JP2005209265A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents

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Abstract

【課題】 トップコート層における潤滑剤分布のバラツキを防止することにより、走行耐久性に優れた磁気記録媒体を歩留よく製造することができる磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】 非磁性支持体の一方の面上に、金属薄膜磁性層、炭素を主成分とする硬質膜およびトップコート層を順次形成して磁気記録媒体を製造するに際し、炭素を主成分とする硬質膜上に、潤滑剤と、沸点の異なる2種以上の溶剤とを含有するトップコート層溶液を塗布した後、トップコート層溶液の溶剤のうち、最も高い沸点を有する溶剤の沸点よりも10℃低い温度以下であって最も高い沸点を有する溶剤の沸点よりも30℃低い温度より高い温度で乾燥を行う第1乾燥工程と、最も高い沸点を有する溶剤の沸点以上の温度で乾燥を行う第2乾燥工程と、を含む乾燥工程により、塗布済みトップコート層を乾燥させる。
【選択図】 なし

Description

本発明は磁気記録媒体の製造方法(以下、単に「製造方法」とも称する)に関し、詳しくは、金属薄膜磁性層を有する蒸着型磁気記録媒体の製造方法であって、トップコート層形成工程の改良により、優れた走行耐久性を実現できる磁気記録媒体の製造方法に関する。
磁気記録媒体の一種として、非磁性支持体(ベース)上に、蒸着により金属薄膜を形成してなる、いわゆる蒸着型磁気記録媒体がある。蒸着型媒体は、塗布型媒体に比して、バインダを含まないために磁性層の充填率が高く、飽和磁化を大きくすることが可能であり、また、薄膜化が容易であるために短波長の記録に対しても記録減磁を抑えることができるなど、高密度記録において有利であるという利点を有している。
かかる蒸着型媒体においては、磁性層の保護層として、炭素を主成分とする硬質膜、いわゆるDLC膜を設けることが一般的であり、このDLC膜上には通常、摩擦係数を低減して走行耐久性を向上する等の目的で、潤滑剤を塗布するなどによりトップコート層が形成される。元来、DLC膜表面は疎水性が強く、水などの極性物質に対してなじみにくい性質を有するため、このトップコート層の形成に際しては、DLC膜表面を酸化性ガスのプラズマ処理などの手法を用いて親水性化することにより、極性物質に対してなじみやすくする手法が汎用されている。
親水性化されたDLC膜表面には様々な極性基が存在しており、これらと潤滑剤の持つ極性基とが相互作用することにより潤滑剤がDLC膜表面に確実に定着されて、これにより走行耐久性や環境耐久性が向上すると考えられる。DLC膜表面の親水性化を行わないと、潤滑剤が極性を有していても、相互作用する対象が存在しないために潤滑剤はDLC膜表面に十分に定着することができず、記録再生時のヘッドトレースによって容易に脱落してしまう。そのため、繰り返し走行においてDLC膜表面上の潤滑剤量が急激に減少して、摩擦係数の上昇が起こり、エッジダメージや走行停止などの問題を引き起こすことになる。
上記のように、トップコート層の形成に際しては、潤滑剤をDLC膜表面に対し確実に定着させることが重要である。かかるトップコート層の改良に関する技術としては、例えば、特許文献1に、DLC膜表面上における潤滑剤の分布を適正化することにより、走行安定性および摩擦安定性を向上した金属薄膜型磁気記録媒体が記載されている。
特開2003−187417号公報(特許請求の範囲等)
ところが、DLC膜表面の親水性化処理を経てトップコート層を形成した場合であっても、トップコート層塗布後の原反ロール上において、潤滑剤の塗布量のバラツキを原因とする水玉模様のような色相の変化が部分的に生ずる場合があった。この現象が生じた部分においては走行耐久性が著しく悪化してしまうため、廃棄せざるを得ないこととなり、結果として製造歩留まりの低下が生じていた。この現象は、特に、トップコート層の潤滑剤として、フッ化ブロックと非フッ化ブロックとがエステル結合により結合しているものを用いた場合に発生することがわかっている。これに対し、例えば、トップコート層溶液塗布後の乾燥工程における乾燥能力を向上させて、熱エネルギーによる潤滑剤分布の改善を図ることも考えられるが、顕著な効果は得られなかった。
