JPH0517440A - 新規なイミド誘導体 - Google Patents

新規なイミド誘導体

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JPH0517440A
JPH0517440A JP3183640A JP18364091A JPH0517440A JP H0517440 A JPH0517440 A JP H0517440A JP 3183640 A JP3183640 A JP 3183640A JP 18364091 A JP18364091 A JP 18364091A JP H0517440 A JPH0517440 A JP H0517440A
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lower alkyl
hydrocarbon ring
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幾太郎 佐治
Mayumi Yoshigi
真弓 吉儀
Norihiko Tanno
紀彦 丹野
Mitsutaka Nakamura
三孝 中村
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Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【目的】 副作用の少ない向精神性物質の提供。 【構成】 図示の一般式で表される新規なイミド誘導体
またはその酸付加塩。 〔式中Ｄは−（ＣＨ２）ｐ−Ａ−（ＣＨ２）ｑ−で示さ
れる二価の基（ここで、Ａは低級アルキレン基または炭
化水素環であり、ｐ，ｑは各々０，１または２であ
る）；ＧはＮ，ＣＨまたはＣＯＨ；Ａｒは芳香族複素環
基（３−ベンゾイソチアゾリル、３−ベンゾイソキサゾ
リル、３−イソキノリニル、８−キノリニル、２−ピリ
ジン、７−ベンゾフリル等）、芳香族炭化水素基（置換
フエニル、ナフチル等）ベンゾイル、フエノキシ）等；
Ｚは式で示される環状イミド基を示す。 （式中、ＢはＣＯまたはＳＯ２を表す。Ｒ１，Ｒ２，Ｒ
３，Ｒ４は水素原子あるいは低級アルキルを表す。ただ
し、Ｒ１とＲ２あるいはＲ１とＲ３が一緒になって炭化
水素環を形成してもよい。ｎは０または１を表す）〕 【効果】 このイミド誘導体は、精神分裂病、老年性精
神疾患、そううつ病、神経症等の治療薬として有用であ
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は向精神性物質として有用
な新規イミド誘導体およびその酸付加塩に関する。詳し
くいえば、本発明の向精神性物質｛抗精神性作用および
（または）不安解消作用を持つ物質｝は、精神分裂病、
老年性精神疾患、そううつ病、神経症等の治療薬として
有用である。
【０００２】
【従来技術】向精神性作用を持つイミド誘導体は例えば
表１、表２に示されるものが知られている。
【０００３】
【表１】
【表２】
【０００４】しかし、これらの誘導体はイミド部分とピ
ペラジンまたはピペリジンとの間が直鎖のアルキレン鎖
であることが特徴となっている。ここに炭化水素環を含
むアルキレン鎖を持つ化合物は知られていない。
【０００５】従来の不安解消作用および（または）抗精
神病性作用を有する向精神性物質には、中枢性副作用、
血圧降下等の末梢性副作用が付随しており、臨床上大き
な問題点〔ザ・ファーマコロジカル・ベイシス・オブ・
セラポイチクス The Pharmacological basis of thera
peutics,A.Goodman Gilman,L.S.Goodman et al,New Yor
k (1985) P387, 現代医療,22,P22,(1990) 〕となって
いた。
【０００６】
【発明が解決しようとする問題点】本発明の目的は副作
用の少ない優れた向精神性物質を提供することにある。
【０００７】
【問題を解決するための手段】本発明者らは、鋭意検討
を重ねた結果、炭化水素環を含むアルキレン鎖を持つこ
とを特徴とする新規イミド誘導体が目的とした薬理的諸
作用を有することを見出し本発明を完成するに至った。
【０００８】本発明は、一般式〔Ｉ〕
【化９】 ｛式中、Ｚは式
【化１０】 （式中、Ｂはカルボニルまたはスルホニルを表す。
Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 は各々独立して水素原子あるい
は低級アルキルを表す。ただし、Ｒ1 とＲ2 あるいはＲ
1 とＲ3 が一緒になって炭化水素環を、またはＲ1 とＲ
3 が一緒になって芳香族炭化水素環を形成してもよい。
当該炭化水素環は低級アルキレンまたは酸素原子で架橋
されてもよい。当該低級アルキレンおよび炭化水素環は
少なくとも１つのアルキルで置換されてもよい。ｎは０
または１を表す。）を表す。Ｄは式
【化１１】 （式中、Ａは低級アルキレンまたは酸素原子で架橋され
てもよい炭化水素環を表す。当該低級アルキレンおよび
炭化水素環は少なくとも１つのアルキルで置換されても
よい。ｐ、ｑは各々０、１または２を表す。）を表す。
ＧはＮ、ＣＨあるいはＣＯＨを、−Ａｒは芳香族複素環
基、芳香族炭化水素基、ベンゾイル、フェノキシあるい
はフェニルチオを表すかまたはＧは炭素原子を、−Ａｒ
はビフェニルメチリデンを表す。当該芳香族複素環基、
芳香族炭化水素基、ベンゾイル、フェノキシ、フェニル
チオおよびビフェニルメチリデンは少なくとも１つの低
級アルキル、低級アルコキシまたはハロゲン原子で置換
されてもよい。｝で表されるイミド誘導体またはその酸
付加塩に関する。
【０００９】以下に本発明で使われている基について詳
しく説明する。
【００１０】ＺおよびＡに於ける低級アルキレンとして
は、例えば炭素数３個以下の基が挙げられ、具体的には
メチレン、エチレン、トリメチレン等が挙げられる。
【００１１】ＺおよびＡに於ける炭化水素環としては、
例えば炭素数７個以下のシクロアルカン、シクロアルケ
ンが挙げられる。炭素数７個以下のシクロアルカンとし
ては例えばシクロプロパン、シクロブタン、シクロペン
タン、シクロヘキサン、シクロヘプタン等が挙げられ
る。炭素数７個以下のシクロアルケンとしては例えばシ
クロペンテン、シクロヘキセン、シクロヘプテン等が挙
げられる。
【００１２】ＺおよびＡに於ける低級アルキレンあるい
は酸素原子で架橋された炭化水素環としては例えば炭素
数１０個以下の環が挙げられ、具体的にはビシクロ
〔１．１．１〕ペンタン、ビシクロ〔２．１．１〕ヘキ
サン、ビシクロ〔２．１．１〕ヘキサ−２−エン、ビシ
クロ〔２．２．１〕ヘプタン、ビシクロ〔２．２．１〕
ヘプタ−２−エン、ビシクロ〔２．２．２〕オクタン、
ビシクロ〔２．２．２〕オクタ−２−エン、ビシクロ
〔４．１．１〕オクタン、ビシクロ〔４．１．１〕オク
タ−２−エン、ビシクロ〔４．１．１〕オクタ−３−エ
ン、ビシクロ〔３．２．１〕オクタン、ビシクロ〔３．
２．１〕オクタ−２−エン、ビシクロ〔３．２．１〕オ
クタ−３−エン、ビシクロ〔３．２．１〕オクタ−６−
エン、ビシクロ〔３．２．２〕ノナン、ビシクロ〔３．
２．２〕ノナ−２−エン、ビシクロ〔３．２．２〕ノナ
−３−エン、ビシクロ〔３．２．２〕ノナ−６−エン、
２−オキサビシクロ〔１．１．１〕ブタン、２−オキサ
ビシクロ〔２．１．１〕ペンタン、２−オキサビシクロ
〔２．１．１〕ペンタ−４−エン、７−オキサビシクロ
〔２．２．１〕ヘキサン、７−オキサビシクロ〔２．
２．１〕ヘキサ−２−エン、７−オキサビシクロ〔４．
