JPH0316916B2 - - Google Patents
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- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 22
- -1 phthalocyanine compound Chemical class 0.000 claims description 17
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 14
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 14
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 12
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 12
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 10
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 10
- IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N phthalocyanine Chemical class N1C(N=C2C3=CC=CC=C3C(N=C3C4=CC=CC=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=CC=C2)C2=C1N=C1C2=CC=CC=C2C4=N1 IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 claims description 8
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 8
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 7
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 claims description 6
- 150000002738 metalloids Chemical group 0.000 claims description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 54
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 52
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 47
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 35
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 34
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 24
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 21
- 239000000047 product Substances 0.000 description 21
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 21
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 21
- 238000000921 elemental analysis Methods 0.000 description 18
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 239000010408 film Substances 0.000 description 13
- 239000000463 material Substances 0.000 description 9
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 9
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N Quinoline Chemical compound N1=CC=CC2=CC=CC=C21 SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 8
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 7
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 6
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 6
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 6
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000004677 Nylon Substances 0.000 description 5
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 5
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 5
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 description 5
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 5
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 5
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 5
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 5
- DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 1,1-Diethoxyethane Chemical compound CCOC(C)OCC DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 4
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 4
- 229920002292 Nylon 6 Polymers 0.000 description 4
- 229920002302 Nylon 6,6 Polymers 0.000 description 4
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 4
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 4
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 4
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000002334 glycols Chemical class 0.000 description 4
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 4
- RKJUIXBNRJVNHR-UHFFFAOYSA-N indolenine group Chemical group N1=CCC2=CC=CC=C12 RKJUIXBNRJVNHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 4
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 4
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 4
- ANRHNWWPFJCPAZ-UHFFFAOYSA-M thionine Chemical compound [Cl-].C1=CC(N)=CC2=[S+]C3=CC(N)=CC=C3N=C21 ANRHNWWPFJCPAZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Natural products C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011354 acetal resin Substances 0.000 description 3
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 3
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 3
- 229920006324 polyoxymethylene Polymers 0.000 description 3
- 229920005749 polyurethane resin Polymers 0.000 description 3
- 239000011118 polyvinyl acetate Substances 0.000 description 3
- 229920002689 polyvinyl acetate Polymers 0.000 description 3
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 3
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 3
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 3
- GRWFGVWFFZKLTI-IUCAKERBSA-N (-)-α-pinene Chemical compound CC1=CC[C@@H]2C(C)(C)[C@H]1C2 GRWFGVWFFZKLTI-IUCAKERBSA-N 0.000 description 2
- JWAZRIHNYRIHIV-UHFFFAOYSA-N 2-naphthol Chemical compound C1=CC=CC2=CC(O)=CC=C21 JWAZRIHNYRIHIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000094 2-phenylethyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N Acetophenone Chemical compound CC(=O)C1=CC=CC=C1 KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 2
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AMQJEAYHLZJPGS-UHFFFAOYSA-N N-Pentanol Chemical compound CCCCCO AMQJEAYHLZJPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000020 Nitrocellulose Substances 0.000 description 2
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 2
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 2
- 229920000147 Styrene maleic anhydride Polymers 0.000 description 2
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N Terephthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N Thiazole Chemical compound C1=CSC=N1 FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N adipic acid Chemical compound OC(=O)CCCCC(O)=O WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N alpha-Methylstyrene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1 XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N butane-1,4-diol Chemical compound OCCCCO WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 2
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 2
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000012043 crude product Substances 0.000 description 2
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 2
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 2
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 2
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 2
- 239000005038 ethylene vinyl acetate Substances 0.000 description 2
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 2
- QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N isophthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(C(O)=O)=C1 QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 2
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 2
- XMGQYMWWDOXHJM-UHFFFAOYSA-N limonene Chemical compound CC(=C)C1CCC(C)=CC1 XMGQYMWWDOXHJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 2
- IVSZLXZYQVIEFR-UHFFFAOYSA-N m-xylene Chemical group CC1=CC=CC(C)=C1 IVSZLXZYQVIEFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 125000005397 methacrylic acid ester group Chemical group 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- OMNKZBIFPJNNIO-UHFFFAOYSA-N n-(2-methyl-4-oxopentan-2-yl)prop-2-enamide Chemical compound CC(=O)CC(C)(C)NC(=O)C=C OMNKZBIFPJNNIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001220 nitrocellulos Polymers 0.000 description 2
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- 239000001007 phthalocyanine dye Substances 0.000 description 2
