波あるいはマイクロ波等により
プラズマ重合させて磁性層の表面に被着することによっ
て形成される。この際、プラズマ重合保護膜層中に含ま
れる金属は触媒的な作用をしてプラズマ重合を促進する
゛ ため、極めて架橋密度の高いプラズマ重合保護膜層
が形成され、耐摩耗性が充分に向上される。またプラズ
マ重合保護膜層中に含まれるフッ素は無極性で優れた潤
滑作用を有するため、プラズマ重合保護膜層の摩擦係数
が充分に低減され、走行性が充分に向上される。
子化合物からなる保護膜層は、処理槽内で、有機金属化
合物のモノマーガスとフッ素系有機化合物のモノマーガ
スとの混合ガスを、高周波あるいはマイクロ波等により
プラズマ重合させて磁性層の表面に被着することによっ
て形成される。この際、プラズマ重合保護膜層中に含ま
れる金属は触媒的な作用をしてプラズマ重合を促進する
゛ ため、極めて架橋密度の高いプラズマ重合保護膜層
が形成され、耐摩耗性が充分に向上される。またプラズ
マ重合保護膜層中に含まれるフッ素は無極性で優れた潤
滑作用を有するため、プラズマ重合保護膜層の摩擦係数
が充分に低減され、走行性が充分に向上される。
このようなプラズマ重合に使用される有機金属化合物の
七ツマーガスとしては、モノマー分子中の金属原子数比
が比較的大きいものが好ましく使用され、たとえば、フ
ェロセン、チタノセン、クロモセン、コバルトセン等の
メタロセン、ペンタカルボニル鉄、テトラカルボニルニ
ッケル、オクタカルボニルジコバルト、ヘキサカルボニ
ルクロミウム、ブタジェン鉄トリカルボニル等の金属カ
ルボニル化合物、トリメチルアルミニウム、ジメチル亜
鉛、テトラメチルスズ、テトラメチルゲルマニウム、ジ
エチル水銀等の金属アルキル化合物、ペンフェトキシタ
ンタル、チタニウムテトライソプロポキサイドなどが好
適なものとして使用される。またこれらのモノマーガス
と混合して使用されるフッ素系有機化合物のモノマーガ
スとしては、たとえば、ＣＦ４ 、Ｃ２Ｆ４ 、Ｃ３Ｆ
６などの七ツマーガスが好適なものとして使用される。
七ツマーガスとしては、モノマー分子中の金属原子数比
が比較的大きいものが好ましく使用され、たとえば、フ
ェロセン、チタノセン、クロモセン、コバルトセン等の
メタロセン、ペンタカルボニル鉄、テトラカルボニルニ
ッケル、オクタカルボニルジコバルト、ヘキサカルボニ
ルクロミウム、ブタジェン鉄トリカルボニル等の金属カ
ルボニル化合物、トリメチルアルミニウム、ジメチル亜
鉛、テトラメチルスズ、テトラメチルゲルマニウム、ジ
エチル水銀等の金属アルキル化合物、ペンフェトキシタ
ンタル、チタニウムテトライソプロポキサイドなどが好
適なものとして使用される。またこれらのモノマーガス
と混合して使用されるフッ素系有機化合物のモノマーガ
スとしては、たとえば、ＣＦ４ 、Ｃ２Ｆ４ 、Ｃ３Ｆ
６などの七ツマーガスが好適なものとして使用される。
これらの有機金属化合物の七ツマーガスとフッ素糸有機
化合物のモノマーガスとの混合ガスは、高周波あるいは
マイクロ波等によりラジカルが生成され、この生成され
たラジカルが反応し重合して被膜となる。
化合物のモノマーガスとの混合ガスは、高周波あるいは
マイクロ波等によりラジカルが生成され、この生成され
たラジカルが反応し重合して被膜となる。
プラズマ重合を行う場合のガス圧および高周波やマイク
ロ波の電力は、ガス圧が高くなるほど被着速度が速くな
る反面モノマーガスが比較的架橋密度低くプラズマ重合
されて硬い保護膜層が得られず、またガス圧を低くして
高周波電力を高くすると被着速度が遅くなる反面架橋密
度が比較的高くて硬い保護膜層が得られる。ところが、
ガス圧を低くして高周波電力を高くしすぎると、モノマ
ーガスが粉末化してしまい、プラズマ重合保護膜層が形
成されなくなったり、金属が含有されにくくなるため、
ガス圧を０．００３〜５トールの範囲内とし、平方セン
