JPH0513237A - ソリツドインダクタ - Google Patents
ソリツドインダクタInfo
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- JPH0513237A JPH0513237A JP3194939A JP19493991A JPH0513237A JP H0513237 A JPH0513237 A JP H0513237A JP 3194939 A JP3194939 A JP 3194939A JP 19493991 A JP19493991 A JP 19493991A JP H0513237 A JPH0513237 A JP H0513237A
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
- H01F17/00—Fixed inductances of the signal type
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【目的】 チップ表面を改善して耐湿性をよくするとと
もに、インダクタンス値のトリミングを効率的にしたソ
リッドインダクタを得ることを目的とする。 【構成】 磁性体のグリーンシートに所定の内部電極２
を形成して積層し焼成して一体化された素子からなるソ
リッドインダクタ１において、前記焼成チップインダク
タ素子の表面にガラス質の拡散剤を塗布すると同時に熱
処理して拡散剤を磁性体の層に拡散させたことを特徴と
するソリッドインダクタ。
もに、インダクタンス値のトリミングを効率的にしたソ
リッドインダクタを得ることを目的とする。 【構成】 磁性体のグリーンシートに所定の内部電極２
を形成して積層し焼成して一体化された素子からなるソ
リッドインダクタ１において、前記焼成チップインダク
タ素子の表面にガラス質の拡散剤を塗布すると同時に熱
処理して拡散剤を磁性体の層に拡散させたことを特徴と
するソリッドインダクタ。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ソリッドインダクタに
関し、特にチップインダクタの表面を改善して耐湿性を
よくするとともに、インダクタンス値のトリミングが効
率的にできるソリッドインダクタに関する。
関し、特にチップインダクタの表面を改善して耐湿性を
よくするとともに、インダクタンス値のトリミングが効
率的にできるソリッドインダクタに関する。
【０００２】
【従来の技術】従来より、Ｎｉ−Ｚｎフェライト等の磁
性体を印刷法やドクターブレード法等により成形したグ
リーンシートにＡｇ又はＡｇ−Ｐｄ等の所要の内部電極
を形成し、グリーンシートを積層一体化して形成したチ
ップインダクタ素子にレーザーあるいは機械加工を施し
てその一部を削り取り、インダクタンス値を低い側に調
整したソリッドインダクタが知られている。また、フェ
ライトペーストをチップインダクタ素子に塗布してイン
ダクタンス値を大きい側に調整したソリッドインダクタ
が知られている。
性体を印刷法やドクターブレード法等により成形したグ
リーンシートにＡｇ又はＡｇ−Ｐｄ等の所要の内部電極
を形成し、グリーンシートを積層一体化して形成したチ
ップインダクタ素子にレーザーあるいは機械加工を施し
てその一部を削り取り、インダクタンス値を低い側に調
整したソリッドインダクタが知られている。また、フェ
ライトペーストをチップインダクタ素子に塗布してイン
ダクタンス値を大きい側に調整したソリッドインダクタ
が知られている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
ソリッドインダクタは、個々のインダクタンス値を正確
に調整されている点ではすぐれているが、トリミングさ
れた結果その外形が変わるとともに、量産性が悪くコス
ト高である。さらに、チップインダクタ素子は、成形し
たグリーンシートにＡｇ又はＡｇ−Ｐｄ等で内部電極を
形成し、積層して焼成し一体化して形成するので、従来
のフェライトコアと比べて焼成温度をかなり低くしなけ
ればならず、そのため材料によっては焼結密度が低くな
ってしまい、耐湿性が劣化するとともにメッキ成長、さ
らにメッキ液の浸入による内部電極の腐食、及びメッキ
後のソリッドインダクタからのメッキ液のしみ出しによ
る基板の腐食等が生じるおそれがあった。