１．１〕ヘプタン、７−オキサビシクロ〔４．１．１〕
ヘプタ−２−エン、７−オキサビシクロ〔４．１．１〕
ヘプタ−３−エン、８−オキサビシクロ〔３．２．１〕
ヘプタン、８−オキサビシクロ〔３．２．１〕ヘプタ−
２−エン、８−オキサビシクロ〔３．２．１〕ヘプタ−
３−エン、８−オキサビシクロ〔３．２．１〕ヘプタ−
６−エン等が挙げられる。
【００１３】Ｚに於ける芳香族炭化水素環としては例え
ば炭素数１０個以下の基が挙げられ、具体的にはフェニ
ル環、ナフチル環等が挙げられる。
【００１４】Ａに於ける炭化水素環の結合位置としては
例えば−１，１−、−１，２−、−１，３−、−１，４
−等が挙げられる。
【００１５】−Ａｒに於ける芳香族炭化水素基としては
例えば炭素数１０個以下の基が挙げられ、具体的にはフ
ェニル、ナフチル等が挙げられる。−Ａｒに於ける芳香
族複素環基としては例えば単環の芳香族複素環基、二環
性の芳香族複素環基が挙げられる。
【００１６】単環の芳香族複素環基としては例えば炭素
数６個以下の、ヘテロ原子として窒素原子、酸素原子ま
たは硫黄原子を１〜４個、同一あるいは相異って含む基
が挙げられ、具体的にはピリジル、ピリミジニル、チア
ゾリル、オキサゾリル、イソオキサゾリル、イソチアゾ
リル、フリル、イミダゾリル等が挙げられる。
【００１７】二環性の芳香族複素環基としては例えば炭
素数１０個以下のヘテロ原子として窒素原子、酸素原子
または硫黄原子を１〜５個同一あるいは相異って含む基
が挙げられ、具体的にはベンズイソチアゾリル、ベンズ
イソオキサゾリル、ベンズフリル、キノリル、イソキノ
リル、インドリル、インダゾリル、ベンズイミダゾリ
ル、ベンズオキサゾリル等のベンゾローグ縮合環、ナフ
チリジニル、プテリジニル、チエノフラニル、イミダゾ
チオフェン−イル、イミダゾフラニル等が挙げられる。
【００１８】アルキルとしては例えば炭素数６個以下の
基が挙げられ、好ましくは炭素数４個以下の低級アルキ
ルが挙げられ、具体的にはメチル、エチル、プロピル、
２−プロピル、ブチル等が挙げられる。低級アルキルと
しては例えば炭素数４個以下の基が挙げられ、具体的に
はメチル、エチル、プロピル、２−プロピル、ブチル等
が挙げられる。
【００１９】低級アルコキシとしては例えば炭素数４個
以下の基が挙げられ、具体的にはメトキシ、エトキシ、
プロポキシ、２−プロポキシ、ブトキシ等が挙げられ
る。
【００２０】ハロゲン原子としては例えばフッ素、塩
素、臭素、ヨウ素が挙げられる。
【００２１】酸付加塩としては薬学上許される無機酸、
有機酸との付加塩が挙げられる。無機酸としては例えば
塩酸、臭化水素酸、ヨウ化水素酸、硫酸等が挙げられ
る。有機酸としては例えば酢酸、シュウ酸、クエン酸、
リンゴ酸、酒石酸、マレイン酸、フマール酸等が挙げら
れる。
【００２２】本発明化合物〔Ｉ〕には立体異性体および
（または）光学異性体が存在する。本発明においては、
これらの異性体の混合物および単離された異性体を含
む。
【００２３】−Ａｒで表される好ましい基としては、二
環性の芳香族複素環基であるか、ナフチル、ベンゾイ
ル、フェノキシあるいはフェニルチオ（この際、Ｇは
Ｎ、ＣＨあるいはＣＯＨを表す。）またはビフェニルメ
チリデン（この際Ｇは炭素原子を表す。）（当該、二環
性の芳香族複素環基、ナフチル、ベンゾイル、フェノキ
シ、フェニルチオおよびビフェニルメチリデンは少なく
とも１つの低級アルキル、低級アルコキシまたはハロゲ
ン原子で置換されてもよい。）が挙げられる。
【００２４】−Ａｒで表される更に好ましい基としては
ベンゾローグ縮合環、ナフチル、ベンゾイル、フェノキ
シまたはフェニル（当該ベンゾローグ縮合環、ナフチ
ル、ベンゾイル、フェノキシおよびフェニルチオは少な
くとも１つの低級アルキル、低級アルコキシまたはハロ
ゲン原子で置換されてもよい。）が挙げられる。この際
ＧはＮ、ＣＨまたはＣＯＨを表す。
【００２５】−Ａｒで表される更に好ましい基として
は、具体的にはベンズイソチアゾリル、ベンズイソオキ
サゾリル、イソキノリル、ベンズフラニル、インダゾリ
ルまたはインドリル（当該ベンズイソチアゾリル、ベン
ズイソオキサゾリル、イソキノリル、ベンズフラニル、
インダゾリルおよびインドリルは少なくとも１つの低級
アルキル、低級アルコキシまたはハロゲン原子で置換さ
れてもよい。）が挙げられる。この際ＧはＮ、ＣＨまた
はＣＯＨを表す。
【００２６】Ｚで表される好ましい基としては式
【化１２】 （式中−Ｌ−は単結合または二重結合を表す。Ｅは低級
アルキルで置換されてもよい低級アルキレンまたは酸素
原子を表す。Ｒ5 は水素原子または低級アルキルを表
す。Ｂはカルボニルまたはスルホニルを表す。）、式
【化１３】 （式中−Ｌ−、Ｅ、Ｒ5 およびＢは前記の意味を表
す。）、式
【化１４】 （式中、Ｒ6 、Ｒ7 、Ｒ8 、Ｒ9 、Ｒ10、Ｒ11、Ｒ12、
Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15は各々水素原子または低級アルキルを
またはＲ6 、Ｒ7 、Ｒ8 、Ｒ9 、Ｒ10、Ｒ11、Ｒ12、Ｒ
13、Ｒ14、Ｒ15で隣接するふたつが結合して二重結合を
表す。Ｂは前記の意味を表す。）、式
【化１５】 （式中、Ｒ16、Ｒ17は各々独立して水素原子または低級
アルキルを表すかまたはＲ16とＲ17は一緒になって飽和
炭化水素環を表す。Ｒ4 は水素原子または低級アルキル
を表す。Ｂは前記の意味を表す。）、式
【化１６】 （Ｂは前記の意味を表す。）で表される基等が挙げられ
る。
【００２７】ここでＲ16とＲ17が一緒になって形成する
飽和炭化水素環としては、例えば炭素数７個以下のシク
ロアルカンが挙げられ、具体的にはシクロプロパン、シ
クロブタン、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロ
ヘプタン等が挙げられる。
【００２８】Ｚで表される更に好ましい基としては、
【化１７】 （式中−Ｌ’−は単結合を表す。Ｅは低級アルキルで置
換されてもよい低級アルキレンまたは酸素原子を表す。
Ｒ5 は水素原子または低級アルキルを表す。Ｂはカルボ
ニルまたはスルホニルを表す。）、式
【化１８】 （式中−Ｌ’−、Ｅ、Ｒ5 およびＢは前記の意味を表
す。）、式
【化１９】 （式中、Ｒ6'、Ｒ7'、Ｒ8'、Ｒ9'、Ｒ10' 、Ｒ11' 、Ｒ
12' 、Ｒ13' 、Ｒ14' 、Ｒ15' は各々水素原子または低
級アルキルを表す。Ｂは前記の意味を表す。）、式
【化２０】 （式中Ｒ16、Ｒ17は各々独立して水素原子または低級ア
ルキル基を表すかまたはＲ16とＲ17は一緒になって飽和
炭化水素環を表す。Ｒ4 は水素原子または低級アルキル
を表す。Ｂは前記の意味を表す。）式
【化２１】 （Ｂは前記の意味を表す。）で表される基が挙げられ
る。
【００２９】本発明化合物〔Ｉ〕は、例えば、以下の反
応式で表される方法により製造することができる。
【００３０】製造法 ａ）
【化２２】
【００３１】製造法 ｂ）
【化２３】
【００３２】製造法 ｃ）
【化２４】
【００３３】製造法 ｄ）
【化２５】
【００３４】〔反応式中、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 、
ｐ、ｑ、ｎ、Ｄ、Ａ、Ｂ、Ｇ、Ｚおよび−Ａｒは前記の
意味を表す。ｌ、ｍは各々０または１を表す。Ｒ18、Ｒ
19はヒドロキシ、アルコキシまたは一緒になって酸素原
子を表す。Ｘは脱離基を表す。脱離基としては例えばハ
ロゲン原子、アルキルスルホニルオキシ、アリールスル
