JPH08506354A - 5−[2−(4−(ベンゾイソチアゾール−3−イル)−ピペラジン−1−イル)エチル−6−クロロ−1,3−ジヒドロ−インドール−2−オンの製造方法及び製造用中間体 - Google Patents

5−[2−(4−(ベンゾイソチアゾール−3−イル)−ピペラジン−1−イル)エチル−6−クロロ−1,3−ジヒドロ−インドール−2−オンの製造方法及び製造用中間体

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JPH08506354A JP7502611A JP50261194A JPH08506354A JP H08506354 A JPH08506354 A JP H08506354A JP 7502611 A JP7502611 A JP 7502611A JP 50261194 A JP50261194 A JP 50261194A JP H08506354 A JPH08506354 A JP H08506354A
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Abstract

(57)【要約】 式(II): (式中、R2は、水素原子、CN、又はCO21であって、R1は、水素原子、又は炭素数1〜6のアルキル基である)で表わされる化合物を、還元剤で処理する(但し、R2がCN又はCO,R1であり、R1が炭素数1〜6のアルキル基である場合には、還元生成物を酸と共に加熱するものとする)ことを含む、式(I): で表わされる化合物の製造方法。式(II)(式中、R2はCN又はCO21であって、R1は炭素数1〜6のアルキル基であるか、あるいはR2は水素原子であって、R1は炭素数1〜6のアルキル基、又は水素原子である)で表わされる化合物。式(VII)(式中、R1は炭素数1〜6のアルキル基である)で表わされる化合物。式(III)で表わされる化合物。式(I)で表わされる化合物は、精神病性の障害の治療に有用である。

Description

【発明の詳細な説明】 5−[2−4(4−(ベンゾイソチアゾール−3−イル)−ピペラジン−1 −イル)エチル]−6−クロロ−1,3−ジヒドロ−インドール−2−オン の製造方法及び製造用中間体 発明の背景 本発明は、5−[2−(4−(ベンゾイソチアゾール−3−イル)−ピペラジ ン−1−イル)エチル]−6−クロロ−1,3−ジヒドロ−インドール-2−オ ンの製造方法及び製造用中間体に関する。5−[2−(4−(ベンゾイソチアゾ ール−3−イル)−ピペラジン−1−イル)エチル]−6−クロロ−1,3−ジ ヒドロ−インドール−2−オンは、精神病性障害の治療に有用である。 5−[2−(4−(べンゾイソチアゾール−3−イル)−ピペラジン−1−イ ル)エチル]−6−クロロ−1,3−ジヒドロ−インドール−2−オン及びその 製造方法は、米国特許第4,831,031号明細書に開示されている。発明の概要 本発明は、式 で表される化合物の製造方法であって、式 (式中、R2は水素原子、CN、又はCO21であり、R1は、水素原子、又は 炭素数1〜6のアルキル基である)で表わされる化合物を、還元剤で処理する( 但し、R2がCN又はCO21であり、R1が炭素数1〜6のアルキル基である場 合には、還元生成物を酸と共に加熱するものとする)ことを含む、前記方法を提 供する。 また、本発明は、 (a)式(II)(式中、R1は炭素数1〜6のアルキル基であり、R2はCN又 はCO21である)で表わされる化合物を、水性酸の存在下で加熱することによ って、式(II)(式中、R2及びR1が共に水素原子である)で表わされる化合物 ; (b)(i)式 (式中、R1は炭素数1〜6のアルキル基である)で表わされる化合物を、塩基 の存在下で式 で表わされる化合物で処理するか;若しくは (ii)式(II)(式中、R2及びR1が共に水素原子である)で表わされる 化合物を、酸性エステル化触媒の存在下で炭素数1〜6のアルカノールで処理す ることによって、式(II)(式中、R2が水素原子であり、R1が炭素数1〜6の アルキル基である)で表わされる化合物;又は (c)式 で表わされる化合物を、塩基の存在下で式 R2−CH2−CO21 (式中、R2は、それぞれ、CN又はCO21であり、R1は炭素数1〜6のアル キル基である)で表わされる化合物で処理することによって、式(II)(式中、 R1は炭素数1〜6のアルキル基であり、R2はCN又はCO21である)で表わ される化合物を製造する方法を提供する。 本発明の別の観点においては、式 で表わされる化合物を還元剤で処理することによって、式(III)で表わされる 化合物を製造する方法を提供する。 本発明の別の観点によれば、式 で表わされる化合物を、炭素数1〜6のアルカン酸の存在下で式 で表わされる化合物で処理することを含む、式(IV)で表わされる化合物の製造 方法を提供する。 本発明の別の観点は、式 で表わされる化合物を、不活性溶媒中で、t−ブトキシ−ビス(ジメチルアミノ )メタン及びジメチルホルムアミドジアルキルアセタールからなる群から選んだ エナミン形成性化合物で処理することを含む、式(V)で表わされる化合物の製 造方法を提供する。 