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920001200 poly(ethylene-vinyl acetate) Polymers 0.000 description 2
- 229920002401 polyacrylamide Polymers 0.000 description 2
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 2
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 2
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 2
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 2
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 2
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 2
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 2
- 229920003048 styrene butadiene rubber Polymers 0.000 description 2
- 125000005504 styryl group Chemical group 0.000 description 2
- 150000003505 terpenes Chemical class 0.000 description 2
- 235000007586 terpenes Nutrition 0.000 description 2
- 229910052716 thallium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 2
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 2
- WTARULDDTDQWMU-RKDXNWHRSA-N (+)-β-pinene Chemical compound C1[C@H]2C(C)(C)[C@@H]1CCC2=C WTARULDDTDQWMU-RKDXNWHRSA-N 0.000 description 1
- WTARULDDTDQWMU-IUCAKERBSA-N (-)-Nopinene Natural products C1[C@@H]2C(C)(C)[C@H]1CCC2=C WTARULDDTDQWMU-IUCAKERBSA-N 0.000 description 1
- SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 1,1-Dichloroethane Chemical compound CC(Cl)Cl SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ODIRBFFBCSTPTO-UHFFFAOYSA-N 1,3-selenazole Chemical compound C1=C[se]C=N1 ODIRBFFBCSTPTO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IZMZREOTRMMCCB-UHFFFAOYSA-N 1,4-dichloro-2-ethenylbenzene Chemical compound ClC1=CC=C(Cl)C(C=C)=C1 IZMZREOTRMMCCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KPAPHODVWOVUJL-UHFFFAOYSA-N 1-benzofuran;1h-indene Chemical compound C1=CC=C2CC=CC2=C1.C1=CC=C2OC=CC2=C1 KPAPHODVWOVUJL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 1-butoxybutane Chemical compound CCCCOCCCC DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UVHXEHGUEKARKZ-UHFFFAOYSA-N 1-ethenylanthracene Chemical compound C1=CC=C2C=C3C(C=C)=CC=CC3=CC2=C1 UVHXEHGUEKARKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HECLRDQVFMWTQS-RGOKHQFPSA-N 1755-01-7 Chemical compound C1[C@H]2[C@@H]3CC=C[C@@H]3[C@@H]1C=C2 HECLRDQVFMWTQS-RGOKHQFPSA-N 0.000 description 1
- VXQBJTKSVGFQOL-UHFFFAOYSA-N 2-(2-butoxyethoxy)ethyl acetate Chemical compound CCCCOCCOCCOC(C)=O VXQBJTKSVGFQOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FPZWZCWUIYYYBU-UHFFFAOYSA-N 2-(2-ethoxyethoxy)ethyl acetate Chemical compound CCOCCOCCOC(C)=O FPZWZCWUIYYYBU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JMMZCWZIJXAGKW-UHFFFAOYSA-N 2-methylpent-2-ene Chemical compound CCC=C(C)C JMMZCWZIJXAGKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- KXYAVSFOJVUIHT-UHFFFAOYSA-N 2-vinylnaphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=CC(C=C)=CC=C21 KXYAVSFOJVUIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KGIGUEBEKRSTEW-UHFFFAOYSA-N 2-vinylpyridine Chemical compound C=CC1=CC=CC=N1 KGIGUEBEKRSTEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PYSRRFNXTXNWCD-UHFFFAOYSA-N 3-(2-phenylethenyl)furan-2,5-dione Chemical compound O=C1OC(=O)C(C=CC=2C=CC=CC=2)=C1 PYSRRFNXTXNWCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 4-Methylstyrene Chemical compound CC1=CC=C(C=C)C=C1 JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FEIQOMCWGDNMHM-UHFFFAOYSA-N 5-phenylpenta-2,4-dienoic acid Chemical compound OC(=O)C=CC=CC1=CC=CC=C1 FEIQOMCWGDNMHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021592 Copper(II) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920000896 Ethulose Polymers 0.000 description 1
- 239000001856 Ethyl cellulose Substances 0.000 description 1
- ZZSNKZQZMQGXPY-UHFFFAOYSA-N Ethyl cellulose Chemical compound CCOCC1OC(OC)C(OCC)C(OCC)C1OC1C(O)C(O)C(OC)C(CO)O1 ZZSNKZQZMQGXPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001859 Ethyl hydroxyethyl cellulose Substances 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000663 Hydroxyethyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 239000004354 Hydroxyethyl cellulose Substances 0.000 description 1
- 229920002153 Hydroxypropyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 229910021617 Indium monochloride Inorganic materials 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052779 Neodymium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920000571 Nylon 11 Polymers 0.000 description 1
- 229920000572 Nylon 6/12 Polymers 0.000 description 1
- LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N Phthalic anhydride Natural products C1=CC=C2C(=O)OC(=O)C2=C1 LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WTARULDDTDQWMU-UHFFFAOYSA-N Pseudopinene Natural products C1C2C(C)(C)C1CCC2=C WTARULDDTDQWMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920007962 Styrene Methyl Methacrylate Polymers 0.000 description 1
- 239000002174 Styrene-butadiene Substances 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N Succinic acid Natural products OC(=O)CCC(O)=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052771 Terbium Inorganic materials 0.000 description 1
- QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N Vinyl ether Chemical class C=COC=C QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001986 Vinylidene chloride-vinyl chloride copolymer Polymers 0.000 description 1
- SMEGJBVQLJJKKX-HOTMZDKISA-N [(2R,3S,4S,5R,6R)-5-acetyloxy-3,4,6-trihydroxyoxan-2-yl]methyl acetate Chemical compound CC(=O)OC[C@@H]1[C@H]([C@@H]([C@H]([C@@H](O1)O)OC(=O)C)O)O SMEGJBVQLJJKKX-HOTMZDKISA-N 0.000 description 1
- FJWGYAHXMCUOOM-QHOUIDNNSA-N [(2s,3r,4s,5r,6r)-2-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-dinitrooxy-2-(nitrooxymethyl)-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-trinitrooxy-2-(nitrooxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-3-yl]oxy-3,5-dinitrooxy-6-(nitrooxymethyl)oxan-4-yl] nitrate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](O[N+]([O-])=O)[C@H]1O[N+]([O-])=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](O[N+]([O-])=O)[C@H](O[N+]([O-])=O)[C@@H](CO[N+]([O-])=O)O1)O[N+]([O-])=O)CO[N+](=O)[O-])[C@@H]1[C@@H](CO[N+]([O-])=O)O[C@@H](O[N+]([O-])=O)[C@H](O[N+]([O-])=O)[C@H]1O[N+]([O-])=O FJWGYAHXMCUOOM-QHOUIDNNSA-N 0.000 description 1
- CWRYPZZKDGJXCA-UHFFFAOYSA-N acenaphthene Chemical compound C1=CC(CC2)=C3C2=CC=CC3=C1 CWRYPZZKDGJXCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006359 acetalization reaction Methods 0.000 description 1
- 229940081735 acetylcellulose Drugs 0.000 description 1
- 229920006322 acrylamide copolymer Polymers 0.000 description 1
- 125000005396 acrylic acid ester group Chemical group 0.000 description 1
- 229920000122 acrylonitrile butadiene styrene Polymers 0.000 description 1
- 229920001893 acrylonitrile styrene Polymers 0.000 description 1
- 239000001361 adipic acid Substances 0.000 description 1
- 235000011037 adipic acid Nutrition 0.000 description 1
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001335 aliphatic alkanes Chemical class 0.000 description 1
- XCPQUQHBVVXMRQ-UHFFFAOYSA-N alpha-Fenchene Natural products C1CC2C(=C)CC1C2(C)C XCPQUQHBVVXMRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MVNCAPSFBDBCGF-UHFFFAOYSA-N alpha-pinene Natural products CC1=CCC23C1CC2C3(C)C MVNCAPSFBDBCGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229910052790 beryllium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229930006722 beta-pinene Natural products 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N butanedioic acid Chemical compound O[14C](=O)CC[14C](O)=O KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N 0.000 description 1
- JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N butyl 2,2-difluorocyclopropane-1-carboxylate Chemical compound CCCCOC(=O)C1CC1(F)F JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- 229910052792 caesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 1
- 229920002301 cellulose acetate Polymers 0.000 description 1
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical group ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000490 cinnamyl group Chemical group C(C=CC1=CC=CC=C1)* 0.000 description 1
- ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L copper(II) chloride Chemical compound Cl[Cu]Cl ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- XCJYREBRNVKWGJ-UHFFFAOYSA-N copper(II) phthalocyanine Chemical class [Cu+2].C12=CC=CC=C2C(N=C2[N-]C(C3=CC=CC=C32)=N2)=NC1=NC([C]1C=CC=CC1=1)=NC=1N=C1[C]3C=CC=CC3=C2[N-]1 XCJYREBRNVKWGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 1
- 150000003997 cyclic ketones Chemical class 0.000 description 1
- 125000000596 cyclohexenyl group Chemical group C1(=CCCCC1)* 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 238000004042 decolorization Methods 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 1
- 125000004663 dialkyl amino group Chemical group 0.000 description 1
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 1
- 125000005442 diisocyanate group Chemical group 0.000 description 1
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 1
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- HQQADJVZYDDRJT-UHFFFAOYSA-N ethene;prop-1-ene Chemical group C=C.CC=C HQQADJVZYDDRJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002573 ethenylidene group Chemical group [*]=C=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229920001249 ethyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 235000019325 ethyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 235000019326 ethyl hydroxyethyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 229920006242 ethylene acrylic acid copolymer Polymers 0.000 description 1
- 125000000816 ethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 229920006226 ethylene-acrylic acid Polymers 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 1
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 1
- 150000004665 fatty acids Chemical class 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 239000003063 flame retardant Substances 0.000 description 1
- 125000002425 furfuryl group Chemical group C(C1=CC=CO1)* 0.000 description 1
- 125000002541 furyl group Chemical group 0.000 description 1
- LCWMKIHBLJLORW-UHFFFAOYSA-N gamma-carene Natural products C1CC(=C)CC2C(C)(C)C21 LCWMKIHBLJLORW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 125000004836 hexamethylene group Chemical group [H]C([H])([*:2])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:1] 0.000 description 1
- XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diol Chemical compound OCCCCCCO XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N hydrogen iodide Chemical compound I XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 235000019447 hydroxyethyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 239000001863 hydroxypropyl cellulose Substances 0.000 description 1
- 235000010977 hydroxypropyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- APHGZSBLRQFRCA-UHFFFAOYSA-M indium(1+);chloride Chemical compound [In]Cl APHGZSBLRQFRCA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000001041 indolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229920000554 ionomer Polymers 0.000 description 1
- 125000000555 isopropenyl group Chemical group [H]\C([H])=C(\*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229910052745 lead Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000001510 limonene Nutrition 0.000 description 1
- 229940087305 limonene Drugs 0.000 description 1
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 1
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 1
- DZVCFNFOPIZQKX-LTHRDKTGSA-M merocyanine Chemical compound [Na+].O=C1N(CCCC)C(=O)N(CCCC)C(=O)C1=C\C=C\C=C/1N(CCCS([O-])(=O)=O)C2=CC=CC=C2O\1 DZVCFNFOPIZQKX-LTHRDKTGSA-M 0.000 description 1
- AUHZEENZYGFFBQ-UHFFFAOYSA-N mesitylene Substances CC1=CC(C)=CC(C)=C1 AUHZEENZYGFFBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001827 mesitylenyl group Chemical group [H]C1=C(C(*)=C(C([H])=C1C([H])([H])[H])C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- ADFPJHOAARPYLP-UHFFFAOYSA-N methyl 2-methylprop-2-enoate;styrene Chemical compound COC(=O)C(C)=C.C=CC1=CC=CC=C1 ADFPJHOAARPYLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000609 methyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 239000001923 methylcellulose Substances 0.000 description 1
- 235000010981 methylcellulose Nutrition 0.000 description 1
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004957 naphthylene group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000025 natural resin Substances 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004817 pentamethylene group Chemical group [H]C([H])([*:2])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:1] 0.000 description 1
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 1
- 239000003208 petroleum Substances 0.000 description 1
- 125000000843 phenylene group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)* 0.000 description 1
- 125000005936 piperidyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229920002285 poly(styrene-co-acrylonitrile) Polymers 0.000 description 1
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 description 1
- 229920002432 poly(vinyl methyl ether) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920002239 polyacrylonitrile Polymers 0.000 description 1
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 1
- 229920006393 polyether sulfone Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 229920006380 polyphenylene oxide Polymers 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 229920001289 polyvinyl ether Polymers 0.000 description 1
- SCUZVMOVTVSBLE-UHFFFAOYSA-N prop-2-enenitrile;styrene Chemical compound C=CC#N.C=CC1=CC=CC=C1 SCUZVMOVTVSBLE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 1
- 125000004076 pyridyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000714 pyrimidinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000168 pyrrolyl group Chemical group 0.000 description 1
- WVIICGIFSIBFOG-UHFFFAOYSA-N pyrylium Chemical compound C1=CC=[O+]C=C1 WVIICGIFSIBFOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005493 quinolyl group Chemical group 0.000 description 1
- GRWFGVWFFZKLTI-UHFFFAOYSA-N rac-alpha-Pinene Natural products CC1=CCC2C(C)(C)C1C2 GRWFGVWFFZKLTI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007670 refining Methods 0.000 description 1
- 230000008929 regeneration Effects 0.000 description 1
- 238000011069 regeneration method Methods 0.000 description 1
- 238000012827 research and development Methods 0.000 description 1
- 238000007142 ring opening reaction Methods 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000547 substituted alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920001897 terpolymer Polymers 0.000 description 1