ホニルオキシが挙げられる。アルキルスルホニルオキシ
としては、例えば、メタンスルホニルオキシ等が挙げら
れる。アリールスルホニルオキシとしては例えば、ｐ−
トルエンスルホニルオキシ、ベンゼンスルホニルオキシ
等が挙げられる。Ｒ20はヒドロキシの保護基を表す。ヒ
ドロキシの保護基としては例えば、ベンジル、置換ベン
ジル、メトキシメチル、メトキシエトキシメチル、テト
ラヒドロフラニル等が挙げられる。置換ベンジルの置換
基としては、ハロゲン原子、メトキシ、ニトロ等が挙げ
られる。〕
【００３５】製造法ａ〜ｄの原料化合物は公知化合物で
あるか、以下の文献に記載の方法で合成することができ
る。例えば、〔Ｖ〕の化合物は特開昭和63-83085号公
報、ジャーナル・オブ・メデシナル・ケミストリ J.Me
d.Chem.,28,761-769,(1985) に製法が開示されている。
〔VII 〕化合物は特開平1-199967号公報またはジャーナ
ル・オブ・メデシナル・ケミストリ J.Med.Chem.,32,1
024 〜1033(1989)に製法が開示されている。
【００３６】製造法 ａ） 式〔III 〕の化合物は、不活性溶媒中、式〔II〕の化合
物と還元剤を反応させて得られる。反応温度は０℃〜溶
媒の沸点の範囲である。還元剤の量は、式〔II〕の化合
物に対し、１〜１０倍モルの範囲である。ここで不活性
溶媒としては、エーテル系の溶媒例えば、ジエチルエー
テル、テトラヒドロフラン等が挙げられる。還元剤とし
ては、例えば、 LiAlH4 、NaBH4 、 Ca(BH4 ）2 、 LiA
lH2 （OCH 2 CH2 OCH 3 ）2等が挙げられる。
【００３７】式〔IV〕の化合物は、式〔 III〕の化合物
に脱離基を導入して得られる。 ・脱離基がハロゲン原子の場合（例えば塩素原子の場
合） 式〔IV〕の化合物は、式〔 III〕の化合物と塩化チオニ
ルを必要に応じて塩基存在下反応して得られる。反応溶
媒としては例えばピリジン、テトラヒドロフラン、塩化
メチレン等が挙げられる。塩基としては例えば、ピリジ
ン等が挙げられる。反応温度としては０℃〜３０℃の範
囲が挙げられる。塩化チオニルの量としては式〔 III〕
の化合物に対して２〜４倍モルの範囲が挙げられる。
【００３８】・脱離基が、スルホニルオキシの場合 式〔IV〕の化合物は式〔 III〕の化合物とスルホニルク
ロライドを必要に応じて塩基存在下反応して得られる。
反応溶媒としては、例えばピリジン、テトラヒドロフラ
ン、塩化メチレン、クロロホルム等が挙げられる。塩基
としては例えばトリエチルアミン等が挙げられる。反応
温度としては０℃〜３０℃の範囲が挙げられる。スルホ
ニルクロライドとしては例えば、塩化メタンスルホニル
等のアルキルスルホニルクロライド、トシルクロライ
ド、ベンゼンスルホニルクロライド等のアリールスルホ
ニルクロライドが挙げられる。スルホニルクロライドの
量としては式〔 III〕の化合物に対して２〜４倍モルの
範囲が挙げられる。
【００３９】式〔VI〕の化合物は、式〔IV〕の化合物と
式〔Ｖ〕の化合物を塩基存在下反応して得られる。反応
溶媒としては例えば、アルコール、アセトニトリル、ジ
メチルホルムアミド等が挙げられる。反応温度としては
溶媒の沸点付近の範囲が挙げられる。塩基としては例え
ば炭酸カリウム、炭酸ナトリウム等が挙げられる。塩基
の量としては式〔IV〕の化合物に対して0.５〜２倍モル
の範囲が挙げられる。式〔Ｖ〕の化合物の量としては式
〔IV〕の化合物に対して１〜1.５倍モルの範囲が挙げら
れる。アルコールとしては例えばメタノール、エタノー
ル、プロパノール、２−プロパノール、ブタノール等が
挙げられる。
【００４０】式〔Ｉ−ａ〕の化合物は、式〔VI〕の化合
物と式〔 VII〕の化合物を必要に応じて触媒存在下反応
して得られる。反応溶媒としては例えばトルエン、キシ
レン、クロロベンゼン等の芳香族溶媒が挙げられる。反
応温度としては溶媒の沸点付近の範囲が挙げられる。触
媒としては例えばジベンゾ−１８−クラウン−６−エー
テル等のクラウンエーテルが挙げられる。触媒の量とし
ては、式〔IV〕の化合物に対して0.１〜１０重量％の範
囲が挙げられる。式〔 VII〕の化合物の量としては式
〔VI〕の化合物に対して１〜1.５倍モルの範囲が挙げら
れる。
【００４１】製造法 ｂ）式〔VIII〕の化合物は式〔I
V〕の化合物と式〔 VII〕の化合物を塩基および必要に
応じて反応助剤存在下反応して得られる。反応溶媒とし
ては例えばアルコール、ジメチルホルムアミド、アセト
ニトリル等が挙げられる。反応温度としては溶媒の沸点
付近の範囲が挙げられる。塩基としては例えば炭酸カリ
ウム、炭酸ナトリウム等の無機塩基が挙げられる。反応
助剤としては例えばヨウ化カリウム、ヨウ化ナトリウム
等のヨウ化アルカリ金属塩が挙げられる。塩基の量とし
ては、式〔IV〕の化合物に対して１〜２倍モルの範囲が
挙げられる。反応助剤の量としては式〔IV〕の化合物に
対して0.１〜１倍モルの範囲が挙げられる。式〔 VII〕
の化合物の量は式〔IV〕の化合物に対して0.１〜１倍モ
ルの範囲が挙げられる。
【００４２】式〔Ｉ−ａ〕の化合物は式〔VIII〕の化合
物と式〔Ｖ〕の化合物を塩基および必要に応じて反応助
剤存在下反応して得られる。反応溶媒としては例えばア
ルコール、ジメチルホルムアミド、アセトニトリル等が
挙げられる。反応温度としては溶媒の沸点付近の範囲が
挙げられる。塩基としては例えば炭酸カリウム、炭酸ナ
トリウム等の無機塩基が挙げられる。反応助剤としては
例えば、ヨウ化カリウム、ヨウ化ナトリウム等のヨウ化
アルカリ金属塩が挙げられる。塩基の量としては、式
〔VIII〕の化合物に対して１〜２倍モルの範囲が挙げら
れる。反応助剤の量としては式〔VIII〕の化合物に対し
て0.１〜１倍モルの範囲が挙げられる。式〔Ｖ〕の化合
物の量は式〔VIII〕の化合物に対して１〜1.５倍モルの
範囲が挙げられる。
【００４３】製造法 ｃ）式〔Ｘ〕の化合物は、式〔I
X〕の化合物より通常の方法、例えば、「プロテクテブ
・グループ・イン・オーガニック・シンセシス Protec
tive group in Organic Synthesis,Theodora W.Greene,
John Wiley &Sone, 10〜39頁」記載の保護基の導入方
法により得られる。
【００４４】式〔XI〕の化合物は式〔Ｘ〕の化合物を酸
化し、オキシム化し、還元して得られる。酸化剤として
例えば、無水クロム酸、重クロム酸等のクロム酸塩が挙
げられる。オキシム化剤としてはヒドロキシアミンが挙
げられる。オキシム化の溶媒としては例えばアルコール
等が挙げられる。オキシム化の温度としては０〜３０℃
の範囲が挙げられる。オキシム化剤の量としては式
〔Ｘ〕の化合物に対して１〜２倍の範囲が挙げられる。
還元剤としては例えば LiAlH4 等が挙げられる。還元の
温度としては溶媒の沸点付近の範囲が挙げられる。還元
剤の量としては式〔Ｘ〕の化合物に対して１〜２倍モル
の範囲が挙げられる。
【００４５】式〔XIII〕の化合物は式〔XI〕の化合物と
式〔XII 〕の化合物を反応して得られる。反応溶媒とし
ては例えばピリジン、トルエン、キシレン、クロルベン
ゼン等が挙げられる。反応温度としては溶媒の沸点付近
の範囲が挙げられる。式〔XII 〕の化合物の量は式〔X
I〕の化合物に対して１〜３倍モルの範囲が挙げられ
る。
【００４６】式〔 XIV〕の化合物は、式〔XIII〕の化合
物より通常の方法、例えば、「プロテクテブ・グループ
