JP2008018590A - 光情報記録媒体及びその製造方法 - Google Patents

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Abstract

【課題】４５０ｎｍ以下のレーザ光を照射しても情報の高密度記録及び再生が可能であり、記録品質に優れた記録層を具備する光情報記録媒体を提供する。
【解決手段】第１光情報記録媒体１０Ａの第１基板１２上には、波長４５０ｎｍ以下のレーザ光照射による情報の記録が可能な第１追記型記録層１４が設けられる。この第１追記型記録層１４には、ホウ素を構成元素とする色素化合物が含有されている。該色素化合物の好適な例としてはボロン酸が挙げられ、とりわけ、ボロン酸が縮合されることで形成されたボロキシン部分を有する化合物が好ましい。ボロン酸の縮合は、該ボロン酸を溶媒に溶解して調製した溶液を第１基板１２上に塗布して第１追記型記録層１４を形成した後、該第１追記型記録層１４に対してアニール処理を行うことで進行させることができる。
【選択図】図１

Description

本発明は、レーザ光を用いて情報の記録及び再生が可能な光情報記録媒体及びその製造方法に関し、一層詳細には、ホウ素を構成元素として含む色素化合物を含有した記録層を具備する光情報記録媒体及びその製造方法に関する。
従来から、レーザ光により１回限りの情報の記録が可能な光情報記録媒体（光ディスク）が知られている。この光ディスクは、追記型ＣＤ（所謂ＣＤ−Ｒ）とも呼称され、その代表的な構造は、透明な円盤状基板上に有機色素を含有する記録層、金等の金属からなる光反射層、さらに樹脂製の保護層がこの順に積層状態で設けられている。そして、このＣＤ−Ｒへの情報の記録は、近赤外域のレーザ光（通常は７８０ｎｍ付近の波長のレーザ光）をＣＤ−Ｒに照射することにより行われ、記録層の照射部分がその光を吸収して局所的に温度上昇し、物理的あるいは化学的変化（例えば、ピットの生成）が生じてその光学的特性を変えることにより、情報が記録される。一方、情報の読み取り（再生）もまた記録用のレーザ光と同じ波長のレーザ光を照射することにより行われ、記録層の光学的特性が変化した部位（記録部分）と変化しない部位（未記録部分）との反射率の違いを検出することにより情報が再生される。
近時、インターネット等のネットワークやハイビジョンＴＶが急速に普及している。また、ＨＤＴＶ（Ｈｉｇｈ Ｄｅｆｉｎｉｔｉｏｎ Ｔｅｌｅｖｉｓｉｏｎ）の放映も間近に控えていることから、画像情報を安価簡便に記録するための大容量の記録媒体の要求が高まっている。前述のＣＤ−Ｒや、可視レーザ光（６３０ｎｍ〜６８０ｎｍ）を記録用レーザとして高密度記録を可能としたＤＶＤ−Ｒは、大容量の記録媒体としての地位がある程度は確立されているものの、将来の要求に対応できる程度に充分大きな記録容量を有しているとは言い難い側面がある。
そこで、ＤＶＤ−Ｒよりもさらに短波長、具体的には、波長５３０ｎｍ以下のレーザ光を用いることによって記録密度を向上させ、より大きな記録容量を備えた光ディスクの開発が試みられている。すなわち、有機色素としてのポルフィリン化合物、アゾ系色素、金属アゾ系色素、キノフタロン系色素、トリメチンシアニン色素、ジシアノビニルフェニル骨格色素、クマリン化合物、フタロシアニン化合物、ナフタロシアニン化合物等を含有する記録層を具備する光ディスクの記録層側から光反射層側に向け、青色（波長４３０ｎｍ、４８８ｎｍ）又は青緑色（波長５１５ｎｍ）のレーザ光を照射することにより情報の記録再生を行う情報記録再生方法が提案されている。またオキソノール色素を有機色素として記録層に含有する光ディスクに、５５０ｎｍ以下のレーザ光を照射することにより情報の記録再生を行う情報記録再生方法も提案されている（例えば、特許文献１〜２２参照）。
ここで、記録層は、一般的に、有機色素を溶媒に溶解して溶液とし、該溶液を基板上に塗布した後に乾燥することで設けられる。
記録再生に短波長を使用するこの種の光ディスクとして、現在、４０５ｎｍの青色レーザを用いるＢｌｕ−ｒａｙ方式と称する光記録ディスクが市販されるに至っている。
上記したようなレーザ光を用いる情報記録方法においては、記録層の照射部分がレーザ光を吸収することで局所的な温度上昇を起こし、これにより、当該部分にピットが形成される。このため、ピットを形成した後に該ピットの近傍に別のピットを形成するべく短波長のレーザ光を照射すると、前回に形成されたピットが変形されてしまうことがある（以下、この現象を「隣接干渉」と表記する）。この不都合は、レーザ光が短波長になるほど、換言すれば、光ディスクの大容量化を試みるほど顕著となる。
そして、本発明者の検討によれば、前記特許文献１〜２２に記載された公知の色素化合物を含有する記録層を具備する光ディスクでは、上記の隣接干渉のため記録特性が満足できるレベルではないことが判明した。
上記した不都合を回避するべく、硬質なアモルファス膜を形成する有機色素を使用することが想起される。しかしながら、この種の有機色素は溶媒に対する溶解性が低く、従って、記録層を設けるための原材料である溶液を調製すること自体が容易ではないという不具合がある。
なお、特許文献２３〜２５には、有機ボロン酸化合物からなるインクジェットプリンタ用の水溶性有機色素が開示されている。これら特許文献２３〜２５によれば、いずれも該水溶性有機色素が紙類と強固に結合することで、優れた汚れ耐性、耐水性が発現するとともに、プリント品質が向上する、とのことである。すなわち、特許文献２３〜２５には、光ディスクにおける有機色素に、硬質なアモルファス膜が形成可能であるという特性と、溶媒に対する溶解性が高いという特性とが同時に必要であるという観点からの検討は何らなされていない。
特開２００１−２８７４６０号公報 特開２００１−２８７４６５号公報 特開２００１−２５３１７１号公報 特開２００１−３９０３４号公報 特開２０００−３１８３１３号公報 特開２０００−３１８３１２号公報 特開２０００−２８０６２１号公報 特開２０００−２８０６２０号公報 特開２０００−２６３９３９号公報 特開２０００−２２２７７２号公報 特開２０００−２２２７７１号公報 特開２０００−２１８９４０号公報 特開２０００−１５８８１８号公報 特開２０００−１４９３２０号公報 特開２０００−１０８５１３号公報 特開２０００−１１３５０４号公報 特開２００２−３０１８７０号公報 特開２００１−２８７４６５号公報 米国特許出願公開第２００２／７６６４８号明細書 特開２００３−９４８２８号公報 特開２００１−７１６３８号公報 特開２００４−１８８９６８号公報 特開平５−１７９１５２号公報 特開平５−２１４２６１号公報 特許第３６２００９７号公報
本発明の主たる目的は、記録品質の向上と溶媒への良好な溶解性とを両立させることが可能な色素化合物を含有する記録層を具備する光情報記録媒体及びその製造方法を提供することにある。
本発明の課題は、以下の構成によって好ましく達成された。
［１］ レーザ光照射による情報の記録が可能な記録層を基板上に有する光情報記録媒体であって、
前記記録層は、ホウ素を構成元素とする色素化合物を含有している光情報記録媒体。
［２］ 前記色素化合物は、色素残基の吸収極大波長が３００ｎｍ〜９００ｎｍであり、且つモル吸光係数ε［Ｌ／（ｍｏｌ・ｃｍ）］が５０００以上である［１］記載の光情報記録媒体。
［３］ 前記色素化合物が、オキソノール色素、シアニン色素、スチリル色素、メロシアニン色素、フタロシアニン色素、トリアジン色素、ベンゾトリアゾール色素、ベンゾオキサゾール色素、アミノブタジエン、アゾ系色素、アゾメチン色素、ピリドポルフィラジン色素、ピラドポルフィラジン色素、ポルフィリン色素、ポルフィラジン色素の群から選択される色素である［１］又は［２］記載の光情報記録媒体。
［４］ 前記色素化合物がボロン酸である［１］〜［３］のいずれかに記載の光情報記録媒体。
［５］ 前記色素化合物が、ボロン酸が互いに結合することで形成されたボロキシン部分を有する［４］記載の光情報記録媒体。
［６］ 前記色素化合物が、下記一般式（Ｉ）、（ＩＩ）、（ＩＩＩ）、（ＩＶ）で表される化合物、又はその１種以上が互いに結合した多量体である［４］又は［５］記載の光情報記録媒体。
Figure 2008018590
ただし、Ｄｙｅは色素残基を表し、Ｌは２価の連結基もしくは単結合を表す。ｍは１〜５の整数を表し、ｎは１〜１０の整数を表す。ｎが２以上の場合、ｍはｎに等しくても等しくなくてもよく、２つ以上の連結基Ｌは互いに同一であってもよいし異なっていてもよい。
Figure 2008018590
ただし、ｌは１〜５の整数を表し、このときｍ＋ｌ＝２〜６である。ｌが２以上の場合、２つ以上の連結基Ｌ及び色素残基Ｄｙｅは互いに同一であってもよいし異なっていてもよい。
Figure 2008018590
ただし、Ｑは荷電を有する置換基を表し、ｙは電荷の中和に必要な数を表す。また、ｘは１以上の整数を表し、このときＤｙｅはイオン性の色素残基を表す。さらに、Ｌが単結合であるときにはｓ＝０、２価の連結基であるときには１〜１０の整数であり且つ２以上の整数であるときにはｓ＝ｘである。
Figure 2008018590
