JPH03250654A - 樹脂封止型半導体装置及びリードフレーム - Google Patents

樹脂封止型半導体装置及びリードフレーム

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JPH03250654A
JPH03250654A JP2045412A JP4541290A JPH03250654A JP H03250654 A JPH03250654 A JP H03250654A JP 2045412 A JP2045412 A JP 2045412A JP 4541290 A JP4541290 A JP 4541290A JP H03250654 A JPH03250654 A JP H03250654A
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竜治 河野
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米田 奈柄
Ichiro Anjo
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、樹脂封止型半導体素置及びリードフレームに
係り、特に樹脂クランクの防止に好適な樹脂封止型半導
体素置及びリードフレームに関する。
〔従来の技術〕
従来より樹脂封止型半導体素置においては、半導体素子
をタブ素子搭載部の上に固定すると共にタブの周囲に複
数のリードを配設し、半導体素子上の端子とリードを金
属細線によって電気的に接続して、その周囲を樹脂で封
止する構造が採用されている。
ところが近年は半導体素子の高集積化によって素子寸法
が大型化する傾向にあり、その反面、半導体素置の外形
は高密度実装上の要求から自由に拡大できないか或いは
逆に小型化される傾向がある。しかし従来のようにタブ
上に半導体素子を搭載する構造では外形寸法一定のまま
で半導体素子の寸法を大型化していくと、リードを樹脂
に固定する部分の長さ(インナーリード部の樹脂埋め込
み部の距離)が不足し、リードに充分な固定強度を与え
られないという問題が生じた。
そこで、このような問題を回避するため、複数のインナ
ーリードを半導体素子の回路形成面上に絶縁部材を介在
させて接着し、インナーリードと半導体素子とを金属細
線で電気的に接続して、これらの周囲を樹脂で封止する
方法が、特開昭61−241959号公報により提案さ
れている。この構造をリード・オン・チップと呼ぶこと
がある。同じ趣旨でタブを用いない構造にはリード・オ
ン・チップの逆構造すなわちチップ・オン・リードがあ
る。
チップ・オン・リードの例として特開平1−1.545
45号公報や特開平1−143344号公報記載の技術
がある。
〔発明が解決しようとする課題〕
チップ・オン・リードに比べ、高密度化にはリード・オ
ン・チップの方が適している反面、半導体素子の回路形
成面と各リードとの絶縁をとる工夫が必要となり、特開
昭61−241959号公報に代表される技術では、イ
ンナーリードと回路形成面との間に電気絶縁物として絶
縁フィルムを介在させている。
この絶縁フィルムには基材としてポリイミド等が用いら
れているが一般に絶縁フィルム基材は封止樹脂との密着
性に欠ける。
一方、半導体素子の回路形成面と各リードとはワイヤ等
により電気的な接続をとる必要があること等から通常は
絶縁フィルムは必要な箇所すなわちインナーリードを半
導体素子上面に搭載する領域にしか用いられない。
ところで、樹脂封止型半導体素置においては、これを構
成する半導体素子、インナーリード、絶縁フィルム及び
封止樹脂の線膨張係数が通常互いに異なっていることか
ら、装置の製造過程や使用過程において装置の温度変化
によって装置内部に熱応力が発生する。特にインナーリ
ードと封止樹脂とは線膨張係数の差が大きい。インナー
リード材料と封止樹脂とは接着性(密着性)にも欠ける
ので熱応力のかかつている状況では何らかの原因で容易
に界面剥離が起こる。
本来インナーリードが回路形成面に絶縁フィルムを介し
てきっちり接着固定されているなら界面剥離は起こらな
いか、最小限にとどまるはずである。しかしながら接着
土台となる絶縁フィルム端面と封止樹脂との間も先に述
べた通り密着力に欠けることから、インナーリードと封
止樹脂との離れようとする力によって絶縁フィルム端面
と封止樹脂との間で界面剥離が発生し、この界面剥離は
インナーリードと封止樹脂との間に至り増々界面剥離を
成長させることになる。
このような界面剥離はインナーリードの上端において樹