- 125000000383 tetramethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 229920002803 thermoplastic polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 125000005023 xylyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
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- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
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- G11B7/2533—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers of substrates comprising resins
Landscapes
- Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
発明の背景
技術分野
本発明は、光記録媒体、特にヒートモードの光
記録媒体に関する。 先行技術 光記録媒体は、媒体と書き込みないし読み出し
ヘツドが非接触であるので、記録媒体が摩耗劣化
しないという特徴をもち、このため、種々の光記
録媒体の開発研究が行われている。 このような光記録媒体のうち、暗室による現像
処理が不要である等の点で、ヒートモード光記録
媒体の開発が活発になつている。 このヒートモードの光記録媒体は、記録光を熱
として利用する光記録媒体であり、その1例とし
て、レーザー等の記録光で媒体の一部を融解、除
去等して、ピツトと称される小穴を形成して書き
込みを行い、このピツトにより情報を記録し、こ
のピツトを読み出し光で検出して読み出しを行う
ピツト形成タイプのものがある。 このようなピツト形成タイプの媒体、特にその
うち、装置を小型化できる半導体レーザーを光源
とするものにおいては、これまで、Teを主体と
する材料を記録層とするものが大半をしめてい
る。 しかし、近年、Te系材料が有害であること、
そしてより高感度化する必要があること、より製
造コストを安価にする必要があることから、Te
系にかえ、色素を主とした有機材料系の記録層を
用いる媒体についての提案や報告が増加してい
る。 例えば、He−Neレーザー用としては、スクワ
リリウム色素〔特開昭56−46221号V.B.Jipson
and C.R.Jones、J.Vac.Sci.Technol.、18(1)105
(1981)〕や、金属フタロシアニン色素(特開昭57
−82094号、同57−82095号)などを用いるものが
ある。 また、金属フタロシアニン色素を半導体レーザ
ー用として使用した例(特開昭56−86795号)も
ある。 これらは、いずれも色素を蒸着により記録層薄
膜としたものであり、媒体製造上、Te系と大差
はない。 しかし、色素蒸着膜のレーザーに対する反射率
は一般に小さく、反射光量のピツトによる変化
(減少)によつて読み出し信号をうる、現在行わ
れている通常の方式では、大きなS/N比をうる
ことができない。 また、記録層を担持した透明基体を、記録層が
対向するようにして一体化した、いわゆるエアー
サンドイツチ構造の媒体とし、基体をとおして書
き込みおよび読み出しを行うと、書き込み感度を
下げずに記録層の保護ができ、かつ記録密度も大
きくなる点で有利であるが、このような記録再生
方式も、色素蒸着膜では不可能である。 これは、通常の透明樹脂製基体では、屈折率が
ある程度の値をもち(ポリメチルメタクリレート
で1.5)、また、表面反射率がある程度大きく(同
4%)、記録層の基体をとおしての反射率が、例
えばポリメチルメタクリレートでは60%程度以下
になるため、低い反射率しか示さない記録層では
検出できないからである。 色素蒸着膜からなる記録層の、読み出しのS/
N比を向上させるためには、通常、基体と記録層
との間に、Al等の蒸着反射膜を介在させている。 この場合、蒸着反射膜は、反射率を上げてS/
N比を向上させるためのものであり、ピツト形成
により反射膜が露出して反射率が増大したり、あ
るいは場合によつては、反射膜を除去して反射率
を減少させるものであるが、当然のことながら、
基体をとおしての記録再生はできない。 同様に、特開昭55−161690号には、IR−132色
素(コダツク社製)とポリ酢酸ビニルとからなる
記録層、また、特開昭57−74845号には、1,
1′−ジエチル−2,2′−トリカルボシアニンイオ
ダイドとニトロセルロースとからなる記録層、さ
らにはK.Y.Law、et al.、Appl.Phys.Lett.39(9)
718(1981)には、3,3′−ジエチル−12−アセチ
ルチアテトラカルボシアニンとポリ酢酸ビニルと
からなる記録層など、色素と樹脂とからなる記録
層を塗布法によつて設層した媒体が開示されてい
る。 しかし、これらの場合にも、基体と記録層との
間に反射膜を必要としており、基体裏面側からの
記録再生ができない点で、色素蒸着膜の場合と同
様の欠点をもつ。 このように、基体をとおしての記録再生が可能
であり、Te系材料からなる記録層をもつ媒体と
の互換性を有する、有機材料系の記録層をもつ媒
体を実現するには、有機材料自身が大きな反射率
を示す必要がある。 しかし、従来、反射層を積層せずに、有機材料
の単層にて高い反射率を示す例はきわめて少な
い。 例えば、チアゾール系やキノリン系等のシアニ
ン色素やメロシアニン色素でも、高反射率が示さ
れる旨が報告〔山本他、第27回 応用物理学会予
稿集1p−P−9(1980)〕されており、これにも
とづく提案が特開昭58−112790号になされている
が、これら色素は、特に塗膜として設層したとき
に、溶剤に対する溶解度が小さく、また結晶化し
やすく、さらには読み出し光に対してきわめてて
不安定でただちに脱色してしまい、実用に供しえ
ない。 このような実状に鑑み、本発明者らは、先に、
溶剤に対する溶解度が高く、結晶化も少なく、か
つ熱的に安定であつて、塗膜の反射率が高いイン
ドレニン系のシアニン色素を単層膜として用いる
旨を提案している(特願昭57−134397号、同57−
134170号)。 また、インドレニン系、あるいはチアゾール
系、キノリン系、セレナゾール系等の他のシアニ
ン色素においても、長鎖アルキル基を分子中に導
入して、溶解性の改善と結晶化の防止がはかられ
ることを提案している(特願昭57−182589号、同
57177776号等)。 さらに、光安定性をまし、特に読み出し光によ
る脱色(再生劣化)を防止するために、シアニン
色素にクエンチヤーを添加する旨の提案を行つて
いる(特願昭57−166832号、同57−168048号等)。 さらに、スチリル系、インドリル系、ピリリウ
ム、チアピリリウム、セレナピリリウムないしテ
ルロピリリウム系、ポリメチン系等の色素にクエ
ンチヤーを添加して、再生劣化が減少する旨の提
案も行つている(特願昭58−181357号、同58−
181368号、同58−181369号、同58−183454号、同
58−183455号、同58−183456号)。 また、さらに、再生劣化がきわめて少なく、耐
湿性が良好な記録層として、色素カチオンとクエ
ンチヤーアニオンとの結合体を含む記録層の提案
も行つている(特願昭59−14848号等)。 このような記録層に含まれる種々の色素の中
で、フタロシアニン化合物は、光、熱、湿度等い
ずれに対しても安定であり、堅牢性に優れてい
る。 しかし、フタロシアニン化合物を記録層として
用いた場合、近赤外および赤外域に吸収がなく、
このような範囲の記録光では、記録層への書き込
みが困難であつた。 また、塗布法で記録層を形成すすることも困難
であつた。 発明の目的 本発明の目的は、光記録媒体を構成する記録層
が、光、熱、湿度、いずれに対しても安定であ
り、堅牢性に優れ、しかも近赤外および赤外域の
記録光によつても使用可能で、塗布法によつて成
膜可能な記録層を有する光記録媒体を提供するこ
とにある。 発明の開示 このような目的は、下記の本発明によつて達成
される。 すなわち、本発明は、 式() 式() {式()および()中、Pcは、水素原子、
金属もしくは半金属原子またはM1Xに配位した
フタロシアニン核を表わす。 M1はB金属原子を表わし、Xはハロゲン原
子を表わす。 R1およびR3は、それぞれ、置換または非置換
の脂肪族基または芳香族基を表わす。 R2は置換または非置換の2価の脂肪族基また
は芳香族基を表わす。 Yは水素原子またはハロゲン原子を表わす。 nは5〜16、pは1〜8、mは0〜14の正の整
数を表わす} で示されるフタロシアニン化合物を基体上に塗布
して形成した記録層を有することを特徴とする光
記録媒体である。 発明の具体的構成 以下、本発明の具体的構成について詳細に説明
する。 本発明の光記録媒体の記録層は、下記の式
()または()で示されるようなフタロシア
ニン化合物を含んでいる。 式() 式() 上記式()および()において、Pcは水
素原子、金属もしくは半金属原子またはM1Xに
配位したフタロシアニン核を表わす。 M1はB金属原子を表わし、Xはハロゲン原
子を表わす。 金属または半金属原子としては、例えば、Zn、
Pb、Cu、Ni、Fe、Co、Sr、Ca、Yb、Li、Ag、
Ru、Sm、Tb、Dy、U、Tl、Cs、Pd、Nd、
Ga、In、Sn、Si、Pt、Mn、Ge、Be、Al、V、
Sn、Mg、Ti等; であり、このなかでCu、Ni、Co、Fe、Zn、Al、
Pt、V、水素が好ましい。 M1はB金属原子(Al、Ga、In、Tl)であ
り、このなかで特にAl、Ga、Inが好ましい。 Xはハロゲン原子、例えばF、Cl、Br、I
等; であり、なかでもCl、Br、Iが好ましい。 フタロシアニンは、水素原子や、1価の金属原
子や、M1Xに対し1:1で配位し、またフタロ
シアニン核1分子は、2価の金属原子等の1/2個
に配位する。 フタロシアニン核は、下記式()で表わされ
る。 式() 上記式()で、−OR1、−OR2O−、−OR3もし
くはYが置換する位置は1〜16のいずれかであ
る。 R1およびR3は1価、R2は2価であつて、炭素
数1〜20の置換もしくは非置換の脂肪族基、例え
ば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル
基、ペンチル基、ヘキシル基、エチレン基、プロ
ピレン基、ブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレ
ン基、ベンジル基、フエネチル基、シクロヘキシ
ル基、アリル基、ドデシル基、−CH2CH2CH=
CH−CH2−、シクロヘキセン基、
記録媒体に関する。 先行技術 光記録媒体は、媒体と書き込みないし読み出し
ヘツドが非接触であるので、記録媒体が摩耗劣化
しないという特徴をもち、このため、種々の光記
録媒体の開発研究が行われている。 このような光記録媒体のうち、暗室による現像
処理が不要である等の点で、ヒートモード光記録
媒体の開発が活発になつている。 このヒートモードの光記録媒体は、記録光を熱
として利用する光記録媒体であり、その1例とし
て、レーザー等の記録光で媒体の一部を融解、除
去等して、ピツトと称される小穴を形成して書き
込みを行い、このピツトにより情報を記録し、こ
のピツトを読み出し光で検出して読み出しを行う
ピツト形成タイプのものがある。 このようなピツト形成タイプの媒体、特にその
うち、装置を小型化できる半導体レーザーを光源
とするものにおいては、これまで、Teを主体と
する材料を記録層とするものが大半をしめてい
る。 しかし、近年、Te系材料が有害であること、
そしてより高感度化する必要があること、より製
造コストを安価にする必要があることから、Te
系にかえ、色素を主とした有機材料系の記録層を
用いる媒体についての提案や報告が増加してい
る。 例えば、He−Neレーザー用としては、スクワ
リリウム色素〔特開昭56−46221号V.B.Jipson
and C.R.Jones、J.Vac.Sci.Technol.、18(1)105
(1981)〕や、金属フタロシアニン色素(特開昭57
−82094号、同57−82095号)などを用いるものが
ある。 また、金属フタロシアニン色素を半導体レーザ
ー用として使用した例(特開昭56−86795号)も
ある。 これらは、いずれも色素を蒸着により記録層薄
膜としたものであり、媒体製造上、Te系と大差
はない。 しかし、色素蒸着膜のレーザーに対する反射率
は一般に小さく、反射光量のピツトによる変化
(減少)によつて読み出し信号をうる、現在行わ
れている通常の方式では、大きなS/N比をうる
ことができない。 また、記録層を担持した透明基体を、記録層が
対向するようにして一体化した、いわゆるエアー
サンドイツチ構造の媒体とし、基体をとおして書
き込みおよび読み出しを行うと、書き込み感度を
下げずに記録層の保護ができ、かつ記録密度も大
きくなる点で有利であるが、このような記録再生
方式も、色素蒸着膜では不可能である。 これは、通常の透明樹脂製基体では、屈折率が
ある程度の値をもち(ポリメチルメタクリレート
で1.5)、また、表面反射率がある程度大きく(同
4%)、記録層の基体をとおしての反射率が、例
えばポリメチルメタクリレートでは60%程度以下
になるため、低い反射率しか示さない記録層では
検出できないからである。 色素蒸着膜からなる記録層の、読み出しのS/
N比を向上させるためには、通常、基体と記録層
との間に、Al等の蒸着反射膜を介在させている。 この場合、蒸着反射膜は、反射率を上げてS/
N比を向上させるためのものであり、ピツト形成
により反射膜が露出して反射率が増大したり、あ
るいは場合によつては、反射膜を除去して反射率
を減少させるものであるが、当然のことながら、
基体をとおしての記録再生はできない。 同様に、特開昭55−161690号には、IR−132色
素(コダツク社製)とポリ酢酸ビニルとからなる
記録層、また、特開昭57−74845号には、1,
1′−ジエチル−2,2′−トリカルボシアニンイオ
ダイドとニトロセルロースとからなる記録層、さ
らにはK.Y.Law、et al.、Appl.Phys.Lett.39(9)
718(1981)には、3,3′−ジエチル−12−アセチ
ルチアテトラカルボシアニンとポリ酢酸ビニルと
からなる記録層など、色素と樹脂とからなる記録
層を塗布法によつて設層した媒体が開示されてい
る。 しかし、これらの場合にも、基体と記録層との
間に反射膜を必要としており、基体裏面側からの
記録再生ができない点で、色素蒸着膜の場合と同
様の欠点をもつ。 このように、基体をとおしての記録再生が可能
であり、Te系材料からなる記録層をもつ媒体と
の互換性を有する、有機材料系の記録層をもつ媒
体を実現するには、有機材料自身が大きな反射率
を示す必要がある。 しかし、従来、反射層を積層せずに、有機材料
の単層にて高い反射率を示す例はきわめて少な
い。 例えば、チアゾール系やキノリン系等のシアニ
ン色素やメロシアニン色素でも、高反射率が示さ
れる旨が報告〔山本他、第27回 応用物理学会予
稿集1p−P−9(1980)〕されており、これにも
とづく提案が特開昭58−112790号になされている
が、これら色素は、特に塗膜として設層したとき
に、溶剤に対する溶解度が小さく、また結晶化し
やすく、さらには読み出し光に対してきわめてて
不安定でただちに脱色してしまい、実用に供しえ
ない。 このような実状に鑑み、本発明者らは、先に、
溶剤に対する溶解度が高く、結晶化も少なく、か
つ熱的に安定であつて、塗膜の反射率が高いイン
ドレニン系のシアニン色素を単層膜として用いる
旨を提案している(特願昭57−134397号、同57−
134170号)。 また、インドレニン系、あるいはチアゾール
系、キノリン系、セレナゾール系等の他のシアニ
ン色素においても、長鎖アルキル基を分子中に導
入して、溶解性の改善と結晶化の防止がはかられ
ることを提案している(特願昭57−182589号、同
57177776号等)。 さらに、光安定性をまし、特に読み出し光によ
る脱色(再生劣化)を防止するために、シアニン
色素にクエンチヤーを添加する旨の提案を行つて
いる(特願昭57−166832号、同57−168048号等)。 さらに、スチリル系、インドリル系、ピリリウ
ム、チアピリリウム、セレナピリリウムないしテ
ルロピリリウム系、ポリメチン系等の色素にクエ
ンチヤーを添加して、再生劣化が減少する旨の提
案も行つている(特願昭58−181357号、同58−
181368号、同58−181369号、同58−183454号、同
58−183455号、同58−183456号)。 また、さらに、再生劣化がきわめて少なく、耐