チあたりの高周波電力を０．０３〜３Ｗ ／ ｃｎｌの
範囲内とするのが好ましく、ガス圧を、０．００５〜３
トールとし、平方センナあたりの高周波電力を０．０５
〜２ Ｗ ／ ｃｎＴの範囲内とするのがより好ましい
。このようにしてプラズマ重合によって被着形成される
金属原子およびフッ素原子を含む有機化合物のプラズマ
重合保護膜層は、プラズマ重合保護膜層中に含ませた金
属が触媒的な作用をしてプラズマ重合を促進するため、
極めて架橋密度の高いプラズマ重合保護膜層が形成され
、またプラズマ重合保護膜層中に含まれるフッ素は無極
性で優れた潤滑作用を有するため、プラズマ重合保護膜
層の摩擦係数が充分に低減される。従って、この種の金
属原子およびフッ素原子を含む有機化合物のプラズマ重
合保護膜層が、磁性層上に形成されると耐久性および走
行性が一段と向上される。このような金属原子およびフ
ッ素原子を含む有機化合物のプラズマ重合保護膜層の膜
厚は、２０〜１０００人の範囲内であることが好ましく
、膜厚が薄すぎるとこの保護膜層による耐久性および走
行性の効果が充分に発揮されず、厚すぎるとスペーシン
グロスが大きくなりすぎて電磁変換特性に悪影響を及ぼ
す。
ロ波の電力は、ガス圧が高くなるほど被着速度が速くな
る反面モノマーガスが比較的架橋密度低くプラズマ重合
されて硬い保護膜層が得られず、またガス圧を低くして
高周波電力を高くすると被着速度が遅くなる反面架橋密
度が比較的高くて硬い保護膜層が得られる。ところが、
ガス圧を低くして高周波電力を高くしすぎると、モノマ
ーガスが粉末化してしまい、プラズマ重合保護膜層が形
成されなくなったり、金属が含有されにくくなるため、
ガス圧を０．００３〜５トールの範囲内とし、平方セン
チあたりの高周波電力を０．０３〜３Ｗ ／ ｃｎｌの
範囲内とするのが好ましく、ガス圧を、０．００５〜３
トールとし、平方センナあたりの高周波電力を０．０５
〜２ Ｗ ／ ｃｎＴの範囲内とするのがより好ましい
。このようにしてプラズマ重合によって被着形成される
金属原子およびフッ素原子を含む有機化合物のプラズマ
重合保護膜層は、プラズマ重合保護膜層中に含ませた金
属が触媒的な作用をしてプラズマ重合を促進するため、
極めて架橋密度の高いプラズマ重合保護膜層が形成され
、またプラズマ重合保護膜層中に含まれるフッ素は無極
性で優れた潤滑作用を有するため、プラズマ重合保護膜
層の摩擦係数が充分に低減される。従って、この種の金
属原子およびフッ素原子を含む有機化合物のプラズマ重
合保護膜層が、磁性層上に形成されると耐久性および走
行性が一段と向上される。このような金属原子およびフ
ッ素原子を含む有機化合物のプラズマ重合保護膜層の膜
厚は、２０〜１０００人の範囲内であることが好ましく
、膜厚が薄すぎるとこの保護膜層による耐久性および走
行性の効果が充分に発揮されず、厚すぎるとスペーシン
グロスが大きくなりすぎて電磁変換特性に悪影響を及ぼ
す。
このようにして形成された有機高分子化合物からなる保
護膜層における金属原子は、保護膜層を構成する炭素原
子と水素原子とフッ素原子と金属原子の合計量に対して
１０〜５０重量％の割合で含有されていることが好まし
く、１０Ｍ量％より少なくては充分に架橋密度の高いプ
ラズマ重合保護膜層が形成されず、耐摩耗性が充分に向
上されない。また５０重量％より多くなるとフッ素の潤
滑効果が低減されて走行性が充分に改善されない。また
、このような有機高分子化合物からなる保護膜層中にお
けるフッ素原子は、炭素原子と水素原子とフッ素原子と
金属原子の合計量に対して３０〜６０重量％の割合で含
有されていることが好ましく、３０重量％より少なくて
は充分に潤滑効果を発揮することができず、走行安定性
が充分に向上されない。また６０重量％より多くなると
金属の触媒的な作用が効果的に発揮されず、耐摩耗性が