脂クラックとなり、半導体素置の外観を損ねたり、金属
細線の断線等の原因にもなる。
特にこの危険が大きいインナーリードは共用(バス)バ
ーともよばれる電気接続用インナーリードである。
本発明は電気接続用インナーリード上端部からの樹脂ク
ラックの発生を防止して、限られた外形寸法のもとて可
能な限り大型の半導体素子を搭載し得る樹脂封止型半導
体素置とこれに用いるリードフレームを提供することを
目的とする。
〔課題を解決するための手段〕
上記目的は絶縁フィルム端部と封止樹脂との界面で発生
した剥離を共用(電気絶縁用)リードと封止樹脂との界
面に成長しないよう剥離成長阻止手段を講することによ
って達成される。
剥離成長手段として本発明者は次なる手段を提案する。
(1)電気接続用インナーリードを半導体素子の回路形
成面や絶縁フィルムから少なくとも部分的には引き離す
。こうして離されてできた間隙には封止樹脂を流入させ
る。
(2)電気接続用インナーリード同士の対向面及び/ま
たは絶縁フィルム同士の対向面に表面処理を施こす。表
面処理としては微細凹凸加工(いわゆる梨地処理)とコ
ーティングが挙げられる。
コーティングには対電樹脂との密着性向上に貢献する有
機接着材やある種のメツキが挙げられる。
(3)電気接続用インナーリードの主要部表面の一部に
突起を形成し、界面剥離をこの突起の位置で停止させる
特に電気接続用(共用)インナーリードを薄肉化して絶
縁部材との間に隙間を設け、この部分に樹脂を介在させ
たり、或いは電気接続用(共用)インナリードを絶縁部
材より上方に離して配設し、共用インナーリードと絶縁
部材の間に樹脂を介在させる方法が簡便である。
本願請求項1乃至5に記載された渋導体装置は、回路の
形成された半導体素子の該回路形成面側の少なくとも2
箇所に絶縁フィルムが接着され、夫夫の該絶縁フィルム
上に電気接続用インナーリードが位置することにより電
気接続用インナーリード同士が互いに対向するよう配置
され、更に電気接続用インナーリードとは離れた位置に
信号用インナーリードが配置され、少なくとも以上の要
素を樹脂にて封止してなる樹脂封止型半導体素置であっ
て、更に次の(a)〜(e)の工夫を施こしたことを特
徴とする。
(、)絶縁フィルムと電気接続用インナーリードとの間
に少なくとも部分的に封止樹脂を介在させる。
(b)絶縁フィルム同士の各対向面と電気接続用インナ
ーリード同士の各対向面との位置をずらす。
(c)電気接続用インナーリード同士の対向面が微細に
凹凸を呈して封止樹脂と密着している。
(d)電気接続用インナーリードの表面に突起を形成す
る。
(e)電気接続用インナーリードの対向面に表面処理を
形成して封止樹脂と電気接続用インナーリード対向面が
密着している。
以上(a)〜(e)のいずれの場合でも、各電気接続用
インナーリードの主要部は夫々半導体素子の長手方向に
配置されることにより主要部の側面同士が電気接続用イ
ンナーリード同士の対向面となることが好ましい。また
更には、電気接続用インナーリードの外方に前記信号用
インナーリード群を位置させてなることが望ましい。
請求項8記載の半導体素子は回路の形成された半導体素
子と、半導体素子の回路形成面上に絶縁フィルムを介し
て配置された電気接続用インナーリードと、電気接続用
インナーリードと半導体素子とを電気的に接続する第1
の導通部材と、電気接続用リードとは離して配置しかつ
半導体素子の回路形成面上に絶縁フィルムを介して配置
された複数の信号用インナーリードと、信号用リードの
夫々と半導体素子とを電気的に接続する第2の導通部材
と、半導体素子各組縁フィルム、前記各インナーリード
群並びに各導通部材を封止する樹脂とを備えてなる樹脂
封止型半導体素置において、各絶縁フィルムは回路形成
面に接着し、電気信号用インナーリードと絶縁フィルム
との間は少なくとも部分的に封止樹脂を入り込ませたこ
とを特徴とする 請求項9記載の半導体素置は、回路の形成された半導体
素子と、半導体素子の回路形成面上に絶縁物を介して配
置された複数のインナーリード部分と、夫々のインナー
リード部分と半導体素子とを電気的に接続する導通部材
と、少なくとも以上の要素を封止する樹脂とを備えた樹
脂封止型半導体素置において、絶縁部は、インナーリー
ド直下の領域について少なくとも部分的に封止樹脂であ
ることを特徴とする 請求項10記載の半導体素置は、支持用インナーリード
によって支持された半導体素子の回路形成面に絶縁部材
を接着し、絶縁部材の上に電気接続用インナーリードを
配設し、電気接続用インナーリードと半導体素子とを夫