本発明の更に別の観点は、式 (式中、R2はCO21又はCNであり、R1は炭素数1〜6のアルキル基である )を、高めた温度で処理することによって、式(VII)で表わされる化合物を調 製する方法を提供する。 本発明の別の観点によれば、式 で表わされる化合物を、塩基の存在下で式 R2−CH2−CO21 (式中、R2はCO21又はCNであり、R1は炭素数1〜6のアルキル基である )で表わされる化合物で処理することを含む、式(VIII)で表わされる化合物の 製造方法を提供する。 本発明の別の観点は、式 で表わされる化合物を、(CH3CO23NaBH及び酢酸の存在下で式 で表わされる化合物で処理することを含む、式(IX)で表わされる化合物の製造 方法を提供する。 本発明の別の観点によれば、式(V)で表わされる化合物を、シュウ酸で処理 することによって、式(X)で表わされる化合物を製造する方法を提供する。 本発明の別の観点は、式 で表わされる化合物の製造方法であって、 (I)式 で表わされる化合物を、 (a)(1)炭素数1〜6のアルカン酸の存在下で式 で表わされる化合物で処理して、式 で表わされる化合物を形成し; (2)式(IV)で表わされる化合物を、還元剤で処理して、式 で表わされる化合物を形成し; (3)式(III)で表わされる化合物を、式 R2−CH2−CO21 (式中、R2はCO21又はCNであり、R1は炭素数1〜6のアルキル基である )で表わされる化合物で処理して、式 (式中、R2はCN又はCO21であり、R1は炭素数1〜6のアルキル基である )で表わされる化合物を形成し; (4)工程(3)の生成物を、高めた温度で酸で処理して、式(II)( 式中、R2及びR1が共に水素原子である)で表わされる化合物を形成し;そして (5)工程(4)の生成物を、酸性エステル化触媒の存在下で炭素数1 〜6のアルカノールで処理して、式(II)(式中、R2が水素原子であり、R1が 炭素数1〜6のアルキル基である)で表わされる化合物を形成する工程;あるい は (b)(1)式(V)で表わされる化合物を弱酸で処理して、式 で表わされる化合物を形成し; (2)式(X)で表わされる化合物を、(CH3CO23NaBH及び 酢酸の存在下で式 で表わされる化合物で処理して、式 で表わされる化合物を形成し; (3)式(IX)で表わされる化合物を、式 R2−CH2−CO21 (式中、R2はCO21又はCNであり、R1は炭素数1〜6のアルキル基である )で表わされる化合物で処理して、式 (式中、R2はCO21又はCNであり、R1は炭素数1〜6のアルキル基である )で表わされる化合物を形成し; (4)式(VIII)で表わされる化合物を、高めた温度で酸で処理して、 式 (式中、R1は炭素数1〜6のアルキル基である)で表わされる化合物を形成し ; そして (5)式(VII)で表わされる化合物を、塩基の存在下で式 で表わされる化合物で処理して、式(II)(式中、R2が水素原子であり、R1が 炭素数1〜6のアルキル基である)で表わされる化合物を形成する工程;及び (II)式 (式中、R2は水素原子、CN、又はCO21であり、R1は、水素原子、又は炭 素数1〜6のアルキル基である)で表わされる化合物を、還元剤で処理する(但 し、R2がCN又はCO21であり、R1が炭素数1〜6のアルキル基である場合 には、還元生成物を酸と共に加熱するものとする)工程 を含む、前記方法を提供する。 式(II)及び式(III)(式中、R1及びR2は、前記と同じ意味である)で表 わされる化合物は、新規であり、本発明の更に別の特徴である。発明の詳細な説明 本発明方法を反応工程式(1)及び反応工程式(2)に示す。 反応工程式1 反応工程式1(続き) 反応工程式1(続き) 反応工程式2 反応工程式2(続き) 反応工程式(1)で示したように、式(II)で(式中、R2はCN又はCO21 であり、R1は炭素数1〜6のアルキル基である)で表される化合物を還元剤で 処理し、得られた生成物を酸と加熱して、式(I)で表される化合物を調製する 。一般的に反応は反応不活性溶媒中で行なう。適当な還元剤はナトリウムハイド ロサルファイト、水素化触媒存在下での水素、酢酸中での鉄、酢酸中での亜鉛及 びCaCl2、並びにPd/C存在下でのNaH2PO2である。好ましい還元剤は ナトリウムハイドロサルファイトである。還元段階の温度は約10℃〜約100 ℃である。ナトリウムハイドロサルファイトが還元剤である場合には反応温度は 約65℃〜約80℃が好ましい。酸処理段階での温度は約50℃〜110℃であ る。この段階で有用な酸は、強い鉱酸、例えば、濃塩酸及び6N硫酸である。適 当な溶媒は、水、及び水混和性溶媒[例えば、炭素数1〜6のアルカノール、テ トラヒドロフラン(THF)、及びジオキサン]、並びにそれらの混合物である 。 あるいは、式(II)(式中、R2は水素原子であり、R1は水素原子又は炭素数 1〜6のアルキル基である)で表される化合物を還元剤と処理することによって 、式(I)で表される化合物に変換する。還元のための適当な条件は前記のとお りである。 