JPH0462274B2

JPH0462274B2 -

Info

Publication number: JPH0462274B2
Application number: JP60088369A
Authority: JP
Inventors: Akihiko Kuroiwa; Noryoshi Nanba; Terufumi Kamijo
Original assignee: TDK Corp
Current assignee: TDK Corp
Priority date: 1985-04-24
Filing date: 1985-04-24
Publication date: 1992-10-05
Also published as: JPS61246091A

Description

【発明の詳細な説明】発明の背景技術分野本発明は、光記録媒体、特にヒートモードの光
記録媒体に関する。先行技術光記録媒体は、媒体と書き込みないし読み出し
ヘツドが非接触であるので、記録媒体が摩耗劣化
しないという特徴をもち、このため、種々の光記
録媒体の開発研究が行われている。このような光記録媒体のうち、暗室による現像
処理が不要である等の点で、ヒートモード光記録
媒体の開発が活発になつている。このヒートモードの光記録媒体は、記録光を熱
として利用する光記録媒体であり、その１例とし
て、レーザー等の記録光で媒体の一部を融解、除
去等して、ピツトと称される小穴を形成して書き
込みを行い、このピツトにより情報を記録し、こ
のピツトを読み出し光で検出して読み出しを行う
ピツト形成タイプのものがある。このようなピツト形成タイプの媒体、特にその
うち、装置を小型化できる半導体レーザーを光源
とするものにおいては、これまで、Teを主体と
する材料を記録層とするものが大半をしめてい
る。しかし、近年、Te系材料が有害であること、
そしてより高感度化する必要があること、より製
造コストを安価にする必要があることから、Te
系にかえ、色素を主とした有機材料系の記録層を
用いる媒体についての提案や報告が増加してい
る。例えば、He−Neレーザー用としては、スクワ
リリウム色素〔特開昭56−46221号 V.B.Jipson
and C.R.Jones，J.Vac.sci.Technol.，18(1)105
（1981）〕や、金属フタロシアニン色素（特開昭57
−82094号、同57−82095号）などを用いるものが
ある。また、金属フタロシアニン色素を半導体レーザ
ー用として使用した例（特開昭56−86795号）も
ある。これらは、いずれも色素を蒸着により記録層薄
膜としたものであり、媒体製造上、Te系と大差
はない。しかし、色素蒸着膜のレーザーに対する反射率
は一般に小さく、反射光量のピツトによる変化
（減少）によつて読み出し信号をうる、現在行わ
れている通常の方式では、大きなＳ／Ｎ比をうる
ことができない。また、記録層を担持した透明基体を、記録層が
対向するようにして一体化した、いわゆるエアー
サンドイツチ構造の媒体とし、基体をとおして書
き込みおよび読み出しを行うと、書き込み感度を
下げずに記録層の保護ができ、かつ記録密度も大
きくなる点で有利であるが、このような記録再生
方式も、色素蒸着膜では不可能である。これは、通常の透明樹脂製基体では、屈折率が
ある程度の値をもち（ポリメチルメタクリレート
で1.5）、また、表面反射率がある程度大きく（同
４％）、記録層の基体をとおしての反射率が、例
えばポリメチルメタクリレートでは60％程度以下