ソリッドインダクタは、個々のインダクタンス値を正確
に調整されている点ではすぐれているが、トリミングさ
れた結果その外形が変わるとともに、量産性が悪くコス
ト高である。さらに、チップインダクタ素子は、成形し
たグリーンシートにＡｇ又はＡｇ−Ｐｄ等で内部電極を
形成し、積層して焼成し一体化して形成するので、従来
のフェライトコアと比べて焼成温度をかなり低くしなけ
ればならず、そのため材料によっては焼結密度が低くな
ってしまい、耐湿性が劣化するとともにメッキ成長、さ
らにメッキ液の浸入による内部電極の腐食、及びメッキ
後のソリッドインダクタからのメッキ液のしみ出しによ
る基板の腐食等が生じるおそれがあった。
【０００４】本発明は、上記従来技術の有する問題点に
鑑みてなされたもので、チップ表面を改善して耐湿性を
よくするとともに、インダクタンス値のトリミングを効
率的に行うことができるソリッドインダクタを提供する
ことを目的としている。
鑑みてなされたもので、チップ表面を改善して耐湿性を
よくするとともに、インダクタンス値のトリミングを効
率的に行うことができるソリッドインダクタを提供する
ことを目的としている。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明は、磁性体のグリ
ーンシートに所定の内部電極を形成し、積層し焼成して
一体化した素子からなるソリッドインダクタにおいて、
前記焼成チップインダクタンス素子の表面にガラス質の
拡散剤を塗布すると同時に熱処理して拡散剤を磁性体の
層に拡散させたことを特徴とする。本発明において拡散
剤としては、ホウケイ酸亜鉛ガラス、鉛ホウケイ酸亜鉛
ガラス、鉛ガラス等からなり、磁性体の層に拡散し、低
透磁率な緻密な組織を形成するガラス質のものを用い
る。上記磁性体のグリーンシートは、Ｍｎ−Ｚｎ系、Ｎ
ｉ−Ｚｎ系、Ｃｕ−Ｚｎ系等の各種のフェライトのうち
の適宜のものから成形する。この成形方法としては、押
出法、印刷法、シート法等が用いられる。内部電極は、
Ａｇ又はＡｇ−Ｐｄ等を塗布、印刷又はスパッタリング
等により形成する。
ーンシートに所定の内部電極を形成し、積層し焼成して
一体化した素子からなるソリッドインダクタにおいて、
前記焼成チップインダクタンス素子の表面にガラス質の
拡散剤を塗布すると同時に熱処理して拡散剤を磁性体の
層に拡散させたことを特徴とする。本発明において拡散
剤としては、ホウケイ酸亜鉛ガラス、鉛ホウケイ酸亜鉛
ガラス、鉛ガラス等からなり、磁性体の層に拡散し、低
透磁率な緻密な組織を形成するガラス質のものを用い
る。上記磁性体のグリーンシートは、Ｍｎ−Ｚｎ系、Ｎ
ｉ−Ｚｎ系、Ｃｕ−Ｚｎ系等の各種のフェライトのうち
の適宜のものから成形する。この成形方法としては、押
出法、印刷法、シート法等が用いられる。内部電極は、
Ａｇ又はＡｇ−Ｐｄ等を塗布、印刷又はスパッタリング
等により形成する。
【０００６】
【作用】本発明は、上記のように構成し、Ａｇ又はＡｇ
−Ｐｄ等で内部電極を形成して積層し焼成した焼成チッ
プインダクタンス素子の表面に、ガラス質の拡散剤を塗
布すると同時に熱処理することにより、焼結密度が低い
素子でも、ガラス質の拡散剤が磁性体の層に拡散してチ
ップインダクタンス素子の表面に低透磁率の緻密な層を
形成するので、耐湿性にすぐれるとともに、メッキ液の
浸入を防いで内部電極の腐食、及びメッキ後のソリッド
インダクタからのメッキ液のしみ出しによる基板の腐食
等が防げる。また、外形を変えることなく、拡散剤の種
類、熱処理温度、熱処理時間を変えることにより拡散厚
さを調節できるので、インダクタンス値を正確に調整で
き量産性にもすぐれる。
−Ｐｄ等で内部電極を形成して積層し焼成した焼成チッ
プインダクタンス素子の表面に、ガラス質の拡散剤を塗
布すると同時に熱処理することにより、焼結密度が低い
素子でも、ガラス質の拡散剤が磁性体の層に拡散してチ
ップインダクタンス素子の表面に低透磁率の緻密な層を
形成するので、耐湿性にすぐれるとともに、メッキ液の
浸入を防いで内部電極の腐食、及びメッキ後のソリッド
インダクタからのメッキ液のしみ出しによる基板の腐食
等が防げる。また、外形を変えることなく、拡散剤の種
類、熱処理温度、熱処理時間を変えることにより拡散厚
さを調節できるので、インダクタンス値を正確に調整で
き量産性にもすぐれる。
【０００７】
【実施例】以下、本発明の実施例を説明する。Ｎｉ−Ｚ
