JPS59167848A - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
- Publication number
- JPS59167848A JPS59167848A JP58041018A JP4101883A JPS59167848A JP S59167848 A JPS59167848 A JP S59167848A JP 58041018 A JP58041018 A JP 58041018A JP 4101883 A JP4101883 A JP 4101883A JP S59167848 A JPS59167848 A JP S59167848A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- perfluoropolyether
- magnetic
- compd
- thin film
- cobalt
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/72—Protective coatings, e.g. anti-static or antifriction
- G11B5/725—Protective coatings, e.g. anti-static or antifriction containing a lubricant, e.g. organic compounds
- G11B5/7253—Fluorocarbon lubricant
- G11B5/7257—Perfluoropolyether lubricant
Landscapes
- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Lubricants (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は磁気記録層がコバルトを含む金属磁性薄膜か
らなる磁気記録媒体に関するものであり、その目的とす
るところは耐久性−走行性、耐食性に優れた上記の磁気
記録媒体を提供することにある。
らなる磁気記録媒体に関するものであり、その目的とす
るところは耐久性−走行性、耐食性に優れた上記の磁気
記録媒体を提供することにある。
蒸着、スパッタリングあるいはイオンブレーティングな
どによってコバルトを含む金属磁性薄膜をベース上に形
成した磁気テープや磁気ディスクなどの磁気記録媒体は
、高密度記録特性に優れていることなどで有望視されて
いる。しかし、コバルトを含む金属磁性薄膜は磁気ヘッ
ドとの摩擦係数か大きく、摩耗や損傷を受は易く、たと
えはカセットテープとして使用した場合に僅か数回の走
行で表面が損傷して出力低下をきたすなど、耐久性か非
常に悪く、また空気中で徐々に酸化を受けて最大磁束密
度などの磁気特性が悪化する欠点もある。
どによってコバルトを含む金属磁性薄膜をベース上に形
成した磁気テープや磁気ディスクなどの磁気記録媒体は
、高密度記録特性に優れていることなどで有望視されて
いる。しかし、コバルトを含む金属磁性薄膜は磁気ヘッ
ドとの摩擦係数か大きく、摩耗や損傷を受は易く、たと
えはカセットテープとして使用した場合に僅か数回の走
行で表面が損傷して出力低下をきたすなど、耐久性か非
常に悪く、また空気中で徐々に酸化を受けて最大磁束密
度などの磁気特性が悪化する欠点もある。
一般に、金属磁性薄膜と磁気ヘッドとの接触面は微視的
にみれば互に粗面状であり、粗面の微細凸部にて実質的
な接触がなされる。したがって、摩擦係数を小さくする
にはこの微細凸部相互の直接の接触を妨げる必要がある
。そのため１、従来よ 。
にみれば互に粗面状であり、粗面の微細凸部にて実質的
な接触がなされる。したがって、摩擦係数を小さくする
にはこの微細凸部相互の直接の接触を妨げる必要がある
。そのため１、従来よ 。
り金属磁性薄膜の表面に種々の物質を被着させたり、被
膜を形成して滑性と耐摩耗性を向上させる試みかなされ
ているか、まだ充分に満足できる手段は見い出されてい
ない。
膜を形成して滑性と耐摩耗性を向上させる試みかなされ
ているか、まだ充分に満足できる手段は見い出されてい
ない。