・イン・オーガニック・シンセシス Protective group
inOrganic Synthesis,Theodora W.Greene,John Wiley
& Sons,10〜39頁」に記載の方法で脱保護し得られる。
【００４７】式〔XV〕の化合物は式〔 XIV〕の化合物に
脱離基を導入して得られる。 ・脱離基がハロゲン原子の場合（例えば塩素原子の場
合） 式〔XV〕の化合物は、式〔 XIV〕の化合物と塩化チオニ
ルを必要に応じて塩基存在下反応して得られる。反応溶
媒としては例えばピリジン、テトラヒドロフラン、塩化
メチレン等が挙げられる。塩基としては例えば、ピリジ
ン等が挙げられる。反応温度としては０℃〜３０℃の範
囲が挙げられる。塩化チオニルの量としては式〔 XIV〕
の化合物に対して２〜４倍モルの範囲が挙げられる。
【００４８】・脱離基が、スルホニルオキシの場合 式〔XV〕の化合物は式〔 XIV〕の化合物とスルホニルク
ロライドを必要に応じて塩基存在下反応して得られる。
反応溶媒としては、例えばピリジン、テトラヒドロフラ
ン、塩化メチレン、クロロホルム等が挙げられる。塩基
としては例えばトリエチルアミン等が挙げられる。反応
温度としては０℃〜３０℃の範囲が挙げられる。スルホ
ニルクロライドとしては例えば、塩化メタンスルホニル
等のアルキルスルホニルクロライド、トシルクロライ
ド、ベンゼンスルホニルクロライド等のアリールスルホ
ニルクロラドが挙げられる。スルホニルクロライドの量
としては式〔 XIV〕の化合物に対して２〜４倍モルの範
囲が挙げられる。
【００４９】式〔Ｉ〕の化合物は式〔XV〕の化合物と式
〔Ｖ〕の化合物を塩基および反応助剤存在下反応して得
られる。反応溶媒としては例えばアルコール、ジメチル
ホルムアミド、アセトニトリル等が挙げられる。反応温
度として溶媒の沸点付近の範囲が挙げられる。塩基とし
ては例えば炭酸カリウム、炭酸ナトリウム等の無機塩基
が挙げられる。反応助剤としては例えばヨウ化カリウ
ム、ヨウ化ナトリウム等のヨウ化アルカリ金属塩が挙げ
られる。塩基の量として、式〔XV〕の化合物に対して１
〜２倍モルの範囲が挙げられる。反応助剤の量としては
式〔XV〕の化合物に対して0.１〜１倍モルの範囲が挙げ
られる。式〔Ｖ〕の化合物の量は式〔XV〕の化合物に対
して１〜1.５倍モルの範囲が挙げられる。
【００５０】製造法 ｄ）式〔XVII〕の化合物は式〔X
I〕の化合物と式〔 XVI〕の化合物を塩基存在下反応し
て得られる。反応溶媒としては例えばアルコール、ジグ
ライム、トルエン、クロロベンゼン等が挙げられる。反
応温度としては溶媒の沸点付近の範囲が挙げられる。塩
基としては例えば炭酸カリウム、炭酸ナトリウム等の無
機塩基が挙げられる。塩基の量としては、式〔XI〕の化
合物に対して１〜２倍モルの範囲が挙げられる。式〔 X
VI〕の化合物の量は式〔XI〕の化合物に対して１〜1.５
倍モルの範囲が挙げられる。
【００５１】式〔 XVIII〕の化合物は、式〔XVII〕の化
合物より通常の方法例えば、「プロテクテブ・グループ
・イン・オーガニック・シンセシス Protective group
inOrganic Synthesis,Theodora W.Greene, John Wiley
& Sons, 10〜39頁」記載の脱保護の方法により得るこ
とができる。
【００５２】式〔 XIX〕の化合物は式〔 XVIII〕の化合
物に脱離基を導入して得られる。 ・脱離基がハロゲン原子の場合（例えば塩素原子の場
合） 式〔 XIX〕の化合物は、式〔 XVIII〕の化合物と塩化チ
オニルを必要に応じて塩基存在下反応して得られる。反
応溶媒としては例えばピリジン、テトラヒドロフラン、
塩化メチレン等が挙げられる。塩基としては例えば、ピ
リジン等が挙げられる。反応温度としては０℃〜３０℃
の範囲が挙げられる。塩化チオニルの量としては式〔 X
VIII〕の化合物に対して２〜４倍モルの範囲が挙げられ
る。
【００５３】・脱離基がスルホニルオキシ基の場合 式〔 XIX〕の化合物は、式〔 XVIII〕の化合物とスルホ
ニルクロライドを必要に応じて塩基存在下反応して得ら
れる。反応溶媒としては例えばピリジン、テトラヒドロ
フラン、塩化メチレン、クロロホルム等が挙げられる。
塩基としては例えばトリエチルアミン等が挙げられる。
反応温度としては０℃〜３０℃の範囲が挙げられる。ス
ルホニルクロライドとしては例えば、塩化メタンスルホ
ニル等のアルキルスルホニルクロライド、トシルクロラ
イド、ベンゼンスルホニルクロライド等のアリールスル
ホニルクロラドが挙げられる。スルホニルクロライドの
量として式〔 XVIII〕の化合物に対して２〜４倍モルの
範囲が挙げられる。
【００５４】式〔Ｉ〕の化合物は式〔 XIX〕の化合物と
式〔 VII〕の化合物を塩基存在下反応して得られる。反
応溶媒としては例えば、アルコール、アセトニトリル、
ジメチルホルムアミド等が挙げられる。反応温度として
は溶媒の沸点付近の範囲が挙げられる。塩基としては例
えば炭酸カリウム、炭酸ナトリウム等が挙げられる。塩
基の量として式〔 XIX〕の化合物に対して0.５〜２倍モ
ルの範囲が挙げられる。式〔 VII〕の化合物の量として
は式〔 XIX〕の化合物に対して１〜1.５倍モルの範囲が
挙げられる。
【００５５】製造法ａ）〜ｄ）で得られる化合物〔Ｉ−
ａ〕および〔Ｉ〕は、結晶化溶媒中（例えば、アルコー
ル、ジエチルエーテル、酢酸エチル、ヘキサンまたはこ
れらの混合溶媒等）で再結晶、またはシリカゲルクロマ
トグラフィーにより精製できる。また化合物〔Ｉ〕は、
酸付加塩にし結晶化溶媒中（例えば、アセトン、ジエチ
ルエーテル、アルコール等）にて再結晶することによっ
ても精製できる。
【００５６】保護基導入の通常の方法としては、例え
ば、保護基がベンジル、置換ベンジル、メトキシメチル
の場合は、原料化合物に対して１〜２倍の相当する保護
基のハロゲン化物を塩基（例えば、ＮａＨ、ＫＨ等のア
ルカリ金属ハイドライド、トリエチルアミン、ジメチル
アミノピリジン等の有機塩基）存在下、有機溶媒中（例
えば、テトラヒドロフラン、ジメチルホルムアミド
等）、−１０℃〜３０℃の温度範囲で反応させることに
より保護基が導入される。
【００５７】脱保護の通常の方法としては、例えば、保
護基がベンジル、置換ベンジルの場合、触媒（例えば、
Ｐｄ−Ｃ，ＰｔＯ，Ｐｔ−Ｃ等の貴金属触媒）存在下、
水素添加反応（例えば、１〜３気圧の範囲）を行うこと
によって脱保護できる。また、保護基がベンジル、置換
ベンジル、メトキシメチルの場合は、強酸（例えば、CF
3 COOH，HBr ，HBr-CH3 COOH等）を作用させることによ
っても脱保護できる。
【００５８】一般式〔Ｉ〕で表される化合物を光学分割
する場合には以下の様にできる。式〔Ｉ〕の化合物を不
活性溶媒（例えばアセトニトリル、アルコール等が挙げ
られる）に溶解し、光学活性な酸（例えばＬ−酒石酸、
Ｄ−酒石酸、Ｄ−カンファー酸、Ｌ−マンデル酸、Ｌ−
ピログルタミン酸、Ｄ−１０−カンファースルホン酸、
Ｄ−キナ酸、Ｌ−リンゴ酸、ジベンゾイル−Ｌ−酒石酸
等が挙げられ、好ましくはＬ−酒石酸、Ｄ−酒石酸が挙
げられる。）を加え塩を形成させる。塩を形成させる際
の温度としては、室温から溶媒の沸点までの範囲で行う
ことができるが、光学純度を向上させるために、一旦溶
媒の沸点近くまで加熱することが望ましい。析出した塩
をろ取する前に必要に応じ冷却し、収率を向上させるこ
とができる。光学活性な酸（分割剤）の使用量は、基質
に対して0.５〜2.０当量、好ましくは１当量前後の範囲