々金属細線で電気的に接続し、これらの周囲を封止樹脂
で封止した樹脂封止型半導体素置において、絶縁部材よ
りも上方に離れて配設され、かつ絶縁部材との間に封止
樹脂を介在させた電気接続用インナーリードを設けたも
のである。
請求項11記載の半導体素置は、半導体素子の回路形成
面に絶縁部材を接着し、絶縁部材の上に共用インナーリ
ード及び信号用インナーリードを配設し、共用インナー
リード及び信号用インナーリードと半導体素子とを夫々
金属細線で電気的に接続し、これらの周囲を封止樹脂で
封止した樹脂封止型半導体素置において、信号用インナ
ーリードを絶縁部材に接着し、さらに、絶縁部材よりも
上方に離れて配設され、かつ絶縁部材との間に前記封止
樹脂を介在させた共用インナーリードを設けたことを特
徴とする 請求項12記載の半導体素置は、半導体素子と、半導体
素子上に接着された絶縁フィルムと、絶縁フィルム上に
配設されかつその主要部互いに向かい合って配置された
2本の電気接続用リードと、夫々の電気接続用リードの
外側に各電気接続用リードとは離して設けられた複数の
信号用インナーリードとを備え、以上の要素を樹脂にて
封止してなる樹脂封止形半導体素置において、各電気接
続用リードの半導体素子対向面が部分的に凹部となるよ
うインナーリードを部分的に薄肉にし、この凹部に前記
封止樹脂を入れたことを特徴とする。
尚、この場合の部分的に薄肉にするインナーリードの当
該薄肉部位は、インナーリードを幅方向に貫通させるこ
とによって形成する態様と、インナーリード同士の対向
面でかつ絶縁フィルムに面する側を部分的にへこませて
形成する態様とが考えられる。
請求項15に記載の半導体素置は、半導体素子の回路形
成面に絶縁部材を接着し、絶縁部材の上に電気接続用イ
ンナーリードを配設し、電気接続用インナーリードと半
導体素子とを夫々金属細線で電気的に接続し、これらの
周囲を封止樹脂で封止した樹脂封止型半導体素置におい
て、電気接続用インナーリードの半導体素子に対向する
面の一部を、その幅方向に貫通するようにくぼませて薄
肉化し、絶縁部材との間に封止樹脂を介在させ、かつ薄
肉化されていない部分を絶縁部材と接着させたことを特
徴とする。この場合は電気接続用インナーリードの薄肉
化する部分を、金属細線接続部の半導体素子に対向する
面以外の部分に限定することが好ましい。
請求項17の記載の半導体素置は、半導体素子の回路形
成面に絶縁部材を接着し、絶縁部材の上に共用インナー
リード及び信号用インナーリードを配設し、共用インナ
ーリード及び信号用インナーリードと半導体素子とを夫
々金属細線で電気的に接続し、これらの周囲を封止樹脂
で封止した樹脂封止型半導体素置において、信号用イン
ナーリードを絶縁部材に接着し、さらに、共用インナー
リードの半導体素子に対向する面の一部を、その幅方向
に貫通するようにくぼませて薄肉化し、絶縁部材との間
に封止樹脂を介在させ、かつ薄肉化されていない部分を
絶縁部材と接着させたことを特徴とする。この場合は共
用インナーリードの薄肉化した部分は、金属細線接続部
分の半導体素子に対向する面以外の部分に限定すること
が好ましい。
請求項19記載の半導体素置は、半導体素子と、半導体
素子の回路形成面上に接着された絶縁フィルムと、絶縁
フィルム上に主たる部分が位置する電気接続用インナー
リードとを備え、これらを樹脂にて封止してなる樹脂封
止型半導体素置において、電気接続用インナーリードの
表面に■突起の形成、■微細凹凸による粗化、■接着割
付与から選ばれる亀裂抑制手段を講じたことを特徴とす
る請求項26記載の半導体素置は、半導体素子の回路形
成面に絶縁部材を接着し、絶縁部材の上に電気接続用イ
ンナーリードを配設し、電気接続用インナーリードと半
導体素子とを夫々金属細線で電気的に接続し、これらの
周囲を封止樹脂で封止した樹脂封止型半導体素置におい
て、電気接続用インナーリードの半導体素子に対向する
面の一部を、その幅方向に貫通するようにくぼませて絶
縁部材との間に封止樹脂を介在させたことを特徴とする 請求項27記載の半導体素置は、請求項26記載の装置
に加えて、電気接続用インナーリードの内くぼみが形成
されていない部分を絶縁部材と接着させたことを特徴と
する 請求項28記載の半導体素置は請求項26,27と同じ
前提の装置であって、電気接続用インナーリードの半導
体素子に対応する面の一部と絶縁部材との間に封止樹脂
を介在させたことを特徴とする。
以上に述べた半導体素置は4メガ又は16メガビットの
ダイナミック・ランダム・アクセス・メモリとして用い