たとえば、耐酸化性を改善するために高分子物質にて金
属磁性薄膜の表面を被覆することが考えられ、この高分
子物質として自己潤滑性に富むものを使用すれば摩擦係
数を小さくできる。しかしながら、効果を充分に発揮さ
せるにはある程度以上の膜厚が必要となり、膜厚による
スペーシングロスを生して、この種の磁気記録媒体本来
の高密度記録性の利点が損なわれる恐れがある。
属磁性薄膜の表面を被覆することが考えられ、この高分
子物質として自己潤滑性に富むものを使用すれば摩擦係
数を小さくできる。しかしながら、効果を充分に発揮さ
せるにはある程度以上の膜厚が必要となり、膜厚による
スペーシングロスを生して、この種の磁気記録媒体本来
の高密度記録性の利点が損なわれる恐れがある。
また、金属磁性薄膜表面に直接、表面処理剤を被着させ
る場合には、滑性や耐摩耗性を持続させるために金属（
コバルト合金など）に対する充分な吸着力が必要となる
。ちなみにγ−Ｆ ｅ ２０Ｂなどの磁性粉末を用いる
一般的な磁気記録媒体の潤滑剤として使用されるステア
リン酸ノルマルブチルなどの脂肪酸エステルでは、金属
磁性薄膜の表面に被着させた場合−初期には良好な滑性
と耐摩耗性が認められるが、数ケ月間放置すれば効果が
著しく低下し、間欠的な使用を行なう実際上の用途に対
する適正や長期保存性に問題があり−また耐酸化性も充
分とは言えない。
る場合には、滑性や耐摩耗性を持続させるために金属（
コバルト合金など）に対する充分な吸着力が必要となる
。ちなみにγ−Ｆ ｅ ２０Ｂなどの磁性粉末を用いる
一般的な磁気記録媒体の潤滑剤として使用されるステア
リン酸ノルマルブチルなどの脂肪酸エステルでは、金属
磁性薄膜の表面に被着させた場合−初期には良好な滑性
と耐摩耗性が認められるが、数ケ月間放置すれば効果が
著しく低下し、間欠的な使用を行なう実際上の用途に対
する適正や長期保存性に問題があり−また耐酸化性も充
分とは言えない。
この発明者らは、上述の状況に鑑み、鋭意研究を重ねた
結果、ベース上に形成されたコバルトを含む金属磁性薄
膜の表面にチタン化合物を介してパーフルオロポリエー
テルを被着させれば、滑性と耐摩耗性が大きく改善され
て耐久性か優秀となり、長期間の放置によっても効果が
失なわれず、しかも撥水性に優れることなどで脂肪酸や
脂肪酸 エステルを使用した場合より耐酸化性も良好で△ あることを究明し、この発明をなすに至った。
結果、ベース上に形成されたコバルトを含む金属磁性薄
膜の表面にチタン化合物を介してパーフルオロポリエー
テルを被着させれば、滑性と耐摩耗性が大きく改善され
て耐久性か優秀となり、長期間の放置によっても効果が
失なわれず、しかも撥水性に優れることなどで脂肪酸や
脂肪酸 エステルを使用した場合より耐酸化性も良好で△ あることを究明し、この発明をなすに至った。
この発明において用いるチタン化合物としては、コバル
トを含む金属表面に対して反応吸着しうるものであれは
広く使用でき、中でもイソプロピルトリイソステアロイ
ルチタネート（下記の化学構造式■）、イソプロピルト
リデシルベンセンスルホニルチタネート（下記の化学構
造式■）、イソプロピルトリ（ジオクチルパイロフォス
フェート）チタネート（下記の化学構造式■）、テトラ
イソプロピルビス（ジオクチルホスファイト）チタネー
ト（下記の化学構造式■）、テトラオクチルビス（ジト
リデシルホスファイト）チタネート（下記の化学構造式
■）−テトラ（２２−ジアリルオキシメチル−１−ブチ
ル）ビス（ジ−トリデシル）ホスファイトチタネート（
下記の化学構造式■）、ビス（ジオクチルパイロホスフ
ェート）オキシアセテートチタネート（下記の化学構造
式■）、ビス（ジオクチルパイロホスフェート）エチレ
ンナタネート（下記の化学構造式■）などのチタンカッ
プリンク剤が特に有効である。
トを含む金属表面に対して反応吸着しうるものであれは
広く使用でき、中でもイソプロピルトリイソステアロイ
ルチタネート（下記の化学構造式■）、イソプロピルト
リデシルベンセンスルホニルチタネート（下記の化学構
造式■）、イソプロピルトリ（ジオクチルパイロフォス
フェート）チタネート（下記の化学構造式■）、テトラ
イソプロピルビス（ジオクチルホスファイト）チタネー
ト（下記の化学構造式■）、テトラオクチルビス（ジト