になるため、低い反射率しか示さない記録層では
検出できないからである。色素蒸着膜からなる記録層の、読み出しのＳ／
Ｎ比を向上させるためには、通常、基体と記録層
との間に、Al等の蒸着反射膜を介在させている。個の場合、蒸着反射膜は、反射率を上げてＳ／
Ｎ比を向上させるためのものであり、ピツト形成
により反射膜が露出して反射率が増大したり、あ
るいは場合によつては、反射膜を除去して反射率
を減少させるものであるが、当然のことながら、
基体をとおしての記録再生はできない。同様に、特開昭55−161690号には、IR−132色
素（コダツク社製）とポリ酢酸ビニルとからなる
記録層、また、特開昭57−74845号には、１，
1′−ジエチル−２，2′−トリカルボシアニンイオ
ダイドとニトロセルロースとからなる記録層、さ
らにはK.Y.Law，et al.，Appl.Phys.Lett.39(9)
718（1981）には、３，3′−ジエチル−12−アセチ
ルチアテトラカルボシアニンとポリ酢酸ビニルと
からなる記録層など、色素と樹脂とからなる記録
層を塗布法によつて設層した媒体が開示されてい
る。しかし、これらの場合にも、基体と記録層との
間に反射膜を必要としており、基体裏面側からの
記録再生ができない点で、色素蒸着膜の場合と同
様の欠点をもつ。このように、基体をとおしての記録再生が可能
であり、Te系材料からなる記録層をもつ媒体と
の互換性を有する、有機材料系の記録層をもつ媒
体を実現するには、有機材料自身が大きな反射率
を示す必要がある。しかし、従来、反射層を積層せずに、有機材料
の単層にて高い反射率を示す例はきわめて少な
い。例えば、チアゾール系やキノリン系等のシアニ
ン色素やメロシアニン色素でも、高反射率が示さ
れる旨が報告〔山本他、第27回応用物理学会予
稿集 1p−Ｐ−９（1980）〕されており、これに
もとづく提案が特開昭58−112790号になされてい
るが、これら色素は、特に塗膜として設層したと
きに、溶剤に対する溶解度が小さく、また結晶化
しやすく、さらには読み出し光に対してきわめて
不安定でただちに脱色してしまい、実用に供しえ
ない。このような実状に鑑み、本発明者らは、先に、
溶剤に対する溶解度が高く、結晶化も少なく、か
つ熱的に安定であつて、塗膜の反射率が高いイン
ドレニン系のシアニン色素を単層膜として用いる
旨を提案している（特願昭57−134397号、同57−
134170号）。また、インドレニン系、あるいはチアゾール
系、キノリン系、セレナゾール系等の他のシアニ
ン色素においても、長鎖アルキル基を分子中に導
入して、溶解性の改善と結晶化の防止がはかられ
ることを提案している（特願昭57−182589号、同
57−177776号等）。さらに、光安定性をまし、特に読み出し光によ
る脱色（再生劣化）を防止するために、シアニン
色素にクエンチヤーを添加する旨の提案を行つて
いる（特願昭57−166832号、同57−168048号等）。さらに、スチリル系、インドリル系、ピリリウ
ム、チアピリリウム、セレナピリリウムないしテ
ルロピリリウム系、ポリメチン系等の色素にクエ
ンチヤーを添加して、再生劣化が減少する旨の提
案も行つている（特願昭58−181357号、同58−
181368号、同58−181369号、同58−183454号、同
58−183455号、同58−183456号）。また、さらに、再生劣化がきわめて少なく、耐
湿性が良好な記録層として、色素カチオンとクエ