そこで本発明の目的は、上記問題を解消して、トップコート層における潤滑剤分布のバラツキを防止することにより、走行耐久性に優れた磁気記録媒体を歩留よく製造することができる磁気記録媒体の製造方法を提供することにある。
本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意検討した結果、トップコート層溶液塗布後の乾燥工程を所定条件下で行うことにより、上述のような潤滑剤分布のバラツキを生ずることなく、均一なトップコート層を形成することができることを見出して、本発明を完成するに至った。
即ち、本発明の磁気記録媒体の製造方法は、非磁性支持体の一方の面上に、金属薄膜磁性層、炭素を主成分とする硬質膜およびトップコート層を順次形成して磁気記録媒体を製造するに際し、
前記炭素を主成分とする硬質膜上に、潤滑剤と、沸点の異なる2種以上の溶剤とを含有するトップコート層溶液を塗布した後、
前記トップコート層溶液の溶剤のうち、最も高い沸点を有する溶剤の沸点よりも10℃低い温度以下であって、該最も高い沸点を有する溶剤の沸点よりも30℃低い温度より高い温度で乾燥を行う第1乾燥工程と、該最も高い沸点を有する溶剤の沸点以上の温度で乾燥を行う第2乾燥工程と、を含む乾燥工程により、前記塗布済みトップコート層を乾燥させることを特徴とするものである。
本発明は、特には、前記潤滑剤として、フッ素ブロックおよび非フッ素ブロックと、該フッ素ブロックおよび非フッ素ブロックを結合するエステル結合とを有する潤滑剤を含むものを用いる場合に効果的である。また、前記溶剤としては、(1)沸点40〜130℃のケトン系溶剤、(2)炭素数4〜10の脂肪族炭化水素系溶剤、および、(3)炭素数6以下のアルコール系溶剤からなる3群から夫々少なくとも1種類ずつ選択される少なくとも3種の溶剤を混合してなる混合溶剤を、好適には、(1)ケトン系溶剤5〜20重量%、(2)脂肪族炭化水素系溶剤10〜40重量%、および、(3)アルコール系溶剤40〜80重量%にて用いることができる。
ここで、本発明において「炭素を主成分とする」とは、膜における炭素含有量が60〜80原子%であることを意味し、炭素の他に、通常、水素が含まれる。水素と炭素との原子比(H/C)は0.25〜0.66の範囲内であることが好ましい。また、「硬質膜」とは、具体的にはビッカース硬度が6370N/mm2(650kg/mm2)以上の膜を意味し、この硬度を屈折率の値で表すと1.9以上である。このような屈折率を有する膜は、その屈折率から硬度を近似できることがわかっている。例えば、屈折率が1.9のときのビッカース硬度は6370N/mm2(650kg/mm2)である。屈折率の上限には特に制限はないが、2.25程度であり、ビッカース硬度29400N/mm2(3000kg/mm2)に対応する。屈折率から硬度を近似する方法としては、硬質膜についてエリプソメーターにて屈折率を測定し、一方で微小硬度計(NEC(株)製)によりビッカース硬度を測定して、あらかじめ検量線を作製しておく方法を用いることができ、これにより屈折率から硬度を知ることができる。また、このような硬質膜は、非晶質またはそれに近い連続相を形成し、ラマン分光分析において、1560cm-1と1330cm-1にブロードなピークを有する。本発明においては、このような「炭素を主成分とする硬質膜」の意味で、「DLC膜」の語を用いる。
本発明によれば、上記構成とすることにより、DLC膜表面上において、潤滑剤を均一に分布させた状態で乾燥、定着することができ、これにより高い走行耐久性を有する磁気記録媒体を製造することが可能となる。
以下、本発明の好適な実施の形態について詳細に説明する。
本発明は、非磁性支持体の一方の面上に、金属薄膜磁性層、DLC膜およびトップコート層を順次形成して磁気記録媒体を製造する製造方法であり、トップコート層を形成する際の乾燥工程の改良に係る技術である。