リデシルホスファイト）チタネート（下記の化学構造式
■）−テトラ（２２−ジアリルオキシメチル−１−ブチ
ル）ビス（ジ−トリデシル）ホスファイトチタネート（
下記の化学構造式■）、ビス（ジオクチルパイロホスフ
ェート）オキシアセテートチタネート（下記の化学構造
式■）、ビス（ジオクチルパイロホスフェート）エチレ
ンナタネート（下記の化学構造式■）などのチタンカッ
プリンク剤が特に有効である。
■ ＣＨ３，−ＣＨ−０−Ｔｉ （−０−Ｃ−Ｃ，７Ｈ
３５） ３Ｉ−１ 〒Ｈ３ ■ ［ＣＨ３−ＣＨ−ｏ５−ｒｉ 、ｃｐ＋−ｏ−Ｃ８
Ｈ，□）２ｏＨ） ２■ （Ｃ３Ｉ−１１７−ｏ
−＋ｖ”ｒｉ ・ （Ｐ（０−Ｃ，３１−１２７）２０
Ｉ（） ２”ｒｉ ｃＰ−（０−ＣＨＨ２７）２０
１−１） ２このようなチタンカップリング剤の市販
品としては、味の素社製の商品名プレンアクト−ＴＴＳ
、同一９５、同一３８Ｓなどか挙げられる。これらチタ
ンカップリング剤はコバルトを含む金属表面に強く化学
吸着して上記金属表面の滑性および耐摩耗性の向上に寄
与すると共に、パーフルオロポリエーテルとの親和性が
良好なため上記ポリエーテルの金属表面への付着性に好
結果を与えてこの種ポリエーテルの耐酸化性向上機能を
より良く発現させる。
３５） ３Ｉ−１ 〒Ｈ３ ■ ［ＣＨ３−ＣＨ−ｏ５−ｒｉ 、ｃｐ＋−ｏ−Ｃ８
Ｈ，□）２ｏＨ） ２■ （Ｃ３Ｉ−１１７−ｏ
−＋ｖ”ｒｉ ・ （Ｐ（０−Ｃ，３１−１２７）２０
Ｉ（） ２”ｒｉ ｃＰ−（０−ＣＨＨ２７）２０
１−１） ２このようなチタンカップリング剤の市販
品としては、味の素社製の商品名プレンアクト−ＴＴＳ
、同一９５、同一３８Ｓなどか挙げられる。これらチタ
ンカップリング剤はコバルトを含む金属表面に強く化学
吸着して上記金属表面の滑性および耐摩耗性の向上に寄
与すると共に、パーフルオロポリエーテルとの親和性が
良好なため上記ポリエーテルの金属表面への付着性に好
結果を与えてこの種ポリエーテルの耐酸化性向上機能を
より良く発現させる。
上記チタン化合物と併用されるパーフルオロポリエーテ
ルとしては、たとえば下記の一般式（イ）−（ロ）； ＣＦｇ−Ｅ−ＯＣＦ（ＣＦａ）ＣＦ２す０ＣＦ２−３−
ＯＣＦ８ 、−ｋ）ＣＦ３モ０Ｃ２Ｆ４±−−６ＯＣＦ
２＋−０ＣＦ３ ・ （ロ）９ で表わされるポリエーテルやこれらポリエーテルの分子
末端に水酸基、カルボ千シル基、リン酸基、スルホン基
またはこれらの塩、エステル基などの極性基が導入され
たものなどが挙げられる。上記一般式中のｎ、ｍ、ｑ、
ｒは整数で、いずれも４０〜５００の範囲にあるものが
好ましく用いられる。
ルとしては、たとえば下記の一般式（イ）−（ロ）； ＣＦｇ−Ｅ−ＯＣＦ（ＣＦａ）ＣＦ２す０ＣＦ２−３−
ＯＣＦ８ 、−ｋ）ＣＦ３モ０Ｃ２Ｆ４±−−６ＯＣＦ
２＋−０ＣＦ３ ・ （ロ）９ で表わされるポリエーテルやこれらポリエーテルの分子
末端に水酸基、カルボ千シル基、リン酸基、スルホン基
またはこれらの塩、エステル基などの極性基が導入され
たものなどが挙げられる。上記一般式中のｎ、ｍ、ｑ、
ｒは整数で、いずれも４０〜５００の範囲にあるものが
好ましく用いられる。
パーフルオロポリエーテルの市販品としては、前記一般
式イで表わされるＤｕ Ｐｏｎｔ社製の商品名Ｋｒｙｔ
ｏｘや、前記一般式口で表わされるＭｏｎｔｅｄｉｓｏ
ｎ社製の商品名Ｆｏｍｂ ｌ ｉ ｎなどか挙げられる
が、その他各種の市販品を任意に使用することができる
。
式イで表わされるＤｕ Ｐｏｎｔ社製の商品名Ｋｒｙｔ
ｏｘや、前記一般式口で表わされるＭｏｎｔｅｄｉｓｏ
ｎ社製の商品名Ｆｏｍｂ ｌ ｉ ｎなどか挙げられる
が、その他各種の市販品を任意に使用することができる
。
コバルトを含む金属磁性薄膜の表面にチタン化合物を介
してパーフルオロポリエーテルを被着させるには−まず
チタン化合物を０．１〜３重量％程度のトルエン溶液そ
の他の有機溶剤溶液として、この溶液中にコバルトを含
む金属磁性薄膜を設けた磁気記録媒体を浸漬するか、あ
るいは上記の溶液をコバルトを含む金属磁性薄膜の表面
の所要部分（磁気ディスクなどでは磁気ヘッドとの接触
が表面の一部であるから、この箇所のみでよい。）に塗
布する。続いて、チタン化合物にて覆われたコバルトを