るのに最適である。
以上が本発明の半導体素置の特徴であるが、これには以
下に述べるリードフレームの採用が不可欠である。
すなわち代表的なリードフレーム構造は、請求項31に
述べたものであり、電気接続用(共用)リードのインナ
ー側主要部が互いに略平行に対向配置され、その外方に
夫々複数の信号用リードが配設されて成り(必要なら更
に半導体素子技術用のインナーリードを用いても良いし
、ダミーのインナーリードを含んでいても差し支えない
。)、電気接続用(共用)インナーリード相互の対向面
に接着剤を付与し若しくは微細凹凸加工を施こし、或い
は突起を形成させ、或いは部分的に薄肉にしたものであ
る。
請求項21記載のリードフレームは、夫々が樹脂封止体
内部の電気接続用インナーリード部と樹脂封止体外部の
アウターリード部とからなるり−1−が集合してなるリ
ードフレームにおいて、電気接続用インナーリード部の
内、少なくとも半導体素子の回路形成面に接着している
絶縁部材の上に配設される部分については、半導体素子
に対向する面の一部を、その幅方向に貫通するようにく
ぼませて薄肉化したことを特徴とする。この場合電気接
続用インナーリード部の薄肉化する部分を、金属細線接
続部の半導体素子に対向する面以外の部分に限定するこ
とが好ましい。
請求項23記載のリードフレームは、夫々が樹封止体内
部の共用インナーリード部及び信号用インナーリード部
と樹脂封止体外部のアウターリード部とからなるリード
が集合し2てなるリードフレームにおいて、共用インナ
ーリード部の内、少なくとも半導体素子の回路形成面に
接着している絶縁部材の上に配設される部分については
、半導体素子に対向する面の一部を、その幅方向に貫通
するようにくぼませて薄肉化したことを特徴とする。
この場合は共用インナーリード部の薄肉化する部分を、
金属細線接続用の半導体素子に対向する面以外の部分に
限定することが好ましい。
請求項24記載のリードフレームは、夫々が樹脂封止体
内部の電気接続用インナーリード部及び半導体素子支持
用インナーリード部と樹脂封止体外部のアウターリード
部とからなるリードが集合してなるリードフレームにお
いて、電気接続用インナーリード部の内、少なくとも半
導体素子の回路形成面に接着している絶縁部材の上に配
設される部分については、絶縁部月よりも上方に離れる
ようにしたことを特徴とする 請求項24の記載のリードフレームは、夫々が樹脂封止
体内部の共用インナーリード部及び信号用インナーリー
ド部と樹脂封止体外部のアウターリード部とからなるリ
ードが集合してなるリードフレームにおいて、共用イン
ナーリード部の内、少なくとも半導体素子の回路形成面
に接続している絶縁部材の上に配設される部分について
は、絶縁部材よりも上方に離れるようにしたことを特徴
とする 請求項30記載のリードフレームは、夫々が樹脂封止体
内部の電気接続用インナーリード部と樹脂封止体外部の
アウターリード部とからなるリードが集合してなるリー
ドフレームにおいて、電気接続用インナーリード部の内
、少なくとも半導体素子の回路形成面に接着している絶
縁部材の上に配設される部分については、半導体素子に
対向する面の一部を、その幅方向に貫通するようにくぼ
ませたことを特徴とする。
以上述べたリードフレームにおいては、インナーリード
裏面に絶縁フィルムを接着剤を介して積層したいわば中
間品として用いても良い。
尚、以上の説明において、絶縁物、絶縁部材とあるのは
各実施例、請求項により、絶縁フィルムの意味する場合
と、絶縁フィルムと封止樹脂とから成る介在物の意味と
がある。
〔作用〕
上記のように工夫することにより絶縁フィルムと封止樹
脂との間で万一界面剥離が生じても、(1)この界面剥
離は封止樹脂にはばまれて共用(電気接続用)インナー
リードと封止樹脂との界面には至らず、(2)共用(電
気絶縁用)インナーリードと封止樹脂との密着力により
界面剥離が阻止され、(3)仮にインナーリード界面に
剥離が至ってもインナーリードの一部の突起が剥離の進
行を止め、或いは(4)絶縁フィルムと封止樹脂との界
面の剥離を起点とする剥離経路がインナーリード界面に
至るまでに曲点があることから直進できずに剥離の進行
が止まるという作用がある。
特に共用インナーリードと絶縁部材との間に封止樹脂を
介在させることによって、共用インナーリードと絶縁部
材が樹脂で隔てられるようになる。
それによって、共用インナーリードの周囲と絶縁部材の
側面に発生していた樹脂界面の剥離は、共用インナーリ
ードの周囲のみに限られるため、共用インナーリード上