湿性が良好な記録層として、色素カチオンとクエ
ンチヤーアニオンとの結合体を含む記録層の提案
も行つている(特願昭59−14848号等)。 このような記録層に含まれる種々の色素の中
で、フタロシアニン化合物は、光、熱、湿度等い
ずれに対しても安定であり、堅牢性に優れてい
る。 しかし、フタロシアニン化合物を記録層として
用いた場合、近赤外および赤外域に吸収がなく、
このような範囲の記録光では、記録層への書き込
みが困難であつた。 また、塗布法で記録層を形成すすることも困難
であつた。 発明の目的 本発明の目的は、光記録媒体を構成する記録層
が、光、熱、湿度、いずれに対しても安定であ
り、堅牢性に優れ、しかも近赤外および赤外域の
記録光によつても使用可能で、塗布法によつて成
膜可能な記録層を有する光記録媒体を提供するこ
とにある。 発明の開示 このような目的は、下記の本発明によつて達成
される。 すなわち、本発明は、 式() 式() {式()および()中、Pcは、水素原子、
金属もしくは半金属原子またはM1Xに配位した
フタロシアニン核を表わす。 M1はB金属原子を表わし、Xはハロゲン原
子を表わす。 R1およびR3は、それぞれ、置換または非置換
の脂肪族基または芳香族基を表わす。 R2は置換または非置換の2価の脂肪族基また
は芳香族基を表わす。 Yは水素原子またはハロゲン原子を表わす。 nは5〜16、pは1〜8、mは0〜14の正の整
数を表わす} で示されるフタロシアニン化合物を基体上に塗布
して形成した記録層を有することを特徴とする光
記録媒体である。 発明の具体的構成 以下、本発明の具体的構成について詳細に説明
する。 本発明の光記録媒体の記録層は、下記の式
()または()で示されるようなフタロシア
ニン化合物を含んでいる。 式() 式() 上記式()および()において、Pcは水
素原子、金属もしくは半金属原子またはM1Xに
配位したフタロシアニン核を表わす。 M1はB金属原子を表わし、Xはハロゲン原
子を表わす。 金属または半金属原子としては、例えば、Zn、
Pb、Cu、Ni、Fe、Co、Sr、Ca、Yb、Li、Ag、
Ru、Sm、Tb、Dy、U、Tl、Cs、Pd、Nd、
Ga、In、Sn、Si、Pt、Mn、Ge、Be、Al、V、
Sn、Mg、Ti等; であり、このなかでCu、Ni、Co、Fe、Zn、Al、
Pt、V、水素が好ましい。 M1はB金属原子(Al、Ga、In、Tl)であ
り、このなかで特にAl、Ga、Inが好ましい。 Xはハロゲン原子、例えばF、Cl、Br、I
等; であり、なかでもCl、Br、Iが好ましい。 フタロシアニンは、水素原子や、1価の金属原
子や、M1Xに対し1:1で配位し、またフタロ
シアニン核1分子は、2価の金属原子等の1/2個
に配位する。 フタロシアニン核は、下記式()で表わされ
る。 式() 上記式()で、−OR1、−OR2O−、−OR3もし
くはYが置換する位置は1〜16のいずれかであ
る。 R1およびR3は1価、R2は2価であつて、炭素
数1〜20の置換もしくは非置換の脂肪族基、例え
ば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル
基、ペンチル基、ヘキシル基、エチレン基、プロ
ピレン基、ブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレ
ン基、ベンジル基、フエネチル基、シクロヘキシ
ル基、アリル基、ドデシル基、−CH2CH2CH=
CH−CH2−、シクロヘキセン基、
【式】イソプロペニル基、−C2H4
−Cl、−CH2−NH2等;
炭素数6〜24の置換もしくは非置換の芳香族
基、例えば、フエニル基、トリル基、フエニレン
基、ナフチレン基、メトキシフエニル基、ナフチ
ル基、塩化フエニル基、キシリル基、
基、例えば、フエニル基、トリル基、フエニレン
基、ナフチレン基、メトキシフエニル基、ナフチ
ル基、塩化フエニル基、キシリル基、
【式】
【式】スチリル基、シンナミル
基、フエネチル基、メチルフエニレン基、
【式】、ピリジル基、ピロリル
基、キノリル基、フリル基、フルフリル基、フエ
ニル基、ピペリジル基、ピリミジル基等; である。 Yは、水素原子; ハロゲン原子、例えば、Cl、Br、I、F等; であり、なかでも、H、Cl、Br、Iが好ましい。 nは、5〜16の正の整数を表わし、なかでも8
〜16であることが好ましい。 pは1〜8、mは0〜14の正の整数を表わす。 以下に本発明のフタロシアニン化合物の具体例
を挙げる。 (1) オクタ−(4−メチルフエノキシ)−CuPc (2) オクタ−(メトキシ)−CuPc (3) オクタ−(−OC2H5)−CuPc (4) オクタ−(−OC3H7)−CuPc (5) オクタ−(−OC4H9)−H2Pc (6) オクタ−
ニル基、ピペリジル基、ピリミジル基等; である。 Yは、水素原子; ハロゲン原子、例えば、Cl、Br、I、F等; であり、なかでも、H、Cl、Br、Iが好ましい。 nは、5〜16の正の整数を表わし、なかでも8
〜16であることが好ましい。 pは1〜8、mは0〜14の正の整数を表わす。 以下に本発明のフタロシアニン化合物の具体例
を挙げる。 (1) オクタ−(4−メチルフエノキシ)−CuPc (2) オクタ−(メトキシ)−CuPc (3) オクタ−(−OC2H5)−CuPc (4) オクタ−(−OC3H7)−CuPc (5) オクタ−(−OC4H9)−H2Pc (6) オクタ−
【式】−CuPc
(7) オクタ−
【式】−CuPc
(8) オクタ−
【式】−NiPc
(9) デカ−
【式】−CoPc
(10) デカ−(−OC5H11)−H2Pc
(11) ウンデカ−
【式】−CoPc
(12) ペンタデカ−(−OC2H5)−H2Pc
(13) ペンタデカ−
【式】−PbPc
(14) ペンタデカ−(−OC3H7)−ZnPc
(15) オクタ−
【式】−H2Pc
(16) ペンタデカ−
【式】−CuPc
(17) ペンタデカ−
【式】−
CuPc
(18) ペンタデカ−(−O−C2H5)−CuPc
(19) ペンタデカ−(−O−CH3)−CuPc
(20) ペンタデカ−(−O−CH3)−H2Pc
(21) ペンタデカ−
【式】−
CuPc
(22) ペンタデカ−
【式】−
H2Pc
(23) ヘキサデカ−
【式】−CuPc
(24) ヘキサデカ−
【式】−
H2Pc
(25) ヘキサデカ−(−O−CH3)−CuPc
(26) ヘキサデカ−(−O−C2H5)−CuPc
(27) オクタ−
【式】−CuPc
(28) オクタ−
【式】−CoPc
(29) ヘキサデカ−(−OC3H7)−FePc
(30) ヘキサデカ−
【式】−
CuPc
(31) オクタ−(−O−C2H5)テトラー4,5−
【式】−CuPc
(32) デカー
【式】ジ−(−O−
C6H12−O−)−CuPc
(33) ヘキサデカ−
【式】モノ
−
【式】−H2Pc
(34) オクター(−OCH3)−AlClPc
(35) オクタ−(−OC2H5)−InClPc
(36) オクタ−
【式】−GaClPc
(37) オクタ−(−OC3H7)−InBrPc
(38) オクタ−(−OC2H5)−TlClPc
(39) オクタ−
【式】−AlClPc
(40) デカ−
【式】−AlBrPc
(41) デカ−(−O−C2H5)AlIPc
(42) ウンデカ−
【式】−
GaBrPc
(43) ペンタデカ−
【式】InClPc
(44) ペンタデカ−
【式】
AlClPc
(45) ペンタデカ−
【式】
CaClPc
(46) ペンタデカ−(−O−C2H5)InIPc
(47) ペンタデカ−(−O−C2H5)GaIPc
(48) ヘキサデカ−
【式】
InClPc
(49) ヘキサデカ−
【式】GaClPc
(50) ヘキサデカ−(−O−C2H5)InBrPc
(51) ヘキサデカ−(−OC3H7)AlClPc
(52) ヘキサデカ−
【式】
GaBrPc
(53) ヘキサデカ−
【式】AlBrPc
(54) ウンデカ−(−O−C2H5)InClPc
(55) オクタ−3,6−(−O−C2H5)テトラ
【式】−AlClPc
(56) デカ−
【式】ジ−(−O−
C5H10−O)
(57) ヘキサデカ−
【式】モノ
−
【式】AlBrPc
本発明のフタロシアニン化合物は、一般に次の
スキームに従う方法で合成することができる。 スキーム 1 R1OH+KOHキノリン中 ――――――――→ 140℃、1hrR1O-K+nR1O-K++MkPc(Y)16 ―――――――――――――→ ―――――――――――――→ 160〜180℃、1hrMk−Pc−(OR1)o(Y)16-o+副生成
物 この方法を用いた場合の反応生成物の精製は次
のように行なう。 反応生成物を100℃に冷却し、エタノールで希
釈した後、室温に戻して濾過する。この濾別した
ものをエタノールで洗浄し、さらにエタノール−
水溶液で洗浄し、乾燥する。こうして得られた組
生成物をシリカカラムでトルエンによつて展開
し、分離して精製する。 この場合の反応生成物の精製は、スキーム1と
同様に行う。 この場合の反応生成物の精製は、スキーム1と
同様に行う。 次に、本発明のフタロシアニン化合物の合成例
を挙げる。 合成例 1 例示化合物(3)の合成 エタノール12gとKOH 6gとをキノリン中で
145℃にて2時間反応させた。これにCuPc(Cl)16
7gを加え、160〜180℃にて2時間反応させた。
得られた反応生成物を100℃に冷却した後、エタ
ノール(EtOH)で希釈して室温に戻し、濾過し
た。濾別したものをEtOHで洗浄し、さらに
EtOH−H2O(1:1)溶液で洗浄し、乾燥した。 このようにして得られた粗生成物をシリカカラ
ムでトルエンによつて展開し、分離、精製した。
これを2回繰り返して目的物を得た。 収 率 35% 元素分析 C O N Cu 計算値/% 49.52 11.01 9.63 5.46 実測値/% 47.21 11.31 9.69 5.52 吸収極大λmax 710nm(スピンナー塗布により0.1μm厚の薄
膜を形成して測定) 合成例 2 例示化合物(6)の合成 合成例1と同様にして目的物を得た。 収 率 42% 元素分析 C O N Cu 計算値/% 62.05 8.27 7.24 4.10 実測値/% 60.03 8.41 7.21 4.24 合成例 3 例示化合物(15)の合成 合成例1と同様にして目的物を得た。 収 率 18% 元素分析 C O N H 計算値/% 59.81 14.50 6.34 3.29 実測値/% 60.21 14.01 6.52 3.01 合成例 4 例示化合物(11)の合成 合成例1と同様にして目的物を得た。 収 率 19.7% 元素分析 C H N Cu 計算値/% 73.77 3.33 4.85 2.75 実測値/% 71.68 3.71 4.83 2.98 合成例 5 例示化合物(18)の合成 合成例1と同様にして目的物を得た。 収 率 18.4% 元素分析 C H N Cu 計算値/% 58.58 5.91 8.82 5.00 実測値/% 58.62 5.81 8.80 5.03 合成例 6 例示化合物(26)の合成 1モルとエタノール(EtOH)4モルとを130
℃で3時間反応させ、 を得た。この化合物4モルにLi+(OC5H11)-2モル
を加えて、130℃で2時間反応させ、Li2Pc−(
OEt)16を得た。さらに、この化合物1モルに
CuCl21モルを加えてアミルアルコール中で120℃
で2時間反応させ、目的物を得た。 精製は実施例1と同様に行なつた。 収 率 23.9% 元素分析 C H N Cu 計算値/% 60.02 6.25 8.75 4.96 実測値/% 60.14 6.20 8.69 4.91 吸収極大λmax 810nm(スピンナー塗布により0.01μm厚の
薄膜を形成して測定) 合成例 7 例示化合物(28)の合成 合成例6と同様にして目的物を得た。 収 率 33.5% 元素分析 C H N Co 計算値/% 67.79 2.82 5.65 2.97 実測値/% 66.99 2.85 5.70 2.91 合成例 8 例示化合物(23)の合成 合成例6と同様にして目的物を得た。 収 率 19.8% 元素分析 C H N Cu 計算値/% 75.02 3.91 5.47 3.10 実測値/% 73.82 3.93 5.52 3.06 合成例 9 例示化合物(29)の合成 合成例6と同様にして目的物を得た。 収 率 28.4% 元素分析 C H N Fe 計算値/% 64.18 7.49 7.49 3.73 実測値/% 62.94 7.45 7.38 3.84 合成例 10 例示化合物(30)の合成 合成例6と同様にして目的物を得た。 収 率 36.4% 元素分析 C H N Cu 計算値/% 80.91 3.93 39.30 2.23 実測値/% 82.90 3.92 39.10 2.21 合成例 11 例示化合物(50)の合成
スキームに従う方法で合成することができる。 スキーム 1 R1OH+KOHキノリン中 ――――――――→ 140℃、1hrR1O-K+nR1O-K++MkPc(Y)16 ―――――――――――――→ ―――――――――――――→ 160〜180℃、1hrMk−Pc−(OR1)o(Y)16-o+副生成
物 この方法を用いた場合の反応生成物の精製は次
のように行なう。 反応生成物を100℃に冷却し、エタノールで希
釈した後、室温に戻して濾過する。この濾別した
ものをエタノールで洗浄し、さらにエタノール−
水溶液で洗浄し、乾燥する。こうして得られた組
生成物をシリカカラムでトルエンによつて展開
し、分離して精製する。 この場合の反応生成物の精製は、スキーム1と
同様に行う。 この場合の反応生成物の精製は、スキーム1と
同様に行う。 次に、本発明のフタロシアニン化合物の合成例
を挙げる。 合成例 1 例示化合物(3)の合成 エタノール12gとKOH 6gとをキノリン中で
145℃にて2時間反応させた。これにCuPc(Cl)16
7gを加え、160〜180℃にて2時間反応させた。
得られた反応生成物を100℃に冷却した後、エタ
ノール(EtOH)で希釈して室温に戻し、濾過し
た。濾別したものをEtOHで洗浄し、さらに
EtOH−H2O(1:1)溶液で洗浄し、乾燥した。 このようにして得られた粗生成物をシリカカラ
ムでトルエンによつて展開し、分離、精製した。
これを2回繰り返して目的物を得た。 収 率 35% 元素分析 C O N Cu 計算値/% 49.52 11.01 9.63 5.46 実測値/% 47.21 11.31 9.69 5.52 吸収極大λmax 710nm(スピンナー塗布により0.1μm厚の薄
膜を形成して測定) 合成例 2 例示化合物(6)の合成 合成例1と同様にして目的物を得た。 収 率 42% 元素分析 C O N Cu 計算値/% 62.05 8.27 7.24 4.10 実測値/% 60.03 8.41 7.21 4.24 合成例 3 例示化合物(15)の合成 合成例1と同様にして目的物を得た。 収 率 18% 元素分析 C O N H 計算値/% 59.81 14.50 6.34 3.29 実測値/% 60.21 14.01 6.52 3.01 合成例 4 例示化合物(11)の合成 合成例1と同様にして目的物を得た。 収 率 19.7% 元素分析 C H N Cu 計算値/% 73.77 3.33 4.85 2.75 実測値/% 71.68 3.71 4.83 2.98 合成例 5 例示化合物(18)の合成 合成例1と同様にして目的物を得た。 収 率 18.4% 元素分析 C H N Cu 計算値/% 58.58 5.91 8.82 5.00 実測値/% 58.62 5.81 8.80 5.03 合成例 6 例示化合物(26)の合成 1モルとエタノール(EtOH)4モルとを130
℃で3時間反応させ、 を得た。この化合物4モルにLi+(OC5H11)-2モル
を加えて、130℃で2時間反応させ、Li2Pc−(
OEt)16を得た。さらに、この化合物1モルに
CuCl21モルを加えてアミルアルコール中で120℃
で2時間反応させ、目的物を得た。 精製は実施例1と同様に行なつた。 収 率 23.9% 元素分析 C H N Cu 計算値/% 60.02 6.25 8.75 4.96 実測値/% 60.14 6.20 8.69 4.91 吸収極大λmax 810nm(スピンナー塗布により0.01μm厚の