式(III)で表される化合物と、式 R2−CH2−CO21 (式中、それぞれ、R1は炭素数1〜6のアルキル基であり、R2はCN又はCO21である)で表される化合物とを塩基存在下で反応させることにより、式(II )(式中、R2はCN又はCO21であり、R1が炭素数1〜6のアルキル基であ る)で表される化合物を調製する。一般的に、約25℃〜約100℃の温度で、 非プロトン性溶媒、例えば、ジメチルホルムアミド(DMF)、ジメチルスルホ オキシド(DMSO)、又はN−メチルピロリドン中で反応を実施する。適当な 塩基には、アルカリ金属の水酸化物、水素化物及び、ヒンダード(hinder ed)炭素数1〜6のアルコキシド、例えば、KOH、NaOH、NaH、及び カリウム−t−ブトキシドである。 式(II)(式中、R2はCN又はCO21であり、R1は炭素数1〜6のアルキ ル基である)で表される化合物を酸と加熱することにより、式(II)(R2及び R1は 各々水素原子である)で表される化合物を調製する。この方法で用いる条件及び 組成は、前記のとおりである。 酸性エステル化触媒の存在下で、式(II)(式中、R2及びR1は各々水素原子 である)で表される化合物を炭素数1〜6のアルカノールで処理することによっ て、式(II)(R2は水素原子であり、R1が炭素数1〜6のアルキル基である) で表される化合物を調製する。適当なエステル化触媒には、硫酸、p−トルエン スルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸と塩化チオニルである。反応は、一 般的に溶媒[例えば、ハロゲン化炭化水素若しくは芳香族炭化水素(例えば、C H2Cl2、CHCl2、CHCl3、及びトルエン)で希釈した、又は純粋の炭素 数1〜6のアルカノール]中で約25℃〜約110℃の温度で行なう。 式(IV)で表される化合物を還元することにより、式(III)で表される化合 物を調製する。適当な還元剤には、ナトリウムトリアセトキシボロハイドライド 及びナトリウムシアノボロハイドライドが含まれる。炭素数1〜6のアルカン酸 、例えば、酢酸の存在下で反応を実施する。この方法で用いる適当な溶媒には、 ハロゲン化炭化水素、例えば、CH2Cl2及び1,2−ジクロロエタン、並びに 非プロトン性極性溶媒、例えば、THF、DMF、及びDMSOが含まれる。約 0℃〜約75℃の温度で反応を行なうことができる。 式(V)で表される化合物と式 で表される化合物とを、炭素数1〜6のアルカン酸、例えば、酢酸の存在下で反 応させることによって、式(IV)で表される化合物を調製する。反応は、約20 ℃〜約100℃の温度で、溶媒、例えば、酢酸、DMF、DMSO、及びTHF 中で、通常行なう。 式(VI)で表される化合物を、エナミン形成性化合物それ単独、あるいは不活 性溶媒、例えば非プロトン性極性溶媒中のエナミン形成性化合物のいずれかと処 理することによって、式(V)で表される化合物を調製する。エナミン形成性化 合物には、t−ブトキシビス(ジメチルアミノ)メタン及びジメチルホルムアミ ドジアルキルアセタールが含まれる。好ましいエナミン化合物は、t−ブトキシ −ビス(ジメチルアミノ)メタン及びジメチルホルムアミドジメチルアセタール である。この反応で用いられる溶媒には、THF、DMF及び試薬それ自体が含 まれる。好ましい条件は、それぞれ、エナミン形成性化合物がt−ブトキシ−ビ ス(ジメチルアミノ)メタン及びジメチルホルムアミドジメチルアセタールであ り、溶媒はTHF及びDMFである。 また、反応工程式(2)で示したように、式(VII)(式中、R1及びR2は前 記と同じ意味である)で表される化合物と式 で表される化合物とを塩基存在下で反応させることにより、式(II)(式中、R2 は水素原子であり、R1は炭素数1〜6のアルキル基である)で表される化合物 を調製することができる。本発明のこの観点において使用する適当な塩基には、 トリアルキルアミン並びにシクロヘテロアリールアミン、例えば、トリエチルア ミン、ピリジン、及びN−メチルモルホリンが含まれる。反応は、約0℃〜約5 0℃の温度で不活性溶媒中、例えば、非プロトン性極性溶媒、例えば、THF、 DMF、及びDMSO、並びにハロゲン化炭化水素、例えば、CH2Cl2中で通 常行なう。 約50℃〜約110℃の温度で、式(VIII)(式中、R2はCN又はCO21 であり、R1は炭素数1〜6のアルキル基である)で表される化合物と、酸とを 反応させることにより、式(VII)で表される化合物を調製する。適当な酸には 、濃塩酸及び硫酸が含まれる。この反応で使用することができる溶媒には、酸試 薬、例えば、濃塩酸又は硫酸が含まれ、これらを炭素数1〜6のアルカン酸で希 釈する ことも可能である。 式(IX)で表される化合物と、式 R2−CH2−CO21 (式中、それぞれ、R1は炭素数1〜6のアルキル基であり、R2はCN又はCO21である)で表される化合物とを、塩基存在下で反応させることによって式( VIII)で表される化合物を調製することができる。適当な塩基には、アルカリ金 属水素化物、水酸化アルカリ金属、並びにヒンダード炭素数1〜6のアルコキシ ド、例えば、KOH、NaH、及びカリウムt−ブトキシドが含まれる。