が適当である。必要に応じ、得られた結晶を結晶化溶媒
中（例えば、アルコール等が挙げられる。）で再結晶す
ることにより、高純度の光学活性な塩を得ることもでき
る。必要に応じ、得られた塩を通常の方法で塩基と処理
することによって、一般式〔Ｉ〕で表される化合物の光
学活性体をフリー体として得ることができる。
【００５９】一般式〔Ｉ〕で表される本発明化合物及び
その酸付加塩は、抗精神病薬として用いる場合、経口的
あるいは非経口的に投与することができる。すなわち通
常用いられる投与形態例えば、錠剤，カプセル剤，シロ
ップ剤、懸濁液等の型で経口的に投与できる。あるい
は、液剤の型にしたものを注射の型で非経口的に投与で
きる。また、坐剤の型で、直腸投与することもできる。
また、前記の適当な投与剤型は許容される通常の担体・
賦型剤・結合剤・安定剤等に本発明化合物〔Ｉ〕または
その酸付加塩を配合することにより製造することができ
る。また、注射剤型として用いる場合には、許容される
緩衝剤、溶解補助剤、等張剤等を添加することもでき
る。
【００６０】投与量、投与回数は、症状・年齢・体重・
投与形態等によって異なるが、通常は成人に対し、１日
あたり概ね、経口の場合には１〜５００mg、好ましくは
５〜１００mgを、静注の場合には0.１〜１００mg、好ま
しくは0.３〜５０mgを１回または数回にわけて投与する
ことができる。
【００６１】実験例１ ＜実験方法＞ （１） 抗精神病作用（抗Ｄ2 作用）（in vitro） 一般に臨床における抗精神病作用とＤ2 受容体遮断作用
との間に相関性が認められている。インビトロ試験法で
あるドーパミンＤ2 受容体に対するバインディングアッ
セイ法を用いた。〔 3Ｈ〕ラクロプライド（racloprid
e）を用い、LifeSci.,23, 1781〜1784,(1978) などの記
載の方法により、〔3Ｈ〕ラクロプライド（racloprid
e）量を測定し、Ｋｉ値を求めた。更に代表的な抗精神
病薬であるハロペリドールと比較した。結果は表３に示
した。
【表３】 被験化合物の濃度が０．０１μＭのときの阻害率を求め
た。その結果を表４に示す。
【表４】
【００６２】（２） 抗精神病作用（in vivo) 臨床における抗精神病作用の代表的なインビボ試験法で
ある抗アポモルフィン試験を行った。雄性マウスに被験
薬物経口投与し、１時間後にアポモルフィン（１mg／k
g) を皮下投与した。投与後、１０分から２０分間マウ
スのクライミング行動を観察し、４段階のスコア付けを
行い（０：４肢とも棒をつかまない，１：２肢のみ棒を
つかむ，２：４肢とも棒をつかむが断続的，３：４肢と
も棒をつかみ持続的）、ＥＤ50値を求めた。更に代表的
な抗精神病薬であるハロペリドール、クロルプロマジン
と比較した。結果を表５に示した。
【表５】
【００６３】（３） 副作用 臨床における抗精神病薬の代表的な中枢性副作用である
カタレプシー惹起作用を評価した。雄性マウスに被験薬
物を経口投与し、１時間後に５cmの高さの所に水平に渡
した直径２．５mmの鉄棒に前肢を強制的に３回かけさせ
る。背のびした不自然な状態を３０秒以上、３回のうち
１回でも保持した場合、カタレプシー陽性とした。結果
を表６に示した。
【表６】
【００６４】（４） 副作用 抗精神病薬のもつα1 受容対遮断作用は起立性低血圧等
の循環器系副作用と関連している。そこでプトーシス
（眼瞼下垂）惹起試験を行いα1 受容対遮断作用を評価
した。被験薬物をマウスに経口投与し、１時間後にプト
ーシス（眼瞼下垂）のスコア付けを行った。結果を表７
に示した。
【表７】
【００６５】
【効果】本発明化合物（Ｉ）およびその酸付加塩は優れ
た抗精神病活性を示し、更に抗精神病活性（抗アポモル
フィン作用）と副作用の効力比から中枢性副作用、末梢
性副作用の少ないことが明らかとなった。
【００６６】
【実施例】
参考例 １−（ａ） 化合物（201)の合成
【化２６】 水素化リチウムアルミニウム２．８５ｇ（７５mmol）と
ジエチルエーテル５０mlの混合物に、トランス−１，２
−シクロヘキサンジカルボン酸無水物７．７１ｇ（１）
（５０mmol）とジエチルエーテル１５０mlの混合物を滴
下する。室温で３時間、加熱還流下２時間反応させる。
冷却後、含水エーテル、次いで水を滴下し、有機層をデ
カンテーションによりあつめ、濃縮し、トランス−１，
２−（ビスヒドロキシメチル）シクロヘキサン（２）5.
１ｇを得る。化合物（２）5.１ｇ（35.4 mmol ）とトリ
エチルアミン10.37 ｇ（１０３mmol）のアセトニトリル
（１２７ml）溶液に、塩化メタンスルホニル8.13ｇ（７
１mmol）を氷冷却滴下する。氷冷で１時間保温し、次い
で室温で３時間反応させる。反応液を水で洗浄し、硫酸
マグネシウムで乾燥させ濃縮し、ジエチルエーテルを加
え生成した結晶をろ取し、トランス−１，２−ビス（メ
タンスルホニルオキシメチル）シクロヘキサン（３）5.
４ｇを得る。化合物（３） 3.06ｇ（10.2 mmol ）と３
−（１−ピペラジニル）−１，２−ベンズイソチアゾー
ル（４）2.19ｇ（１０mmol）と炭酸ナトリウム1.05ｇ
（１０mmol）とアセトニトリル４５mlの混合物を２３時
間還流する。熱時ろ過を行い、ろ液を濃縮し、(201)
４．３ｇを得る。 融 点 ２２０〜２２５℃
【００６７】参考例 １−（ｂ） 化合物（３）の合成
【化２７】 水素化アルミニウムリチウム 52.22 ｇ（1.374 mol)と
テトラヒドロフラン５００mlの混合物に、トランス−
１，２−シクロヘキサンジカルボン酸（５）118.18ｇ
（0.687 mol ）のテトラヒドロフラン２０００mlの溶液
を還流下滴下し、３時間還流する。反応終了後、反応液
を冷却し含水テトラヒドロフラン、ジエチルエーテルを
滴下し、ろ過し、ろ液を減圧濃縮することによりトラン
ス−１，２−（ビスヒドロキシメチル）シクロヘキサン
（２）71.86 ｇを得る、化合物（２）71.86 ｇ（0.499
mol)とトリエチルアミン151.21ｇ（1.497 mol)とクロロ
ホルム１ｌの溶液に、氷冷下塩化メタンスルホニル114.
27ｇ（0.998 mol ）を滴下し、室温で６時間攪拌する。
反応液を水で洗浄し、乾燥し、減圧濃縮し、ジエチルエ
ーテルを加え結晶化し、ろ取してトランス−１，２−ビ
ス（メタンスルホニルオキシメチル）シクロヘキサン
（３）88.57 ｇを得る。
【００６８】参考例２ Ｎ−｛（２−クロロメチル）シクロプロピルメチル｝シ
クロヘキサン−１，２−ジカルボキシイミド（202)の合
成
【化２８】 １，２−シクロプロパンジカルボン酸ジエチルエステル
（６）25.0ｇ（134 mmol）とジエチルエーテル２５０ml
の溶液を、水素化リチウムアルミニウム6.65ｇ（175 mm
ol) とジエチルエーテル1000 ml の混合物に滴下する。
５時間還流し、冷却する。含水エーテル, 水を順次滴下
し、デカンテーションにより有機層をあつめ、乾燥す
る。減圧濃縮し、１，２−ビス（ヒドロキシメチル）シ
クロプロパン（７） 24.8 ｇを得る。化合物（７）3.０
ｇ（29.4 mmol)とピリジン4.64ｇの溶液に、氷冷下、塩
化チオニル10.5ｇ（88.2 mmol)を滴下し、０〜５℃で３
０分間、その後室温で２時間攪拌する。反応液を濃縮
し、残渣にジエチルエーテル−酢酸エチル（１：１）を
加え、ろ過し、ろ液を濃縮し、１，２−ビス（クロロメ
チル）シクロプロパン（８）2.51ｇを得る。 1 Ｈ−ＮＭＲ（CDCl3 ）：δ 0.７５（２Ｈ，ｍ），1.