ンチヤーアニオンとの結合体を含む記録層の提案
も行つている（特願昭59−14848号等）。このような記録層に含まれる種々の色素の中
で、フタロシアニン化合物は、光、熱、湿度等い
ずれに対しても安定であり、堅牢性に優れてい
る。しかし、フタロシアニン化合物を記録層として
用いた場合、近赤外および赤外域に吸収がなく、
このような範囲の記録光では、記録層への書き込
みが困難であつた。発明の目的本発明の目的は、光記録媒体を構成する記録層
が、光、熱、湿度、いずれに対しても安定であ
り、堅牢性に優れ、しかも近赤外および赤外域の
記録光によつても使用可能な光記録媒体を提供す
ることにある。発明の開示このような目的は、下記の本発明によつて達成
される。すなわち、本発明は、式（）または、式（）｛式（）および（）中、MYは金属もし
くは半金属のＢ族元素化物基を表わす。 Pcはフタロシアニン核を表わす。 R₁は、置換または非置換の脂肪族基、脂環式
基、芳香族基または複素環基を表わす。 R₂は置換または非置換の２価の脂肪族基、脂
環式基、芳香族基または複素環基を表わす。 Y₁，Y₂およびY₃は、それぞれ、Ｏ，Ｓ，Se，
TeまたはNT（Ｔは水素原子、アルキル基または
アリール基を表わす。）を表わす。Ｘは水素原子またはハロゲン原子を表わす。ｎは６〜16、ｌは１〜８、ｍは０〜14の正の整
数を表わす。｝で示されるフタロシアニン化合物を含む記録層を
基体上に有することを特徴とする光記録媒体であ
る。発明の具体的構成以下、本発明の具体的構成について詳細に説明
する。本発明の光記録媒体の記録層は、上記の式
（）または（）で示されるようなフタロシ
アニン化合物を含んでいる。上記式（）および（）において、MY
は、金属または半金属のＢ族元素化物基を表わ
す。この場合の金属または半金属原子としては、例
えば、Mg，Al，Si，Ca，Sc，Ti，Ｖ，Cr，
Mn，Fe，Co，Ni，Cu，Zn，Ga，Ge，As，Sr，
Ｙ，Zr，Nb，Mo，Ru，Rh，Pd，Ag，Cd，In，
Sn，Sb，Ba，La，Hf，Ta，Ｗ，Re，Os，Ir，
Pt，Au，Hg，Tl，Pb，Bi，Th，Eu等があり、
このなかでSi，Ti，Ｖ，Cr，Mn，Fe，Ge，As，
Zr，Nb，Mo，Pd，Sn，Sb，Hf，Ta，Ｗ，
Re，Os，Pb，Thが好ましい。また、Ｂ族原子は、例えばＯ，Ｓ，Se，Te
等であり、なかでもＯ，Ｓが好ましい。この場合、MYとしては、Ｍの酸価数価以上
のものが好ましく、MYとしてはY′をＯ，Ｓ，
Se，Teとしたとき、MY′、MY′₂のものが好ま
しい。これらのうちでは、VO，TiO，ZrO，ThO，
HfO，OsO，SiO，GeO，SnO，TiS，VS，UO₂
等が特に好ましい。 Pcは、下記式（）で表わされるフタロシア
ニン核である。式（）上記式（）で、−Y₁R₁、−Y₂R₂Y₃−もしくは
Ｘが置換する位置は１〜16のいずれかである。 R₁は１価、R₂は２価であつて、炭素数１〜20
の置換もしくは非置換の脂肪族基、脂環式基、例
えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル
基、ペンチル基、ヘキシル基、エチレン基、プロ
ピレン基、ブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレ
ン基、ベンジル基、フエネチル基、シクロヘキシ
ル基、アリル基、ドデシル基、−CH₂CH₂CH＝
CH−CH₂−、シクロヘキセン基、