ただし、Ｑは荷電を有する置換基を表し、ｙは電荷の中和に必要な数を表す。また、ｚは１以上の整数を表し、このときＤｙｅはイオン性の色素残基を表す。
［７］ レーザ光照射による情報の記録が可能な記録層を基板上に有する光情報記録媒体の製造方法であって、
ホウ素を構成元素とする色素化合物を溶媒に溶解して塗布液とする工程と、
前記塗布液を基板上に塗布して記録層を形成する記録層形成工程と、
前記記録層をアニールして前記色素化合物を多量化する多量化工程と、
を有する光情報記録媒体の製造方法。
本発明においては、ホウ素を構成元素として含有する色素化合物を記録層に含有させるようにしている。この種の色素化合物は、溶剤に対する溶解性が良好であるので、記録層の原材料である塗布溶液を容易に調製することができる。
しかも、この色素化合物を用いた場合、溶液中、さらには記録層の形成工程（特に、アニール処理）でホウ素原子を介して多量体が形成されることから、硬質なアモルファス膜が得られる。従って、該色素化合物を光情報記録媒体の記録層に含有させた場合、隣接干渉が低減されるので記録性能が向上する。
すなわち、本発明によれば、記録性能に優れる記録層を容易に設けることができる。
この効果は、ホウ素を構成元素として含有する色素化合物としてボロン酸、より好ましくはボロキシン部分を有する化合物を採用した際に一層顕著となる。
以下、本発明に係る光情報記録媒体及びその製造方法につき好適な実施の形態を挙げ、添付の図面を参照して詳細に説明する。
本実施の形態に係る光情報記録媒体においては、レーザ光照射による情報の記録が可能な記録層が基板上に設けられている。そして、この記録層には、ホウ素を構成元素とする色素化合物が含有されている。
はじめに、この色素化合物につき説明する。
ホウ素の形態は特に限定されるものではないが、ボロン酸、ジクロロボロン、ジブロモボロン、置換又は無置換のジアミノボロン酸等が好適な例として挙げられ、中でも、ボロン酸、置換又は無置換のジアミノボロン酸が好ましく、ボロン酸が特に好ましい。
ボロン酸の好適な例としては、炭素原子数１〜２０の鎖状又は環状のアルキルボロン酸（例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル）、炭素原子数６〜１８の置換又は無置換のアリールボロン酸（例えば、フェニル、クロロフェニル、アニシル、トルイル、２，４−ジ−ｔ−アミル、１−ナフチル）、アルケニルボロン酸（例えば、ビニル、２−メチルビニル）、アルキニルボロン酸（例えば、エチニル、２−メチルエチニル、２−フェニルエチニル）、ヘテロ環ボロン酸（例えば、ピリジル、チエニル、フリル、チアゾリル、イミダゾリル、ピラゾリル等の芳香族ヘテロ環、ピロリジン環、ピペリジン環、モルホリン環、ピラン環、チオピラン環、ジオキサン環、ジチオラン環等の脂肪族ヘテロ環）、ヘテロ原子連結ボロン酸（例えば、ケイ素原子、ホウ素原子）等が挙げられ、好ましくはアルキルボロン酸、アリールボロン酸とヘテロ環ボロン酸であり、より好ましくはアリールボロン酸である。
アリールボロン酸の好適な例としては、フェニルボロン酸、クロロフェニルボロン酸、アニシルボロン酸、トルイルボロン酸、２，４−ジ−ｔ−アミルボロン酸、１−ナフチルボロン酸が挙げられ、好ましくはフェニルボロン酸、１−ナフチルボロン酸であり、より好ましくはフェニルボロン酸である。
一方、色素は特に限定されるものではなく、公知の色素であればよい。なお、公知の色素は、その色素残基の吸収極大波長が３００ｎｍ〜９００ｎｍであり、且つモル吸光係数ε［Ｌ／（ｍｏｌ・ｃｍ）］が５０００以上である。
このような色素の好適な例としては、オキソノール色素、シアニン色素、スチリル色素、メロシアニン色素、フタロシアニン色素、トリアジン色素、ベンゾトリアゾール色素、ベンゾオキサゾール色素、アミノブタジエン、アゾ系色素、アゾメチン色素、ピリドポルフィラジン色素、ピラドポルフィラジン色素、ポルフィリン色素、ポルフィラジン色素等が挙げられる。中でも、オキソノール色素、シアニン色素、スチリル色素、メロシアニン色素、フタロシアニン色素、トリアジン色素、ベンゾトリアゾール色素、アゾ系色素が好ましく、オキソノール色素、シアニン色素、スチリル色素、メロシアニン色素が特に好ましい。
このようなホウ素色素化合物の好適な例としては、下記一般式（Ｉ）、（ＩＩ）、（ＩＩＩ）、（ＩＶ）で表される色素化合物が挙げられる。
Figure 2008018590
ここで、Ｄｙｅは色素残基を表し、Ｌは２価の連結基もしくは単結合を表す。ｍは１〜５の整数を表し、ｎは１〜１０の整数を表す。ただし、ｎが２以上の場合、ｍはｎに等しくても等しくなくてもよく、２つ以上の連結基Ｌは互いに同一であってもよいし異なっていてもよい。
Figure 2008018590
ｌは１〜５の整数を表し、このときｍ＋ｌ＝２〜６である。ただし、ｌが２以上の場合、２つ以上の連結基Ｌ及び色素残基Ｄｙｅは互いに同一であってもよいし異なっていてもよい。
Figure 2008018590
ここで、Ｑは荷電を有する置換基を表し、ｙは電荷の中和に必要な数を表す。また、ｘは１以上の整数を表し、このときＤｙｅはイオン性の色素残基を表す。さらに、Ｌが単結合であるときにはｓ＝０、２価の連結基であるときには１〜１０の整数であり且つ２以上の整数であるときにはｓ＝ｘである。すなわち、Ｌが２価の連結基であって且つ２個以上存在する場合、Ｌも繰り返し単位に含まれる。
Figure 2008018590
ここで、Ｑは荷電を有する置換基を表し、ｙは電荷の中和に必要な数を表す。また、ｚは１以上の整数を表し、このときＤｙｅはイオン性の色素残基を表す。
一般式（Ｉ）〜（ＩＶ）において、Ｄｙｅとはオキソノール色素、シアニン色素、メロシアニン色素、フタロシアニン色素、トリアジン色素、ベンゾトリアゾール色素、ベンゾオキサゾール色素、アミノブタジエン、アゾ系色素、アゾメチン色素、ピリドポルフィラジン色素、ピラドポルフィラジン色素、白金ポルフィリン色素、ポルフィラジン色素から表され、好ましくはオキソノール色素、シアニン色素、メロシアニン色素、フタロシアニン色素、トリアジン色素、ベンゾトリアゾール色素等の各色素残基であり、より好ましくはオキソノール色素、シアニン色素の各色素残基である。Ｄｙｅで表される色素残基は、ｎが２つ以上の場合は互いに異なっていても同一であってもよいが、同一であることが好ましい。
一般式（Ｉ）〜（ＩＶ）において、Ｌは、単結合又は２価の連結基であればよい。２価の連結基である場合、その好適な例としては、置換又は無置換のアルキル連結（好ましくは炭素数１〜２０、例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、ｎ−ペンチル、ベンジル、３−スルホプロピル、４−スルホブチル、３−メチル−３−スルホプロピル、２’−スルホベンジル、カルボキシメチル、５−カルボキシペンチル）、置換又は無置換のアルケニル連結（好ましくは炭素数２〜２０、例えば、ビニル、アリル）、置換又は無置換のアリール連結（好ましくは炭素数６〜２０、例えば、フェニル、２−クロロフェニル、４−メトキシフェニル、３−メチルフェニル、１−ナフチル）、置換又は無置換のヘテロ環連結（好ましくは炭素数１〜２０、例えば、ピリジル、チエニル、フリル、チアゾリル、イミダゾリル、ピラゾリル、ピロリジノ、ピペリジノ、モルホリノ）、ヘテロ原子連結（好ましくは酸素原子、窒素原子、ホウ素原子、珪素原子、スズ原子、硫黄原子もしくは硫黄酸化物（スルフリル、スルホ連結））等が挙げられる。置換又は無置換のアルキル連結、置換又は無置換のフェニル連結、置換又は無置換のヘテロ環連結、ヘテロ原子連結であることが好ましく、置換又は無置換のフェニル連結又はヘテロ原子連結であることがより好ましい。
一般式（Ｉ）〜（ＩＶ）において、ｍは１〜５の整数であり、好ましくは１又は２であり、より好ましくは１である。
一般式（Ｉ）において、ｎは１以上の整数であればよく、好ましくは１〜１０であり、より好ましくは１〜４である。
一般式（ＩＩ）において、ｌは１〜５の整数であり、好ましくは１〜４であり、より好ましくは１〜２である。
一般式（ＩＩＩ）、（ＩＶ）において、Ｑは荷電を有する置換基を表し、ｙは電荷の中和に必要な数を表す。ここで、ある化合物が陽イオンもしくは陰イオンであるか、又は正味のイオン電荷を有するか否かは、その化合物の置換基に依存する。一般式（ＩＩＩ）、（ＩＶ）においてＱで表されるイオンは、対する色素分子の電荷に応じて、陽イオンを表す場合と、陰イオンを表す場合とがある。
Ｑとして表されるイオンは特に限定されるものではなく、無機化合物よりなるイオンであっても、有機化合物よりなるイオンであってもよい。また、Ｑとして表されるイオンの電荷は、１価であっても多価であってもよい。
Ｑとして表される陽イオンとしては、例えば、４級アンモニウムイオン、オキソニウムイオン、スルホニウムイオン、ホスホニウムイオン、セレノニウムイオン、ヨードニウムイオン等のオニウムイオンが挙げられる。
Ｑで表される陽イオンとして特に好ましいイオンはオニウムイオンであり、さらに好ましくは４級アンモニウムイオンである。４級アンモニウムイオンの中でも特に好ましくは、特開２０００−５２６５８号公報の一般式（Ｉ−４）で表される４，４’−ビピリジニウム陽イオン、及び特開２００２−５９６５２号公報に開示されている４，４’−ビピリジニウム陽イオンである。