充分に向上されない。さらに、このような有機高分子化
合物からなる保護膜層中における炭素原子は、炭素原子
と水素原子とフッ素原子と金属原子の合計量に対して１
０〜４０重量％であることが好ましく、水素原子は、炭
素原子と水素原子とフッ素原子と金属原子の合計量に対
して０．５〜５重量％であることが好ましい。なお、上
記有機高分子化合物からなる保護膜層中には、酸素原子
を含有させることができる。
護膜層における金属原子は、保護膜層を構成する炭素原
子と水素原子とフッ素原子と金属原子の合計量に対して
１０〜５０重量％の割合で含有されていることが好まし
く、１０Ｍ量％より少なくては充分に架橋密度の高いプ
ラズマ重合保護膜層が形成されず、耐摩耗性が充分に向
上されない。また５０重量％より多くなるとフッ素の潤
滑効果が低減されて走行性が充分に改善されない。また
、このような有機高分子化合物からなる保護膜層中にお
けるフッ素原子は、炭素原子と水素原子とフッ素原子と
金属原子の合計量に対して３０〜６０重量％の割合で含
有されていることが好ましく、３０重量％より少なくて
は充分に潤滑効果を発揮することができず、走行安定性
が充分に向上されない。また６０重量％より多くなると
金属の触媒的な作用が効果的に発揮されず、耐摩耗性が
充分に向上されない。さらに、このような有機高分子化
合物からなる保護膜層中における炭素原子は、炭素原子
と水素原子とフッ素原子と金属原子の合計量に対して１
０〜４０重量％であることが好ましく、水素原子は、炭
素原子と水素原子とフッ素原子と金属原子の合計量に対
して０．５〜５重量％であることが好ましい。なお、上
記有機高分子化合物からなる保護膜層中には、酸素原子
を含有させることができる。
基体上に形成される磁性層は、Ｔ−Ｆｅ２ｏ３粉末、Ｆ
ｅ３Ｏ４粉末、Ｃｏ含含有−Ｆｅ２ｏ３粉末、Ｃｏ含有
Ｆｅ３Ｏ４粉末、Ｆｅ粉末、Ｃ。
ｅ３Ｏ４粉末、Ｃｏ含含有−Ｆｅ２ｏ３粉末、Ｃｏ含有
Ｆｅ３Ｏ４粉末、Ｆｅ粉末、Ｃ。
粉末、Ｆｅ−Ｎｉ粉末などの磁性粉末を結合剤成分およ
び有機溶剤等とともに基体上に塗布、乾燥するか、ある
いは、Ｃｏ、 Ｆｅ、 Ｎｉ、Ｃｏ−Ｎｉ合金、Ｃｏ−
Ｃｒ合金、Ｃｏ−Ｆｅ合金、Ｃ。
び有機溶剤等とともに基体上に塗布、乾燥するか、ある
いは、Ｃｏ、 Ｆｅ、 Ｎｉ、Ｃｏ−Ｎｉ合金、Ｃｏ−
Ｃｒ合金、Ｃｏ−Ｆｅ合金、Ｃ。
−Ｐ合金、Ｃｏ−Ｎ１−Ｐ合金などの強磁性材を、真空
蒸着、イオンブレーティング、スパッタリング、メッキ
等の手段によって基体上に被着するなどの方法で形成さ
れる。
蒸着、イオンブレーティング、スパッタリング、メッキ
等の手段によって基体上に被着するなどの方法で形成さ
れる。
また、磁気記録媒体としては、ポリエステルフィルム、
ポリイミドフィルムなどの合成樹脂フィルムを基体とす
る磁気テープ、合成樹脂フィルム、アルミニウム板およ
びガラス板等からなる円盤やドラムを基体とする磁気デ
ィスクや磁気ドラムなど、磁気ヘッドと摺接する構造の
種々の形態を包含する。
ポリイミドフィルムなどの合成樹脂フィルムを基体とす
る磁気テープ、合成樹脂フィルム、アルミニウム板およ
びガラス板等からなる円盤やドラムを基体とする磁気デ
ィスクや磁気ドラムなど、磁気ヘッドと摺接する構造の
種々の形態を包含する。
次に、この発明の実施例について説明する。
実施例１
厚さ１０μｍのポリエステルフィルムを真空蒸着装置に
装填し、５Ｘ１０−５）−ルの真空下でコバルトを加熱
蒸発させてポリエステルフィルム上に厚さ１０００人の
コバルトからなる強磁性金属薄膜層を形成した。次いで
、第１図に示すプラズマ処理装置を使用し、強磁性金属
薄膜層を形成したポリエステルフィルム１を、処理槽２
内の供給ロール３から円筒状キャン４の周側面に沿って
摺接移動させ、巻き取りロール５に巻き取るようにセッ
トした。次いで、処理槽２に取りつけたガス導入管６か