【式】イソプロペニル基、−C₂H₄ −Cl、−CH₂−NH₂等；炭素数６〜24の置換もしくは非置換の芳香族
基、例えば、フエニル基、トリル基、フエニレン
基、ナフチレン基、メトキシフエニル基、ナフチ
ル基、塩化フエニル基、キシリル基、

【式】

【式】スチリル基、シンナミル基、フエネチル基、メチルフエニレン基、

【式】等；置換もしくは非置換の複素環基、例えば、ピリ
ジル基、ピロリル基、キノリル基、フリル基、フ
ルフリル基、フエニル基、ピペリジル基、ピリミ
ジル基等；である。Ｘは、水素原子；ハロゲン原子、例えば、Cl、Br、Ｉ、Ｆ等；であり、なかでも、Ｈ、Cl、Br、Ｉが好ましい。 Y₁，Y₂およびY₃は、それぞれ、Ｏ，Ｓ，Se，
TeまたはNT（Ｔは水素原子、アルキル基または
アリール基を表わす。）である。ｎは、６〜16の正の整数を表わす。ｌは１〜８、ｍは０〜14の正の整数を表わす。以下に本発明のフタロシアニン化合物の具体例
を挙げる。本発明のフタロシアニン化合物は、一般に次の
スキームに従う方法で合成することができる。スキーム１ R₁Y₁Ｈ＋KY₁Ｈキノリン中 ―――――――― 140℃、1hr.R₁Y₁ ^-K⁺nR₁Y₁
⁻K⁺＋MY^-Pc（Ｘ）₁₆→160〜180℃、1hr.MY−Pc
（−Y₁R₁）ｎ（Ｘ）_16-o＋副生成物（Y₁：ＯまたはＳ）この方法を用いた場合の反応生成物の精製は次
のように行なう。反応生成物を100℃に冷却し、エタノールで希
釈した後、室温に戻して濾過する。この濾別した
ものをエタノールで洗浄し、さらにエタノールー
水溶液で洗浄し、乾燥する。こうして得られた組
生成物をシリカカラムでトルエンによつて展開
し、分離して精製する。この場合の反応生成物の精製は、スキーム１と
同様に行う。次に、本発明のフタロシアニン化合物の合成例
を挙げる。合成例１例示化合物（34）の合成 C₂H₅SH 12gとKOH 6gとをキノリン中で145
℃にて２時間反応させた。これにVOPc（Cl）₁₆
7gを加え、160〜180℃にて２時間反応させた。
得られた反応生成物を100℃に冷却した後、エタ
ノール（EtOH）で希釈して室温に戻し、濾過し
た。濾別したものをEtOHで洗浄し、さらに
EtOH−H₂Ｏ（１：１）溶液で洗浄し、乾燥した。このようにして得られた粗生成物をシリカカラ
ムでトルエンによつて展開し、分離、精製した。
これを２回繰り返して目的物を得た。収率 35％元素分析ＣＳＮＶ計算値／％ 42.28 19.23 8.41 3.83 実測値／％ 42.35 19.31 8.49 3.92 吸収極大 λmax 750nm（スピンナー塗布により0.1μm厚の薄膜
を形成して測定）合成例２例示化合物（32）の合成合成例１と同様にして目的物を得た。収率 39％元素分析ＣＳＮＶ計算値／％ 55.98 14.93 6.53 2.97 実測値／％ 56.41 13.88 6.50 2.89 合成例３例示化合物（49）の合成合成例１と同様にして目的物を得た。収率 29％元素分析ＣＳＮ Ti 計算値／％ 53.27 17.50 4.08 1.75 実測値／％ 52.92 17.21 4.13 1.76 合成例４例示化合物（37）の合成合成例１と同様にして目的物を得た。収率 28％元素分析ＣＨＮＶ計算値／％ 51.02 4.09 9.16 4.17 実測値／％ 50.01 4.20 9.14 4.00 合成例５例示化合物（22）の合成１モルとエタノール（EtOH）４モルとを130℃
で３時間反応させ、を得た。この化合物４モルにLi⁺（OC₅H₁₁）^-２モ
ルを加えて、130℃で２時間反応させ、Li₂Pc（−
OEt）₁₆を得た。さらに、この化合物１モルに
VCl₃１モルを加えてアミルアルコール中で120℃
で２時間反応させ、目的物を得た。精製は実施例１と同様に行なつた。収率 28％元素分析ＣＨＮＶ計算値／％ 58.09 6.35 8.90 4.05 実測値／％ 59.99 6.42 8.80 4.01 吸収極大 λmax 820nm（スピンナー塗布により
0.1μm厚の薄膜を形成して測
定）合成例６例示化合物（66）の合成合成例５と同様にして目的物を得た。収率 34.2％元素分析ＣＨＮ Ti 計算値／％ 59.24 6.37 8.92 3.81 実測値／％ 58.92 6.41 8.89 3.75 合成例７例示化合物（67）の合成合成例５と同様にして目的物を得た。収率 25.9％元素分析ＣＨＮ Ti 計算値／％ 48.87 3.66 8.53 3.65 実測値／％ 43.82 3.61 8.57 3.69 合成例８例示化合物（13）の合成合成例５と同様にして目的物を得た。収率 36.2％元素分析ＣＨＮＶ計算値／％ 79.61 3.83 4.08 1.86 実測値／％ 78.89 3.79 4.12 1.89 合成例９例示化合物（23）の合成