一方、Ｑとして表される陰イオンとしては、例えば、硫酸イオン、リン酸イオン、リン酸水素イオン等のヘテロポリ酸イオン、カルボン酸イオン、琥珀酸イオン、マレイン酸イオン、フマル酸イオン、芳香族ジスルホン酸イオンのような有機多価陰イオン、四フッ化ホウ酸イオン、六フッ化リン酸イオンが挙げられる。
Ｑで表される陰イオンとして特に好ましい陰イオンは、ヘテロポリ酸イオン及び有機多価陰イオンであり、さらに好ましくは、ナフタレンジスルホン酸誘導体のような２又は３価の有機陰イオンである。２又は３価有機陰イオンの中でも特に好ましくは、特開平１０−２２６１７０号公報に開示されたナフタレンジスルホン酸陰イオンである。
一般式（ＩＩＩ）において、ｘは１以上の整数であればよく、好ましくは１〜１０であり、より好ましくは１〜４である。
一般式（ＩＶ）において、ｚは１以上の整数であればよく、好ましくは１〜１０であり、より好ましくは１〜４である。
この種の化合物の具体例を以下に示すが、本発明において、色素化合物がこれらに限定されるものではないことはいうまでもない。
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以上の色素化合物は、各々を単独で用いてもよく、あるいは２種以上を併用してもよい。また、記録層には、ホウ素を含有する色素化合物と、それ以外の色素化合物とを併用してもよい。
そして、色素化合物が上記一般式（Ｉ）〜（ＩＶ）に示されるようなボロン酸化合物である場合、光情報記録媒体の記録層を形成した後には、該記録層中にボロン酸同士が縮合したホウ素―酸素結合、すなわち、ボロキシン部分を有する色素化合物が存在すると推定される。
なお、ボロン酸が縮合した場合、下記の反応式に従ってボロキシン部分が形成されることが知られている（例えば、Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｏｌｅｓ、２００２年第５７巻第７８７頁参照）。すなわち、本実施の形態に係る色素化合物を使用して光情報記録媒体の記録層を形成する際には、記録層形成用塗布液中、又は該塗布液を用いて形成された塗膜（記録層）において、ボロン酸同士が縮合してボロキシン部分が形成すると考えられる。加えて、塗膜を加熱乾燥（アニール処理）する際に、ホウ素―酸素結合（ボロキシン部分）がさらに形成されることに伴って、塗膜を構成するアモルファス膜が硬化する。本発明者らは、光情報記録媒体の記録層の形成に際しては、塗布液中で徐々に多量体が形成し、アニール処理によりボロン酸の大部分が多量体を形成すると推定する。このように、本実施の形態に係る色素化合物を使用した場合、記録層でホウ素―酸素結合が形成され、アモルファス膜の硬化具合がホウ素原子を含有しない場合に比べて高まり、その結果、隣接干渉が低減される。
Figure 2008018590
また、このような色素化合物は、各種溶剤への溶解性に優れる。このため、記録層の原材料である塗布溶液を容易に調製することができる。
しかも、上記したように、この種の色素化合物は硬質なアモルファス膜を形成するので、隣接干渉が著しく低減する。従って、記録性能が向上する。
すなわち、ホウ素、好ましくはボロン酸基、さらに好ましくはボロキシン部分を導入した色素化合物を用いることにより、記録性能と溶解性の両立を達成することができる。
本実施の形態に係る光情報記録媒体の記録層は、上記した色素化合物のみで形成するようにしてもよいが、記録層の耐光性を向上させるべく、種々の褪色防止剤を含有させるようにしてもよい。
褪色防止剤としては、有機酸化剤や一重項酸素クエンチャーを挙げることができる。褪色防止剤として用いられる有機酸化剤としては、特開平１０−１５１８６１号公報に記載されている化合物が好ましい。一重項酸素クエンチャーとしては、既に公知の特許明細書等の刊行物に記載のものを利用することができる。その具体例としては、特開昭５８−１７５６９３号公報、特開昭５９−８１１９４号公報、特開昭６０−１８３８７号公報、特開昭６０−１９５８６号公報、特開昭６０−１９５８７号公報、特開昭６０−３５０５４号公報、特開昭６０−３６１９０号公報、特開昭６０−３６１９１号公報、特開昭６０−４４５５４号公報、特開昭６０−４４５５５号公報、特開昭６０−４４３８９号公報、特開昭６０−４４３９０号公報、特開昭６０−５４８９２号公報、特開昭６０−４７０６９号公報、特開昭６３−２０９９９５号公報、特開平４−２５４９２号公報、特公平１−３８６８０号公報、及び特公平６−２６０２８号公報等の各公報、独国特許第３５０３９９号明細書、そして日本化学会誌１９９２年１０月号第１１４１頁等に記載のものを挙げることができる。好ましい一重項酸素クエンチャーの例としては、下記の一般式（Ｖ）で表される化合物を挙げることができる。
Figure 2008018590
一般式（Ｖ）中、Ｒ21は置換基を有していてもよいアルキル基を表し、Ｑ-はアニオンを表す。
一般式（Ｖ）において、Ｒ21は置換されていてもよい炭素数１〜８のアルキル基が一般的であり、無置換の炭素数１〜６のアルキル基が好ましい。アルキル基の置換基としては、ハロゲン原子（Ｆ、Ｃｌ等）、アルコキシ基（メトキシ基、エトキシ基等）、アルキルチオ基（メチルチオ基、エチルチオ基等）、アシル基（アセチル基、プロピオニル基等）、アシルオキシ基（アセトキシ基、プロピオニルオキシ基等）、ヒドロキシ基、アルコキシカルボニル基（メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基等）、アルケニル基（ビニル基等）、アリール基（フェニル基、ナフチル基等）を挙げることができる。これらの中で、ハロゲン原子、アルコキシ基、アルキルチオ基、アルコキシカルボニル基が好ましい。アニオンＱ-の好適な例としては、ＣｌＯ4 -、ＡｓＦ6 -、ＢＦ4 -、及びＳｂＦ6 -を挙げることができる。
一般式（Ｖ）で表される化合物の具体例は、下記の化合物番号Ｖ−１〜Ｖ−８で表される物質である。
Figure 2008018590
前記一重項酸素クエンチャー等の褪色防止剤の使用量は、色素化合物の量に対して、通常０．１〜５０重量％の範囲であり、好ましくは０．５〜４５重量％の範囲、さらに好ましくは３〜４０重量％の範囲、特に好ましくは５〜２５重量％の範囲である。
＜光情報記録媒体の様態＞
本発明に係る光情報記録媒体は、図１に示す第１の様態に係る光情報記録媒体（以下、単に第１光情報記録媒体１０Ａと記す）と、図２に示す第２の様態に係る光情報記録媒体（以下、単に第２光情報記録媒体１０Ｂと記す）であることが好ましい。
第１光情報記録媒体１０Ａは、図１に示すように、厚さ０．７〜２ｍｍの第１基板１２上に、色素を含有する第１追記型記録層１４と、厚さ０．０１〜０．５ｍｍのカバー層１６とをこの順に有する。具体的には、例えば第１基板１２上に、第１光反射層１８と、第１追記型記録層１４と、バリア層２０と、第１接着層２２と、カバー層１６とをこの順に有する。
第２光情報記録媒体１０Ｂは、図２に示すように、厚さ０．１〜１．０ｍｍの第２基板２４上に、色素を含有する第２追記型記録層２６と、厚さ０．１〜１．０ｍｍの保護基板２８とをこの順に有する。具体的には、例えば第２基板２４上に、第２追記型記録層２６と、第２光反射層３０と、第２接着層３２と、保護基板２８とをこの順に有する。
第１光情報記録媒体１０Ａにおいては、図１に示すように、第１基板１２に形成される第１プリグルーブ３４のトラックピッチが５０〜５００ｎｍ、溝幅が２５〜２５０ｎｍ、溝深さが５〜１５０ｎｍであることが好ましい。
第２光情報記録媒体１０Ｂにおいては、図２に示すように、第２基板２４に形成される第２プリグルーブ３６のトラックピッチが２００〜６００ｎｍ、溝幅が５０〜３００ｎｍ、溝深さが３０〜２００ｎｍであり、ウォブル振幅が１０〜５０ｎｍであることが好ましい。
第１光情報記録媒体１０Ａは、図１に示すように、少なくとも第１基板１２と、第１追記型記録層１４と、カバー層１６とを有する様態であり、先ず、これらに必須の部材について順に説明する。
〔第１光情報記録媒体１０Ａの第１基板１２〕
図１に示すように、好ましい第１光情報記録媒体１０Ａの第１基板１２には、トラックピッチ、溝幅（半値幅）、溝深さ、及びウォブル振幅のいずれもが下記の範囲である形状を有する第１プリグルーブ３４（案内溝）が形成されていることが必須である。この第１プリグルーブ３４は、ＣＤ−ＲやＤＶＤ−Ｒに比べてより高い記録密度を達成するために設けられたものであり、例えば、第１光情報記録媒体１０Ａを、青紫色レーザに対応する媒体として使用する場合に好適である。
第１プリグルーブ３４のトラックピッチは、５０〜５００ｎｍの範囲であることが必須であり、上限値が４２０ｎｍ以下であることが好ましく、３７０ｎｍ以下であることがより好ましく、３３０ｎｍ以下であることがさらに好ましい。また、下限値は、１００ｎｍ以上であることが好ましく、２００ｎｍ以上であることがより好ましく、２６０ｎｍ以上であることがさらに好ましい。
トラックピッチが５０ｎｍ未満では、第１プリグルーブ３４を正確に形成することが困難になる上、クロストークの問題が発生することがあり、５００ｎｍを超えると、記録密度が低下する問題が生ずることがある。