含む金属磁性薄膜の表面に、パーフルオロポリエーテル
をフレオンなどの有機溶剤に溶解させてなる溶液を塗布
する。
してパーフルオロポリエーテルを被着させるには−まず
チタン化合物を０．１〜３重量％程度のトルエン溶液そ
の他の有機溶剤溶液として、この溶液中にコバルトを含
む金属磁性薄膜を設けた磁気記録媒体を浸漬するか、あ
るいは上記の溶液をコバルトを含む金属磁性薄膜の表面
の所要部分（磁気ディスクなどでは磁気ヘッドとの接触
が表面の一部であるから、この箇所のみでよい。）に塗
布する。続いて、チタン化合物にて覆われたコバルトを
含む金属磁性薄膜の表面に、パーフルオロポリエーテル
をフレオンなどの有機溶剤に溶解させてなる溶液を塗布
する。
また、場合によりチタン化合物とパーフルオロポリエー
テルとを共に適宜の有機溶剤に溶解させ、この溶液をコ
バルトを含む金属磁性薄膜上に塗布するかあるいは上記
溶液に浸漬処理する方法をとってもよい。
テルとを共に適宜の有機溶剤に溶解させ、この溶液をコ
バルトを含む金属磁性薄膜上に塗布するかあるいは上記
溶液に浸漬処理する方法をとってもよい。
これら各方法において、コバルトを含む金属磁性薄膜の
表面にチタン化合物を強く反応吸着させるために、チタ
ン化合物もしくはこれとパーフルオロポリエーテルとて
表面処理したのち、たとえば７０℃で０．５時間程度の
熱処理を施してもよい。
表面にチタン化合物を強く反応吸着させるために、チタ
ン化合物もしくはこれとパーフルオロポリエーテルとて
表面処理したのち、たとえば７０℃で０．５時間程度の
熱処理を施してもよい。
コノヨうな方法によってチタン化合物がコノ゛ルトを含
む金属磁性薄膜の表面に強く固定され、これがさらにパ
ーフルオロポリエーテルで覆われた状態となり、優れた
耐久性と耐酸化性が発揮される。
む金属磁性薄膜の表面に強く固定され、これがさらにパ
ーフルオロポリエーテルで覆われた状態となり、優れた
耐久性と耐酸化性が発揮される。
チタン化合物の被着量は０．１〜２５ ＋ｖ／ｘｎ２程
度が好適であり、またパーフルオロポリエーテルの被着
量は０．１〜５０ｍｇ／ｍ２が好ましい。
度が好適であり、またパーフルオロポリエーテルの被着
量は０．１〜５０ｍｇ／ｍ２が好ましい。
コバルトを含む金属磁性薄膜としては、コバルト−鉄合
金、コバルト−ニッケル合金、コバルト−クロム合金、
リンを含有させた金属コバルトなどを成分とするものが
挙けられ−これらは蒸着、スパッタリング、イオンブレ
ーティングや無電解メッキなどの適宜の手段でベース上
に、通常は厚さ０．０５〜０．５μｍ程度に形成される
。
金、コバルト−ニッケル合金、コバルト−クロム合金、
リンを含有させた金属コバルトなどを成分とするものが
挙けられ−これらは蒸着、スパッタリング、イオンブレ
ーティングや無電解メッキなどの適宜の手段でベース上
に、通常は厚さ０．０５〜０．５μｍ程度に形成される
。
磁気記録媒体としては、ポリエステルフィルムなどの合
成樹脂フィルム上をベースとする磁気テープ、円盤やド
ラムをベースとする磁気ディスクや磁気ドラムなど、磁
気ヘッドと摺接する構造の種々の形態を包含する。
成樹脂フィルム上をベースとする磁気テープ、円盤やド
ラムをベースとする磁気ディスクや磁気ドラムなど、磁
気ヘッドと摺接する構造の種々の形態を包含する。
以上詳述したとおり、この発明によれば〜コバルトを含
む金属磁性薄膜の表面にチタン化合物を介してパーフル
オロポリエーテルからなる保護層を設けることによって
、耐久性および耐酸化性にすぐれる高密度記録用の磁気
記録媒体を提供することができる。
む金属磁性薄膜の表面にチタン化合物を介してパーフル
オロポリエーテルからなる保護層を設けることによって
、耐久性および耐酸化性にすぐれる高密度記録用の磁気
記録媒体を提供することができる。
す、下に−この発明の実施例を記載してより具体的に説
明する。
明する。
実施例１
厚さ１２μｍのポリエステルベースフィルム上に厚さ０
．１μｍのコバルト−ニッケル合金（重量比９：１）よ
りなる金属磁性簿膜を蒸着形成し−これをプレンアクト
ー−ｒＴｓ（前出のチタンカップリング剤；化学構造式
■）を含むトルエン溶液に浸漬した。ついて、浸漬後の