部での樹脂の変形量が増大することがなく、共用インナ
ーリードの上端部に大きな応力が発生することがなくな
るので、この部分からの樹脂クラックの発生を防止する
ことができ、大型の半導体素子を搭載しても高信頼性の
樹脂封止型半導体素置が得られる。
〔実施例〕
以下、本発明の一実施例を第1図、第2図及び第3図に
よって説明する。第1図は、本発明の一実施例である樹
脂封止型半導体素置の部分断面斜視図、第2図は第1図
のイーイ線で切った断面図、第3図は第1図のローロ線
で切った断面図である。
図において、共用インナーリード3及び信号用インナー
リード4はその一端側をアウターリード5.5′と一体
に構成しており、アウターリード5は、樹脂封止型半導
体素置の2方向(長手面)に配設されている。
共用インナーリード3は、半導体素子]の中央部分をそ
の長辺と平行に引き伸ばされており、半導体素子1の回
路形成面1a上で半導体素子1と金属細線7によって電
気接続が行われている。回路形成面1aは大部分がPI
Qなとのパッシベーション膜で覆われているが、この電
気接続部分の領域についてはパッシベーション膜がなく
回路形成面が露出している。また、信号用インナーリー
ド4は、長手形状の半導体素子1の夫々の長辺を横切っ
て半導体素子1の中央側に引き伸ばされており、半導体
素子1の回路形成面la上で半導体素子1とその先端部
とが金属細線7によって電気接続されている。こうして
2本の共用インナーリード3の主要部同士は互いに向か
い合うことになる。
共用インナーリード3の下面、及び信号用インナーリー
ド4の下面と半導体素子1の回路形成面]aの間には、
共用インナーリード3及び信号用インナーリード4と半
導体素子1とを電気的に絶縁するためのシート状の絶縁
部材2が設けられており、絶縁部材2は、半導体素子1
と接着剤9によって接着されている。共用インナーリー
ド3と絶縁部材2の側面同士は互いにはみ畠すことなく
いわゆる面一に形成されている。尚、本例では絶縁部材
2及び共用インナーリード3の各端部(対向面)には接
着剤がなく封止樹脂8と直接に接している。
共用インナーリード3の金属細線非接続部3bは、半導
体素子1に対向する面を、その幅方向に貫通するように
くぼませて金属細線接続部3aよりも薄肉化されている
。共用インナーリード3の薄肉部分3cが設けられてい
る金属細線非接続部3bと絶縁部材2との間には樹脂8
が介在している。共用インナーリード3と絶縁部材2と
接着は、薄肉部分3cが設けられていない部分において
接着9によって行われている。さらに、信号用インナー
リード4は接着剤9によって絶縁部材2に接着されてい
る。
本実施例では、半導体素子1.絶縁部材2.共用インナ
ーリード3.信号用インナーリード4及び金属細線7を
樹脂8で封止して半導体素置を形成する。4aは金属細
線接続部である。
本実施例によれば、共用インナーリード3の金属細線非
接続部3bを薄肉化することによって、共用インナーリ
ード3と絶縁部材2の間に樹脂8を介在させることがで
きるので、樹脂8との界面のはく前部分を少なくとも共
用インナーリード3と樹脂8との界面に限定することが
できる。これによって、半導体素置樹脂封止後の冷却や
温度サイクル試験時の湿度低下による共用インナ−リー
ド3上部での樹脂8の変形量が小さくなり、共用インナ
ーリード3の上端部に大きな応力が発生することがない
ので、この部分からの樹脂クラックの発生を防止するこ
とができる。
半導体素子1の回路形成面1aと絶縁部材2との接着、
絶縁部材2と共用インナーリード3.絶縁部材2と信号
用インナーリード4及び絶縁部材2と支持用インナーリ
ード6との接着は、第2図及び第3図に示すように接着
剤9によって接着する。なお、共用インナーリード3と
絶縁部材2の接着は、薄肉部分3c以外の部分で行うが
、接着はそれらの全面で行っても良いし、一部であって
も良い。また、共用インナーリード3と絶縁部2は接着
されていなくても差し支えない。
絶縁部材2を半導体素子1.共用インナーリード3ある
いは信号用インナーリード4に接着する面積は、金属細
線7による接続が安定かつ確実に行われ、金属細線7に
よる接続及び樹脂8による封止の工程で受ける外力に耐
える範囲で可能な限り小さくすることが望ましい。
次に、共用インナーリード3.信号用インナーリード4
及び支持用インナーリード6を絶縁部材2を介在させ、
接着剤9を用いて半導体素子1の回路形成面1aに接着
する方法について説明する。
半導体素子1の回路形成面1aの共用インナーリード3