本発明においては、DLC膜上に、潤滑剤と溶剤とを含有するトップコート層溶液を塗布した後、夫々異なる所定の温度で乾燥を行う第1乾燥工程および第2乾燥工程の2つの乾燥工程により、塗布済みトップコート層を乾燥させる点が重要となる。ここで、本発明の目的である潤滑剤分布の均一化の観点からは、特に、第1乾燥工程における乾燥温度が重要であり、第1乾燥工程における乾燥温度を以下に述べる所定範囲とすることで、不均一な潤滑剤分布の発生を防止することができる。続く第2乾燥工程は、潤滑剤分布には関与しない残留溶剤の除去のために行われる。
具体的には、第1乾燥工程においては、トップコート層溶液の溶剤のうち、最も高い沸点を有する溶剤の沸点よりも10℃低い温度以下であって、同溶剤の沸点よりも30℃低い温度より高い温度で乾燥を行う。乾燥初期の第1乾燥工程の温度を、最も高い沸点を有する溶剤の沸点よりも10℃低い温度以下とすることにより、不均一な潤滑剤分布の発生を防止することができ、走行耐久性に優れた磁気記録媒体を実現することができる。一方、第1乾燥工程の温度を該溶剤の沸点よりも30℃低い温度以下とすると、初期乾燥が不十分となって、その後の高温での第2乾燥工程において結局潤滑剤の不均一な分布が発生してしまい、結果として走行耐久性の悪化を生ずることとなる。
上記のようにすることにより潤滑剤分布を均一化できる理由については明確ではないが、以下のように考えることができる。即ち、トップコート層溶液を溶剤の沸点よりも高い乾燥温度条件で乾燥させた場合、溶剤が突沸するように急激に蒸発することで、トップコート層溶液中で溶剤により均一に分散されていた潤滑剤がDLC膜表面上にそのまま定着されずに潤滑剤同士で寄り集まって凝集してしまい、不均一分布が生ずるのである。本発明においては、初期の乾燥温度を低温に抑えることで、溶剤の急激な蒸発を防止することができ、これにより、潤滑剤を均一な分散状態のままDLC膜表面上に定着させることが可能となる。
次いで、本発明に係る第2乾燥工程では、トップコート層溶液の溶剤のうち、最も高い沸点を有する溶剤の沸点以上の温度で乾燥を行う。上記したように、この第2乾燥工程は残留溶剤の除去のために行われるものであるので、温度の上限は、通常、乾燥温度として選択される範囲内とすればよい。例えば、最も高い沸点を持つ溶剤の沸点と同じ温度から、この沸点より50℃高い温度までの範囲とすることができる。また、非磁性支持体の熱収縮を防ぐために、第2乾燥工程は、80〜100℃の温度範囲で行うことが好ましい。
第1乾燥工程および第2乾燥工程は、例えば、原反を通過させる乾燥炉内を2つの温度領域に区分して、各領域を順次通過させることにより行えばよい。第1乾燥工程は、潤滑剤がDLC膜表面上に定着されるのに必要な時間だけ、即ち、DLC膜表面上のトップコート層塗膜中に溶剤が存在しなくなるまでの時間行うことが必要であり、具体的には例えば、3〜30秒程度とする。一方、第2乾燥工程については、通常選択される乾燥時間を勘案して、DLC膜内部にも含浸されていると考えられる残留溶剤が完全に乾燥されるのに十分な時間で行えばよい。塗装されたトップコート層の塗膜が激しく蒸発しない程度の短い時間であれば、第1乾燥工程の前または途中に、第1乾燥工程以上の高温の温度範囲を設けることも可能である。また、第2乾燥工程の途中または後に、最も高い沸点を有する溶剤の沸点と同じかまたはそれより低い温度の乾燥工程を設けることも可能である。さらに、第1乾燥工程および/または第2乾燥工程内で温度勾配を設けてもよい。
本発明の製造方法においては、トップコート層塗布後の乾燥を上記に従い行うものであればよく、これにより所期の目的を達成することができる。それ以外の塗布等の条件や、他の各層の形成条件、用いる材料については、特に制限されるものではないが、トップコート層溶液に用いる材料としては、例えば、以下のとおりである。
トップコート層の潤滑剤としては、好適には、フッ素原子を含有する化合物の潤滑剤を主成分として含むものを用いることができ、特に、フッ素ブロックおよび非フッ素ブロックを有し、これらがエステル結合、アミド結合、ウレタン結合、エーテル結合等により結合された潤滑剤を含むものを好適に用いることができる。これにより、フッ素ブロックによる高い撥水撥油性が得られ、また、非フッ素ブロックにより、潤滑効果が得られると同時に、フッ素ブロックを持つ潤滑剤の、トルエンやアセトン等の炭化水素系溶媒への溶解性を高めることができる。さらに、上記結合とフッ素ブロック中のフッ素原子以外に強い極性を持つ極性基を持たない潤滑剤を用いる場合に、本発明はより効果的である。潤滑剤の不均一分布は、強い極性を持つ極性基を持たない潤滑剤を用いた場合により発生しやすいと考えられるためである。