薄膜表面にＫｒｙｔｏｘ−１５７ＦＳ／Ｍ（前出のパー
フルオロポリエーテル）のフレオン溶液を塗布乾燥して
この発明の磁気テープを得た。この磁気テープのチタン
カップリンク剤の付着量は５■／ｍ２、パーフルオロポ
リエーテルの付着量は２ｍｇ／ｍ２てあった。
．１μｍのコバルト−ニッケル合金（重量比９：１）よ
りなる金属磁性簿膜を蒸着形成し−これをプレンアクト
ー−ｒＴｓ（前出のチタンカップリング剤；化学構造式
■）を含むトルエン溶液に浸漬した。ついて、浸漬後の
薄膜表面にＫｒｙｔｏｘ−１５７ＦＳ／Ｍ（前出のパー
フルオロポリエーテル）のフレオン溶液を塗布乾燥して
この発明の磁気テープを得た。この磁気テープのチタン
カップリンク剤の付着量は５■／ｍ２、パーフルオロポ
リエーテルの付着量は２ｍｇ／ｍ２てあった。
実施例２
Ｋｒｙｔｏｘ −１５７Ｆ Ｓ ／Ｍの代りにＦｏｍｂ
ｌ ｉ ｎ −Ｚ（前出のパーフルオロポリエーテル
）を使用し、その付着量を２〜／ｍ２とした以外は、実
施例１と同様にしてこの発明の磁気テープを得た。
ｌ ｉ ｎ −Ｚ（前出のパーフルオロポリエーテル
）を使用し、その付着量を２〜／ｍ２とした以外は、実
施例１と同様にしてこの発明の磁気テープを得た。
実施例３
プレンアクト−ＴＴＳの代りにプレンアクト９Ｓ（前出
のチタンカップリンク剤：化学構造式■）を使用し、そ
の付着量を５ｍｇ／ｍ２とした以外は、実施例１と同様
にしてこの発明の磁気テープを得た。
のチタンカップリンク剤：化学構造式■）を使用し、そ
の付着量を５ｍｇ／ｍ２とした以外は、実施例１と同様
にしてこの発明の磁気テープを得た。
実施例４
プレンアクト−ＴＴＳの代りにプレンアクト９Ｓ（前出
）を使用し、その付着量を５ ｍｇ ７ｍ２とすると共
に、Ｋｒｙｔｏｘ −１５７Ｆ Ｓ ／Ｍ （７）代り
にＦｏｍｂｌ ｉｎ −Ｚ （前出）を使用し、その付
着量を２■／ｍ２としたり、外は、実施例１と同様にし
てこの発明の磁気テープを得た。
）を使用し、その付着量を５ ｍｇ ７ｍ２とすると共
に、Ｋｒｙｔｏｘ −１５７Ｆ Ｓ ／Ｍ （７）代り
にＦｏｍｂｌ ｉｎ −Ｚ （前出）を使用し、その付
着量を２■／ｍ２としたり、外は、実施例１と同様にし
てこの発明の磁気テープを得た。
比較例１
実施例１で蒸着形成した金属磁性薄膜の表面に、ステア
リン酸ｎ−ブチルの１重量％ヘキサン溶液を塗布乾燥し
て磁気テープを得た。
リン酸ｎ−ブチルの１重量％ヘキサン溶液を塗布乾燥し
て磁気テープを得た。
比較例２
実施例１て蒸着形成した金属磁性薄膜の表面に（Ｃ１’
−１３）ｓｓｉＮＨ５ｉ（ＣＨ３）３で示されるシラン
カップリンク剤を含むアルコール溶液に浸漬し、次いて
浸漬後の磁気テープの金属磁性薄膜表面にジメチルポリ
シロキサンを塗布乾燥して磁気テープを得た。シランカ
ップリンクの付着量は５ ｍｇ ７ｍ ２とし、ジメチ
ルポリシロキサンの付着量は２ｍｙ／ｍ２とした。
−１３）ｓｓｉＮＨ５ｉ（ＣＨ３）３で示されるシラン
カップリンク剤を含むアルコール溶液に浸漬し、次いて
浸漬後の磁気テープの金属磁性薄膜表面にジメチルポリ
シロキサンを塗布乾燥して磁気テープを得た。シランカ
ップリンクの付着量は５ ｍｇ ７ｍ ２とし、ジメチ
ルポリシロキサンの付着量は２ｍｙ／ｍ２とした。
上記実施例１〜４および比較例Ｊ、２の各磁気テープに
つき、耐食性、摩擦係数、耐久性を調べた結果は、後記
の表に示されるとおりであった。
つき、耐食性、摩擦係数、耐久性を調べた結果は、後記
の表に示されるとおりであった。
なお、耐食性は、各磁気テープを６０°Ｃ１９０％ＲＨ
の条件下に放置して所定の期間毎の最大磁束密度を測定
し、放置前の磁気テープの最大磁束密度を１００％とし
てこれと比較した値で表わした。
の条件下に放置して所定の期間毎の最大磁束密度を測定
し、放置前の磁気テープの最大磁束密度を１００％とし
てこれと比較した値で表わした。
また−摩擦係数は、表面粗度０．２５、外径４ｍｍの円
筒ピンに巻き角１５０°で磁気テープを巻きつけ、荷重
２１ｙをかけた状態て送り速度４ｃ＋ｉ／秒で送り、同
じところを５０回測定し、５０回目の摩擦係数を求めた
。さらに、耐久性試験は、２５°Ｃ５６０ＲＩ−４の条
件下に磁気テープをヘッド荷重５ｙ、走行速度０．０４