反応は 、一般的に約25℃〜約75℃の温度で溶媒、例えば、DMF、DMSO、又は N−メチルピロリジン中で実施する。 (CH3CO23NaBH及び酢酸の存在下で式 で示される化合物と、式(X)で表される化合物とを反応させることによって、 式(IX)で表される化合物を調製する。本発明のこの観点において有用な溶媒に は、ハロゲン化炭化水素、例えば、塩化メチレン及び1,2−ジクロロエタン、 並びに非プロトン性極性溶媒、例えばTHF、DMF、及びDMSOが含まれる 。 式(V)で表される化合物を、約0℃〜約50℃の温度で、適切な溶媒、例え ば、水、ハロゲン化炭化水素、及びへキサン中で、温和な有機酸若しくは、鉱酸 溶液、例えば、酢酸若しくはシュウ酸、又は希釈した(0.5〜1N)塩酸若し くは、硫酸と反応させることにより、式(X)で表される化合物を調製する。 式(I)で表わされる化合物の神経弛緩活性は、標準的手法に基づく方法によ って証明することができる。或る方法は、皮下注入により、適当な投与量の供試 化合物で、成体雄性スプラグー・ダウレー(Sprague−Dawley)ラ ットを前処理する。1時間半経過後、すべてのラットに0.1%アスコルビン酸 塩溶液に溶解した塩酸アポモルフィン(1mg/kg)を腹腔内に注入し、それ らの行動を評価する。 式(I)で表わされる化合物の神経弛緩活性により、この化合物は、ヒトにお ける精神病性障害を治療するのに有用である。例えば、前記化合物は、精神分裂 病型の精神病性障害を治療するのに有用であり、特には、前記化合物は、精神病 患者の不安、動揺、過剰攻撃、緊張、及び社会的又は感情的引きごもりのような 症状の除去又は改善に有用である。 式(I)で表わされる化合物、又は薬剤学的に許容することのできるその塩は 、単独で、又は好ましくは、標準的薬剤学的プラクティスに従って、医薬組成物 において薬剤学的に許容することのできる担体若しくは希釈剤と組み合わせて、 ヒトに投与することができる。前記化合物は、経口又は非経口投与することがで きる。非経口投与には、特には、静脈内及び筋肉内投与が含まれる。加えて、式 (I)で表わされる化合物、又は薬剤学的に許容することのできるその塩を含む 医薬組成物においては、活性成分の担体に対する重量比は、通常1:6〜2:1 、好ましくは1:4〜1:1の範囲にあることができる。しかし、いかなる場合 にも、選択する比率は、活性成分の溶解性、考慮する投与量、及び正確な投与経 路のような要因に依存する。 経口使用する場合、式(I)で表される化合物は、例えば、錠剤若しくはカプ セルの形状で、又は水性の溶液若しくは懸濁液として投与することができる。筋 肉内及び静脈内使用の場合、活性成分の滅菌溶液を調製することができ、その溶 液のpHを適切に調整し、緩衝化することが好ましい。静脈内使用の場合、溶質 の全濃度を制御して、製剤を等張性にすることが好ましい。 式(I)で表わされる神経弛緩剤をヒトに使用して、精神病性障害を治療する 場合には、一日の投与量は通常、処方医により決定される。更に、投与量は、個 々の患者の年令、体重、及び応答、並びに患者の症状の重篤度に応じて変化する 。しかしながら、多くの場合、精神病性障害を治療するための有効量は、単回又 は分割の経口又は非経口投与で、一日当たり5〜500mg、好ましくは50〜 100mgの範囲であろう。 以下の実施例は、単に、本発明を更に説明するために示すものである。実施例1:2,5−ジクロロ−4−メチル−ニトロベンゼン H.D.Dakin及びJ.B.Cohen(J.Chem.Soc.,第7 9巻,第1130頁,1901年)の方法の改良法により調製した。2,5−ジ クロロトルエン(18.7g,0.116mol)を濃硫酸(24ml)と氷酢 酸(10ml)の10℃の混合液に一度に加えた。これを約10℃で撹拌しなが ら、70%硝酸(8.2ml)と濃硫酸(8.2ml)との冷混合物を10分間 かけて滴下した。反応混合物をゆっくりと室温にまで加温し、2時間撹拌した。 次に反応混合物を10℃まで氷浴で再冷却し、氷及び塩化メチレンで冷却した。 層を分離し、水性層を塩化メチレンで抽出した。一緒にした有機層を水で2回、 重炭酸ナトリウム飽和溶液で二回、そしてブラインで1回洗浄した。硫酸マグネ シウムで乾燥した後、溶媒を真空中で蒸発させ、粗生成物をイソプロパノール( 30ml)から結晶化した。淡黄色固体の収量は、13.4g、56%であった 。 NMR(CDCl3)δ7.91(s,1),7.42(s,1), 2.43(s,3)。実施例2:2,5−ジクロロ−4−(2−ジメチルアミノエテニル)−ニトロべ ンゼン 2,5−ジクロロ−4−メチル−ニトロベンゼン(50g,0.24mol) をテトラヒドロフラン(200ml)中でt−ブトキシ−ビス(ジメチルアミノ )メタン(63.3g,0.364mol)と共に8時間還流加熱した。反応混 合物を室温にまで冷却し、撹拌しながらゆっくりとヘキサン(3リットル)中に 注いだ。濾過によって暗赤色固体として所望の生成物(収量:36.9g,58 %)を採取した。 融点:173〜175℃。 NMR(CDCl3)δ8.01(s,1),7.32(s,1), 7.08(d,1),5.27(d,1),3.00(s,6)。 