薄膜を形成して測定) 合成例 7 例示化合物(28)の合成 合成例6と同様にして目的物を得た。 収 率 33.5% 元素分析 C H N Co 計算値/% 67.79 2.82 5.65 2.97 実測値/% 66.99 2.85 5.70 2.91 合成例 8 例示化合物(23)の合成 合成例6と同様にして目的物を得た。 収 率 19.8% 元素分析 C H N Cu 計算値/% 75.02 3.91 5.47 3.10 実測値/% 73.82 3.93 5.52 3.06 合成例 9 例示化合物(29)の合成 合成例6と同様にして目的物を得た。 収 率 28.4% 元素分析 C H N Fe 計算値/% 64.18 7.49 7.49 3.73 実測値/% 62.94 7.45 7.38 3.84 合成例 10 例示化合物(30)の合成 合成例6と同様にして目的物を得た。 収 率 36.4% 元素分析 C H N Cu 計算値/% 80.91 3.93 39.30 2.23 実測値/% 82.90 3.92 39.10 2.21 合成例 11 例示化合物(50)の合成
【式】
1モルと、エタノール(EtOH)4モルとを
140℃、2時間で反応させ、
140℃、2時間で反応させ、
【式】を得た。
この化合物4モルにLi+(OC5H11)-2モルを加え
て150℃で2時間反応させ、Li2Pc−(OEt)16を得
た。さらに、この化合物1モルにInCl31モルを加
えて、アミルアルコール中で130℃に1時間反応
させ、目的物を得た。この反応生成物を100℃に
冷却した後、エタノール(EtOH)で希釈して室
温に戻し、濾過した。瀘別したものをEtOHで洗
浄し、さらにEtOH−H2O(1:1)溶液で洗浄
し、乾燥した。このようにして得られた粗生成物
をシリカカラムでトルエンによつて展開し、分
離、精製して目的物を得た。 収 率 18.6% 元素分析 C H N In 計算値/% 54.44 5.67 7.94 8.14 実測値/% 54.52 5.66 7.91 8.16 吸収極大 λmax 830nm(スピンナー塗布により0.1μm厚の薄
膜を形成して測定) 合成例 12 例示化合物(35)の合成 合成例11と同様にして目的物を得た。 収 率 23.2% 元素分析 C H N In 計算値/% 44.66 3.10 8.68 8.90 実測値/% 43.92 3.11 8.66 8.94 合成例 13 例示化合物(36)の合成 合成例11と同様にして目的物を得た。 収 率 28.4% 元素分析 C H N Ga 計算値/% 58.94 2.46 6.88 4.28 実測値/% 57.94 2.47 6.91 4.30 合成例 14 例示化合物(39)の合成 合成例11と同様にして目的物を得た。 収 率 31.8% 元素分析 C H N Ga 計算値/% 66.25 2.76 5.52 3.44 実測値/% 65.84 2.72 5.58 3.49 合成例 15 例示化合物(48)の合成 βナフトール16モルとKOH16モルとをキノリ
ン中で140℃にて1時間反応させた。 これにInClPc(Cl)161モルを加え、160〜180℃
にて1時間反応させた。 得られた反応生成物の精製は合成例11と同様に
行つた。 収 率 23.6% 元素分析 C H N In 計算値/% 78.52 3.82 3.82 3.91 実測値/% 77.94 3.85 3.88 3.89 吸収極大 λmax 840nm(スピンナー塗布により0.1μm厚の薄
膜を形成して測定) 合成例 16 例示化合物(44)の合成 合成例15と同様にして目的物を得た。 収 率 28.5% 元素分析 C H N Al 計算値/% 69.11 1.89 4.71 1.13 実測値/% 69.25 1.87 4.70 1.13 合成例 17 例示化合物(37)の合成 合成例15と同様にして目的物を得た。 収 率 22.8% 元素分析 C H N In 計算値/% 37.29 3.10 6.22 6.37 実測値/% 37.11 3.12 6.21 6.39 合成例 18 例示化合物(54)の合成 合成例15と同様にして目的物を得た。 収 率 29.4% 元素分析 C H N In 計算値/% 49.15 4.17 8.49 8.71 実測値/% 48.93 4.19 8.51 8.70 このようなフタロシアニン化合物は、2種以上
用いてもよい。また本発明の効果をそこなわない
範囲で、他の色素と組み合わせて記録層を形成し
てもよい。 記録層中には、必要に応じ、樹脂が含まれてい
てもよい。 用いる樹脂としては、自己酸化性、解重合性な
いし熱可塑性樹脂が好適である。 これらのうち、特に好適に用いることができる
熱可塑性樹脂には、以下のようなものがある。 (i) ポリオレフイン ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ4−メ
チルペンテン−1など。 (ii) ポリオレフイン共重合体 例えば、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エ
チレン−アクリル酸エステル共重合体、エチレ
ン−アクリル酸共重合体、エチレン−プロピレ
ン共重合体、エチレン−ブテン−1共重合体、
エチレン−無水マレイン酸共重合体、エチレン
プロピレンターポリマー(EPT)など。 この場合、コモノマーの重合比は任意のもの
とすることができる。 (iii) 塩化ビニル共重合体 例えば、酢酸ビニル−塩化ビニル共重合体、
塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合体、塩化ビ
ニル−無水マレイン酸共重合体、アクリル酸エ
ステルないしメタアクリル酸エステルと塩化ビ
ニルとの共重合体、アクリロニトリル−塩化ビ
ニル共重合体、塩化ビニルエーテル共重合体、
エチレンないしプロピレン−塩化ビニル共重合
体、エチレン−酢酸ビニル共重合体に塩化ビニ
ルをグラフト重合したものなど。 この場合、共重合比は任意のものとすること
ができる。 (iv) 塩化ビニリデン共重合体 塩化ビニリデン−塩化ビニル共重合体、塩化
ビニリデン−塩化ビニル−アクリロニトリル共
重合体、塩化ビニリデン−ブタジエン−ハロゲ
ン化ビニル共重合体など。 この場合、共重合比は、任意のものとするこ
とができる。 (v) ポリスチレン (vi) スチレン共重合体 例えば、スチレン−アクリロニトリル共重合
体(AS樹脂)、スチレン−アクリロニトリル−
ブタジエン共重合体(ABS樹脂)、スチレン−
無水マレイン酸共重合体(SMA樹脂)、スチレ
ン−アクリル酸エステル−アクリルアミド共重
合体、スチレン−ブタジエン共重合体
(SBR)、スチレン−塩化ビニリデン共重合体、
スチレン−メチルメタアクリレート共重合体な
ど。 この場合、共重合比は任意のものとすること
ができる。 (vii) スチレン型重合体 例えば、α−メチルスチレン、p−メチルス
チレン、2,5−ジクロルスチレン、α,β−
ビニルナフタレン、α−ビニルピリジン、アセ
ナフテン、ビニルアントラセンなど、あるいは
これらの共重合体、例えば、α−メチルスチレ
ンとメタクリル酸エステルとの共重合体。 (viii) クマロン−インデン樹脂 クマロン−インデン−スチレンの共重合体。 (ix) テルペン樹脂ないしピコライト 例えば、α−ピネンから得られるリモネンの
重合体であるテルペン樹脂や、β−ピネンから
得られるピコライト。 (x) アクリル樹脂 特に下記式で示される原子団を含むものが好
ましい。 式 上記式において、R10は、水素原子またはア
ルキル基を表わし、R20は、置換または非置換
のアルキル基を表わす。この場合、上記式にお
いて、R10は、水素原子または炭素原子数1〜
4の低級アルキル基、特に水素原子またはメチ
ル基であることが好ましい。 また、R20は、置換、非置換いずれのアルキ
ル基であつてもよいが、アルキル基の炭素原子
数は1〜8であることが好ましく、また、R20
が置換アルキル基であるときには、アルキル基
を置換する置換基は、水酸基、ハロゲン原子ま
たはアミノ基(特に、ジアルキルアミノ基)で
あることが好ましい。 このような上記式で示される原子団は、他の
くりかえし原子団とともに、共重合体を形成し
て各種アクリル樹脂を構成してもよいが、通常
は、上記式で示される原子団の1種または2種
以上をくりかえし単位とする単独重合体または
共重合体を形成してアクリル樹脂を構成するこ
とになる。 () ポリアクリロニトリル () アクリロニトリル共重合体 例えば、アクリロニトリル−酢酸ビニル共重
合体、アクリロニトリル−塩化ビニル共重合
体、アクリロニトリル−スチレン共重合体、ア
クリロニトリル−塩化ビニリデン共重合体、ア
クリロニトリル−ビニルピリジン共重合体、ア
クリロニトリル−メタクリル酸メチル共重合
体、アクリロニトリル−ブタジエン共重合体、
アクリロニトリル−アクリル酸ブチル共重合体
など。 この場合、共重合比は任意のものとすること
ができる。 () ダイアセトンアクリルアミドポリマー アクリロニトリルにアセトンを作用させたダ
イアセトンアクリルアミドポリマー。 () ポリ酢酸ビニル () 例えば、アクリル酸エステル、ビニルエ
ーテル、エチレン、塩化ビニル等との共重合体
など。 共重合比は任意のものであつてよい。 () ポリビニルエーテル 例えば、ポリビニルメチルエーテル、ポリビ
ニルエチルエーテル、ポリビニルブチルエーテ
ルなど。 () ポリアミド この場合、ポリアミドとしては、ナイロン
6、ナイロン6−6、ナイロン6−10、ナイロ
ン6−12、ナイロン9、ナイロン11、ナイロン
12、ナイロン13等の通常のホモナイロンの他、
ナイロン6/6−6/6−10、ナイロン6/6
−6/12、ナイロン6/6−6/11等の重合体
や、場合によつては変性ナイロンであつてもよ
い。 () ポリエステル 例えば、シユウ酸、コハク酸、マレイン酸、
アジピン酸、セバステン酸等の脂肪族二塩基
酸、あるいはイソフタル酸、テレフタル酸など
の芳香族二塩基酸などの各種二塩基酸と、エチ
レングリコール、テトラメチレングリコール、
ヘキサメチレングリコール等のグリコール類と
の縮合物や、共縮合物が好適である。 そして、これらのうちでは、特に脂肪族二塩
基酸とグリコール類との縮合物や、グリコール
類と脂肪族二塩基酸との共縮合物は、特に好適
である。 さらに、例えば、無水フタル酸とグリセリン
との縮合物であるグリプタル樹脂を、脂肪酸、
天然樹脂等でエステル化変性した変性グリプタ
ル樹脂等も好適に使用される。 () ポリビニルアセタール系樹脂 ポリビニルアルコールを、アセタール化して
得られるポリビニルホルマール、ポリビニルア
セタール系樹脂はいずれも好適に使用される。 この場合、ポリビニルアセタール系樹脂のア
セタール化度は任意のものとすることができ
る。 () ポリウレタン樹脂 ウレタン結合をもつ熱可塑性ポリウレタン樹
脂。 特に、グリコール類とジイソシアナート類と
の縮合によつて得られるポリウレタン樹脂、と
りわけ、アルキレングリコールとアルキレンジ
イソシアナートとの縮合によつて得られるポリ
ウレタン樹脂が好適である。 () ポリエーテル スチレンホルマリン樹脂、環状アセタールの
開環重合物、ポリエチレンオキサイドおよびグ
リコール、ポリプロピレンオキサイドおよびグ
リコール、プロピレンオキサイド−エチレンオ
キサイド共重合体、ポリフエニレンオキサイド
など。 () セルロース誘導体 例えば、ニトロセルロース、アセチルセルロ
ース、エチルセルロース、アセチルブチルセル
ロース、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロ
キシプロピルセルロース、メチルセルロース、
エチルヒドロキシエチルセルロースなど、セル
ロースの各種エステル、エーテルないしこれら
の混合体。 () ポリカーボネート 例えば、ポリジオキシジフエニルメタンカー
ボネート、ジオキシジフエニルプロパンカーボ
ネート等の各種ポリカーボネート。 () アイオノマー メタクリル酸、アクリル酸などのNa、Li、
Zn、Mg塩など。 () ケトン樹脂 例えば、シクロヘキサノンやアセトフエノン
等の環状ケトンとホルムアルデヒドとの縮合
物。 () キシレン樹脂 例えば、m−キシレンまたはメシチレンとホ
ルマリンとの縮合物、あるいはその変性体。 () 石油樹脂 C5系、C9系、C5−C9共重合系、ジシクロペ
ンタジエン系、あるいは、これらの共重合体な
いし変性体など。 () 上記(i)〜()の2種以上のブレ
ンド体、またはその他の熱可塑性樹脂とのブレ
ンド体。 なお、樹脂の分子量等は、種々のものであつて
よい。 このような樹脂と、前記の色素とは、通常、重
量比で1対0.1〜100の広範な量比にて設層され
る。 なお、このような記録層中には、別途他のクエ
ンチヤー、例えば、特願昭58−181368号等に記載
したものが含有されてもよい。 このような記録層を設層するには、常法に従い
塗設すればよい。 そして、記録層の厚さは、通常、0.02〜10μm
程度とされる。 なお、このような記録層には、この他、他の色
素や、他のポリマーないしオリゴマー、各種可塑
剤、界面活性剤、帯電防止剤、滑剤、難燃剤、安
定剤、分散剤、酸化防止剤、そして架橋剤等が含
有されていてもよい。 このような記録層を設層するには、基体上に、
所定の溶媒を用いて塗布、乾燥すればよい。 なお、塗布に用いる溶媒としては、例えば、メ
チルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シ
クロヘキサノン等のケトン系、酢酸ブチル、酢酸
エチル、カルビトールアセテート、ブチルカルビ
トールアセテート等のエステル系、メチルセロソ
ルブ、エチルセロソルブ等のエーテル系、ないし
トルエン、キシレン等の芳香族系、ジクロロエタ
ン等のハロゲン化アルキル系、アルカン系、脂環
系、アルコール系などを用いればよい。 このような記録層を設層する基体の材質として
は、書き込み光および読み出し光に対し実質的に
透明なものであれば、特に制限はなく、各種樹
脂、ガラス等いずれであつてもよい。 また、その形状は使用用途に応じ、テープ、カ
ード、ドラム、ベルト等いずれであつてもよい。 なお、基体は、通常、トラツキング用の溝を有
する。 また、基体用の樹脂材質としては、ポリメチル
メタクリレート、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、
ポリカーボネート樹脂、ポリサルフオン樹脂、ポ
リエーテルサルフオン、メチルペンテンポリマー
等の、みぞ付きないしみぞなし基体が好適であ
る。 これらの基体には、耐溶剤性、ぬれ性、表面張
力、熱伝導度等を改善するために、基体上に下地
層を形成することが好ましい。下地層の材質とし
ては、Si、Ti、Al、Zr、In、Ni、Ta等の有機錯
化合物や有機多官能性化合物を塗布、加熱乾燥し
て形成された酸化物であることが好ましい。 この他、各種感光性樹脂等下地層として用いる
こともできる。 また、記録層上には、必要に応じ、各種最上層
保護層、ハーフミラー層などを設けることもでき
る。 本発明の媒体は、このような基体の一面上に上
記の記録層を有するものであつてもよく、その両
面に記録層を有するものであつてもよい。 また、基体の一面上に記録層を塗設したものを
2つ用い、それらを記録層が向かいあうようにし
て、所定の間隙をもつて対向させ、それを密閉し
たりして、ホコリやキズがつかないようにするこ
ともできる。 また、このような所定の間隙に、シリコーン樹
脂等を充填して、密着型にすることもできる。 発明の具体的作用 本発明の媒体は、走行ないし回転下において記
録光をパルス状に照射する。このとき記録層中の
色素の発熱により、色素が融解等し、ビツトが形
成される。 このように形成されたビツトは、やはり媒体の
走行ないし回転下、読み出し光の反射光ないし透
過光、特に反射光を検出することにより読し出さ
れる。 この場合、記録および読み出しは、主に、基体
側から基体をとおして行う。 そして、一旦記録層に形成したピツトを光ない
し熱で消去し、再書き込みを行うこともできる。 なお、記録ないし読み出し光としては、半導体
レーザー等を用いることができる。 発明の具体的効果 本発明によれば、読み出し光による再生劣化が
きわめて小さくなる。 そして、耐光性も向上し、明室保存による特性
劣化が少なく、さらに耐熱性、耐酸化性、耐湿性
にも優れる。 そして、消去および再書き込みを行うようなと
きにも特性の劣化が少ない。さらには、保存性も
向上する。 また、近赤外および赤外域の記録光によつて
も、容易に書き込みができる。 また、反射層を積層しなくても、基体をとおし
て書き込みと読み出しを良好に行うことができ
る。 そして、このような効果をもつ記録層を、量産
性の高い塗布法によつて成膜することができる。
この際、膜の均一性はきわめて良好である。 発明の具体的実施例 以下、本発明の具体的実施例を示し、本発明を
さらに詳細に説明する。 実施例 1 下記表1に示されるフタロシアニン化合物を用
い、フタロシアニン化合物0.05gをトルエン等の
有機溶剤2.7gに溶解して、濾過した後、直径30
cmの案内溝付アクリルデイスク基板上に、0.08μ
mの厚さにスピンナーを用いて塗布設層して、各
種媒体をえた。 なお、用いたフタロシアニン化合物は上記にて
例示したNo.のものを用いた。 このようにして作製した各媒体を、900r.p.m.