【式】１モルと、βナフトール

【式】４モルとを140℃、２時間で反応させ、

【式】を得た。この化合物４モルにLi⁺（OC₅H₁₁）^-２モルを加
えて150℃で２時間反応させ、

【式】を得た。さらに、この化合物１モルにTiCl₄１モルを加
えて、アミルアルコール中で130℃で１時間反応
させ、目的物を得た。この反応生成物を100℃に
冷却した後、エタノール（EtOH）で希釈して室
温に戻し、濾過した。濾別したものをEtOHで洗
浄し、さらにEtOH−H₂Ｏ（１：１）溶液で洗浄
し、乾燥した。このようにして得られた粗生成物
をシリカカラムでトルエンによつて展開し、分
離、精製して目的物を得た。収率 27.2％元素分析ＣＨＮ Ti 計算値／％ 67.61 2.82 5.63 2.41 実測値／％ 66.82 2.91 5.59 2.44 吸収極大 λmax 770nm（スピンナー塗布により
0.1μm厚の薄膜を形成して測
定）合成例10 例示化合物（68）の合成合成例９と同様にして目的物を得た。収率 27.9％元素分析ＣＨＮＶ計算値／％ 69.36 3.59 5.58 2.54 実測値／％ 68.27 3.62 5.53 2.57 合成例11 例示化合物（69）の合成プロパノール16モルとKOH16モルとをキノリ
ン中で140℃にて１時間反応させた。これにVOPc（Cl）₁₆１モルを加え、160〜180℃
にて１時間反応させた。得られた反応生成物の精製は合成例11と同様に
行つた。収率 29.1％元素分析ＣＨＮＶ計算値／％ 63.71 7.43 7.43 3.38 実測値／％ 62.99 7.39 7.48 3.51 吸収極大 λmax 840nm（スピンナー塗布により0.1μm厚の薄膜
を形成して測定）合成例12 例示化合物(8)の合成合成例11と同様にして目的物を得た。収率 27.3％元素分析ＣＨＮＶ計算値／％ 58.43 5.89 8.80 4.00 実測値／％ 58.21 5.92 8.76 4.12 このようなフタロシアニン化合物は、２種以上
用いてもよい。また本発明の効果をそこなわない
範囲で、他の色素と組み合わせて記録層を形成し
てもよい。記録層中には、必要に応じ、樹脂が含まれてい
てもよい。用いる樹脂としては、自己酸化性、解重合性な
いし熱可塑性樹脂が好適である。これらのうち、特に好適に用いることができる
熱可塑性樹脂には、以下のようなものがある。ポリオレフインポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ４−メチ
ルペンテン−１など。ポリオレフイン共重合体例えば、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチ
レン−アクリル酸エステル共重合体、エチレン−
アクリル酸共重合体、エチレン−プロピレン共重
合体、エチレン−ブテン−１共重合体、エチレン
−無水マレイン酸共重合体、エチレンプロピレン
ターポリマー（EPT）など。この場合、コモノマーの重合比は任意のものと
することができる。塩化ビニル共重合体例えば、酢酸ビニル−塩化ビニル共重合体、塩
化ビニル−塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニル
−無水マレイン酸共重合体、アクリル酸エステル
ないしメタアクリル酸エステルと塩化ビニルとの
共重合体、アクリロニトリル−塩化ビニル共重合
体、塩化ビニルエーテル共重合体、エチレンない
しプロピレン−塩化ビニル共重合体、エチレン−
酢酸ビニル共重合体に塩化ビニルをグラフト重合
したものなど。この場合、共重合比は任意のものとすることが
できる。塩化ビニリデン共重合体塩化ビニリデン−塩化ビニル共重合体、塩化ビ
ニリデン−塩化ビニル−アクリロニトリル共重合
体、塩化ビニリデン−ブタジエン−ハロゲン化ビ
ニル共重合体など。この場合、共重合比は、任意のものとすること