分析:(C101022Cl2として) 計算値:C=45.99;H=3.86;N=10.73。 実測値:C=45.91;H=3.72;N=10.61。実施例3:2,5−ジクロロ−4−(2−[4−(1,2−べンズイソチアゾー ル-3−イル)−1−ピペラジニル]エテニル)−ニトロベンゼン 2,5−ジクロロ−4−(2−ジメチルアミノエテニル)−ニトロベンゼン( 15g,0.057mol)と4−(1,2−べンゾイソチアゾール−3−イル )−ピペラジン(18.9g,0.086mol)とを酢酸(150ml)中で 一緒にして、窒素雰囲気下、室温で一晩撹拌した。スラリーを、へキサン(30 0ml)とイソプロパノール(300ml)との混合液に撹拌しながらゆっくり と注いだ。生成物を煉瓦色の赤色固体として濾過により単離し、へキサンで洗浄 した。収量は23.4g,93%であり、融点は194〜195℃であった。 NMR(CDCl3)δ8.05(s,1),7.95−7.80(m,2), 7.56−7.35(m,3),7.01 (d,1), 5.60(d,1),3.95−3.46(m,8)。 分折:(C191642Cl2Sとして) 計算値:C=52.41;H=3.70;N=12.87。 実測値:C=52.05;H=3.36;N=12.58。実施例4:2,5−ジクロロ−4−(2−[4−(1,2−べンゾイソチアゾー ル−3−イル)−1−ピペラジニル]エチル)−ニトロベンゼン 前記の実施例から得たエナミン(22.5g,0.052mol)を、酢酸( 17.8ml)と共に、1,2−ジクロロエタン(340ml)中に懸濁し、ナ トリウムトリアセトキシボロハイドライド(21.9g,0.1mol)を固体 で少しずつ加えながら、窒素雰囲気下で撹拌した。反応物を一晩撹拌した。続い て、炭酸ナトリウム水溶液を反応混合物に加え、次に酢酸エチル(300m1) を加えた。層を分離し、水性層を酢酸エチルで短時間抽出した。一緒にした有機 層を水及びブラインで洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。粗生成物を有機溶 液から単離し、アセトトニトリルから再結晶することにより精製した。 収量:16.14g,71%。 融点:153〜157℃。 NMR(CDCl3)δ7.97(s,1),7.91(d,1), 7.82(d,1),7.50(s,1),7.48(dd,1), 7.37(dd,1),3.58(m,4),3.00(t,2), 2.78(m,4),2.72(t,2)。 分析:(C191842Cl2Sとして) 計算値:C=52.18;H=4.15;N=12.81。 実測値:C=51.97;H=3.98;N=12.65。 構造を単結晶X線分析により確認した。実施例5:5−クロロ−4−(2−[4−(1,2−べンズイソチアゾール−3 −イル)−1−ピペラジニル]エチル)−2−(ビス−(メトキシカルボニル) メチル)−ニトロベンゼン 2,5−ジクロロ−4−(2−[4−(1,2−べンズイソチアゾール−3− イル)−1−ピペラジニル]エチル)−ニトロベンゼン(2.4g,55mmo l)及びマロン酸ジメチル(1.81g,137mmol)をN−メチル−ピロ リジン(24ml)に溶解させ、窒素流を溶液に15分間通気して酸素を除去し た。粉末の水酸化カリウム(0.77g,137mmol)を一度に加えて、混 合物を40℃〜45℃で5時間加熱した。反応混合物を冷却し、酢酸エチルで希 釈し、塩化アンモニウム飽和溶液、水、及びブラインで洗浄した。有機層を硫酸 マグネシウムで乾燥し、濾過し、蒸発させ、粗生成物を得た。精製した生成物を 、酢酸エチル/へキサン(4:6)を用いるシリカゲルのフラッシュクロマトグ ラフィーによって淡黄色固体として単離した(収率:1.32g,45%)。 融点:128℃〜131℃。 NMR(CDCl3)δ8.10(s,1),7.90(d,1), 7.81(d,1),7.48(t and s,2), 7.37(t,1),5.33(s,1),3.82(s,6), 3.58(m,4),3.06(t,2), 2.80−2.70(m,6)。 構造を単結晶X線分析により確認した。実施例6:5−(2−[4−(1,2−べンズイソチアゾール−3−イル)−1 −ピペラジニル]エチル)−4−クロロ−2−ニトロフェニル酢酸 前記の実施例で得た2−ニトロフェニル−マロネート(4.4g,83mmo l)を3N塩酸(90ml)中で20時間還流した。反応混合物を冷却し、沈殿 した生成物を濾過によって単離し、真空下で乾燥した。 収率:4g,95%。 融点:209℃〜212℃(分解)。 NMR(DMSO−d6)δ8.21(s,1),8.15(d,1), 8.0(d,1)7.67(s,1),7.59(t,1), 7.48(t,1),4.10(br d,2),4.00(s,2), 3.79−3.23(m,8)実施例7:5−(2−[4−(1,2−べンズイソチアゾール−3−イル)−1 −ピペラジニル]エチル)−4−クロロ−2−ニトロフェニル酢酸メチル メタノール(62ml)を−10℃で窒素雰囲気下で撹拌した。