にて回転させながら、半導体レーザーを用いて、
基板裏面側から書き込みを行つた。この場合、集
光部出力は10mW、周波数は2MHzである。 次いで、半導体レーザーを読み出し光とし、基
板をとおしての反射光を検出してヒユーレツトパ
ツカード社製のスペクトラムアナライザーにて、
バンド巾30KHzでC/N比を測定した。 これらの結果を表1に示す。
て150℃で2時間反応させ、Li2Pc−(OEt)16を得
た。さらに、この化合物1モルにInCl31モルを加
えて、アミルアルコール中で130℃に1時間反応
させ、目的物を得た。この反応生成物を100℃に
冷却した後、エタノール(EtOH)で希釈して室
温に戻し、濾過した。瀘別したものをEtOHで洗
浄し、さらにEtOH−H2O(1:1)溶液で洗浄
し、乾燥した。このようにして得られた粗生成物
をシリカカラムでトルエンによつて展開し、分
離、精製して目的物を得た。 収 率 18.6% 元素分析 C H N In 計算値/% 54.44 5.67 7.94 8.14 実測値/% 54.52 5.66 7.91 8.16 吸収極大 λmax 830nm(スピンナー塗布により0.1μm厚の薄
膜を形成して測定) 合成例 12 例示化合物(35)の合成 合成例11と同様にして目的物を得た。 収 率 23.2% 元素分析 C H N In 計算値/% 44.66 3.10 8.68 8.90 実測値/% 43.92 3.11 8.66 8.94 合成例 13 例示化合物(36)の合成 合成例11と同様にして目的物を得た。 収 率 28.4% 元素分析 C H N Ga 計算値/% 58.94 2.46 6.88 4.28 実測値/% 57.94 2.47 6.91 4.30 合成例 14 例示化合物(39)の合成 合成例11と同様にして目的物を得た。 収 率 31.8% 元素分析 C H N Ga 計算値/% 66.25 2.76 5.52 3.44 実測値/% 65.84 2.72 5.58 3.49 合成例 15 例示化合物(48)の合成 βナフトール16モルとKOH16モルとをキノリ
ン中で140℃にて1時間反応させた。 これにInClPc(Cl)161モルを加え、160〜180℃
にて1時間反応させた。 得られた反応生成物の精製は合成例11と同様に
行つた。 収 率 23.6% 元素分析 C H N In 計算値/% 78.52 3.82 3.82 3.91 実測値/% 77.94 3.85 3.88 3.89 吸収極大 λmax 840nm(スピンナー塗布により0.1μm厚の薄
膜を形成して測定) 合成例 16 例示化合物(44)の合成 合成例15と同様にして目的物を得た。 収 率 28.5% 元素分析 C H N Al 計算値/% 69.11 1.89 4.71 1.13 実測値/% 69.25 1.87 4.70 1.13 合成例 17 例示化合物(37)の合成 合成例15と同様にして目的物を得た。 収 率 22.8% 元素分析 C H N In 計算値/% 37.29 3.10 6.22 6.37 実測値/% 37.11 3.12 6.21 6.39 合成例 18 例示化合物(54)の合成 合成例15と同様にして目的物を得た。 収 率 29.4% 元素分析 C H N In 計算値/% 49.15 4.17 8.49 8.71 実測値/% 48.93 4.19 8.51 8.70 このようなフタロシアニン化合物は、2種以上
用いてもよい。また本発明の効果をそこなわない
範囲で、他の色素と組み合わせて記録層を形成し
てもよい。 記録層中には、必要に応じ、樹脂が含まれてい
てもよい。 用いる樹脂としては、自己酸化性、解重合性な
いし熱可塑性樹脂が好適である。 これらのうち、特に好適に用いることができる
熱可塑性樹脂には、以下のようなものがある。 (i) ポリオレフイン ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ4−メ
チルペンテン−1など。 (ii) ポリオレフイン共重合体 例えば、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エ
チレン−アクリル酸エステル共重合体、エチレ
ン−アクリル酸共重合体、エチレン−プロピレ
ン共重合体、エチレン−ブテン−1共重合体、
エチレン−無水マレイン酸共重合体、エチレン
プロピレンターポリマー(EPT)など。 この場合、コモノマーの重合比は任意のもの
とすることができる。 (iii) 塩化ビニル共重合体 例えば、酢酸ビニル−塩化ビニル共重合体、
塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合体、塩化ビ
ニル−無水マレイン酸共重合体、アクリル酸エ
ステルないしメタアクリル酸エステルと塩化ビ
ニルとの共重合体、アクリロニトリル−塩化ビ
ニル共重合体、塩化ビニルエーテル共重合体、
エチレンないしプロピレン−塩化ビニル共重合
体、エチレン−酢酸ビニル共重合体に塩化ビニ
ルをグラフト重合したものなど。 この場合、共重合比は任意のものとすること
ができる。 (iv) 塩化ビニリデン共重合体 塩化ビニリデン−塩化ビニル共重合体、塩化
ビニリデン−塩化ビニル−アクリロニトリル共
重合体、塩化ビニリデン−ブタジエン−ハロゲ
ン化ビニル共重合体など。 この場合、共重合比は、任意のものとするこ
とができる。 (v) ポリスチレン (vi) スチレン共重合体 例えば、スチレン−アクリロニトリル共重合
体(AS樹脂)、スチレン−アクリロニトリル−
ブタジエン共重合体(ABS樹脂)、スチレン−
無水マレイン酸共重合体(SMA樹脂)、スチレ
ン−アクリル酸エステル−アクリルアミド共重
合体、スチレン−ブタジエン共重合体
(SBR)、スチレン−塩化ビニリデン共重合体、
スチレン−メチルメタアクリレート共重合体な
ど。 この場合、共重合比は任意のものとすること
ができる。 (vii) スチレン型重合体 例えば、α−メチルスチレン、p−メチルス
チレン、2,5−ジクロルスチレン、α,β−
ビニルナフタレン、α−ビニルピリジン、アセ
ナフテン、ビニルアントラセンなど、あるいは
これらの共重合体、例えば、α−メチルスチレ
ンとメタクリル酸エステルとの共重合体。 (viii) クマロン−インデン樹脂 クマロン−インデン−スチレンの共重合体。 (ix) テルペン樹脂ないしピコライト 例えば、α−ピネンから得られるリモネンの
重合体であるテルペン樹脂や、β−ピネンから
得られるピコライト。 (x) アクリル樹脂 特に下記式で示される原子団を含むものが好
ましい。 式 上記式において、R10は、水素原子またはア
ルキル基を表わし、R20は、置換または非置換
のアルキル基を表わす。この場合、上記式にお
いて、R10は、水素原子または炭素原子数1〜
4の低級アルキル基、特に水素原子またはメチ
ル基であることが好ましい。 また、R20は、置換、非置換いずれのアルキ
ル基であつてもよいが、アルキル基の炭素原子
数は1〜8であることが好ましく、また、R20
が置換アルキル基であるときには、アルキル基
を置換する置換基は、水酸基、ハロゲン原子ま
たはアミノ基(特に、ジアルキルアミノ基)で
あることが好ましい。 このような上記式で示される原子団は、他の
くりかえし原子団とともに、共重合体を形成し
て各種アクリル樹脂を構成してもよいが、通常
は、上記式で示される原子団の1種または2種
以上をくりかえし単位とする単独重合体または
共重合体を形成してアクリル樹脂を構成するこ
とになる。 () ポリアクリロニトリル () アクリロニトリル共重合体 例えば、アクリロニトリル−酢酸ビニル共重
合体、アクリロニトリル−塩化ビニル共重合
体、アクリロニトリル−スチレン共重合体、ア
クリロニトリル−塩化ビニリデン共重合体、ア
クリロニトリル−ビニルピリジン共重合体、ア
クリロニトリル−メタクリル酸メチル共重合
体、アクリロニトリル−ブタジエン共重合体、
アクリロニトリル−アクリル酸ブチル共重合体
など。 この場合、共重合比は任意のものとすること
ができる。 () ダイアセトンアクリルアミドポリマー アクリロニトリルにアセトンを作用させたダ
イアセトンアクリルアミドポリマー。 () ポリ酢酸ビニル () 例えば、アクリル酸エステル、ビニルエ
ーテル、エチレン、塩化ビニル等との共重合体
など。 共重合比は任意のものであつてよい。 () ポリビニルエーテル 例えば、ポリビニルメチルエーテル、ポリビ
ニルエチルエーテル、ポリビニルブチルエーテ
ルなど。 () ポリアミド この場合、ポリアミドとしては、ナイロン
6、ナイロン6−6、ナイロン6−10、ナイロ
ン6−12、ナイロン9、ナイロン11、ナイロン
12、ナイロン13等の通常のホモナイロンの他、
ナイロン6/6−6/6−10、ナイロン6/6
−6/12、ナイロン6/6−6/11等の重合体
や、場合によつては変性ナイロンであつてもよ
い。 () ポリエステル 例えば、シユウ酸、コハク酸、マレイン酸、
アジピン酸、セバステン酸等の脂肪族二塩基
酸、あるいはイソフタル酸、テレフタル酸など
の芳香族二塩基酸などの各種二塩基酸と、エチ
レングリコール、テトラメチレングリコール、
ヘキサメチレングリコール等のグリコール類と
の縮合物や、共縮合物が好適である。 そして、これらのうちでは、特に脂肪族二塩
基酸とグリコール類との縮合物や、グリコール
類と脂肪族二塩基酸との共縮合物は、特に好適
である。 さらに、例えば、無水フタル酸とグリセリン
との縮合物であるグリプタル樹脂を、脂肪酸、
天然樹脂等でエステル化変性した変性グリプタ
ル樹脂等も好適に使用される。 () ポリビニルアセタール系樹脂 ポリビニルアルコールを、アセタール化して
得られるポリビニルホルマール、ポリビニルア
セタール系樹脂はいずれも好適に使用される。 この場合、ポリビニルアセタール系樹脂のア
セタール化度は任意のものとすることができ
る。 () ポリウレタン樹脂 ウレタン結合をもつ熱可塑性ポリウレタン樹
脂。 特に、グリコール類とジイソシアナート類と
の縮合によつて得られるポリウレタン樹脂、と
りわけ、アルキレングリコールとアルキレンジ
イソシアナートとの縮合によつて得られるポリ
ウレタン樹脂が好適である。 () ポリエーテル スチレンホルマリン樹脂、環状アセタールの
開環重合物、ポリエチレンオキサイドおよびグ
リコール、ポリプロピレンオキサイドおよびグ
リコール、プロピレンオキサイド−エチレンオ
キサイド共重合体、ポリフエニレンオキサイド
など。 () セルロース誘導体 例えば、ニトロセルロース、アセチルセルロ
ース、エチルセルロース、アセチルブチルセル
ロース、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロ
キシプロピルセルロース、メチルセルロース、
エチルヒドロキシエチルセルロースなど、セル
ロースの各種エステル、エーテルないしこれら
の混合体。 () ポリカーボネート 例えば、ポリジオキシジフエニルメタンカー
ボネート、ジオキシジフエニルプロパンカーボ
ネート等の各種ポリカーボネート。 () アイオノマー メタクリル酸、アクリル酸などのNa、Li、
Zn、Mg塩など。 () ケトン樹脂 例えば、シクロヘキサノンやアセトフエノン
等の環状ケトンとホルムアルデヒドとの縮合
物。 () キシレン樹脂 例えば、m−キシレンまたはメシチレンとホ
ルマリンとの縮合物、あるいはその変性体。 () 石油樹脂 C5系、C9系、C5−C9共重合系、ジシクロペ
ンタジエン系、あるいは、これらの共重合体な
いし変性体など。 () 上記(i)〜()の2種以上のブレ
ンド体、またはその他の熱可塑性樹脂とのブレ
ンド体。 なお、樹脂の分子量等は、種々のものであつて
よい。 このような樹脂と、前記の色素とは、通常、重