らペンタカルボニル鉄の七ツマーガスを２０ｓｅｃｍの
流量で導入し、かつ０２Ｆ４のモノマーガスを３０ｓｅ
ｃｍの流量で導入して、電極７に１３．５６ＭＨｚの高
周波電力を２５０Ｗで印加してプラズマ重合を行い、厚
さ２００人のプラズマ重合保護膜層を形成した。プラズ
マ重合保護膜層中における鉄の含有率は３０重量％で、
フッ素の含有率は４０重量％であった。しかる後、所定
の巾に裁断して第２図に示すようなポリエステルフィル
ム１上に強磁性金属薄膜層１０およびプラズマ重合保護
膜層１１を順次に積層形成した磁気テープＡをつくった
。なお、第１図中８は処理槽２内を減圧するための排気
系であり、９は電極７に高周波を印加するための高周波
電源である。
装填し、５Ｘ１０−５）−ルの真空下でコバルトを加熱
蒸発させてポリエステルフィルム上に厚さ１０００人の
コバルトからなる強磁性金属薄膜層を形成した。次いで
、第１図に示すプラズマ処理装置を使用し、強磁性金属
薄膜層を形成したポリエステルフィルム１を、処理槽２
内の供給ロール３から円筒状キャン４の周側面に沿って
摺接移動させ、巻き取りロール５に巻き取るようにセッ
トした。次いで、処理槽２に取りつけたガス導入管６か
らペンタカルボニル鉄の七ツマーガスを２０ｓｅｃｍの
流量で導入し、かつ０２Ｆ４のモノマーガスを３０ｓｅ
ｃｍの流量で導入して、電極７に１３．５６ＭＨｚの高
周波電力を２５０Ｗで印加してプラズマ重合を行い、厚
さ２００人のプラズマ重合保護膜層を形成した。プラズ
マ重合保護膜層中における鉄の含有率は３０重量％で、
フッ素の含有率は４０重量％であった。しかる後、所定
の巾に裁断して第２図に示すようなポリエステルフィル
ム１上に強磁性金属薄膜層１０およびプラズマ重合保護
膜層１１を順次に積層形成した磁気テープＡをつくった
。なお、第１図中８は処理槽２内を減圧するための排気
系であり、９は電極７に高周波を印加するための高周波
電源である。
実施例２
実施例１におけるプラズマ重合保護膜層の形成において
、ペンタカルボニル鉄の七ツマーガスに代えて、クロモ
センのモノマーガスを同量導入した以外は実施例１と同
様にして厚さ２００人のプラズマ重合保護膜層を形成し
、磁気テープＡをつくった。プラズマ重合保護膜層にお
けるクロムの含有率は１５重量％で、フッ素の含有率は
４５Ｍ量％であった。
、ペンタカルボニル鉄の七ツマーガスに代えて、クロモ
センのモノマーガスを同量導入した以外は実施例１と同
様にして厚さ２００人のプラズマ重合保護膜層を形成し
、磁気テープＡをつくった。プラズマ重合保護膜層にお
けるクロムの含有率は１５重量％で、フッ素の含有率は
４５Ｍ量％であった。
実施例３
実施例１におけるプラズマ重合保護膜層の形成において
、０２Ｆ４のモノマーガスに代えて、０３ＦＧのモノマ
ーガスを同量導入した以外は実施例１と同様にして厚さ
２００人のプラズマ重合保護膜層を形成し、磁気テープ
Ａをつくった。プラズマ重合保護膜層における鉄の含有
率は２３ｆｉ量％で、フッ素の含有率は４５重量％であ
った。
、０２Ｆ４のモノマーガスに代えて、０３ＦＧのモノマ
ーガスを同量導入した以外は実施例１と同様にして厚さ
２００人のプラズマ重合保護膜層を形成し、磁気テープ
Ａをつくった。プラズマ重合保護膜層における鉄の含有
率は２３ｆｉ量％で、フッ素の含有率は４５重量％であ
った。
実施例４
α−Ｆｅ磁性粉末 ６００重量部エスレッ
クＣＮ （積木化学工業 ８０〃社製、塩化ビニル−
酢酸ビニ ル共重合体） パンデソクスＴ−５２５０（大 ３０〃日本インキ化
学工業社製、ウ レタンエラストマー） コロネートし （日本ボリウレタ １０〃ン工業社製
、三官能性低分子 量イソシアネート化合物） メチルイソブチルケトン ４００〃トルエン
４００〃この組成物をボールミル中
で７２時間混合分散して磁性塗料を調製し、この磁性塗