８ｍ／秒で走行させて再生し、出力が初期出力より３６
’Ｂ低下するまでの走行回数を測定して行った。
筒ピンに巻き角１５０°で磁気テープを巻きつけ、荷重
２１ｙをかけた状態て送り速度４ｃ＋ｉ／秒で送り、同
じところを５０回測定し、５０回目の摩擦係数を求めた
。さらに、耐久性試験は、２５°Ｃ５６０ＲＩ−４の条
件下に磁気テープをヘッド荷重５ｙ、走行速度０．０４
８ｍ／秒で走行させて再生し、出力が初期出力より３６
’Ｂ低下するまでの走行回数を測定して行った。
上記の結果から明らかなように、この発明の磁気テープ
は耐久性および耐食性に共にすぐれたものであることが
わかる。
は耐久性および耐食性に共にすぐれたものであることが
わかる。
特許出願人 日立マクセル株式会社
Claims (1)
- （１） ベース上に形成されたコバルトを含む金属磁
性薄膜の表面にチタン化合物を介してパーフルオロポリ
エーテルからなる保護層を設けたことを特徴とする磁気
記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58041018A JPS59167848A (ja) | 1983-03-11 | 1983-03-11 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58041018A JPS59167848A (ja) | 1983-03-11 | 1983-03-11 | 磁気記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59167848A true JPS59167848A (ja) | 1984-09-21 |
Family
ID=12596648
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58041018A Pending JPS59167848A (ja) | 1983-03-11 | 1983-03-11 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59167848A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6157038A (ja) * | 1984-08-27 | 1986-03-22 | Nec Corp | 磁気記憶体 |
| JPS61236017A (ja) * | 1985-04-11 | 1986-10-21 | Anelva Corp | 金属薄膜型磁気記録媒体 |
| JPS61276112A (ja) * | 1985-05-30 | 1986-12-06 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体 |
-
1983
- 1983-03-11 JP JP58041018A patent/JPS59167848A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6157038A (ja) * | 1984-08-27 | 1986-03-22 | Nec Corp | 磁気記憶体 |
| JPS61236017A (ja) * | 1985-04-11 | 1986-10-21 | Anelva Corp | 金属薄膜型磁気記録媒体 |
| JPH0366731B2 (ja) * | 1985-04-11 | 1991-10-18 | Anelva Corp | |
| JPS61276112A (ja) * | 1985-05-30 | 1986-12-06 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体 |
| JPH0465448B2 (ja) * | 1985-05-30 | 1992-10-20 | Matsushita Electric Ind Co Ltd |
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|---|---|---|
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