第１プリグルーブ３４の溝幅（半値幅）は、２５〜２５０ｎｍの範囲であることが必須であり、上限値が２００ｎｍ以下であることが好ましく、１７０ｎｍ以下であることがより好ましく、１５０ｎｍ以下であることがさらに好ましい。また、下限値は、５０ｎｍ以上であることが好ましく、８０ｎｍ以上であることがより好ましく、１００ｎｍ以上であることがさらに好ましい。
第１プリグルーブ３４の溝幅が２５ｎｍ未満では、成形時に溝が十分に転写されなかったり、記録のエラーレートが高くなったりすることがあり、２５０ｎｍを超えると、記録時に形成されるピットが広がってしまい、クロストークの原因となったり、十分な変調度が得られないことがある。
第１プリグルーブ３４の溝深さは、５〜１５０ｎｍの範囲であることが必須であり、上限値が１００ｎｍ以下であることが好ましく、７０ｎｍ以下であることがより好ましく、５０ｎｍ以下であることがさらに好ましい。また、下限値は、１０ｎｍ以上であることが好ましく、２０ｎｍ以上であることがより好ましく、２８ｎｍ以上であることがさらに好ましい。
第１プリグルーブ３４の溝深さが５ｎｍ未満では、十分な記録変調度が得られないことがあり、１５０ｎｍを超えると、反射率が大幅に低下することがある。
また、第１プリグルーブ３４の溝傾斜角度は、上限値が８０°以下であることが好ましく、７０°以下であることがより好ましく、６０°以下であることがさらに好ましく、５０°以下であることが特に好ましい。また、下限値は、２０°以上であることが好ましく、３０°以上であることがより好ましく、４０°以上であることがさらに好ましい。
第１プリグルーブ３４の溝傾斜角度が２０°未満では、十分なトラッキングエラー信号振幅が得られないことがあり、８０°を超えると、第１基板１２の成形（射出成形等）が困難となる。
第１光情報記録媒体１０Ａにおいて用いられる第１基板１２としては、従来の光情報記録媒体の基板材料として用いられている各種の材料を任意に選択して使用することができる。
具体的には、ガラス；ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート等のアクリル樹脂；ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等の塩化ビニル系樹脂；エポキシ樹脂；アモルファスポリオレフィン；ポリエステル；アルミニウム等の金属；等を挙げることができ、所望によりこれらを併用してもよい。
上記材料の中では、耐湿性、寸法安定性及び低価格等の点から、アモルファスポリオレフィン、ポリカーボネート等の熱可塑性樹脂が好ましく、ポリカーボネートが特に好ましい。
これらの樹脂を用いた場合、射出成形を用いて第１基板１２を作製することができる。
また、第１基板１２の厚さは、０．７〜２ｍｍの範囲であることを要し、０．９〜１．６ｍｍの範囲であることが好ましく、１．０〜１．３ｍｍとすることがより好ましい。
なお、後述する第１光反射層１８が設けられる側の第１基板１２の表面には、平面性の改善、接着力の向上の目的で、下塗層を形成することが好ましい。
下塗層の材料としては、例えば、ポリメチルメタクリレート、アクリル酸・メタクリル酸共重合体、スチレン・無水マレイン酸共重合体、ポリビニルアルコール、Ｎ−メチロールアクリルアミド、スチレン・ビニルトルエン共重合体、クロルスルホン化ポリエチレン、ニトロセルロース、ポリ塩化ビニル、塩素化ポリオレフィン、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル・塩化ビニル共重合体、エチレン・酢酸ビニル共重合体、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート等の高分子物質；シランカップリング剤等の表面改質剤；を挙げることができる。
下塗層は、上記材料を適当な溶剤に溶解又は分散して塗布液を調製した後、この塗布液をスピンコート、ディップコート、エクストルージョンコート等の塗布法によって、第１基板１２の表面に塗布することにより形成することができる。下塗層の層厚は、一般に０．００５〜２０μｍの範囲にあり、好ましくは０．０１〜１０μｍの範囲である。
〔第１光情報記録媒体１０Ａの第１追記型記録層１４〕
好ましい第１光情報記録媒体１０Ａの第１追記型記録層１４は、色素を、結合剤等と共に適当な溶剤に溶解して塗布液を調製し、次いで、この塗布液を、基板上又は後述する第１光反射層１８上に塗布して塗膜を形成した後、乾燥することにより形成される。ここで、第１追記型記録層１４は、単層でも重層でもよく、重層構造の場合、塗布液を塗布する工程が複数回行われることになる。
塗布液中の色素の濃度は、一般に０．０１〜１５質量％の範囲であり、好ましくは０．１〜１０質量％の範囲、より好ましくは０．５〜５質量％の範囲、最も好ましくは０．５〜３質量％の範囲である。
塗布液の溶剤としては、酢酸ブチル、乳酸エチル、セロソルブアセテート等のエステル；メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン等のケトン；ジクロルメタン、１，２−ジクロルエタン、クロロホルム等の塩素化炭化水素；ジメチルホルムアミド等のアミド；メチルシクロヘキサン等の炭化水素；テトラヒドロフラン、エチルエーテル、ジオキサン等のエーテル；エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノールジアセトンアルコール等のアルコール；２，２，３，３−テトラフルオロプロパノール等のフッ素系溶剤；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のグリコールエーテル類；等を挙げることができる。
上記溶剤は使用する色素の溶解性を考慮して単独で、あるいは２種以上を組み合わせて使用することができる。塗布液中には、さらに、酸化防止剤、ＵＶ吸収剤、可塑剤、潤滑剤等各種の添加剤を目的に応じて添加してもよい。
塗布方法としては、スプレー法、スピンコート法、ディップ法、ロールコート法、ブレードコート法、ドクターロール法、スクリーン印刷法等を挙げることができる。
塗布の際、塗布液の温度は２３〜５０℃の範囲であることが好ましく、２４〜４０℃の範囲であることがより好ましく、中でも、２３〜５０℃の範囲であることが特に好ましい。
このようにして形成された第１追記型記録層１４の厚さは、グルーブ３８（第１基板１２において凸部）上で、３００ｎｍ以下であることが好ましく、２５０ｎｍ以下であることがより好ましく、２００ｎｍ以下であることがさらに好ましく、１８０ｎｍ以下であることが特に好ましい。下限値としては３０ｎｍ以上であることが好ましく、５０ｎｍ以上であることがより好ましく、７０ｎｍ以上であることがさらに好ましく、９０ｎｍ以上であることが特に好ましい。
また、第１追記型記録層１４の厚さは、ランド４０（第１基板１２において凹部）上で、４００ｎｍ以下であることが好ましく、３００ｎｍ以下であることがより好ましく、２５０ｎｍ以下であることがさらに好ましい。下限値としては、７０ｎｍ以上であることが好ましく、９０ｎｍ以上であることがより好ましく、１１０ｎｍ以上であることがさらに好ましい。
さらに、グルーブ３８上の第１追記型記録層１４の厚さｔ１と、ランド４０上の第１追記型記録層１４の厚さｔ２との比（ｔ１／ｔ２）は、０．４以上であることが好ましく、０．５以上であることがより好ましく、０．６以上であることがさらに好ましく、０．７以上であることが特に好ましい。上限値としては、１未満であることが好ましく、０．９以下であることがより好ましく、０．８５以下であることがさらに好ましく、０．８以下であることが特に好ましい。
塗布液が結合剤を含有する場合、該結合剤の例としては、ゼラチン、セルロース誘導体、デキストラン、ロジン、ゴム等の天然有機高分子物質；ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリイソブチレン等の炭化水素系樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビニル・ポリ酢酸ビニル共重合体等のビニル系樹脂、ポリアクリル酸メチル、ポリメタクリル酸メチル等のアクリル樹脂、ポリビニルアルコール、塩素化ポリエチレン、エポキシ樹脂、ブチラール樹脂、ゴム誘導体、フェノール・ホルムアルデヒド樹脂等の熱硬化性樹脂の初期縮合物等の合成有機高分子；を挙げることができる。第１追記型記録層１４の材料として結合剤を併用する場合に、結合剤の使用量は、一般に色素に対して０．０１倍量〜５０倍量（質量比）の範囲にあり、好ましくは０．１倍量〜５倍量（質量比）の範囲にある。
また、第１追記型記録層１４には、該第１追記型記録層１４の耐光性を向上させるために、種々の褪色防止剤を含有させることができる。褪色防止剤としては一般的に一重項酸素クエンチャーが用いられる。一重項酸素クエンチャーとしては、既に公知の特許明細書等の刊行物に記載のものを利用することができる。