ができる。ポリスチレンスチレン共重合体例えば、スチレン−アクリロニトリル共重合体
（AS樹脂）、スチレン−アクリロニトリル−ブタ
ジエン共重合体（ABS樹脂）、スチレン−無水マ
レイン酸共重合体（SMA樹脂）、スチレン−アク
リル酸エステル−アクリルアミド共重合体、スチ
レン−ブタジエン共重合体（SBR）、スチレン−
塩化ビニリデン共重合体、スチレン−メチルメタ
アクリレート共重合体など。この場合、共重合比は任意のものとすることが
できる。スチレン型重合体例えば、α−メチルスチレン、ｐ−メチルスチ
レン、２，５−ジクロルスチレン、α，β−ビニ
ルナフタレン、α−ビニルピリジン、アセナフテ
ン、ビニルアントラセンなど、あるいはこれらの
共重合体、例えば、α−メチルスチレンとメタク
リル酸エステルとの共重合体。クマロン−インデン樹脂クマロン−インデン−スチレンの共重合体。テルペン樹脂ないしピコライト例えば、α−ピネンから得られるリモネンの重
合体であるテルペン樹脂や、β−ピネンから得ら
れるピコライト。アクリル樹脂特に下記式で示される原子団を含むものが好ま
しい。式上記式において、R₁₀は、水素原子またはアル
キル基を表わし、R₂₀は、置換または非置換のア
ルキル基を表わす。この場合、上記式において、
R₁₀は、水素原子または炭素原子数１〜４の低級
アルキル基、特に水素原子またはメチル基である
ことが好ましい。また、R₂₀は、置換、非置換い
ずれのアルキル基であつてもよいが、アルキル基
の炭素原子数は１〜８であることが好ましく、ま
た、R₂₀が置換アルキル基であるときには、アル
キル基を置換する置換基は、水酸基、ハロゲン原
子またはアミノ基（特に、ジアルキルアミノ基）
であることが好ましい。このような上記式で示される原子団は、他のく
りかえし原子団とともに、共重合体を形成して各
種アクリル樹脂を構成してもよいが、通常は、上
記式で示される原子団の１種または２種以上をく
りかえし単位とする単独重合体または共重合体を
形成してアクリル樹脂を構成することになる。ポリアクリロニトリルアクリロニトリル共重合体例えば、アクリロニトリル−酢酸ビニル共重合
体、アクリロニトリル−塩化ビニル共重合体、ア
クリロニトリル−スチレン共重合体、アクリロニ
トリル−塩化ビニリデン共重合体、アクリロニト
リル−ビニルピリジン共重合体、アクリロニトリ
ル−メタクリル酸メチル共重合体、アクリロニト
リル−ブタジエン共重合体、アクリロニトリル−
アクリル酸ブチル共重合体など。この場合、共重合比は任意のものとすることが
できる。ダイアセトンアクリルアミドポリマーアクリロニトリルにアセトンを作用させたダイ
アセトンアクリルアミドポリマー。ポリ酢酸ビニル酢酸ビニル共重合体例えば、アクリル酸エステル、ビニルエーテ
ル、エチレン、塩化ビニル等との共重合体など。共重合比は任意のものであつてよい。ポリビニルエーテル例えば、ポリビニルメチルエーテル、ポリビニ
ルエチルエーテル、ポリビニルブチルエーテルな
ど。ポリアミドこの場合、ポリアミドとしては、ナイロン６、
ナイロン６−６、ナイロン６−10、ナイロン６−
12、ナイロン９、ナイロン11、ナイロン12、ナイ
ロン13等の通常のホモナイロンの他、ナイロン
６／６−６／６−10、ナイロン６／６−６／12、
ナイロン６／６−６／11等の重合体や、場合によ
つては変性ナイロンであつてもよい。ポリエステル例えば、シユウ酸、コハク酸、マレイン酸、ア
ジピン酸、セバステン酸等の脂肪族二塩基酸、あ
るいはイソフタル酸、テレフタル酸などの芳香族
二塩基酸などの各種二塩基酸と、エチレングリコ
ール、テトラメチレングリコール、ヘキサメチレ
ングリコール等のグリコール類との縮合物や、共
縮合物が好適である。そして、これらのうちでは、特に脂肪族二塩基
酸とグリコール類との縮合物や、グリコール類と
脂肪族二塩基酸との共縮合物は、特に好適であ
る。さらに、例えば、無水フタル酸とグリセリンと
の縮合物であるグリプタル樹脂を、脂肪酸、天然