フッ素ブロックは、炭素数1〜40のフロロアルキレン鎖、特にパーフロロアルキレン鎖が好ましいが、炭素の一部が水素化されたものであってもよい。炭素鎖は飽和でも不飽和でもよく、また分岐状でも環状でもよく、さらに分子内にエーテル性酸素や塩素、臭素、窒素、硫黄、リンなどの元素を含んでいてもよい。汎用の有機溶剤中では鎖が収縮するため、溶解性に及ぼす鎖長の効果は小さいが、フッ素特有の潤滑性を得るために、フッ素の結合した炭素の数は1以上、特には4以上であることが好ましい。
また、非フッ素ブロックは、アルキレン鎖が好ましいが、炭素鎖は飽和でも不飽和でもよく、また分岐状でも環状でもよく、さらに分子内にエーテル性酸素や塩素、臭素、窒素、硫黄、リンなどの元素を含んでいてもよい。炭素数は1〜40であるが、有機溶剤に対する溶解性を向上させるため、4以上、好ましくは6以上であることが好ましく、炭素数が多いほど有機溶剤や濃度の選択幅が広くなる。
フッ素原子を含有する化合物の潤滑剤とは、具体的には、基本構造として、R1−A−R2で表されるものであり、ここで、R1、A、R2は夫々、
1:CF3(CF2n−、CF3(CF2n(CH2m−、CH3(CH2p−、H−
A:−COO−、−O−、−COOCH(Cp2p+1)CH2COO−、−NHCO−、−NHCOO−
2:CF3(CF2n−、CF3(CF2n(CH2m−、CH3(CH2p−、H−
である。但し、R1とR2とは異なり、n=7〜17、m=1〜3、p=7〜30を満足するものが好ましい。また、R1、R2が直鎖のものであれば、潤滑効果が大きい。nが7より小さいと撥水効果が低い一方、nが17より大きいと撥水効果は増大するが、潤滑剤分子自体の親水性は低下するため、アルコールやケトンのような、いわゆる極性溶媒に対する親和性が低下する。そのため、このような潤滑剤に対しては無極性溶媒や極性の低い溶媒を使用せざるを得ない。一方で、DLC膜表面は、潤滑剤分子の定着状態をより安定化させるために親水化処理されているため、潤滑剤が定着するべきDLC膜表面に対して無極性溶媒のみの潤滑剤溶液はなじみにくく、溶液塗布時において乾燥工程まで到達する前に溶液の分布を生じてしまい、結果としてDLC膜表面で潤滑剤の不均一分布を生じてしまうことになる。また、pが7より小さいと、十分な潤滑効果が得られにくく、一方、30より大きいと、炭素を増すために合成過程が複雑になる等の合成上の観点から、コスト高となり易い。さらに、このような潤滑剤を2種以上混合して用いてもよい。
また、トップコート層溶液の溶剤としては、特に制限されるものではないが、以下の3群(1)〜(3)より夫々少なくとも1種類ずつ選択される少なくとも3種の溶剤を混合してなる混合溶剤を用いることが好ましい。
(1)沸点40〜130℃のケトン系溶剤:例えば、アセトン、メチルエチルケトン(MEK)、メチルイソブチルケトン(MIBK)等
(2)炭素数4〜10の脂肪族炭化水素系溶剤:例えば、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、デカンおよびこれらの異性体等
(3)炭素数6以下、好ましくは4以下のアルコール系溶剤:例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノールおよびこれらの異性体等
上記3群から選択される溶剤は夫々1種または複数種であってよく、各群の溶剤の混合比率は、好適には、(1)ケトン系溶剤5〜20重量%、(2)脂肪族炭化水素系溶剤10〜40重量%、および、(3)アルコール系溶剤40〜80重量%である。混合比率がこの範囲から外れると、溶剤により分散された潤滑剤が凝集しやすくなる傾向があり、潤滑剤の不均一分布を招くおそれがある。ここで、(1)ケトン系溶剤は、(2)脂肪族炭化水素系溶剤と(3)アルコール系溶剤の相互溶解を補助する役割を果たしている。すなわち、溶質である潤滑剤の極性に合わせて(2)脂肪族炭化水素系溶剤と(3)アルコール系溶剤との混合比を決定して、それらの溶剤の相互溶解を促進するために、(1)ケトン系溶剤を5〜20重量%の範囲で混合するのである。潤滑剤溶液の極性を決定する(2)脂肪族炭化水素系溶剤と(3)アルコール系溶剤との混合比率が溶質である潤滑剤の極性と適合していない場合、溶解性に難を生じ、不溶状態になって塗布不能となる。また、ミセル状になり、ミクロ的に海島状になる。(1)ケトン系溶剤の主な効果は潤滑剤の溶解であり、(2)脂肪族炭化水素系溶剤については溶液の安定化の役目を果たしており、また、(3)アルコール系溶剤については、塗布性を確保する役割を担う。トップコート層は、厚み数nm程度で形成され、潤滑剤成分の量は、塗布液の濃度により調整することができる。