その具体例としては、特開昭５８−１７５６９３号公報、特開昭５９−８１１９４号公報、特開昭６０−１８３８７号公報、特開昭６０−１９５８６号公報、特開昭６０−１９５８７号公報、特開昭６０−３５０５４号公報、特開昭６０−３６１９０号公報、特開昭６０−３６１９１号公報、特開昭６０−４４５５４号公報、特開昭６０−４４５５５号公報、特開昭６０−４４３８９号公報、特開昭６０−４４３９０号公報、特開昭６０−５４８９２号公報、特開昭６０−４７０６９号公報、特開昭６３−２０９９９５号公報、特開平４−２５４９２号公報、特公平１−３８６８０号公報及び特公平６−２６０２８号公報等の各公報、独国特許第３５０３９９号明細書、そして日本化学会誌１９９２年１０月号第１１４１頁等に記載のものを挙げることができる。
前記一重項酸素クエンチャー等の褪色防止剤の使用量は、色素の量に対して、通常０．１〜５０質量％の範囲であり、好ましくは、０．５〜４５質量％の範囲、さらに好ましくは、３〜４０質量％の範囲、特に好ましくは５〜２５質量％の範囲である。
〔第１光情報記録媒体１０Ａのカバー層１６〕
好ましい第１光情報記録媒体１０Ａのカバー層１６は、上述した第１追記型記録層１４又は後述するバリア層２０上に、接着剤や粘着剤等からなる第１接着層２２を介して貼り合わされる。
第１光情報記録媒体１０Ａにおいて用いられるカバー層１６としては、透明な材質のフィルムであれば、特に限定されないが、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート等のアクリル樹脂；ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等の塩化ビニル系樹脂；エポキシ樹脂；アモルファスポリオレフィン；ポリエステル；三酢酸セルロース等を使用することが好ましく、中でも、ポリカーボネート又は三酢酸セルロースを使用することがより好ましい。
なお、「透明」とは、記録及び再生に用いられる光に対して、透過率８０％以上であることを意味する。
また、カバー層１６は、本発明の効果を妨げない範囲において、種々の添加剤が含有されていてもよい。例えば、波長４００ｎｍ以下の光をカットするためのＵＶ吸収剤及び／又は５００ｎｍ以上の光をカットするための色素が含有されていてもよい。
さらに、カバー層１６の表面物性としては、表面粗さが２次元粗さパラメータ及び３次元粗さパラメータのいずれも５ｎｍ以下であることが好ましい。
また、記録及び再生に用いられる光の集光度の観点から、カバー層１６の複屈折は１０ｎｍ以下であることが好ましい。
カバー層１６の厚さは、記録及び再生のために照射されるレーザ光の波長や第１対物レンズ４２のＮＡにより、適宜、規定されるが、第１光情報記録媒体１０Ａにおいては、０．０１〜０．５ｍｍの範囲内であり、０．０５〜０．１２ｍｍの範囲であることがより好ましい。
また、カバー層１６と第１接着層２２とを合わせた総厚は、０．０９〜０．１１ｍｍであることが好ましく、０．０９５〜０．１０５ｍｍであることがより好ましい。
なお、カバー層１６の光入射面には、第１光情報記録媒体１０Ａの製造時に、光入射面が傷つくことを防止するためのハードコート層４４（保護層）が設けられていてもよい。
第１接着層２２に用いられる接着剤としては、例えばＵＶ硬化樹脂、ＥＢ硬化樹脂、熱硬化樹脂等を使用することが好ましく、特にＵＶ硬化樹脂を使用することが好ましい。
接着剤としてＵＶ硬化樹脂を使用する場合は、該ＵＶ硬化樹脂をそのまま、若しくはメチルエチルケトン、酢酸エチル等の適当な溶剤に溶解して塗布液を調製し、ディスペンサからバリア層２０の表面に供給してもよい。また、作製される第１光情報記録媒体１０Ａの反りを防止するため、第１接着層２２を構成するＵＶ硬化樹脂は硬化収縮率の小さいものが好ましい。このようなＵＶ硬化樹脂としては、例えば、大日本インキ化学工業（株）社製の「ＳＤ−６４０」等のＵＶ硬化樹脂を挙げることができる。
接着剤は、例えば、バリア層２０からなる被貼り合わせ面上に、所定量塗布し、その上に、カバー層１６を載置した後、スピンコートにより接着剤を、被貼り合わせ面とカバー層１６との間に均一になるように広げた後、硬化させることが好ましい。
このような接着剤からなる第１接着層２２の厚さは、０．１〜１００μｍの範囲が好ましく、より好ましくは０．５〜５０μｍの範囲、さらに好ましくは１０〜３０μｍの範囲である。
また、第１接着層２２に用いられる粘着剤としては、アクリル系、ゴム系、シリコン系の粘着剤を使用することができるが、透明性、耐久性の観点から、アクリル系の粘着剤が好ましい。かかるアクリル系の粘着剤としては、２−エチルヘキシルアクリレート、ｎ−ブチルアクリレート等を主成分とし、凝集力を向上させるために、短鎖のアルキルアクリレートやメタクリレート、例えば、メチルアクリレート、エチルアクリレート、メチルメタクリレートと、架橋剤との架橋点となりうるアクリル酸、メタクリル酸、アクリルアミド誘導体、マレイン酸、ヒドロキシルエチルアクリレート、グリシジルアクリレート等と、を共重合したものを用いることが好ましい。主成分と、短鎖成分と、架橋点を付加するための成分と、の混合比率、種類を、適宜、調節することにより、ガラス転移温度（Ｔｇ）や架橋密度を変えることができる。
上記粘着剤と併用される架橋剤としては、例えば、イソシアネート系架橋剤が挙げられる。かかるイソシアネート系架橋剤としては、トリレンジイソシアネート、４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ナフチレン−１，５−ジイソシアネート、ｏ−トルイジンイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、トリフェニルメタントリイソシアネート等のイソシアネート類、また、これらのイソシアネート類とポリアルコールとの生成物、また、イソシアネート類の縮合によって生成したポリイソシアネート類を使用することができる。これらのイソシアネート類の市販されている商品としては、日本ポリウレタン社製のコロネートＬ、コロネートＨＬ、コロネート２０３０、コロネート２０３１、ミリオネートＭＲ、ミリオネートＨＴＬ；武田薬品社製のタケネートＤ−１０２、タケネートＤ−１１０Ｎ、タケネートＤ−２００、タケネートＤ−２０２；住友バイエル社製のデスモジュールＬ、デスモジュールＩＬ、デスモジュールＮ、デスモジュールＨＬ；等を挙げることができる。
粘着剤は、バリア層２０からなる被貼り合わせ面上に、所定量、均一に塗布し、その上に、カバー層１６を載置した後、硬化させてもよいし、予め、カバー層１６の片面に、所定量を均一に塗布して粘着剤の塗膜を形成しておき、該塗膜を被貼り合わせ面に貼り合わせ、その後、硬化させてもよい。
また、カバー層１６に、予め、粘着剤層が設けられた市販の粘着フィルムを用いてもよい。
このような粘着剤からなる第１接着層２２の厚さは、０．１〜１００μｍの範囲が好ましく、より好ましくは０．５〜５０μｍの範囲、さらに好ましくは１０〜３０μｍの範囲である。
〔第１光情報記録媒体１０Ａにおけるその他の層〕
好ましい第１光情報記録媒体１０Ａは、本発明の効果を損なわない範囲においては、上述の必須の層に加え、他の任意の層を有していてもよい。かかる他の任意の層としては、例えば、第１基板１２の裏面（第１追記型記録層１４の形成面に対する裏面）に形成される、所望の画像を有するレーベル層や、第１基板１２と第１追記型記録層１４との間に設けられる第１光反射層１８（後述）、第１追記型記録層１４とカバー層１６との間に設けられるバリア層２０（後述）、第１光反射層１８と第１追記型記録層１４との間に設けられる界面層等が挙げられる。ここで、レーベル層は、紫外線硬化樹脂、熱硬化性樹脂、及び熱乾燥樹脂等を用いて形成される。
なお、これら必須及び任意の層は、いずれも単層でもよいし、多層構造を有してもよい。
〔第１光情報記録媒体１０Ａにおける第１光反射層１８〕
第１光情報記録媒体１０Ａにおいて、レーザ光に対する反射率を高めたり、記録再生特性を改良する機能を付与するために、第１基板１２と第１追記型記録層１４との間に、第１光反射層１８を形成することが好ましい。
第１光反射層１８は、レーザ光に対する反射率が高い光反射性物質を、真空蒸着、スパッタリング又はイオンプレーティングすることにより基板上に形成することができる。
第１光反射層１８の層厚は、一般的には１０〜３００ｎｍの範囲とし、５０〜２００ｎｍの範囲とすることが好ましい。
なお、前記反射率は、７０％以上であることが好ましい。
反射率が高い光反射性物質としては、Ｍｇ、Ｓｅ、Ｙ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｔｅ、Ｐｂ、Ｐｏ、Ｓｎ、Ｂｉ等の金属及び半金属あるいはステンレス鋼を挙げることができる。これらの光反射性物質は単独で用いてもよいし、あるいは２種以上の組合せで、又は合金として用いてもよい。これらのうちで好ましいものは、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ａｌ及びステンレス鋼である。特に好ましくは、Ａｕ、Ａｇ、Ａｌあるいはこれらの合金であり、最も好ましくは、Ａｕ、Ａｇあるいはこれらの合金である。
〔第１光情報記録媒体１０Ａにおけるバリア層２０（中間層）〕