２５（２Ｈ，ｍ），3.４５（４Ｈ，ｍ） 化合物（８）0.３ｇ（2.２mmol）、シクロヘキサン−
１，２−ジカルボン酸イミド（２５３）６６mg（0.４３
mmol）、炭酸カリウム0.３ｇ（2.２mmol）、ヨウ化カリ
ウム0.３ｇ（1.８mmol）とアセトニトリル２０mlの混合
物を５時間還流する。冷却後、減圧濃縮する。残渣にク
ロロホルムを加え、水で洗浄し、乾燥し、減圧濃縮す
る。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精
製し、化合物（202)を0.11ｇを得る。 1 Ｈ−ＮＭＲ（CDCl）：δ 0.６０（２Ｈ，ｍ），0.９
５（２Ｈ，ｍ），1.４５（４Ｈ，ｍ）, 1.８５（４Ｈ，
ｍ），2.８５（２Ｈ，ｍ），3.２０（２Ｈ，ｍ），3.５
５（２Ｈ，ｍ）
【００６９】参考例３ 化合物（203)の合成
【化２９】 ５０％水素化ナトリウム5.７７ｇ（１２０mmol）をヘキ
サンで洗浄し、ジメチルホルムアミド５０mlを加える。
３−ヒドロキシメチルシクロヘキサノール（９）10.0ｇ
（76.8 mmol ）を氷冷下滴下し、次いで臭化ベンジル1
3.15 ｇ (76.8 mmol ）を氷冷下滴下する。０〜１０℃
で５時間攪拌する。反応液を氷水中に注ぎ、トルエン抽
出を行い、水で洗浄し、乾燥し、減圧濃縮し、残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、３−ベ
ンジルオキシメチルシクロヘキサノール（１０）を9.５
５ｇを得る。 1 Ｈ−ＮＭＲ（CDCl3 ) ：δ 0.８〜2.１（９Ｈ，ｍ）
3.３５（２Ｈ，ｓ）,3.６０（１Ｈ，ｍ），4.５０（２
Ｈ，ｓ），7.３５（５Ｈ，ｍ） 化合物（１０） 4.９ｇ（22.2 mmol ）とアセトン（９
０ml）の溶液に、氷冷下ジョーンズ試薬（無水クロム酸
−硫酸）（０．０７mol ）を滴下する。０〜１０℃にて
２時間攪拌する。反応液にメタノールを滴下し、それを
氷水中に注ぎ、クロロホルムで抽出し、水で洗浄し、乾
燥する。減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィーにて精製し、３−ベンジルオキシメチルシク
ロヘキサノン（１１）を得る。 1 Ｈ−ＮＭＲ（CDCl3 ）：δ 1.１５〜2.５０（９Ｈ，
ｍ）3.３８（２Ｈ，ｄ）, 4.５０（２Ｈ，ｓ），7.３０
（５Ｈ，ｍ） 化合物（１１） 1.０ｇ（4.６mmol）とエタノール（２
５ml）の溶液に、酢酸ナトリウム0.754 ｇ（9.２mmo
l）、ヒドロキシアミン・塩酸塩0.384 ｇ（5.５mmol）
を加え、室温で３時間攪拌する。氷水中に反応液を注
ぎ、クロロホルムで抽出し、水で洗浄し、乾燥し、減圧
濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに
て精製し、３−ベンジルオキシメチルシクロヘキサノン
オキシム（１２）を0.８ｇ得る。 1 Ｈ−ＮＭＲ（CDCl3 ）：δ 1.２〜1.５５（９Ｈ，
ｍ）1.６５〜2.１５（５Ｈ，ｍ），2.４５（１Ｈ，
ｍ），3.２５（１Ｈ，ｍ），3.３８（２Ｈ，ｍ）, 4.５
０（２Ｈ，ｓ），7.３０（５Ｈ，ｍ） 化合物（１２） 0.75ｇ（3.２mmol）とジエチルエーテ
ルの溶液に、水素化リチウムアルミニウム 0.75ｇ（２
０mmol）を加え、３時間還流する。冷却後、含水エーテ
ルを滴下し、デカンテーションにより有機層をあつめ、
乾燥する。減圧濃縮し、３−ベンジルオキシメチルシク
ロヘキシルアミン（１３）を0.６１ｇを得る。 1 Ｈ−ＮＭＲ（CDCl3 ）：δ 0.８〜2.２（９Ｈ，
ｍ），3.１５（１Ｈ，ｓ）, 3.２０（１Ｈ，ｓ），3.３
５（２Ｈ，ｍ），4.５０（２Ｈ，ｓ），7.３０（５Ｈ，
ｍ） 化合物（１３） 0.５７ｇ（2.６mmol）とピリジン３０
mlの溶液に、ビシクロ〔２．２．１〕ヘプタ−５−エン
−２，３−ジ−エキソ−カルボン酸無水物（１４） ８
５４mg（5.２mmol）を加え、７時間還流する。溶媒を減
圧留去し、残渣にクロロホルムを加え、水で洗浄し、乾
燥し、減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー及びシリカゲル薄層クロマトグラフィ
ーにて精製し、化合物（１５）を0.２３ｇを得る。 1 Ｈ−ＮＭＲ（CDCl3 ）：δ 0.９〜2.４５（１１Ｈ，
ｍ），2.６０（２Ｈ，ｓ）, 3.２５（２Ｈ，ｓ），3.３
０〜3.５２（２Ｈ，ｍ），4.００（１Ｈ，ｍ），4.５５
〜4.６５（２Ｈ，ｍ），6.３０（２Ｈ，ｓ），7.３０
（５Ｈ，ｍ） 化合物（１５） 0.２１ｇ（57.5 mmol ）とメタノール
１０mlの溶液に、濃塩酸１滴と１０％パラジウム−炭素
（Ｐｄ−Ｃ）２１０mgを加え、室温で接触水素添加す
る。反応終了後、反応液をろ過し、ろ液を減圧留去し、
化合物（１６）を定量的に得る。 1 Ｈ−ＮＭＲ（CDCl3 ）：δ 0.９〜2.２５（１５Ｈ，
ｍ），2.５５（２Ｈ，ｓ），2.７０（２Ｈ，ｓ），3.６
８（２Ｈ，ｂｒｓ），4.０８（１Ｈ，ｂｒｓ） 化合物（１６） １３３mg（0.６１mmol) とピリジン５
mlの溶液に、塩化メタンスルホニル８2.４mg（0.９２mm
ol）を氷冷下滴下し、室温で1.５時間攪拌する。溶媒を
減圧留去し、残渣にクロロホルムを加え水で洗浄し、硫
酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮し、化合物（203)を
得る。 1 Ｈ−ＮＭＲ（CDCl3 ）：δ 1.０〜2.２（１５Ｈ，
ｍ），２．５５（２Ｈ，ｓ），2.７０（２Ｈ，ｓ），3.
００（３Ｈ，ｓ），4.０２（３Ｈ，ｍ）
【００７０】参考例４ 化合物（204)の合成
【化３０】 水素化アルミニウムリチウム 11.86ｇ（0.312mol）とジ
エチルエーテル３００mlの混合物に、トランス−１，２
−（ジカルボニルジクロライド）シクロブタン（１７）
１８．９ｇ（０．１０４ｍｏｌ）とジエチルエーテル２
００mlの溶液を還流下滴下し、３時間還流する。冷却
後、含水テトラヒドロフランを反応液に滴下し、ろ過
し、ろ液を減圧濃縮し、トランス−１，２−（ビスヒド
ロキシメチル）シクロブタン（１８）を8.７６ｇ得る。
化合物（１８） 8.５０ｇ（0.0733 mmol)とトリエチル
アミン22.20 ｇ（0.２２mol ）とクロロホルム１００ml
の溶液に氷冷下塩化メタンスルホニル16.79 ｇ（0.147
mol ）を滴下し、室温で７時間攪拌する。反応液を水で
洗浄し、乾燥し、減圧濃縮し、トランス−１，２−ビス
（メタンスルホニルオキシメチル）シクロブタン（１
９）を18.50 ｇ得る。 融 点 ６０〜６２℃（エーテルで結晶化） 化合物（１９） 10.00 ｇ（0.0368 mol) と３−（１−
ピペラジニル）−１，２−ベンズイソチアゾール（４）
7.２５ｇ（0.0331 mol) と炭酸ナトリウム3.９０ｇ（0.