量比で1対0.1〜100の広範な量比にて設層され
る。 なお、このような記録層中には、別途他のクエ
ンチヤー、例えば、特願昭58−181368号等に記載
したものが含有されてもよい。 このような記録層を設層するには、常法に従い
塗設すればよい。 そして、記録層の厚さは、通常、0.02〜10μm
程度とされる。 なお、このような記録層には、この他、他の色
素や、他のポリマーないしオリゴマー、各種可塑
剤、界面活性剤、帯電防止剤、滑剤、難燃剤、安
定剤、分散剤、酸化防止剤、そして架橋剤等が含
有されていてもよい。 このような記録層を設層するには、基体上に、
所定の溶媒を用いて塗布、乾燥すればよい。 なお、塗布に用いる溶媒としては、例えば、メ
チルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シ
クロヘキサノン等のケトン系、酢酸ブチル、酢酸
エチル、カルビトールアセテート、ブチルカルビ
トールアセテート等のエステル系、メチルセロソ
ルブ、エチルセロソルブ等のエーテル系、ないし
トルエン、キシレン等の芳香族系、ジクロロエタ
ン等のハロゲン化アルキル系、アルカン系、脂環
系、アルコール系などを用いればよい。 このような記録層を設層する基体の材質として
は、書き込み光および読み出し光に対し実質的に
透明なものであれば、特に制限はなく、各種樹
脂、ガラス等いずれであつてもよい。 また、その形状は使用用途に応じ、テープ、カ
ード、ドラム、ベルト等いずれであつてもよい。 なお、基体は、通常、トラツキング用の溝を有
する。 また、基体用の樹脂材質としては、ポリメチル
メタクリレート、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、
ポリカーボネート樹脂、ポリサルフオン樹脂、ポ
リエーテルサルフオン、メチルペンテンポリマー
等の、みぞ付きないしみぞなし基体が好適であ
る。 これらの基体には、耐溶剤性、ぬれ性、表面張
力、熱伝導度等を改善するために、基体上に下地
層を形成することが好ましい。下地層の材質とし
ては、Si、Ti、Al、Zr、In、Ni、Ta等の有機錯
化合物や有機多官能性化合物を塗布、加熱乾燥し
て形成された酸化物であることが好ましい。 この他、各種感光性樹脂等下地層として用いる
こともできる。 また、記録層上には、必要に応じ、各種最上層
保護層、ハーフミラー層などを設けることもでき
る。 本発明の媒体は、このような基体の一面上に上
記の記録層を有するものであつてもよく、その両
面に記録層を有するものであつてもよい。 また、基体の一面上に記録層を塗設したものを
2つ用い、それらを記録層が向かいあうようにし
て、所定の間隙をもつて対向させ、それを密閉し
たりして、ホコリやキズがつかないようにするこ
ともできる。 また、このような所定の間隙に、シリコーン樹
脂等を充填して、密着型にすることもできる。 発明の具体的作用 本発明の媒体は、走行ないし回転下において記
録光をパルス状に照射する。このとき記録層中の
色素の発熱により、色素が融解等し、ビツトが形
成される。 このように形成されたビツトは、やはり媒体の
走行ないし回転下、読み出し光の反射光ないし透
過光、特に反射光を検出することにより読し出さ
れる。 この場合、記録および読み出しは、主に、基体
側から基体をとおして行う。 そして、一旦記録層に形成したピツトを光ない
し熱で消去し、再書き込みを行うこともできる。 なお、記録ないし読み出し光としては、半導体
レーザー等を用いることができる。 発明の具体的効果 本発明によれば、読み出し光による再生劣化が
きわめて小さくなる。 そして、耐光性も向上し、明室保存による特性
劣化が少なく、さらに耐熱性、耐酸化性、耐湿性
にも優れる。 そして、消去および再書き込みを行うようなと
きにも特性の劣化が少ない。さらには、保存性も
向上する。 また、近赤外および赤外域の記録光によつて
も、容易に書き込みができる。 また、反射層を積層しなくても、基体をとおし
て書き込みと読み出しを良好に行うことができ
る。 そして、このような効果をもつ記録層を、量産
性の高い塗布法によつて成膜することができる。
この際、膜の均一性はきわめて良好である。 発明の具体的実施例 以下、本発明の具体的実施例を示し、本発明を
さらに詳細に説明する。 実施例 1 下記表1に示されるフタロシアニン化合物を用
い、フタロシアニン化合物0.05gをトルエン等の
有機溶剤2.7gに溶解して、濾過した後、直径30
cmの案内溝付アクリルデイスク基板上に、0.08μ
mの厚さにスピンナーを用いて塗布設層して、各
種媒体をえた。 なお、用いたフタロシアニン化合物は上記にて
例示したNo.のものを用いた。 このようにして作製した各媒体を、900r.p.m.
にて回転させながら、半導体レーザーを用いて、
基板裏面側から書き込みを行つた。この場合、集
光部出力は10mW、周波数は2MHzである。 次いで、半導体レーザーを読み出し光とし、基
板をとおしての反射光を検出してヒユーレツトパ
ツカード社製のスペクトラムアナライザーにて、
バンド巾30KHzでC/N比を測定した。 これらの結果を表1に示す。
【表】
表1の結果から、本発明の効果があきらかであ
る。
る。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 式() 式() {式()および()中、Pcは、水素原子、
金属もしくは半金属原子またはM1Xに配位した
フタロシアニン核を表わす。 M1はB金属原子を表わし、Xはハロゲン原
子を表わす。 R1およびR3は、それぞれ、置換または非置換
の脂肪族基または芳香族基を表わす。 R2は置換または非置換の2価の脂肪族基また
は芳香族基を表わす。 Yは水素原子またはハロゲン原子を表わす。 nは5〜16、pは1〜8、mは0〜14の正の整
数を表わす} で示されるフタロシアニン化合物を基体上に塗布
して形成した記録層を有することを特徴とする光
記録媒体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60038440A JPS61197280A (ja) | 1985-02-27 | 1985-02-27 | 光記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60038440A JPS61197280A (ja) | 1985-02-27 | 1985-02-27 | 光記録媒体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61197280A JPS61197280A (ja) | 1986-09-01 |
JPH0316916B2 true JPH0316916B2 (ja) | 1991-03-06 |
Family
ID=12525361
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60038440A Granted JPS61197280A (ja) | 1985-02-27 | 1985-02-27 | 光記録媒体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS61197280A (ja) |
Families Citing this family (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0749231B2 (ja) * | 1985-08-13 | 1995-05-31 | 三菱化学株式会社 | 光学記録体 |
JPS6391290A (ja) * | 1986-10-06 | 1988-04-21 | Mitsubishi Kasei Corp | 光学記録体 |
CA2005520A1 (en) * | 1988-12-15 | 1990-06-15 | Hisato Itoh | Near infrared absorbent and display/recording materials prepared by using same |
US5270463A (en) * | 1988-12-15 | 1993-12-14 | Mitsui Toatsu Chemicals, Incorporated | Halogenated alkoxyphthalocyanines |
GB9023893D0 (en) * | 1990-11-02 | 1990-12-12 | Ici Plc | Infra-red absorber |
US5350843A (en) * | 1990-11-06 | 1994-09-27 | Mitsui Toatsu Chemicals, Incorporated | Halogenated phthalocyanine compound, method for preparing same |
EP0575816B1 (en) | 1992-06-12 | 1999-09-22 | Mitsui Chemicals, Inc. | Light-absorbing compound and optical recording medium containing same |
JP2901477B2 (ja) * | 1993-03-24 | 1999-06-07 | 株式会社日本触媒 | 光記録媒体 |
EP0675489B1 (en) * | 1994-03-31 | 2003-11-12 | TDK Corporation | Optical recording medium |
JP3604427B2 (ja) * | 1994-09-27 | 2004-12-22 | 三井化学株式会社 | フタロシアニン化合物及びそれを含有してなる光記録媒体 |
JP3604432B2 (ja) * | 1994-12-15 | 2004-12-22 | 三井化学株式会社 | フタロシアニン化合物及びそれを含有してなる光記録媒体 |
TW454009B (en) * | 1994-12-27 | 2001-09-11 | Mitsui Chemicals Inc | Near infrared light-absorbing dye of phthalocyanine compounds and optical recording media comprising them |
JP3604435B2 (ja) * | 1994-12-27 | 2004-12-22 | 三井化学株式会社 | フタロシアニン化合物及びそれを含有してなる光記録媒体 |
JPH08188718A (ja) * | 1995-01-13 | 1996-07-23 | Mitsui Toatsu Chem Inc | フタロシアニン化合物及びそれを含有してなる光記録媒体 |
JP3604439B2 (ja) * | 1995-01-18 | 2004-12-22 | 三井化学株式会社 | フタロシアニン化合物及びそれを含有してなる光記録媒体 |
KR101577693B1 (ko) | 2013-12-27 | 2015-12-15 | 나노씨엠에스(주) | 폴리 옥소가교형 프탈로시아닌 화합물, 이의 제조방법 및 이를 이용한 근적외선 흡수 및 반사 조성물 |
-
1985
- 1985-02-27 JP JP60038440A patent/JPS61197280A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS61197280A (ja) | 1986-09-01 |
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