第１光情報記録媒体１０Ａにおいては、第１追記型記録層１４とカバー層１６との間にバリア層２０を形成することが好ましい。
バリア層２０は、第１追記型記録層１４の保存性を高める、第１追記型記録層１４とカバー層１６との接着性を向上させる、反射率を調整する、熱伝導率を調整する、等のために設けられる。
バリア層２０に用いられる材料としては、記録及び再生に用いられる光を透過する材料であり、上記の機能を発現し得るものであれば、特に、制限されるものではないが、例えば、一般的には、ガスや水分の透過性の低い材料であり、誘電体であることが好ましい。
具体的には、Ｚｎ、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｔｅ、Ｓｎ、Ｍｏ、Ｇｅ等の窒化物、酸化物、炭化物、硫化物からなる材料が好ましく、ＺｎＳ、ＭｏＯ2、ＧｅＯ2、ＴｅＯ、ＳｉＯ2、ＴｉＯ2、ＺｕＯ、ＺｎＳ−ＳｉＯ2、ＳｎＯ2、ＺｎＯ−Ｇａ2Ｏ3が好ましく、ＺｎＳ−ＳｉＯ2、ＳｎＯ2、ＺｎＯ−Ｇａ2Ｏ3がより好ましい。
また、バリア層２０は、真空蒸着、ＤＣスパッタリング、ＲＦスパッタリング、イオンプレーティング等の真空成膜法により形成することができる。中でも、スパッタリングを用いることがより好ましく、ＲＦスパッタリングを用いることがさらに好ましい。
バリア層２０の厚さは、１〜２００ｎｍの範囲であることが好ましく、２〜１００ｎｍの範囲であることがより好ましく、３〜５０ｎｍの範囲であることがさらに好ましい。
次に、第２光情報記録媒体１０Ｂについて説明する。
ここで、第２光情報記録媒体１０Ｂは、貼り合わせ型の層構成を有する光情報記録媒体であり、その代表的な層構成としては、下記の通りである。
（１） 第１の層構成は、図２に示すように、第２基板２４上に、第２追記型記録層２６、第２光反射層３０、第２接着層３２を順次形成し、第２接着層３２上に保護基板２８を設ける構成である。
（２） 第２の層構成は、図示しないが、第２基板２４上に、第２追記型記録層２６、第２光反射層３０、保護層、第２接着層３２を順次形成し、第２接着層３２上に保護基板２８を設ける構成である。
（３） 第３の層構成は、図示しないが、第２基板２４上に、第２追記型記録層２６、第２光反射層３０、保護層、第２接着層３２、保護層を順次形成し、該保護層上に保護基板２８を設ける構成である。
（４） 第４の層構成は、図示しないが、第２基板２４上に、第２追記型記録層２６、第２光反射層３０、保護層、第２接着層３２、保護層、光反射層を順次形成し、該光反射層上に保護基板２８を設ける構成である。
（５） 第５の層構成は、図示しないが、第２基板２４上に、第２追記型記録層２６、第２光反射層３０、第２接着層３２、光反射層を順次形成し、該光反射層上に保護基板２８を設ける構成である。
なお、上記（１）〜（５）の層構成は単なる例示であり、当該層構成は上述の順番のみでなく、一部を入れ替えてもよいし、一部を省略してもかまわない。また、第２追記型記録層２６は、保護基板２８側にも形成されていてもよく、その場合、両面からの記録、再生が可能な光情報記録媒体となる。さらに、各層は１層で構成されても複数層で構成されてもよい。
ここでは、第２光情報記録媒体１０Ｂとして、図２に示すように、第２基板２４上に、第２追記型記録層２６、第２光反射層３０、第２接着層３２、保護基板２８をこの順に有する構成のものを例にとって、以下にその説明をする。
〔第２光情報記録媒体１０Ｂの第２基板２４〕
第２光情報記録媒体１０Ｂにおける第２基板２４には、トラックピッチ、溝幅（半値幅）、溝深さ、及びウォブル振幅のいずれもが下記の範囲である形状を有する第２プリグルーブ３６（案内溝）が形成されていることが必須である。この第２プリグルーブ３６は、ＣＤ−ＲやＤＶＤ−Ｒに比べてより高い記録密度を達成するために設けられたものであり、例えば、第２光情報記録媒体１０Ｂを、青紫色レーザに対応する媒体として使用する場合に好適である。
第２プリグルーブ３６のトラックピッチは、２００〜６００ｎｍの範囲であることが必須であり、上限値が５００ｎｍ以下であることが好ましく、４５０ｎｍ以下であることがより好ましく、４３０ｎｍ以下であることがさらに好ましい。また、下限値は、３００ｎｍ以上であることが好ましく、３３０ｎｍ以上であることがより好ましく、３７０ｎｍ以上であることがさらに好ましい。
トラックピッチが２００ｎｍ未満では、第２プリグルーブ３６を正確に形成することが困難になる上、クロストークの問題が発生することがあり、６００ｎｍを超えると、記録密度が低下する問題が生ずることがある。
第２プリグルーブ３６の溝幅（半値幅）は、５０〜３００ｎｍの範囲であることが必須であり、上限値が２５０ｎｍ以下であることが好ましく、２００ｎｍ以下であることがより好ましく、１８０ｎｍ以下であることがさらに好ましい。また、下限値は、１００ｎｍ以上であることが好ましく、１２０ｎｍ以上であることがより好ましく、１４０ｎｍ以上であることがさらに好ましい。
第２プリグルーブ３６の溝幅が５０ｎｍ未満では、成型時に溝が十分に転写されなかったり、記録のエラーレートが高くなったりすることがあり、３００ｎｍを超えると、記録時に形成されるピットが広がってしまい、クロストークの原因となったり、十分な変調度が得られないことがある。
第２プリグルーブ３６の溝深さは、３０〜２００ｎｍの範囲であることが必須であり、上限値が１７０ｎｍ以下であることが好ましく、１４０ｎｍ以下であることがより好ましく、１２０ｎｍ以下であることがさらに好ましい。また、下限値は、４０ｎｍ以上であることが好ましく、５０ｎｍ以上であることがより好ましく、６０ｎｍ以上であることがさらに好ましい。
第２プリグルーブ３６の溝深さが３０ｎｍ未満では、十分な記録変調度が得られないことがあり、２００ｎｍを超えると、反射率が大幅に低下することがある。
第２光情報記録媒体１０Ｂにおいて用いられる第２基板２４としては、従来の光情報記録媒体の基板材料として用いられている各種の材料を任意に選択して使用することができ、具体例及び好ましい例は、第１光情報記録媒体１０Ａの第１基板１２と同様である。
また、第２基板２４の厚さは、０．１〜１．０ｍｍの範囲であることを要し、０．２〜０．８ｍｍの範囲であることが好ましく、０．３〜０．７ｍｍの範囲であることがより好ましい。
なお、後述する第２追記型記録層２６が設けられる側の第２基板２４の表面には、平面性の改善、接着力の向上の目的で、下塗層を形成することが好ましく、該下塗層の材料、塗布法及び層厚の具体例及び好ましい例は、第１光情報記録媒体１０Ａの下塗層と同様である。
〔第２光情報記録媒体１０Ｂの第２追記型記録層２６〕
好ましい第２光情報記録媒体１０Ｂの第２追記型記録層２６に関する詳細な説明は、第１光情報記録媒体１０Ａの第１追記型記録層１４に関するものと同様である。
〔第２光情報記録媒体１０Ｂの第２光反射層３０〕
第２光情報記録媒体１０Ｂにおいて、レーザ光に対する反射率を高めたり、記録再生特性を改良する機能を付与するために、第２追記型記録層２６上に第２光反射層３０を形成することがある。第２光情報記録媒体１０Ｂの第２光反射層３０に関する詳細は、第１光情報記録媒体１０Ａの第１光反射層１８と同様である。
〔第２光情報記録媒体１０Ｂの第２接着層３２〕
好ましい第２光情報記録媒体１０Ｂにおける第２接着層３２は、第２光反射層３０と、保護基板２８との密着性を向上させるために形成される任意の層である。
第２接着層３２を構成する材料としては、光硬化性樹脂が好ましく、なかでもディスクの反りを防止するため、硬化収縮率の小さいものが好ましい。このような光硬化性樹脂としては、例えば、大日本インク社製の「ＳＤ−６４０」、「ＳＤ−３４７」等のＵＶ硬化性樹脂（ＵＶ硬化性接着剤）を挙げることができる。また、第２接着層３２の厚さは、弾力性を持たせるため、１〜１０００μｍの範囲が好ましい。
〔第２光情報記録媒体１０Ｂの保護基板２８〕
好ましい第２光情報記録媒体１０Ｂにおける保護基板２８（ダミー基板）は、上述した第２基板２４と同じ材質で、同じ形状のものを使用することができる。保護基板２８の厚さとしては、０．１〜１．０ｍｍの範囲であることを要し、０．２〜０．８ｍｍの範囲であることが好ましく、０．３〜０．７ｍｍの範囲であることがより好ましい。
〔第２光情報記録媒体１０Ｂの保護層（図示せず）〕
第２光情報記録媒体１０Ｂは、その層構成によっては、第２光反射層３０や第２追記型記録層２６等を物理的及び化学的に保護する目的で保護層が設けられることある。
保護層に用いられる材料の例としては、ＺｎＳ、ＺｎＳ−ＳｉＯ2、ＳｉＯ、ＳｉＯ2、ＭｇＦ2、ＳｎＯ2、Ｓｉ3Ｎ4等の無機物質、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、ＵＶ硬化性樹脂等の有機物質を挙げることができる。
保護層は、例えば、プラスチックの押出加工で得られたフィルムを接着剤を介して光反射層上に貼り合わせることにより形成することができる。また、真空蒸着、スパッタリング、塗布等の方法により設けられてもよい。