0368 mol) とアセトニトリル３００mlの混合物を１３時
間還流する。反応液を冷却し、ろ過し、ろ液を減圧濃縮
し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製
し、化合物（204)を2.８４ｇ得る。 1 Ｈ−ＮＭＲ（CDCl3 ）δ：1.５〜2.１５（４Ｈ，
ｍ），2.３〜2.６９（８Ｈ，ｍ），3.０２（３Ｈ，
ｓ），3.５４（４Ｈ，ｔ，Ｊ＝５Ｈｚ），4.２５（２
Ｈ，ｄ，Ｊ＝5.６Ｈｚ），7.３２〜7.５０（２Ｈ，
ｍ），7.８３〜7.９２（２Ｈ，ｍ）
【００７１】参考例５ 化合物（205)の合成
【化３１】 ３−（１−ピペラジニル）−１，２−ベンズイソチアゾ
ール（４）１2.７ｇ（0.058 mol)と１，４−シクロヘキ
サンジオンモノエチレンケタール（２０）１０ｇ（0.06
4 mol)とｐ−トルエンスルホン酸0.５５ｇ（0.0029 mo
l) とトルエン２００mlの混合物を７時間還流する。室
温で反応液に炭酸カリウム0.８ｇ（0.0058mol) を加え
一時間攪拌し、減圧濃縮する。残渣にテトラヒドロフラ
ン２５０mlとメタノール２０mlと水素化ホウ素ナトリウ
ム 2. １９ｇ（0.058 mol)を加え室温で１５時間攪拌す
る。反応液を減圧濃縮し、クロロホルムを加え、水で洗
浄し、乾燥し、減圧濃縮し、残渣をカラムクロマトグラ
フィーにより精製し化合物（２１）を1.５７ｇ得る。 融 点 １０５〜１０６℃ 化合物（２１）2.５ｇ（0.007 mol)と１Ｎ−塩酸水２０
mlとテトラヒドロフラン２０mlの溶液を１０時間還流す
る。反応液を減圧濃縮し、残渣を炭酸カリウム水溶液で
アルカリ性にし酢酸エチルで抽出し、乾燥し、減圧濃縮
し、化合物（２２）を2.０６ｇ得た。化合物（２２）２
ｇ（0.0063 mol) とメタノール２００mlの溶液に氷冷下
水素化ホウ素ナトリウム０．２４ｇ（0.0063 mol) を加
え、３０分攪拌する。反応液を減圧濃縮し、残渣に水を
加え、酢酸エチルで抽出し、乾燥し、減圧濃縮し、化合
物（205)を得る。 融 点 １５５−１６０℃ 1 Ｈ−ＮＭＲ（CDCl3 ）δ：1.２〜2.１（９Ｈ，ｍ），
2.３〜2.４５（１Ｈ，ｍ），2.７〜2.８５（４Ｈ，
ｍ），3.５〜3.７（５Ｈ，ｍ），7.３２〜7.５（２Ｈ，
ｍ），7.８１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ），7.９１（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）
【００７２】参考例６ 参考例１〜５の方法を用いて以下の表８〜表１３の化合
物を得る。
【表８】
【表９】
【表１０】
【表１１】
【表１２】
【表１３】
【００７３】参考例７ 特開昭63-83085号公報、ジャーナル・オブ・メデシナル
・ケミストリ J.Med Chem., 28 761-769(1985), 32 102
4 〜 1033(1989) の方法またはそれに準じて表１４〜表
１６の化合物を得る。
【表１４】
【表１５】
【表１６】
【００７４】実施例１−（ａ） 化合物（101)の合成
【化３２】 化合物（201) 1.４４ｇ（3.４mmol）とビシクロ〔２．
２．１〕ペンタン−２，３−ジエキソ−ジカルボキシイ
ミド（251)0.８４ｇ（5.１mmol）と炭酸カリウム0.６８
ｇ（5.０mmol）、ジベンゾ−１８−クラウン−６−エー
テル４mg（0.01mmol) とキシレン２０mlの混合物を１６
時間還流する。溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラム
クロマトグラフィーにより精製し、塩化水素−２−プロ
パノールで処理し、化合物（101)を得る。
【００７５】実施例１−（ｂ） 化合物（102)の合成 実施例１−（ａ）でシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーで精製して得られたもの 145.0 ｇとメタノール1350
mlを加熱し６０℃とする。これにＬ−酒石酸４4.４ｇの
メタノール１００ml溶液を滴下して３０分還流する。そ
の後放冷し２０〜３０℃にして２時間攪拌した後、析出
晶を濾取し、減圧乾燥して103.5 ｇの結晶を得る。この
結晶をさらにメタノールから２回再結晶し、７1.３ｇの
（＋）体のＬ−酒石酸塩（102)を得る。
【００７６】実施例１−（ｃ） 化合物（103)の合成 実施例１−（ｂ）の最初の結晶ろ取母液を減圧濃縮し、
残渣にジクロルメタン５００mlと重曹水２００mlを加
え、有機層を重ソウ水で洗浄し、食塩水５００mlで２回
洗浄し、乾燥し、減圧濃縮する。残渣にメタノール3300
ml とＤ−酒石酸２0.２ｇを加え還流し、溶解する。こ
の溶液は攪拌下放冷し、２０〜３０℃にて２時間攪拌し
た後、析出晶をろ取し、減圧乾燥して８8.０ｇの結晶を
得る。この結晶をさらにメタノールから再結晶して６7.