塩化チオニル (1ml,135mmol)をメタノールにゆっくりと滴下し、前記の反応で得 た生成物を固体のまま一度に加えた。冷却装置を除去し、反応物を3時間還流加 熱した。反応混合物を真空中で蒸発させて、メタノールを除き、酢酸エチルと水 性炭酸ナトリウムに分配した。水性層を酢酸エチルで2回抽出した。一緒にした 有機層をブラインで洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、蒸発させて所望のアミ ノ酸エステルを油状物として得た。 収率:3g,94%。 NMR(CDCl3)δ8.18(s,1),7.90(d,1), 7.81(d,1),7.48(t,1),7.36(t,1), 7.31(s,1),4.00(s,2),3.72(s,3), 3.63(m,4),3.09(m,2), 2.89−2.72(m,6)。実施例8:6−クロロ−5−(2−[4−(1,2−べンズイソチアゾール−3 −イル)−1−ピペラジニル]エチル)−オキシンドール テトラヒドロフラン(24ml)及びエタノール(24ml)の混合物中に、 前記実施例で得た標記化合物(2.4g,50mmol)を溶解した。撹拌溶液 に水(16ml)を加え、続いて、ナトリウムハイドロサルファイト(2.03 g,116mmol)を加え、混合物を還流加熱した。10分間経過後、固体が 溶解したところで、水と2回目のナトリウムハイドロサルファイト(1.3g, 76mmol)とを加えた。反応混合物を蒸気浴上で4時間加熱した。反応混合 物を冷却し、6N塩酸(8.4ml)を加え、反応混合物を蒸気浴上で15分間 再加熱した。炭酸ナトリウムで反応混合物を塩基性にし、粗生成物を濾過により 採取し、テトラヒドロフランから再結晶化した。 収率:0.8g,40%。 NMR(DMSO−d6)δ8.05(d,2),7.55(t,1), 7.42(t,1),7.21(s,1),6.80(s,1), 3.45(s,2),2.83(m,2),2.70(m,4), 2.54(m,6)。 この生成物は、先に調製した生成物と同一であった。実施例9:[5−(2−[4−(1,2−べンズイソチアゾール−3−イル)− 1−ピペラジニル]エチル)−4−クロロ−2−ニトロフェニル]−シアノ酢酸 メチル N−メチル−ピロリジン(25ml)中に、2,5−ジクロロ−4−(2−[ 4−(1,2−べンズイソチアゾール−3−イル)−1−ピペラジニル]エチル )−ニトロベンゼン(1g,2.3mmol)及びシアノ酢酸メチル(0.44 ml,5mmol)を窒素下で溶解した。粉末の水酸化カリウム(0.28g, 5mmol)を加え、混合物を57℃で4時間加熱した。このとき、薄層クロマ トグラフィー(tlc)の示すところによれば、出発材料は反応していた。塩化 アンモニウム飽和水溶液及び酢酸エチルの撹拌混合物中に、冷却した反応混合物 を注いだ。2N塩酸で水性層をpH6に調整し、層を分離した。水性層を酢酸エ チルで抽出した。一緒にした有機層を水及びブラインで洗浄し、乾燥し、濾過し た。酢酸エチル溶液を20mlまで濃縮し、撹拌しながらp−トルエンスルホン 酸(0.44g,2.3mmol)を加えた。所望の生成物のトシル酸塩を採取 し、真空中で乾燥した。収率は、1.27g,82.5%であった。 融点:204〜207℃。 分析:(C303057Cl2Sとして) 計算値:C=53.61;H=4.50;N=10.42。 実測値:C=53.52;H=4.15;N=10.70。 水にトシル酸を溶解し、1N水酸化ナトリウムでpH12に調整した。塩基性 溶液を酢酸エチルで抽出した。酢酸エチルを蒸発させ、紫色固体として遊離塩基 を得た。 融点:91〜100℃。 NMR(CDCl3)δ8.27(s,1),7.91(d,1), 7.82(d,1),7.78(s,1),7.49(t,1), 7.38(t,1),5.68(s,1),3.88(m,4), 3.1(m,2),2.8(m,6)。 100℃での濃塩酸中の遊離塩基又はトシル酸塩の加水分解により、実施例6 の生成物と同一の生成物を得た。実施例10:2,5−ジクロロ−4−ニトロフェニルアセトアルデヒド 塩化メチレン(200ml)中に、2,5−ジクロロ−4−(2−ジメチルア ミノエテニル)−ニトロベンゼン(10g,38.3mmol)を溶解し、水( 80ml)に溶解したシュウ酸(14.5g,115mmol)溶液と共に、室 温で18時間撹拌した。層を分離し、水性層を塩化メチレン(50ml)で抽出 した。一緒にした有機層を水及びブラインで洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し 、濾過した。溶液を蒸発させることにより、標記化合物を得た。 NMR(CDCl3)δ9.70(s,1),8.01(s,1), 7.49(s,1),3.98(s,2)。実施例11:2,5−ジクロロ−4−(2−[4−(t−ブトキシカルボニル) −1−ピペラジニル]エチル)−ニトロベンゼン 実施例10の標記化合物の塩化メチレン溶液を、窒素下、室温で撹拌した。酢 酸(8.8ml,153mmol)を一度に加え、続いて、t−ブチルピペラジ ンカルボキシレート(8.4g,50mmol)を加えた。