ｎ−Ｃｕ系の透磁率μｉ＝２５０のフェライトを用い
て、グリーンシートを成形し、このグリーンシートから
図１（ｂ）に示すように、Ａｇ−Ｐｄで内部電極２を形
成し、プレス法により成形し、９００℃で焼成したチッ
プソリッドインダクタと拡散剤をアルミナの円筒容器に
入れ空気中で容器を回転させながら熱処理を行った。拡
散剤として下記のホウケイ酸亜鉛ガラス等の４種類
（Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄ）のガラス成分の異なる拡散剤を用い
た。熱処理温度と熱処理時間を変えてチップソリッドイ
ンダクタ１を下記の寸法に作製した。そしてこのように
作製されたソリッドインダクタ１のインダクタンス値Ｌ
を測定した。 ガラス Ａ ： ＺｎＯ・Ｂ2 Ｏ3 ・ＳｉＯ2 系 ガラス Ｂ ： ＰｂＯ・Ｂ2 Ｏ3 ・ＺｎＯ・ＳｉＯ2
系 ガラス Ｃ ： ＰｂＯ・Ｂ2 Ｏ3 ・ＳｉＯ2 系 ガラス Ｄ ： ＰｂＯ・ＳｉＯ2 系 インダクタ外形寸法 ： １．０×１．０×２．０mm 内部電極寸法 ： 幅１００×厚さ１０ μｍ 拡散剤による熱処理をしない以外は上記と同様にして作
製した試料のインダクタンス値Ｌｏを測定した。その結
果は、Ｌｏ＝３０２．７ｎＨであった。拡散剤による熱
処理をしないで作製した試料のインダクタンス値Ｌｏに
対するインダクタンス変化率、１００（Ｌｏ−Ｌ）／Ｌ
ｏを計算した。その結果を表１に示す。
ｎ−Ｃｕ系の透磁率μｉ＝２５０のフェライトを用い
て、グリーンシートを成形し、このグリーンシートから
図１（ｂ）に示すように、Ａｇ−Ｐｄで内部電極２を形
成し、プレス法により成形し、９００℃で焼成したチッ
プソリッドインダクタと拡散剤をアルミナの円筒容器に
入れ空気中で容器を回転させながら熱処理を行った。拡
散剤として下記のホウケイ酸亜鉛ガラス等の４種類
（Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄ）のガラス成分の異なる拡散剤を用い
た。熱処理温度と熱処理時間を変えてチップソリッドイ
ンダクタ１を下記の寸法に作製した。そしてこのように
作製されたソリッドインダクタ１のインダクタンス値Ｌ
を測定した。 ガラス Ａ ： ＺｎＯ・Ｂ2 Ｏ3 ・ＳｉＯ2 系 ガラス Ｂ ： ＰｂＯ・Ｂ2 Ｏ3 ・ＺｎＯ・ＳｉＯ2
系 ガラス Ｃ ： ＰｂＯ・Ｂ2 Ｏ3 ・ＳｉＯ2 系 ガラス Ｄ ： ＰｂＯ・ＳｉＯ2 系 インダクタ外形寸法 ： １．０×１．０×２．０mm 内部電極寸法 ： 幅１００×厚さ１０ μｍ 拡散剤による熱処理をしない以外は上記と同様にして作
製した試料のインダクタンス値Ｌｏを測定した。その結
果は、Ｌｏ＝３０２．７ｎＨであった。拡散剤による熱
処理をしないで作製した試料のインダクタンス値Ｌｏに
対するインダクタンス変化率、１００（Ｌｏ−Ｌ）／Ｌ
ｏを計算した。その結果を表１に示す。
【０００８】
【表１】
【０００９】インダクタンス変化率の計算の結果から明
らかなように、焼成温度と時間及びガラスの種類によっ
て同じ傾向の値が得られることから、インダクタンス値
を正確に調整することができる。特にホウケイ酸亜鉛系
ガラスは低い熱処理温度でも磁性体の層に拡散しやすい
ので高い焼結密度が得られる。
らかなように、焼成温度と時間及びガラスの種類によっ
て同じ傾向の値が得られることから、インダクタンス値
を正確に調整することができる。特にホウケイ酸亜鉛系
ガラスは低い熱処理温度でも磁性体の層に拡散しやすい
ので高い焼結密度が得られる。
【００１０】
【発明の効果】本発明に係るソリッドインダクタは、ガ
ラス質の拡散剤を表面に拡散するだけなので外形を変え
ることなく、インダクタンス値を正確に調整でき量産性
にもすぐれる。また、緻密な層のソリッドインダクタが
得られ、耐湿性にすぐれるとともに、メッキ液の浸入を
防いで内部電極の腐食、及びメッキ後のソリッドインダ
クタからのメッキ液のしみ出しによる基板の腐食等が防
げる。
ラス質の拡散剤を表面に拡散するだけなので外形を変え
ることなく、インダクタンス値を正確に調整でき量産性
にもすぐれる。また、緻密な層のソリッドインダクタが
得られ、耐湿性にすぐれるとともに、メッキ液の浸入を
防いで内部電極の腐食、及びメッキ後のソリッドインダ
クタからのメッキ液のしみ出しによる基板の腐食等が防
げる。
【図１】本発明に係るソリッドインダクタの一実施例を