.信号用インナーリード4及び支持用インナーリード6
のそれぞれに対向する位置の上に、シート状の絶縁部材
2を分割して接着剤9により貼り付ける。ついで、共用
インナーリード3.信号用インナーリード4及び支持用
インナーリード6を接着剤9により絶縁部材2を介して
半導体素子1の回路形成面1aに接着固定する。
絶縁部材2には、エポキシ系樹脂、ビスマレイミドトリ
アジン樹脂、フエーノール樹脂、ポリイミド樹脂などを
主成分とし、これに、無機質フィラー、各種添加剤など
を加えた材料を使用する。
また、接着剤9としては、例えばエポキシ、ポリエーテ
ルアミド、ポリイミド前駆体、エポキシ変成ポリイミド
などの材料を使用する。
共用インナーリード3.信号用インナーリード4及び支
持用インナーリード6は、樹脂8によって封止されるま
では互いに接続されており、一連のリードフレームを形
成でいるが、樹脂封止後に切断・分離されかつ成型され
る。リードフレームは、例えばFe−Ni合金(Fe−
42Niなど)Cuなどで形成されている。
金属細線7にはアルミニウム(AQ)、金(A u )
あるいは銅(Cu)などの細線を使用する。
封止樹脂8には、フェノール系硬化剤、シリコーンゴム
及びフィラー添加されたエポキシ系樹脂を使用する。
アウターリード5が樹脂8の外部に引き出されている方
向は、第1図に示したような2方向、すなわち樹脂封止
型半導体素置の長辺側に限定するものではなく、1方向
あるいは3方向以上であっても良い。また、樹脂8の側
面からだけでなく、樹脂8の上面あるいは下面からアウ
ターリード5が引き出されていても良い。さらに図では
、アウターリード5を下方に折り曲げ、その先端を樹脂
8の下面まで曲げたJベンド型を例にとって示しである
が、アウターリード5は任意の方向、形状に折り曲げて
も良いし、また折り曲げなくとも良い。
第1図に示した実施例では、薄肉部分3cを共用インナ
ーリード3の金属細線非接部3bに設けていだが、第4
図に示すように、信号用インナーリード4の金属細線非
接続部4bの半導体素子1に対向する面を、その幅方向
に貫通するようにくぼませて薄肉部分4cを設けて、信
号用インナーリード4と復縁部材2との間に樹脂8を介
在させても良い。さらに、第5図に示すように、共用イ
ンナーリード3の薄肉部分3cの長さWを、共用インナ
ーリード3と絶縁部材2の間に樹脂8が流入し、介在可
能な最小限の長さとしてこれらを複数個、間隔を短く設
けることによって、金属細線7の接続部、非接続部の区
別をすることなく共用インナーリード3に薄肉部分3c
を設けることができる。
以上の実施例では、共用インナーリード3と信号用イン
ナーリード4を区別して示しであるが、共用インナーリ
ード3と信号用インナーリード4が区別されないような
半導体素置、あるいは共用インナーリード3が設けられ
ていない半導体素置であっても、本発明の範囲を逸脱し
ない限り適用することが可能である。
第6図は、本発明の他の実施例を示す樹脂封止型半導体
素置の部分断面斜視図である。図において、絶縁部材2
の上部に位置する共用インナーリード3の半導体素子1
に対向する面には、金属細線接続部3a、非接続部3b
の区別なく、幅方向に貫通するようにくぼんでいる一様
な薄肉部分3cが設けられている。共用インナーリード
3の薄肉部分3cと絶縁部材2との間には樹脂8が介在
している6共用インナーリード3と絶縁部材2との接着
は、本実施例では共用インナーリード3のアウターリー
ド5に近い部分で接着剤9によって行われるが、共用イ
ンナーリード3と絶縁部材2は接着剤によって接着され
ていなくても差し支えない。金属細線7の共用インナー
リード3への接続は、接続を行う場合にのみ共用インナ
ーリード3を絶縁部材2に押し付けて接触させ共用イン
ナーリード3を安定させて行う。金属細線7の接続は、
共用インナーリード3の薄肉部分3cと絶縁部材2の間
に樹脂封止工程時に樹脂8が流入可能なすき間が存在し
ている。半導体素子1の固定は、信号用インナーリード
4を絶縁部材2を介して、半導体素子1の回路形成面1
aに接着して行われている。
本実施例によっても、共用インナーリード3と絶縁部材
2の間に樹脂8を介在させることができるので、樹脂8
との界面のはく前部分を少なくとも共用インナーリード
3の周囲に限定することができる。これによって共用イ
ンナ−リード3上部での樹脂8の変形量が小さくなり、
共用インナーリード3の上端部に大きな応力が発生する
ことがない。従って、この部分からの樹脂クランクを防
止することができる。
第6図では、共用インナーリード3にのみ薄肉部分3c