また、トップコート層以外の構成については、例えば、以下の通りとすることができる。
非磁性支持体としては、蒸着工程に耐えられるものであればいかなるものを用いてもよく、特に限定されないが、例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、ポリイミド、アラミド、ポリエーテルエーテルケトン(PEEK)、ポリサルフォン等のフィルムが挙げられる。その厚さは、磁気記録媒体が使用される用途により適宜選択されるが、例えば、磁気記録媒体がデータテープとして使用される場合には、記録容量やシステム要求値に合わせて選択され、通常は3〜10μmである。
金属薄膜磁性層の磁性材料としては、Co、Fe等の純金属、または、Co−Ni、Co−Fe、Co−Ni−Fe、Co−Cr、Co−Cu、Co−Ni−Cr、Co−Pt、Co−Pt−Cr、Co−Cr−Ta、Co−Ni−B、Co−Ni−Fe、Co−Fe−B、Co−Ni−Fe−B等の合金類を使用することができ、特には、CoまたはCo合金を用いることが、電磁変換特性の観点から好適である。通常は、非磁性支持体上にこのような磁性材料を直接か、または、非磁性支持体上にCo−O等の酸化物層などの下地層を形成した後で蒸着して、磁性層を形成する。磁性層の蒸着は、蒸着用チャンバー内を1.33×10-4Pa(10-6Torr)程度まで排気した後、蒸着源となる磁性材料を電子銃にて溶融し、磁性材料全体が溶融した時点で非磁性支持体を冷却ドラムに沿って走行させて、冷却ドラム上にて蒸着を開始する。この際、磁気特性を制御するために、酸素、オゾン、亜酸化窒素から選ばれる酸化性ガスを磁性層に導入する。
次いで、DLC膜の成膜手法としては、特に限定されるものではないが、好ましくは、プラズマCVD法、イオン化蒸着法およびスパッタ法のうちのいずれかを用いる。
このうちプラズマCVD法の詳細については、例えば、特開平4−41672号公報等に記載されている。プラズマCVD法におけるプラズマは、直流、交流のいずれであってもよいが、交流を用いることが好ましい。交流を用いる場合、数ヘルツのものからマイクロ波帯域のものまで適宜利用可能である。また、「ダイヤモンド薄膜技術」(総合技術センター発行)などに記載されているECRプラズマを利用することもできる。
DLC膜をプラズマCVD法により形成する場合、原料ガスには、CおよびHを含む化合物を用いることが好ましいが、Cを含む化合物とHを含む化合物とを併せて用いることもできる。CおよびHの双方を含む化合物としては、例えば、CH4、C24、C26、C38、C66等の炭化水素が、Cを含む化合物としては、例えば、CO、CO2等が、Hを含む化合物としては、例えば、H2、H2O、NH3等が挙げられる。また、CおよびHのいずれも含まない化合物、例えば、NO、NO2、N2OなどのNOxで表される化合物やN2等を、必要に応じて併用してもよい。
プラズマCVDを行う際の原料ガスの流量は、原料ガスの種類に応じて適宜決定すればよい。動作圧力は、通常、1.33〜66.5Pa(0.01〜0.5Torr)とする。
DLC膜の成膜後には、膜表面と潤滑剤との親和性を高めるために、プラズマにより表面活性化処理を行うことが好ましい。この後処理は、酸素かまたは酸素を含むガスを用いて行うことが好ましく、例えば、酸素、空気、炭酸ガスなどを用いることができる。後処理の方法としては、上述したような、DLC膜成膜時におけるのと同様の手法を用いることが実用的であり、好ましい。後処理における周波数としては、DLC膜成膜時と同様の1kHz〜40MHz程度が好適であり、特に、50kHz〜13.56MHzの範囲内であると、効果が発現しやすい。