ナトリウムトリアセ トキシ−ボロハイドライド(16.2g,77mmol)を固体として少しずつ 加え、反応混合物を室温で3時間撹拌した。反応混合物を、炭酸ナトリウムの過 飽和溶液で2回、水及びブラインでそれぞれ1回ずつ洗浄した。有機層を硫酸マ グネシウムで乾燥し、濾過し、蒸発させて、油状物として標記化合物(15.6 g,98%粗製収率)を得た。この生成物は、更に精製しなくても、次の反応に 使用するのに適していた。 NMR(CDCl3)δ7.92(s,1),7.48(s,1), 3.43(m,4),2.97(t,2),2.62(t,2), 2.49(m,4),1.43(s,9)。実施例12:5−クロロ−4−(2−[4−(t−ブトキシカルボニル)−1− ピペラジニル]エチル)−2−(ビス−(メトキシカルボニル)メチル)−ニト ロベンゼン 水素化ナトリウム(1.33g,33mmol,オイル中60%)を加えなが ら、N−メチルピロリドン(75ml)中で2,5−ジクロロ−4−(2−[4 −(t−ブトキシカルボニル)−1−ピペラジニル]エチル)−ニトロベンゼン (5g,13mmol)及びマロン酸ジメチル(3.8ml,33mmol)を 窒素下、室温で撹拌した。反応混合物を57℃に7時間加熱した。反応混合物を 冷却し、塩化アンモニウム飽和水溶液に注ぎ、酢酸エチルで2回抽出した。一緒 にした有機層を、水で3回、ブラインで1回洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し た。真空中で溶媒を蒸発させることにより油状物を得、それを酢酸エチル/へキ サン、続いて酢酸エチルを用いるフラッシュシリカゲルクロマトグラフィーにか けた。所望の生成物を含む画分を合わせ、蒸発させることにより、油状物(2. 5g,48%収率)を得た。 NMR(CDCl3)δ8.09(s,1),7.45(s,1), 5.31(s,1),3.79(s,6),3.43(m,4), 2.98(t,2),2.61(t,2),2.47(m,4), 1.43(s,9)。実施例13:5−(2−(1−ピペラジニル)エチル)−4−クロロ−2−ニト ロフェニル酢酸メチル 6N塩酸中で5−クロロ−4−(2−[4−(t−ブトキシカルボニル)−1− ピペラジニル]エチル)−2−(ビス−(メトキシカルボニル)メチル)−ニト ロベンゼン(2.5g,6.3mmol)を5時間還流した。次に、反応混合物 を室温で一晩撹拌し、真空中で蒸発させて固体を得、それをイソプロパノール中 にスラリー化し、採取した。 NMR(D2O)δ8.25(s,1),7.40(s,1),4.03(s, 2),3.8−3.25(ピペラジン及びエチル基として4多重線)。 メタノール(20ml)中にアミノ酸塩酸塩を溶解し、塩化チオニル(1ml ,14mmol)を滴下しながら、氷浴中で冷却した。溶液を2時間加熱還流し 、続いて、冷却し、真空中で蒸発させ、泡状物を得た。粗製生成物をpH12で 酢酸エチルと水との間に分配した。有機層を、硫酸ナトリウムで乾燥させ、濾過 し、蒸発させ、暗色の油状物として所望のエステル(1.34g,67%収率) を得た。 NMR(CDCl3)δ8.12(s,1),7.22(s,1), 3.94(s,2),3.71(s,3),2.96及び2.89(m, 6),2.58及び2.49(m,6)。実施例14:5−(2−[4−(1,2−べンズイソチアゾール−3−イル)− 1−ピペラジニル]エチル)−4−クロロ−2−ニトロフェニル酢酸メチル 乾燥テトラヒドロフラン(2.5ml)中で、トリエチルアミン(0.11m l,0.8mmol)と共に、5−(2−(1−ピペラジニル)エチル)−4− クロロ−2−ニトロフェニル酢酸メチル(175mg,0.5mmol)及び3 −(トリフルオロメチルスルホニルオキシ)−1,2−ベンズイソチアゾール( 163mg,0.58mmol)[塩化メチレン中のピリジン及び無水トリフル オロメタンスルホニルを用いて2,1−ベンズイソチアゾール−3(IH)−オ ンから調製した]を室温で20時間撹拌した。反応混合物を酢酸エチルで希釈し 、水性炭酸ナトリウム、水、及びブラインで洗浄した。有機層を硫酸マグネシウ ムで乾燥し、濾過し、真空中で蒸発させた。粗製の残さを、クロロホルム中の1 0%酢酸エチルを用いるフラッシュシリカゲルクロマトグラフィーにかけること により、所望の生成物(60mg,25%収率)を得た。この物質は、実施例7 の物質と同一であった。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1. 式 で表される化合物の製造方法であって、式 (式中、R2は水素原子、CN、又はCO21であって、R1は、水素原子、又は 炭素数1〜6のアルキル基である)で表わされる化合物を、還元剤で処理する( 但し、R2がCN又はCO21であり、R1が炭素数1〜6のアルキル基である場 合には、還元生成物を酸と共に加熱するものとする)ことを含む前記方法。 2. ナトリウムハイドロサルファイト、水素化触媒存在下での水素、酢酸中で の鉄、酢酸中での亜鉛及びCaCl2、並びにPd/C存在下でNaH2PO2から なる群から、前記還元剤を選択する、請求項1に記載の方法。 