樹脂等でエステル化変性した変性グリプタル樹脂
等も好適に使用される。ポリビニルアセタール系樹脂ポリビニルアルコールを、アセタール化して得
られるポリビニルホルマール、ポリビニルアセタ
ール系樹脂はいずれも好適に使用される。この場合、ポリビニルアセタール系樹脂のアセ
タール化度は任意のものとすることができる。ポレウレタン樹脂ウレタン結合をもつ熱可塑性ポリウレタン樹
脂。特に、グリコール類とジイソシアナート類との
縮合によつて得られるポリウレタン樹脂、とりわ
け、アルキレングリコールとアルキレンジイソシ
アナートとの縮合によつて得られるポリウレタン
樹脂が好適である。ポリエーテルスチレンホルマリン樹脂、環状アセタールの開
環重合物、ポリエチレンオキサイドおよびグリコ
ール、ポリプロピレンオキサイドおよびグリコー
ル、プロピレンオキサイド−エチレンオキサイド
共重合体、ポリフエニレンオキサイドなど。セルロース誘導体例えば、ニトロセルロース、アセチルセルロー
ス、エチルセルロース、アセチルブチルセルロー
ス、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプ
ロピルセルロース、メチルセルロース、エチルヒ
ドロキシエチルセルロースなど、セルロースの各
種エステル、エーテルないしこれらの混合体。ポリカーボネート例えば、ポリジオキシジフエニルメタンカーボ
ネート、ジオキシジフエニルプロパンカーボネー
ト等の各種ポリカーボネート。アイオノマーメタクリル酸、アクリル酸などのNa、Li、
Zn、Mg塩など。ケトン樹脂例えば、シクロヘキサノンやアセトフエノン等
の環状ケトンとホルムアルデヒドとの縮合物。キシレン樹脂例えば、ｍ−キシレンまたはメシチレンとホル
マリンとの縮合物、あるいはその変性体。石油樹脂 C₅系、C₉系、C₅−C₉共重合系、ジシクロペン
タジエン系、あるいは、これらの共重合体ないし
変性体など。上記）〜）の２種以上のブレン
ド体、またはその他の熱可塑性樹脂とのブレンド
体。なお、樹脂の分子量等は、種々のものであつて
よい。このような樹脂と、前記の色素とは、通常、重
量比で１対0.1〜100の広範な量比にて設層され
る。なお、このような記録層中には、別途クエンチ
ヤー、例えば、特願昭58−181368号等に記載した
ものが含有されてもよい。このような記録層を設層するには、一般に常法
に従い塗設すればよい。そして、記録層の厚さは、通常、0.02〜10μm
程度とされる。なお、このような記録層には、この他、他の色
素や、他のポリマーないしオリゴマー、各種可塑
剤、界面活性剤、帯電防止剤、滑剤、難燃剤、安
定剤、分散剤、酸化防止剤、そして架橋剤等が含
有されていてもよい。このような記録層を設層するには、基体上に、
所定の溶媒を用いて塗布、乾燥すればよい。なお、塗布に用いる溶媒としては、例えば、メ
チルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シ
クロヘキサノン等のケトン系、酢酸ブチル、酢酸
エチル、カルビトールアセテート、ブチルカルビ
トールアセテート等のエステル系、メチルセロソ
ルブ、エチルセロソルブ等のエーテル系、ないし
トルエン、キシレン等の芳香族系、ジクロロエタ
ン等のハロゲン化アルキル系、アルカン系、脂環
系、アルコール系などを用いればよい。このような記録層を設層する基体の材質として
は、書き込み光および読み出し光に対し実質的に
透明なものであれば、特に制限はなく、各種樹
脂、ガラス等いずれであつてもよい。また、その形状は使用用途に応じ、テープ、カ
ード、ドラム、ベルト等いずれであつてもよい。なお、基体は、通常、トラツキング用の溝を有
する。また、基体用の樹脂材質としては、ポリメチル
メタクノレート、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、
ポリカーボネート樹脂、ポリサルフオン樹脂、ポ