料を厚さ１０μｍのポリエステルフィルム上に乾燥圧が
４μｍとなるように塗布、乾燥して磁性層を形成した。
クＣＮ （積木化学工業 ８０〃社製、塩化ビニル−
酢酸ビニ ル共重合体） パンデソクスＴ−５２５０（大 ３０〃日本インキ化
学工業社製、ウ レタンエラストマー） コロネートし （日本ボリウレタ １０〃ン工業社製
、三官能性低分子 量イソシアネート化合物） メチルイソブチルケトン ４００〃トルエン
４００〃この組成物をボールミル中
で７２時間混合分散して磁性塗料を調製し、この磁性塗
料を厚さ１０μｍのポリエステルフィルム上に乾燥圧が
４μｍとなるように塗布、乾燥して磁性層を形成した。
次いで、これに実施例１と同様にしてプラズマ重合保護
膜層を形成し、磁気テープをつくった。
膜層を形成し、磁気テープをつくった。
比較例１
実施例１におけるプラズマ重合保護膜層の形成において
、ペンタカルボニル鉄の七ツマーガスの導入を省いた以
外は、実施例１と同様にして厚さが１５０人で、フッ素
の含有率が６５重量％のプラズマ重合保護膜層を形成し
、磁気テープをつくった。
、ペンタカルボニル鉄の七ツマーガスの導入を省いた以
外は、実施例１と同様にして厚さが１５０人で、フッ素
の含有率が６５重量％のプラズマ重合保護膜層を形成し
、磁気テープをつくった。
比較例２
実施例１におけるプラズマ重合保護膜層の形成において
、ｃ２Ｆ４のモノマーガスの導入を省いた以外は、実施
例１と同様にして厚さが１７０人で、鉄の含有率が２５
重量％のプラズマ重合保護膜層を形成し、磁気テープを
つくった。
、ｃ２Ｆ４のモノマーガスの導入を省いた以外は、実施
例１と同様にして厚さが１７０人で、鉄の含有率が２５
重量％のプラズマ重合保護膜層を形成し、磁気テープを
つくった。
比較例３
実施例１において、プラズマ重合保護膜層の形成を省い
た以外は実施例１と同様にして磁気テープをつくった。
た以外は実施例１と同様にして磁気テープをつくった。
各実施例および比較例で得られた磁気テープについて、
摩擦係数を測定し、耐久性を試験した。
摩擦係数を測定し、耐久性を試験した。
摩擦係数は摺動試験機を用いて１００回摺動後のＦ；ｆ
擦係数を測定した。また耐久性試験はスチル寿命試験機
を用いてスチル寿命を測定して行った。
擦係数を測定した。また耐久性試験はスチル寿命試験機
を用いてスチル寿命を測定して行った。
下表はその結果である。
上表から明らかなように、この発明で得られた磁気テー
プ（実施例工ないし４）は、いずれも比較例１ないし３
で得られた磁気テープに比し、摩擦係数が小さくて、ス
チル寿命が長く、このことからこの発明によって得られ
る磁気記録媒体は、一段と走行性および耐久性に優れて
いることがわかる。
プ（実施例工ないし４）は、いずれも比較例１ないし３
で得られた磁気テープに比し、摩擦係数が小さくて、ス
チル寿命が長く、このことからこの発明によって得られ
る磁気記録媒体は、一段と走行性および耐久性に優れて
いることがわかる。
第１図はプラズマ重合保護膜層を形成する際に使用する
プラズマ処理装置の１例を示す概略断面図、第２図はこ
の発明の製造方法によって得られた磁気テープの部分拡
大断面図である。 １・・・ポリエステルフィルム（基体）、１０・・・強
磁性金属薄膜Ｎ（磁性層）、１１・・・プラズマ重合保
護膜層（有機高分子化合物からなる保護膜層）、Ａ・・
・磁気テープ（磁気記録媒体）特許出願人 日立マク
セル株式会社 第１図
プラズマ処理装置の１例を示す概略断面図、第２図はこ
の発明の製造方法によって得られた磁気テープの部分拡
大断面図である。 １・・・ポリエステルフィルム（基体）、１０・・・強
磁性金属薄膜Ｎ（磁性層）、１１・・・プラズマ重合保
護膜層（有機高分子化合物からなる保護膜層）、Ａ・・
・磁気テープ（磁気記録媒体）特許出願人 日立マク