また、保護層として、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂を用いる場合には、これらを適当な溶剤に溶解して塗布液を調製した後、この塗布液を塗布し、乾燥することによっても形成することができる。ＵＶ硬化性樹脂の場合には、そのまま若しくは適当な溶剤に溶解して塗布液を調製した後、この塗布液を塗布し、ＵＶ光を照射して硬化させることによっても形成することができる。これらの塗布液中には、さらに帯電防止剤、酸化防止剤、ＵＶ吸収剤等の各種添加剤を目的に応じて添加してもよい。保護層の層厚は一般には０．１μｍ〜１ｍｍの範囲にある。
〔第２光情報記録媒体１０Ｂにおけるその他の層〕
第２光情報記録媒体１０Ｂは、本発明の効果を損なわない範囲において、上述の層に加え、他の任意の層を有していてもよい。このような他の任意の層の詳細な説明は、第１光情報記録媒体１０Ａにおけるその他の層と同様である。
＜光情報記録方法＞
本発明の光情報記録方法は、第１光情報記録媒体１０Ａ又は第２光情報記録媒体１０Ｂを用いて、例えば、次のように行われる。
第１光情報記録媒体１０Ａにおいては、先ず、第１光情報記録媒体１０Ａを定線速度（０．５〜１０ｍ／秒）又は定角速度にて回転させながら、カバー層１６側から半導体レーザ光等の記録用のレーザ光４６を、開口数ＮＡが例えば０．８５の第１対物レンズ４２を介して照射する。このレーザ光４６の照射により、第１追記型記録層１４がレーザ光４６を吸収して局所的に温度上昇し、物理的あるいは化学的変化（例えば、ピットの生成）が生じてその光学的特性を変えることにより、情報が記録されると考えられる。
同様に、第２光情報記録媒体１０Ｂにおいては、先ず、第２光情報記録媒体１０Ｂを定線速度（０．５〜１０ｍ／秒）又は定角速度にて回転させながら、第２基板２４側から半導体レーザ光等の記録用のレーザ光４６を、開口数ＮＡが例えば０．６５の第２対物レンズ４８を介して照射する。このレーザ光４６の照射により、第２追記型記録層２６がレーザ光４６を吸収して局所的に温度上昇し、物理的あるいは化学的変化（例えば、ピットの生成）が生じてその光学的特性を変えることにより、情報が記録されると考えられる。
本実施の形態においては、記録用のレーザ光４６として３９０〜４５０ｎｍの範囲の発振波長を有する半導体レーザ光が用いられる。好ましい光源としては３９０〜４１５ｎｍの範囲の発振波長を有する青紫色半導体レーザ光、中心発振波長８５０ｎｍの赤外半導体レーザ光を光導波路素子を使って半分の波長にした中心発振波長４２５ｎｍの青紫色ＳＨＧレーザ光を挙げることができる。特に、記録密度の点で３９０〜４１５ｎｍの範囲の発振波長を有する青紫色半導体レーザ光を用いることが好ましい。上記のように記録された情報の再生は、第１光情報記録媒体を上記と同一の定線速度で回転させながら半導体レーザ光を基板側あるいは保護層側から照射して、その反射光を検出することにより行うことができる。
なお、レーザ光としては、近赤外域のレーザ光（通常は７８０ｎｍ付近の波長のレーザ光）、可視レーザ光（６３０ｎｍ〜６８０ｎｍ）、波長５３０ｎｍ以下のレーザ光（４０５ｎｍの青色レーザ）等を用いることも可能であるが、可視レーザ光（６３０ｎｍ〜６８０ｎｍ）、波長５３０ｎｍ以下のレーザ光（４０５ｎｍの青色レーザ）であることが一層好ましく、とりわけ、波長５３０ｎｍ以下のレーザ光（４０５ｎｍの青色レーザ）であることが好ましい。
次に、実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
［実施例用化合物の合成］
〔色素化合物Ｃ−７２の合成〕
下記スキーム（１）、（２）に従い、前記色素化合物Ｃ−７２を合成した。
Figure 2008018590
Figure 2008018590
１７．３ｇの化合物１、８．７８ｇの化合物２をアセトニトリル２００ｍｌに溶解し、撹拌しつつ無水酢酸５．３１ｍｌを滴下し、さらにトリエチルアミン７．９１ｍｌを滴下した。８０℃で１時間反応し、溶媒溜去後シリカゲルカラムクロマトグラフィで精製し、化合物３を１９．６ｇを得た。
２ｇの化合物３をメタノール２０ｍｌに加え、撹拌しながら１ｇの化合物４を添加し、その後加熱還流した。４時間反応させた後、室温まで放冷しアセトニトリル１００ｍｌにあけ、濾過して２．８ｇのＣ−７２の結晶を得た。構造はＮＭＲで確認した。ＮＭＲデータは下記の通りである。
1ＨＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）：d ＝１．３（ｍ，１Ｈ），１．５（ｍ，３Ｈ），１．７５（ｍ，６Ｈ），３．１（ｄ，６Ｈ），７．８（ｔ，１Ｈ），８．０（ｓ，１Ｈ），８．０５（ｓ，１Ｈ），８．２０（２Ｈ，ｍ），８．５２（ｓ，２Ｈ），９．０５（ｄ，２Ｈ），９．７２（ｄ，２Ｈ）
〔色素化合物Ｃ−３７の合成〕
下記スキーム（３）、（４）に従って、色素化合物Ｃ−３７の合成を行った。
Figure 2008018590
Figure 2008018590
１０．５ｇの化合物６をＮ，Ｎ'−ジメチルホルムアミド１１０ｍｌに加え、０℃に冷却した後に撹拌しながらトリエチルアミン１８．６ｍｌを添加し、その後に１０．５ｇの化合物５を添加した。その後０℃で５時間反応させた。反応溶液を酢酸エチル４００ｍｌにあけ、濾過して黄色結晶の化合物７を得た。
０．３８７ｇの化合物７をメタノール２０ｍｌに加え、撹拌しながら化合物４を０．２３４ｇ添加し、その後加熱還流した。３時間反応させた後、室温まで放冷し濾過して０．３ｇのＣ−３７の結晶を得た。構造はＮＭＲで確認した。ＮＭＲデータは下記の通りである。
1ＨＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）：d ＝２．０１（ｓ，８Ｈ），２．６１（ｄｄ，４Ｈ），３．１２（ｄｄ，４Ｈ），７．８１（ｍ，４Ｈ），８．００（ｍ，２Ｈ），８．１８（ｍ，２Ｈ），８．２１（ｓ，２Ｈ），８．５０（ｓ，４Ｈ），９．０８（ｄ，４Ｈ），９．７０（ｄ，４Ｈ）
なお、その他の化合物も、上記に準拠したスキームによって合成することが可能である。
［比較例用化合物の合成］
〔色素化合物Ｈ−１の合成〕
下記スキーム（５）に従い、ホウ素を構成元素としない色素化合物Ｈ−１を合成した。
Figure 2008018590
０．６８ｇの化合物３をメタノール２０ｍｌに加え、撹拌しながら化合物８を０．２８ｇ添加し、その後加熱還流した。３時間反応させた後、室温まで放冷し濾過してメタノール５０ｍｌにあけＨ−１の結晶０．５ｇを得た。構造はＮＭＲで確認した。ＮＭＲデータは下記の通りである。
1ＨＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）：d ＝１．３（ｍ，１Ｈ），１．５（ｍ，３Ｈ），１．７５（ｍ，６Ｈ），３．１（ｄ，６Ｈ），８．０５（ｓ，１Ｈ），８．２５（５Ｈ，ｓ（ｂｒ）），９．１５（ｄ，２Ｈ），９．７５（ｄ，２Ｈ）
〔色素化合物Ｈ−２の合成〕
下記スキーム（６）に従い、ホウ素を構成元素としない色素化合物Ｈ−２を合成した。
Figure 2008018590
０．４７ｇの化合物３をメタノール２０ｍｌに加え、撹拌しながら化合物９を０．２７ｇ添加し、その後加熱還流した。３時間反応させた後、室温まで放冷し濾過してメタノール４０ｍｌにあけ、Ｈ−２の結晶０．４ｇを得た。構造はＮＭＲで確認した。ＮＭＲデータは下記の通りである。
1ＨＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）：d ＝１．３（ｍ，１Ｈ），１．５（ｍ，３Ｈ），１．７５（ｍ，６Ｈ），３．１（ｄ，６Ｈ），７．４５〜７．６２（ｍ，４Ｈ），７．８５（ｍ，３Ｈ），８．０５（ｓ，１Ｈ），８．１０（ｓ，１Ｈ），８．３０（ｓ，１Ｈ），９．１５（ｄ，２Ｈ），９．８２（ｄ，２Ｈ）
〔化合物（Ｈ−３）の合成〕
下記スキーム（７）に従い、ホウ素を構成元素としない色素化合物Ｈ−３を合成した。
Figure 2008018590
０．２ｇの化合物７をメタノール１０ｍｌに加え、撹拌しながら０．１０ｇの化合物８を添加し、その後加熱還流した。３時間反応させた後、室温まで放冷し濾過してメタノール４０ｍｌで洗浄し、比較化合物Ｈ−３の結晶０．２ｇを得た。構造はＮＭＲで確認した。ＮＭＲデータは下記の通りである。
1ＨＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）：d ＝２．００（ｓ，８Ｈ），２．６１（ｄｄ，４Ｈ），３．１４（ｄｄ，４Ｈ），７．８１（ｓ，２Ｈ），７．７８〜７．９８（ｍ，５Ｈ），９．０７（ｓ，４Ｈ），９．７１（ｓ，４Ｈ）
〔色素化合物Ｈ−４の合成〕
下記スキーム（８）に従い、ホウ素を構成元素としない色素化合物Ｈ−４を合成した。
Figure 2008018590
０．２ｇの化合物７をメタノール１０ｍｌに加え、撹拌しながら化合物９を０．１３ｇ添加し、その後加熱還流した。３時間反応させた後、室温まで放冷し濾過してメタノール３０ｍｌで洗浄し、比較化合物Ｈ−４の結晶０．２１ｇを得た。構造はＮＭＲで確認した。ＮＭＲデータは下記の通りである。
1ＨＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）：d ＝１．９９（ｓ，８Ｈ），２．６０（ｄｄ，４Ｈ），３．１４（ｄｄ，４Ｈ），７．５０（ｍ，２Ｈ），７．５５（ｔ，４Ｈ），７．８０（ｓ，２Ｈ），７．８５（ｍ，４Ｈ），７．９４〜８．３０（ｍ，８Ｈ），９．１２（ｄ，４Ｈ），９．８２（ｄ，４Ｈ）