また、本発明においては、所望に応じ、磁性層と非磁性支持体との間に下地層を設けてS/N特性の改善を図ることができる。下地層は、非磁性または非磁性に近い層であり、磁性層と同様の手法で、膜厚に対する酸素の導入量を増加させることにより形成することができる。下地層の具体的な成膜条件、例えば、成膜時の非磁性支持体の搬送速度、導入酸素量等については、慣用に従い適宜定めることができ、特に制限されるものではない。特には、成膜時の供給ガスとして、酸素のみでなく、酸素中にAr等の不活性ガスおよび窒素のうちの少なくとも1種を含有するガスを用いることが好ましく、これにより、S/N特性のさらなる向上を図ることができる。これは、不活性ガスの存在により下地層が粒子状に成長してミクロな凹凸が大きくなるため、この下地層上で成長する磁性層が膜面内により強く配向して、保磁力が高くなることに起因するものと考えられる。
また、非磁性支持体の上記磁性層およびDLC膜形成面の反対側の面には、バックコート層を設けることができる。バックコート層は、結合剤樹脂と無機粉末および/またはカーボンブラックとを有機溶媒に混合分散させたバックコート層塗料を、磁性層とは反対側の支持体表面に塗布することにより形成され、塗料組成としては、この種の磁気記録媒体に用いられるものであればいずれのものも使用できる。例えば、結合剤樹脂としてはニトロセルロース、ポリウレタン樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、フェノキシ樹脂、ポリエステル樹脂等であり、これらを単独または混合して、媒体の特性、工程条件により適宜選択して用いることができる。カーボンブラックとしてはファーネスカーボンブラック、サーマルカーボンブラック、アセチレンブラック等を挙げることができ、無機粉末としては、例えば、炭酸カルシウム、アルミナ、α−酸化鉄等を挙げることができる。これら粒子は媒体に要求される電気抵抗、摩擦特性等から粒子サイズを適宜選択すればよい。有機溶剤は、ケトン系や芳香族炭化水素系等、例えば、メチルエチルケトン、トルエン、シクロヘキサノン等を用いることができ、使用する結合剤樹脂の溶解性を考慮して適宜選択すればよい。バックコート層の厚みは、0.1〜0.7μm、特には0.3〜0.5μmが好ましい。
以下、実施例により本発明を具体的に説明する。
実施例1、2および比較例1、2
厚み4.7μmのPENの非磁性支持体(帝人(株)製)の一方の面上に、膜厚200nmにて、蒸着法により、酸素を導入しながら100%Coを1層成膜して、磁性層を形成した。得られた磁性層は、Mr・t=64mA(6.4memu/cm2、Mr:残留磁化、t:磁性層の厚み)、Hc=119.4kA/m(1500 Oe)であった。
次いで、この磁性層上に、下記に示す条件で、DLC膜を厚み0.01μmで成膜した。
(DLC膜の成膜手法):プラズマCVD法(RF)
(イオン源):エチレンガス
(ガス流量):10sccm
(放電周波数):50kHz
次いで、膜表面の潤滑剤に対する親和性を高めるために、DLC膜に対し、酸素ガスを用いたプラズマによる後処理を行った。その後、後処理後のDLC膜上に、以下に示す潤滑剤Aおよび潤滑剤Bを、同一重量で、MEK(沸点:80℃)/n−ヘキサン(沸点69℃)/エタノール(沸点:78℃)=1/2/7の混合溶媒中に、潤滑剤合計濃度が0.5重量%となるように溶解させて作製したトップコート層溶液をダイノズル法により塗布し、乾燥して、トップコート層を形成した。乾燥は、トップコート層溶液塗布済み原反を、第1乾燥領域(乾燥温度:下記表1に示す温度、通過時間:6秒)と第2乾燥領域(乾燥温度:90℃、通過時間:14秒)とに区分された乾燥炉内を順次通過させることにより行った。
潤滑剤A:CH3(C1632)COOCH2CH2(CF27CF3
潤滑剤B:HOOCCH(C1429)CH2COOCH2CH2(CF27CF3
次いで、非磁性支持体の他方の面上に、以下の組成のバックコート層分散液を、ダイノズル法により、乾燥後の厚みが0.4μmとなるように塗布し、乾燥して、バックコート層を形成し、磁気記録媒体としての磁気テープを製造した。
(バックコート層の組成)
カーボンブラック(粒径20nm) 50重量部
炭酸カルシウム(粒径70nm) 50重量部
ニトロセルロース(Nc)(旭化成工業(株)製 BTH1/2S)40重量部