５ｇの（−）体のＤ−酒石酸塩（103)を得る。
【００７７】実施例１−（ｄ） 化合物（104)の合成 実施例１−（ｂ）で得た化合物（102)７0.０ｇとクロロ
ホルム５００mlの混合物を、重曹水２００mlで２回、食
塩水２００mlで２回洗浄し、乾燥し、減圧濃縮する。こ
の残渣にアセトン２７０ml１3.７％塩化水素２−プロパ
ノール溶液３1.９ｇを加え２０〜３０℃で２時間攪拌す
る。その後析出晶をろ取し、減圧下乾燥して５5.９ｇの
（＋）体の塩酸塩（104)を得る。
【００７８】実施例１−（ｅ） 化合物（105)の合成 実施例１−（ｃ）で得た化合物（103)６5.０ｇを実施例
１−（ｄ）と同様に処理して（−）体の塩酸塩（105)を
得る。
【００７９】実施例２ 化合物（１０６）の合成
【化３３】 化合物（203) ９０mg (0.２５mmol）、炭酸ナトリウム
９０mg（0.８５mmol）、３−（１−ピペラジニル）−
１，２−ベンズイソチアゾール（４）１８０mg（0.８２
mmol）とアセトニトリル５mlの溶液を３０時間還流す
る。反応液を減圧濃縮し、クロロホルムを加え、水で洗
浄し、乾燥し、減圧濃縮する。残渣をシリカゲル薄層ク
ロマトグラフィーにて精製し、化合物（106)を得る。
【００８０】実施例３ 化合物（107)の合成
【化３４】 化合物（202) 0.１ｇ（0.３９mmol）、３−（１−ピペ
ラジニル）−１，２−ベンズイソチアゾール（４）0.１
２９ｇ（0.５８mmol）、炭酸カリウム0.１ｇ（0.７２mm
ol）、ヨウ化カリウム0.１ｇ（0.６０mmol）とアセトニ
トリル５mlの溶液を5.５時間還流する。反応液を減圧濃
縮し、残渣にクロロホルムを加え水で洗浄し、乾燥し、
減圧濃縮する。残渣をシリカゲル薄層クロマトグラフィ
ーにより精製し、化合物（107)を得る。
【００８１】実施例４ 化合物（108)の合成
【化３５】 化合物（204) 1.１８ｇ（0.0030 mol) 、ビシクロ
〔２．２．１〕ヘプタン−２，３−ジエキソ−ジカルボ
キシイミド（251)0.４９ｇ（0.0030 mol) 、炭酸カリウ
ム0.４１ｇ（0.0030 mol) 、ジベンゾ−１８−クラウン
−６−エーテル１０mgとキシレン３０mlの溶液を２０時
間還流する。反応液をろ過し、ろ液を減圧濃縮し、残渣
をシリカゲルクロマトグラフィーにより精製し、塩化水
素−２−プロパノールで処理して塩酸塩化し、化合物
（108)を得る。
【００８２】実施例５ 化合物（109)の合成
【化３６】 化合物（201) ０．４６ｇ（０．００１１ｍｏｌ) 、化
合物(252) ０．２０ｇ（０．０００９９mol ）、炭酸カ
リウム０．１４ｇ（０．００１１ｍｏｌ) とジベンゾ−
１８−クラウン−６−エーテル１mgとジメチルホルムア
ミド５mlの混合物を６時間還流する。反応液を減圧濃縮
し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィーにより精製し
化合物(109)を得る。
【００８３】実施例６ 化合物（110)の合成
【化３７】 化合物（205) 0.７ｇ（2.２mmol）、ビシクロ〔２．
２．１〕ヘプタン−２，３−ジエキソ−ジカルボキシイ
ミド（251)0.７３ｇ（4.４mmol）、トリフェニルホスフ
ィン0.６９ｇ（2.６mmol）とテトラヒドロフラン５０ml
の溶液に、アゾジカルボン酸ジエチル0.１１ｇ（2.６mm
ol）とテトラヒドロフラン１０mlの溶液を室温で滴下
し、同温度で３時間攪拌する。反応液を減圧濃縮し、残
渣をシリカゲルクロマトグラフィーにより精製し化合物
（110)を得る。
【００８４】実施例７ 化合物（111)の合成
【化３８】 シクロヘキサン−１，２−ジカルボン酸イミド（253)２
ｇ（0.013 mol)、化合物（３）5.８８ｇ（0.０２mol)、
炭酸カリウム1.８ｇ（0.013 mol)とアセトニトリル５０
mlの混合物を2.５時間還流する。反応液に６−フルオロ
−３−（４−ピペリジニル）−１Ｈ−インダゾール（26
8)4.３９ｇ（0.02 mol) を加えてさらに６時間還流す
る。反応液をろ過し、ろ液を減圧濃縮し、残渣をシリカ
ゲルクロマトグラフィーにより精製し、塩酸で処理して
塩酸塩化し、化合物（111)を得る。
【００８５】実施例８ 実施例１〜７の方法に従い表１７〜表２９の化合物を得
る。
【表１７】
【表１８】
【表１９】
【表２０】
【表２１】
【表２２】
【表２３】
【表２４】
【表２５】
【表２６】
【表２７】
【表２８】
【表２９】
【００８６】物性値を表３０〜表４４に示す。
【表３０】
【表３１】
【表３２】
【表３３】
【表３４】
【表３５】
【表３６】
【表３７】
【表３８】
【表３９】
【表４０】
【表４１】
【表４２】
【表４３】
【表４４】 1Ｈ−ＮＭＲのデータはすべてフリー体で測定したもの
である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０７Ｄ 401/08 8829−4Ｃ 401/12 8829−4Ｃ 401/14 8829−4Ｃ 403/12 8829−4Ｃ 405/12 8829−4Ｃ 413/12 8829−4Ｃ 417/08 9051−4Ｃ 417/12 9051−4Ｃ 417/14 9051−4Ｃ 487/04 １４０ 7019−4Ｃ 491/18 7019−4Ｃ // Ａ６１Ｋ 31/445 ＡＡＥ 7252−4Ｃ 31/47 7252−4Ｃ 31/495 7252−4Ｃ 31/505 ＡＡＮ 7252−4Ｃ Ｃ０７Ｄ 221/20 6701−4Ｃ (72)発明者 丹野 紀彦 大阪市此花区春日出中３丁目１番98号 住 友製薬株式会社内 (72)発明者 中村 三孝 大阪市此花区春日出中３丁目１番98号 住 友製薬株式会社内

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】一般式 〔Ｉ〕 【化１】 ｛式中、Ｚは式 【化２】 （式中、Ｂはカルボニルまたはスルホニルを表す。
    Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 は各々独立して水素原子あるい
    は低級アルキルを表す。ただし、Ｒ1 とＲ2 あるいはＲ
    1 とＲ3 が一緒になって炭化水素環を、またはＲ1 とＲ
    3 が一緒になって芳香族炭化水素環を形成してもよい。
    当該炭化水素環は低級アルキレンまたは酸素原子で架橋
    されてもよい。当該低級アルキレンおよび炭化水素環は
    少なくとも１つのアルキルで置換されてもよい。ｎは０
    または１を表す。）を表す。Ｄは式 【化３】 （式中、Ａは低級アルキレンまたは酸素原子で架橋され
    てもよい炭化水素環を表す。当該低級アルキレンおよび
    炭化水素環は少なくとも１つのアルキルで置換されても
    よい。ｐ、ｑは各々０、１または２を表す。）を表す。
    ＧはＮ、ＣＨあるいはＣＯＨを、−Ａｒは芳香族複素環
    基、芳香族炭化水素基、ベンゾイル、フェノキシあるい
    はフェニルチオを表すかまたはＧは炭素原子を、−Ａｒ
    はビフェニルメチリデンを表す。当該芳香族複素環基、
    芳香族炭化水素基、ベンゾイル、フェノキシ、フェニル
    チオおよびビフェニルメチリデンは少なくとも１つの低
    級アルキル、低級アルコキシまたはハロゲン原子で置換
    されてもよい。｝で表されるイミド誘導体またはその酸
    付加塩。
  2. 【請求項２】−Ａｒは二環性の芳香族複素環基を表す
    か、ナフチル、ベンゾイル、フェノキシあるいはフェニ
    ルチオを表し、ＧはＮ、ＣＨあるいはＣＯＨを表すかま
    たは−Ａｒはビフェニルメチリデンを表し、Ｇは炭素原
    子を表す（当該二環性の芳香族複素環基、ナフチル、ベ
    ンゾイル、フェノキシ、フェニルチオおよびビフェニル
    メチリデンは少なくとも１つの低級アルキル、低級アル
    コキシまたはハロゲン原子で置換されてもよい。）請求
    項１記載のイミド誘導体またはその酸付加塩。
  3. 【請求項３】−Ａｒはベンゼン環と縮環した芳香族複素
    環基を表すか、ナフチル、ベンゾイル、フェノキシまた
    はフェニルチオ（当該ベンゼン環と縮環した芳香族複素
    環基、ナフチル、ベンゾイル、フェノキシおよびフェニ
    ルチオは少なくとも１つの低級アルキル、低級アルコキ
    シまたはハロゲン原子により置換されてもよい。）を表
    し、ＧはＮ、ＣＨまたはＣＯＨを表す請求項１記載のイ
    ミド誘導体またはその酸付加塩。
  4. 【請求項４】Ｚは式 【化４】 （式中、−Ｌ−は単結合または二重結合を表す。Ｅは低
    級アルキルで置換されてもよい低級アルキレンまたは酸
    素原子を表す。Ｒ5 は水素原子または低級アルキルを表
    す。Ｂは請求項１記載の意味を表す。）、式 【化５】 （式中、−Ｌ−、Ｅ、Ｒ5 およびＢは前記の意味を表
    す。）、式 【化６】 （式中、Ｒ6 、Ｒ7 、Ｒ8 、Ｒ9 、Ｒ10、Ｒ11、Ｒ12、
    Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15は各々水素原子または低級アルキル
    を、またはＲ6 、Ｒ7 、Ｒ8 、Ｒ9 、Ｒ10、Ｒ11、
    Ｒ12、Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15で隣接するふたつが結合して二
    重結合を表す。Ｂは前記の意味を表す。）、式 【化７】 （式中、Ｒ16、Ｒ17は各々独立して水素原子または低級
    アルキルを表すかまたはＲ16とＲ17は一緒になって飽和
    炭化水素環を表す。Ｒ5 およびＢは前記の意味を表
    す。）または式 【化８】 （Ｂは前記の意味を表す。）を表す請求項１記載のイミ
    ド誘導体またはその酸付加塩。
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