3. 水、水混和性溶媒、及びそれらの混合物からなる群から選んだ不活性溶媒 中で、前記還元を実施する、請求項1に記載の方法。 4. 前記還元剤がナトリウムハイドロサルファイトであり、前記溶媒がTHF である、請求項1に記載の方法。 5. (a)式(II)(式中、R1は炭素数1〜6のアルキル基であり、R2はC N又はCO21である)で表わされる化合物を、水性酸の存在下で加熱すること によつて、式(II)(式中、R2及びR1が共に水素原子である)で表わされる化 合物; (b)(i)式 (式中、R1は炭素数1〜6のアルキル基である)で表わされる化合物を、塩基 の存在下で式 で表わされる化合物で処理するか;若しくは (ii)式(II)(式中、R2及びR1が共に水素原子である)で表わされる 化合物を、酸性エステル化触媒の存在下で炭素数1〜6のアルカノールで処理す ることによって、式(II)(式中、R2が水素原子であり、R1が炭素数1〜6の アルキル基である)で表わされる化合物;又は (c)式 で表わされる化合物を、塩基の存在下で式 R2−CH2−CO21 (式中、R2は、それぞれ、CN又はCO21であり、R1は炭素数1〜6のアル キル基である)で表わされる化合物で処理することによって、式(II)(式中、 R1 は炭素数1〜6のアルキル基であり、R2はCN又はCO21である)で表わさ れる化合物 を製造する、請求項1に記載の方法。 6. 式 で表わされる化合物を、還元剤で処理することによって、式(III)で表わされ る化合物を製造する、請求項5に記載の方法。 7. 式 (式中、R2はCO21又はCNであり、R1は炭素数1〜6のアルキル基である )で表わされる化合物を、高めた温度で酸で処理することによって、式(VII) で表わされる化合物を製造する、請求項5に記載の方法。 8. 式 で表わされる化合物の製造方法であって、 (I)式 で表わされる化合物を、 (a)(1)炭素数1〜6のアルカン酸の存在下で式 で表わされる化合物で処理して、式 で表わされる化合物を形成し; (2)式(IV)で表わされる化合物を、還元剤で処理して、式 で表わされる化合物を形成し; (3)式(III)で表わされる化合物を、式 R2−CH2−CO21 (式中、R2はCO21又はCNであり、R1は炭素数1〜6のアルキル基である )で表わされる化合物で処理して、式 (式中、R2はCN又はCO21であり、R1は炭素数1〜6のアルキル基である )で表わされる化合物を形成し; (4)工程(3)の生成物を、高めた温度で酸で処理して、式(II)(式 中、R2及びR1が共に水素原子である)で表わされる化合物を形成し;そして (5)工程(4)の生成物を、酸性エステル化触媒の存在下で炭素数1〜 6のアルカノールで処理して、式(II)(式中、R2が水素原子であり、R1が炭 素数1〜6のアルキル基である)で表わされる化合物を形成する工程;あるいは (b)(1)式(V)で表わされる化合物を弱酸で処理して、式 で表わされる化合物を形成し; (2)式(X)で表わされる化合物を、(CH3CO23NaBH及び酢 酸の存在下で式 で表わされる化合物で処理して、式 で表わされる化合物を形成し; (3)式(IX)で表わされる化合物を、式 R2−CH2−CO21 (式中、R2はCO21又はCNであり、R1は炭素数1〜6のアルキル基である )で表わされる化合物で処理して、式 (式中、R2はCO21又はCNであり、R1は炭素数1〜6のアルキル基である )で表わされる化合物を形成し; (4)式(VIII)で表わされる化合物を、高めた温度で酸で処理して、式 (式中、R1は炭素数1〜6のアルキル基である)で表わされる化合物を形成し ;そして (5)式(VII)で表わされる化合物を、塩基の存在下で式 で表わされる化合物で処理して、式(II)(式中、R2が水素原子であり、R1が 炭素数1〜6のアルキル基である)で表わされる化合物を形成する工程;及び (II)式 (式中、R2は水素原子、CN、又はCO21であって、R1は、水素原子、又は 炭素数1〜6のアルキル基である)で表わされる化合物を、還元剤で処理する( 但し、R2がCN又はCO21であり、R1が炭素数1〜6のアルキル基である場 合には、還元生成物を酸と共に加熱するものとする)工程 を含む、前記方法。 9. 式 (式中、R1は、水素原子、又は炭素数1〜6のアルキル基であり、R2は水素原 子、CN、又はCO21である)で表わされる化合物。 10. R1が炭素数1〜6のアルキル基であり、R2がCN又はCO21であ る、請求項9に記載の化合物。 11. R1がメチル基である、請求項10に記載の化合物。 12. R2が水素原子である、請求項9に記載の化合物。 13. R1が水素原子である、請求項12に記載の化合物。 14. R1がCH3である、請求項12に記載の化合物。 15. 式 で表わされる化合物。 16. 式 (式中、R1が炭素数1〜6のアルキル基である)で表わされる化合物。 17. R1がメチル基である、請求項16に記載の化合物。
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