リエーテルサルフオン、メチルペンテンポリマー
等の、みぞ付きないしみぞなし基体が好適であ
る。これらの基体には、耐溶剤性、ぬれ性、表面張
力、熱伝導度等を改善するために、基体上に下地
層を形成することが好ましい。下地層の材質とし
ては、Si，Ti，Al，Zr，In，Ni，Ta等の有機錯
化合物や有機多官能性化合物を塗布、加熱乾燥し
て形成された酸化物であることが好ましい。この他、各種感光性樹脂等下地層として用いる
こともできる。また、記録層上には、必要に応じ、各種最上層
保護層、ハーフミラー層などを設けることもでき
る。本発明の媒体は、このような基体の一面上に上
記の記録層を有するものであつてもよく、その両
面に記録層を有するものであつてもよい。また、基体の一面上に記録層を塗設したものを
２つ用い、それらを記録層が向かいあうようにし
て、所定の間〓をもつて対向させ、それを密閉し
たりして、ホコリやキズがつかないようにするこ
ともできる。また、このような所定の間〓に、シリコーン樹
脂等を充填して、密着型にすることもできる。発明の具体的作用本発明の媒体は、走行ないし回転下において記
録光をパルス状に照射する。このとき記録層中の
色素の発熱により、色素が溶解等し、ピツトが形
成される。このように形成されたピツトは、やはり媒体の
走行ないし回転下、読み出し光の反射光ないし透
過光、特に反射光を検出することにより読み出さ
れる。この場合、記録および読み出しは、主に、基体
側から基体をとおして行う。そして、一旦記録層に形成したピツトを光ない
し熱で消去し、再書き込みを行うこともできる。なお、記録ないし読み出し光としては、半導体
レーザー等を用いることができる。発明の具体的効果本発明によれば、読み出し光による再生劣化が
きわめて小さくなる。そして、耐光性も向上し、明室保存による特性
劣化が少なく、さらに耐熱性、耐酸化性、耐湿性
にも優れる。そして、消去および再書き込みを行うようなと
きにも特性の劣化が少ない。さらには、保存性も
向上する。また、近赤外および赤外域の記録光によつて
も、容易に書き込みができる。また、反射層を積層しなくても、基体をとおし
て書き込みと読み出しを良好に行うことができ
る。発明の具体的実施例以下、本発明の具体的実施例を示し、本発明を
さらに詳細に説明する。実施例１下記表１に示されるフタロシアニン化合物を用
い、フタロシアニン化合物0.05gをトルエン等の
有機溶剤2.7gに溶解して、濾過した後、直径30cm
の案内溝付アクリルデイスク基板上に、0.08μm
の厚さにスピンナーを用いて塗布設層して、各種
媒体をえた。なお、用いたフタロシアニン化合物は上記にて
例示したNo.のものを用いた。このようにして作製した各媒体を、900r.p.m.
にて回転させながら、半導体レーザーを用いて、
基板裏面側から書き込みを行つた。この場合、集
光部出力は10mW、周波数は2MHzである。次いで、半導体レーザーを読み出し光とし、基
板をとおしての反射光を検出してヒユーレツトパ
ツカード社製のスペクトラムアナライザーにて、
バンド巾30KHzでＣ／Ｎ比を測定した。これらの結果を表１に示す。

【表】

【表】表１の結果から、本発明の効果があきらかであ
る。

Claims

【特許請求の範囲】１式（）または、式（）｛式（）および（）中、MYは金属もし
くは半金属のＢ族元素化物基を表わす。 Pcはフタロシアニン核を表わす。 R₁は、置換または非置換の脂肪族基、脂環式
基、芳香族基または複素環基を表わす。 R₂は置換または非置換の２価の脂肪族基、脂
環式基、芳香族基または複素環基を表わす。 Y₁，Y₂およびY₃は、それぞれ、Ｏ，Ｓ，Se，
TeまたはNT（Ｔは水素原子、アルキル基または
アリール基を表わす。）を表わす。Ｘは水素原子またはハロゲン原子を表わす。ｎは６〜16、ｌは１〜８、ｍは０〜14の正の整
数を表わす。｝で示されるフタロシアニン化合物を含む記録層を
基体上に有することを特徴とする光記録媒体。