［光情報記録媒体の製造］
（基板の作製）
厚さ０．６ｍｍ、外径１２０ｍｍ、内径１５ｍｍでスパイラル状のプリグルーブ（トラックピッチ：４００ｎｍ、溝幅：１９０ｎｍ、溝深さ：９０ｎｍ、溝傾斜角度：６５°、ウォブル振幅：２０ｎｍ）を有する、ポリカーボネート樹脂からなる射出成形基板を作製した。射出成型時に用いられたスタンパのマスタリングは、レーザカッティング（３５１ｎｍ）を用いて行った。
（追記型記録層の形成）
色素化合物Ｃ−７２、色素化合物Ｃ−３７のそれぞれの２ｇを、２，２，３，３−テトラフロロプロパノール１００ｍｌ中に添加して溶解し、色素含有塗布液を調製した。
次いで、調製した色素含有塗布液を、スピンコート法により回転数３００〜４０００ｒｐｍまで変化させながら２３℃、５０％ＲＨの条件で前記基板上に塗布した。その後、２３℃、５０％ＲＨで１時間保存して、追記型記録層（グルーブ上の厚さ４０ｎｍ、ランド上の厚さ１０ｎｍ）を形成した。
追記型記録層を形成した後、クリーンオーブンにてアニール処理を施した。アニール処理は、基板を垂直のスタックポールにスペーサーで間をあけながら支持し、８０℃で１時間保持して行った。
このアニール処理により、色素化合物Ｃ−７２、色素化合物Ｃ−３７が各々縮合してボロキシン部分が形成された。
また、比較例化合物である前記色素化合物Ｈ−１〜Ｈ−４についても、２，２，３，３−テトラフロロプロパノールに溶解することを試みた。これら色素化合物Ｈ−１〜Ｈ−４の２，２，３，３−テトラフロロプロパノールに対する溶解性を、前記色素化合物Ｃ−７２、色素化合物Ｃ−３７の溶解性とともに図３に併せて示す。
この図３から、ホウ素を構成元素とする色素化合物Ｃ−７２及び色素化合物Ｃ−３７が、色素化合物Ｈ−１〜Ｈ−４に比して溶解性が大きいことが明らかである。特に、色素化合物Ｈ−３、Ｈ−４の２，２，３，３−テトラフロロプロパノールに対する溶解性は小さく、このために記録層を設けることができなかった。
（光反射層の形成）
追記型記録層上に、Ｕｎａｘｉｓ社製Ｃｕｂｅを使用し、Ａｒ雰囲気中で、ＤＣスパッタリングにより、膜厚１００ｎｍの真空成膜層としてのＡＮＣ光反射層（Ａｇ：９８．４質量％、Ｎｉ：０．７質量％、Ｃｕ：０．９質量％）を形成した。光反射層の膜厚の調整は、スパッタ時間により行った。
（保護基板の貼り合わせ）
スピンコートにより、紫外線硬化樹脂（ＳＤ６４０、大日本インキ製）を前記光反射層上に塗布し、ポリカーボネート製の保護基板（プリグルーブを形成していない以外は上記基板と同様のもの）を貼り合わせ、紫外線を照射することで硬化させた。作製した光情報記録媒体において、紫外線硬化樹脂からなる接着層の厚さは、２５μｍであった。
＜光情報記録媒体の評価＞
・Ｃ／Ｎ（搬送波対雑音比）評価：
作製した光情報記録媒体中、記録層に色素化合物Ｃ−７２又は色素化合物Ｈ−２を含有する光情報記録媒体に対し、４０５ｎｍレーザ、ＮＡ０．６５ピックアップを積んだ記録再生評価機（パルステック社製：ＤＤＵ１０００）を用い、クロック周波数６４．８ＭＨｚ、線速６．６１ｍ／ｓにて、０．２０４μｍの信号（２Ｔ）を記録、再生し、スペクトルアナライザー（ＲＯＨＤＥ＆ＳＣＨＷＡＲＺ社製：ＦＳＰ３）にて記録後のＣ／Ｎを測定した。記録は、ピークパワー値が３〜１２ｍＷの範囲で１ｍＷ毎に行い、この時、ＲＢＷ＝３０ｋＨｚ、ＶＢＷ＝１０ｋＨｚ、ｓｗｅｅｐ＝３０ｍｓｅｃ、ａｖｅ＝１２８ｃｙｃに設定して０〜３４ＭＨｚの範囲を測定し、２Ｔ周波数のキャリア出力Ｃと３４ＭＨｚのノイズ出力Ｎの差をＣ／Ｎ値とした。
その後、ランダム記録を行ってＰＲＳＮＲを測定した。記録時には発光パターン、及び記録時ピークパワーを最適化し、また、３トラック記録して中央のトラックのＰＲＳＮＲ値を評価値とした。
なお、本評価において、情報の記録はグルーブ上に行った。また、記録パワーを１２ｍＷ、再生パワーを０．５ｍＷとした。ここで、記録特性が好ましいのは、記録後のＣ／Ｎが２５ｄＢｍ以上であれば再生信号強度が、また、ＰＲＳＮＲが１５以上であれば再生信号品質が十分であることを指す。
色素化合物Ｃ−７２を用いた光情報記録媒体では、最大となる２ＴのＣ／Ｎは２７ｄＢｍであった。その後、ランダム記録をしてＰＲＳＮＲを測定すると２９であった。これに対し、色素化合物Ｈ−１、Ｈ−２を用いた光情報記録媒体では、最大となる２ＴのＣ／Ｎは、それぞれ、２６、２９ｄＢｍであったものの、ＰＲＳＮＲは２２、２６であり、いずれも色素化合物Ｃ−７２を用いた光情報記録媒体に及ばなかった。
上記から諒解されるように、ホウ素を構成元素とする色素化合物Ｃ−７２を含有する記録層が設けられた光情報記録媒体は、ホウ素を構成元素としない色素化合物Ｈ−１の光情報記録媒体に比して品質が良好な再生信号が得られる。このことは、色素化合物Ｃ−７２を用いた記録層において、隣接干渉が低減されていることを意味する。
以上の結果から、ホウ素を構成元素とする色素化合物を用いることにより、塗布溶剤への溶解性と良好な記録品質とを両立する光情報記録媒体が得られることが確認された。特にＣＤ−ＲやＤＶＤ−Ｒの場合よりも短波長のレーザを用いて上記効果が得られることから、より高密度の光情報記録媒体を提供することができるといえる。
第１光情報記録媒体を一部省略して示す断面図である。 第２光情報記録媒体を一部省略して示す断面図である。 色素化合物Ｃ−７２、Ｃ−３７、Ｈ−１、Ｈ−２、Ｈ−３、Ｈ−４の２，２，３，３−テトラフルオロプロパノールに対する溶解性を評価した結果を示す図表である。
符号の説明
１０Ａ…第１光情報記録媒体 １０Ｂ…第２光情報記録媒体
１２…第１基板 １４…第１追記型記録層
１６…カバー層 １８…第１光反射層
２０…バリア層 ２２…第１接着層
２４…第２基板 ２６…第２追記型記録層
２８…保護基板 ３０…第２光反射層
３２…第２接着層 ４４…ハードコート層

Claims (7)

  1. レーザ光照射による情報の記録が可能な記録層を基板上に有する光情報記録媒体であって、
    前記記録層は、ホウ素を構成元素とする色素化合物を含有していることを特徴とする光情報記録媒体。
  2. 請求項１記載の光情報記録媒体において、前記色素化合物は、色素残基の吸収極大波長が３００ｎｍ〜９００ｎｍであり、且つモル吸光係数ε［Ｌ／（ｍｏｌ・ｃｍ）］が５０００以上であることを特徴とする光情報記録媒体。
  3. 請求項１又は２記載の光情報記録媒体において、前記色素化合物が、オキソノール色素、シアニン色素、スチリル色素、メロシアニン色素、フタロシアニン色素、トリアジン色素、ベンゾトリアゾール色素、ベンゾオキサゾール色素、アミノブタジエン、アゾ系色素、アゾメチン色素、ピリドポルフィラジン色素、ピラドポルフィラジン色素、ポルフィリン色素、ポルフィラジン色素の群から選択される色素であることを特徴とする光情報記録媒体。
  4. 請求項１〜３のいずれか１項に記載の光情報記録媒体において、前記色素化合物がボロン酸であることを特徴とする光情報記録媒体。
  5. 請求項４記載の光情報記録媒体において、前記色素化合物が、ボロン酸が互いに結合することで形成されたボロキシン部分を有することを特徴とする光情報記録媒体。
  6. 請求項４又は５記載の光情報記録媒体において、前記色素化合物が、下記一般式（Ｉ）、（ＩＩ）、（ＩＩＩ）、（ＩＶ）で表される化合物、又はその１種以上が互いに結合した多量体であることを特徴とする光情報記録媒体。
    Figure 2008018590
     ただし、Ｄｙｅは色素残基を表し、Ｌは２価の連結基もしくは単結合を表す。ｍは１〜５の整数を表し、ｎは１〜１０の整数を表す。ｎが２以上の場合、ｍはｎに等しくても等しくなくてもよく、２つ以上の連結基Ｌは互いに同一であってもよいし異なっていてもよい。
    Figure 2008018590
     ただし、ｌは１〜５の整数を表し、このときｍ＋ｌ＝２〜６である。ｌが２以上の場合、２つ以上の連結基Ｌ及び色素残基Ｄｙｅは互いに同一であってもよいし異なっていてもよい。
    Figure 2008018590
     ただし、Ｑは荷電を有する置換基を表し、ｙは電荷の中和に必要な数を表す。また、ｘは１〜１０の整数を表し、このときＤｙｅはイオン性の色素残基を表す。さらに、Ｌが単結合であるときにはｓ＝０、２価の連結基であるときには１以上の整数であり且つ２以上の整数であるときにはｓ＝ｘである。
    Figure 2008018590
     ただし、Ｑは荷電を有する置換基を表し、ｙは電荷の中和に必要な数を表す。また、ｚは１以上の整数を表し、このときＤｙｅはイオン性の色素残基を表す。
  7. レーザ光照射による情報の記録が可能な記録層を基板上に有する光情報記録媒体の製造方法であって、
    ホウ素を構成元素とする色素化合物を溶媒に溶解して塗布液とする工程と、
    前記塗布液を基板上に塗布して記録層を形成する記録層形成工程と、
    前記記録層をアニールして前記色素化合物を多量化する多量化工程と、
    を有することを特徴とする光情報記録媒体の製造方法。
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