説明する図で、（ａ）は斜視図、（ｂ）は内部電極の平
面図、（ｃ）は（ａ）のＡ−Ａ線における断面図であ
る。
説明する図で、（ａ）は斜視図、（ｂ）は内部電極の平
面図、（ｃ）は（ａ）のＡ−Ａ線における断面図であ
る。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 中村 和敬 京都府長岡京市天神二丁目26番10号株式会 社村田製作所内 (72)発明者 後 外茂昭 京都府長岡京市天神二丁目26番10号株式会 社村田製作所内
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 【請求項１】 磁性体のグリーンシートに所定の内部電
極を形成し、積層し焼成して一体化した素子からなるソ
リッドインダクタにおいて、前記焼成チップインダクタ
ンス素子の表面にガラス質の拡散剤を塗布すると同時に
熱処理して拡散剤を磁性体の層に拡散させたことを特徴
とするソリッドインダクタ。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3194939A JP2958821B2 (ja) | 1991-07-08 | 1991-07-08 | ソリッドインダクタ |
| US07/909,595 US5359311A (en) | 1991-07-08 | 1992-07-07 | Solid inductor with vitreous diffused outer layer |
| US08/288,588 US5551146A (en) | 1991-07-08 | 1994-08-10 | Method of manufacturing a solid inductor |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3194939A JP2958821B2 (ja) | 1991-07-08 | 1991-07-08 | ソリッドインダクタ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0513237A true JPH0513237A (ja) | 1993-01-22 |
| JP2958821B2 JP2958821B2 (ja) | 1999-10-06 |
Family
ID=16332853
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3194939A Expired - Lifetime JP2958821B2 (ja) | 1991-07-08 | 1991-07-08 | ソリッドインダクタ |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US5359311A (ja) |
| JP (1) | JP2958821B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| WO2022181177A1 (ja) * | 2021-02-26 | 2022-09-01 | 株式会社村田製作所 | インダクタ部品 |
| WO2022181178A1 (ja) * | 2021-02-26 | 2022-09-01 | 株式会社村田製作所 | インダクタ部品 |
Families Citing this family (65)
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|---|---|---|---|---|
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| US6076253A (en) * | 1994-09-19 | 2000-06-20 | Taiyo Yuden Kabushiki Kaisha | Method of manufacturing chip conductor |
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| JP3599205B2 (ja) * | 1995-09-12 | 2004-12-08 | Ｔｄｋ株式会社 | ノイズ抑制用インダクタ素子 |
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