ポリウレタン樹脂(東洋紡績(株)製 UR−8300) 60重量部
MEK 800重量部
トルエン 640重量部
シクロヘキサノン 160重量部
ポリイソシアネート(固形分50%)(日本ポリウレタン工業(株)製 コロネートL) 40重量部
得られた各実施例および比較例の磁気テープにつき、以下に従い、潤滑剤分布状況および走行耐久性の評価を夫々行った。これらの結果を、下記の表1中に併せて示す。
潤滑剤分布の評価
目視による外観評価と合せ、X線光電子分光分析(ESCA:Electron Spectroscopy for Chemical Analysis)による潤滑剤分布状況の評価を行った。ESCA測定においては、X線強度:14kV−300W、X線アノード種類:モノクロメータAl、測定X線:AlKα線、測定時間:15分の条件下で、F1sスペクトルの取り込みを行った。装置としては、アルバック・ファイ社製 PHI5400MC型を使用した。
走行耐久性の評価
ドライブとしてExabyte社製Mammoth−1ドライブを使用して、Exabyte社より提供のVista(Visual SCSI Test Application)ソフトを用い、常温常湿環境(20℃60%RH)および高温高湿環境(29℃80%RH)の夫々について、以下のような操作を行った。まず、上記ドライブと評価対象の磁気テープサンプルを、夫々6時間、上記環境下に置き、環境順応させた。その後、上記ドライブにて1file250Mbyteのランダムデータを72file(合計18Gbyte)Write/Readすることにより、磁気テープを走行させた。走行パターンは、18GbyteのデータのWrite→巻き戻しを行い、(18GbyteのデータのRead→巻き戻し)を1サイクルとして、10サイクルまで評価した。
Figure 2005209265
上記表1中に示すように、比較例1では、トップコート層表面に水玉模様のような色相の変化が現れ、高湿環境において走行停止が起こった。これは、乾燥炉の第1乾燥領域における乾燥温度が低すぎて初期乾燥が不十分となり、溶剤を含む塗膜がDLC膜上に残留してしまったため、続く第2乾燥領域での高温乾燥により潤滑剤の凝集が生じて、潤滑剤の不均一分布が発生したためと考えられる。また、比較例2では、潤滑剤分布については、ESCAによる評価で分布の存在が認められ、常温常湿走行耐久性については問題ないレベルであったが、高温高湿の29℃80%RH環境において走行回数の増加とともにエラーの上昇が発生した。

Claims (4)

  1. 非磁性支持体の一方の面上に、金属薄膜磁性層、炭素を主成分とする硬質膜およびトップコート層を順次形成して磁気記録媒体を製造するに際し、
    前記炭素を主成分とする硬質膜上に、潤滑剤と、沸点の異なる2種以上の溶剤とを含有するトップコート層溶液を塗布した後、
    前記トップコート層溶液の溶剤のうち、最も高い沸点を有する溶剤の沸点よりも10℃低い温度以下であって、該最も高い沸点を有する溶剤の沸点よりも30℃低い温度より高い温度で乾燥を行う第1乾燥工程と、該最も高い沸点を有する溶剤の沸点以上の温度で乾燥を行う第2乾燥工程と、を含む乾燥工程により、前記塗布済みトップコート層を乾燥させることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
  2. 前記潤滑剤として、フッ素ブロックおよび非フッ素ブロックと、該フッ素ブロックおよび非フッ素ブロックを結合するエステル結合とを有する潤滑剤を含むものを用いる請求項1記載の磁気記録媒体の製造方法。
  3. 前記溶剤として、(1)沸点40〜130℃のケトン系溶剤、(2)炭素数4〜10の脂肪族炭化水素系溶剤、および、(3)炭素数6以下のアルコール系溶剤からなる3群から夫々少なくとも1種類ずつ選択される少なくとも3種の溶剤を混合してなる混合溶剤を用いる請求項1または2記載の磁気記録媒体の製造方法。
  4. 前記溶剤の混合比率を、(1)ケトン系溶剤5〜20重量%、(2)脂肪族炭化水素系溶剤10〜40重量%、および、(3)アルコール系溶剤40〜80重量%とする請求項3記載の磁気記録媒体の製造方法。
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