セル株式会社 第１図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、基体上に磁性層を形成し、この磁性層上に少なくと
も炭素原子と、水素原子と、フッ素原子と、金属原子と
を含む有機高分子化合物からなる保護膜層を設けたこと
を特徴とする磁気記録媒体２、有機高分子化合物からな
る保護膜層中に、炭素原子と水素原子とフッ素原子と金
属原子との合計量に対して１０〜５０重量％の金属原子
を含有させた特許請求の範囲第１項記載の磁気記録媒体 ３、有機高分子化合物からなる保護膜層中に、炭素原子
と水素原子とフッ素原子と金属原子との合計量に対して
３０〜６０重量％のフッ素原子を含有させた特許請求の
範囲第１項および第２項記載の磁気記録媒体 ４、有機高分子化合物からなる保護膜層の膜厚が２０〜
１０００Åである特許請求の範囲第１項ないし第３項記
載の磁気記録媒体 ５、基体上に磁性層を形成し、次いで、この磁性層を、
有機金属化合物のモノマーガスとフッ素系有機化合物の
モノマーガスの混合モノマーガス中にさらしてプラズマ
重合を行い、磁性層上に少なくとも炭素原子と、水素原
子と、フッ素原子と、金属原子とを含む有機高分子化合
物からなる保護膜層を形成することを特徴とする磁気記
録媒体の製造方法 ６、有機高分子化合物からなる保護膜層中に、炭素原子
と水素原子とフッ素原子と金属原子との合計量に対して
１０〜５０重量％の金属原子を含有させた特許請求の範
囲第５項記載の磁気記録媒体の製造方法 ７、有機高分子化合物からなる保護膜層中に、炭素原子
と水素原子とフッ素原子と金属原子との合計量に対して
３０〜６０重量％のフッ素原子を含有させた特許請求の
範囲第５項および第６項記載の磁気記録媒体の製造方法 ８、有機高分子化合物からなる保護膜層の膜厚を２０〜
１０００Åにした特許請求の範囲第５項ないし第７項記
載の磁気記録媒体の製造方法
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60299027A JPS62157324A (ja) | 1985-12-28 | 1985-12-28 | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60299027A JPS62157324A (ja) | 1985-12-28 | 1985-12-28 | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62157324A true JPS62157324A (ja) | 1987-07-13 |
Family
ID=17867270
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60299027A Pending JPS62157324A (ja) | 1985-12-28 | 1985-12-28 | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62157324A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0224884A (ja) * | 1988-07-14 | 1990-01-26 | Tdk Corp | 媒体用部材 |
-
1985
- 1985-12-28 JP JP60299027A patent/JPS62157324A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0224884A (ja) * | 1988-07-14 | 1990-01-26 | Tdk Corp | 媒体用部材 |
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