を設ける例を示したが、第7図に示すように、絶縁部材
2の上部に位置する信号用インナーリード4の半導体素
子1に対向する面にも同じような幅方向に貫通するよう
にくぼんでいる一様の薄肉部分4cを設けて、信号用イ
ンナーリード4と絶縁部材2との間に樹脂が介在してい
る半導体素置であっても良い。金属細線7と信号用イン
ナーリード4との接続時、絶縁部材2上の信号用インナ
ーリード4は、絶縁部材2に押し付けられて接触するが
、接続終了後には両者の間に樹脂8が介在可能なすき間
が形成される。この場合の半導体素子1の固定は、支持
用インナーリード6によって行われる。
第8図及び第第9図は本発明のさらに他の実施例であり
、第8図は1本発明の樹脂封止型半導体素置の部分断面
斜視図、第9図は、第8図のハーバ線で切った断面図で
ある。
絶縁部材2の上部において、共用インナーリード3は信
号用インナーリード4よりも上方に位置し、さらに共用
インナーリード3は絶縁部材2から浮いた状態で配設さ
れており、共用インナーリード3と絶縁部材2との間に
は樹脂8が介在している。信号用インナーリード4は、
下方に折り曲げられて絶縁部材2と接着剤9によって接
着されている。共用インナーリード3は、下方への折り
曲げはなされておらず、絶縁部材2と接着されていない
。金属細線7の共用インナーリード3への接続は、接続
を行う場合にのみ共用インナーリード3を接続部材2に
押し付けて接触させ、共用インナーリード3を安定させ
て行う。金属細線7の接続後は、共用インナーリード3
と絶縁部材2との間に、樹脂封止工程時に樹脂8が流入
可能なように、共用インナーリード3は絶縁部材2の上
方の離れた位置に配設される。
半導体素子1の固定は、信号用インナーリード4によっ
て行われ°ている。
本実施例によれば、共用インナーリード3を絶縁部材2
より上方に浮かせて配設することによって、共用インナ
ーリード3と絶縁部材2の間に樹脂8を介在させること
ができるので、樹脂8との界面のはく前部分を少なくと
も共用インナーリード3の周囲に限定することができる
。これによって、半導体素置樹脂封止後の冷却や温度サ
イクル試験時の温度低下による共用インプーリー1〜3
上部での樹脂8の変形量が小さくなり、共用インナーリ
ード3の上端部に大きな応力が発生することがないので
、この部分からの樹脂クラックの発生を防止することが
できる。
本実施例では、信号用インナーリード4が下方に折り曲
げられているため、共用インナーリード3の下方への折
り曲げは行なわず、アウターリード5が半導体素置の外
部に引き呂されているとの同じ高さに配置することによ
って、共用インナーリード3を絶縁部材2から浮かせて
いる。しかし、信号用インナーリード4が下方に折り曲
げられていないような半導体素置では、共用インナーリ
ード3を上方へ折り曲げて絶縁部材2から浮かせるよう
にしても差し支えない。
第8図及び第9図では、共用インナーリード3のみを絶
縁部材2より上方に離して配設し、共用インナーリード
3と絶縁部材2の間に樹脂8を介在させる例を示したが
、第10図に示すように、共用インナーリード3ととも
に信号用インナーリード4を絶縁部材2より離して配設
し、共用インナーリード3及び信号用インナーリード4
ともに、これらと絶縁部材2との間に樹脂8を介在させ
た半導体素置であっても差し支えない。この場合、半導
体素子]の固定は、半導体素子1の短辺側に設けられて
いる支持用インナーリード6によって行われる。
第11図、第12図に本発明の更に他の実施例を示す。
第12図は第11図の二−二断面図である。今までの実
施例と異なるところは絶縁部材2を共用インナーリード
3の主要部側面からはみ呂させ延長部2aを形成した点
にある。こうすることにより半導体素子1と絶縁部材2
端部のつけ根で万一樹脂8との界面剥離が生じても、絶
縁部材2端面と共用インナ−リード3主要部側面とは面
一ではないので界面剥離が直進せず剥離作用は拡散、減
衰される。
第13図は本発明の更に他の実施例であり、今までの各
実施例と異なるところは絶縁部材2の側面についても接
着剤を施こしたことにある。尚、側面の接着剤は共用イ
ンナーリード3の側面にまで及んでいても差し支えない
。この場合の例を第14図に示す。いずれの例にせよ側
面の接着剤に代えて樹脂8との密着性の良いメツキ層で
も良い。
更に絶縁部材2及び/または共用インナーリード3の各
側面については接着剤等に代えて粗化(微細凹凸、梨地
面)処理をしても良い(第15図参照)。10は粗化部
分である。これらの実施例によれば樹脂8と絶縁部材2
の側面及び/または樹脂8と共用インナーリード3の側
面の界面についての剥離は発生しにクク、万一発生して
も界面剥離は進行しにくい。また第16図のように突起
11を形成すれば万一界面剥離がこの突起11のつけ根
に至っても突起11が剥離予定路の迂回路となり界面剥
離の進行は阻止される。
以上の各実施例は適宜組み合せて実施しても差し支えな
いことは当然である。
本発明が対象としている従来のタブレス型の樹脂封止型
半導体素置の部分断面斜視図を第17図に、また第17
図のホーホ線で切った断面図を第18図に示す。
支持用インナーリード6によって支持(接着固定)され
た半導体素子]の回路形成面1aに、共用インナーリー
ド(バスパーインナーリードとも呼ばれている)3及び
信号用インナーリード4が半導体素子1と電気的に絶縁
する絶縁部材2を介して接着剤9によって接着され、共
用インナーリード3及び信号用インナーリード4と半導
体素子1とが夫々金属細線7で電気的に接続されている
そして、これらは樹脂8で封止されパッケージを形成し
ている。また、共用インナーリーl〜3及び信号用イン
ナーリード4の金属細線接合部には、インナーリードと
金属細線の接合を良好にするために金(Au)あるいは
(Ag)などの貴金属。
被膜が設けられている。ところが、貴金属被膜と封止樹
脂の接着性が悪いため、貴金属被膜が設けられているイ
ンナーリードと封止樹脂との界面は容易にはく離が起こ
りやすくなっている。そのため、信号用インナーリード
4は貴金属被膜14を設番プる領域を信号用インナーリ
ード4先端の金属細線接合部のみに限′つている。しか
し、なから共用インナーリード3については、金属細線
接合本数が多く、さらに広い範囲にわたっているため絶
縁部材2上部に存在する共用インナーリード3の全面に
貴金属被膜14が施されている。なお、第17図の斜線
部は、貴金属被膜14が設けられている領域を示す。
樹脂封止型半導体素置においては、これを構成する半導
体素子、インナーリード、絶縁部材及び封止樹脂の線膨
張係数が通常互いに異なっているため、装置の温度変化
によって装置内に熱応力が発生する。特に共用インナー
リード及び絶縁部材夫々の封止樹脂との界面がはく離す
ることによって共用インナーリードの上端部に高い応力
が発生し、この部分より樹脂クラックが発生する。
樹脂クラックの発生メカニズムを模式的に第19図の断
面図に示す。共用インナーリード(線膨張係数5 X 
10−8/’C)と封止樹脂(線膨張係数差20 X 
10−’/’C)との線膨張係数差が大きいため、半導
体素置樹脂封止後の冷却や温度サイクル試験時の温度低
下によって、接着性の悪い共用インナーリード3と封止
樹脂8の界面が容易に剥離12する。ちなみに半導体素
子1の厚さは例えば0.4mm程度であり、絶縁部材2
の厚さは0.15〜0.2s+程度であり、各インナー
リードの厚さはおよそ0.2m程度である。この剥離1
2が発生すると、樹脂は第19図に矢印で示すように中
心方向に収縮する。この為、共用インナーリード側面3
dとほぼ同じ位置に存在する絶縁部材側面2dの樹脂と
の界面にもは<M12が発生する。剥離部分12が長く
なったことによって共用ンナーリード上部での樹脂の変
形量が増大するため、共用インナーリード3の上端部に
大きな応力が発生し、この部分に樹脂クラック13が発
生する。共用インナーリード3の上端部より樹脂クラッ
ク13が発生すると、半導体素置の外観を損ねるだけで
なく、共用インナーリード3又は信号用インナーリード
4と半導体素子1とを電気的に接続する金属細線7をも
断線させるという問題が起こる。
本発明の上記各実施例はこのような界面剥離の発生乃至
は成長が確実に阻止できることになる。
〔発明の効果〕
本発明によれば、半導体素置樹脂封止後の冷却や温度サ
イクル試験時の温度低下によって、大きな応力が発生は
ることがないので、樹脂クラックの発生を防止すること
ができ、更に限られた外形寸法のもとて可能な限り大型
の半導体素子を搭載しうる樹脂封止型半導体素置を得る
ことができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の樹脂封止型半導体素置の一実施例を示
す部分断面斜視図、第2図は第1図のイーイ線断面図、
第3図は第1図のローロ線断面図、第4図は第1図に示
した実施例の他の例を示す部分断面斜視図、第5図は第
1図に示した実施例の更に他の例を示す短辺方向断面図
、第6図は本発明の樹脂封止型半導体素置の他の実施例
を示す部分断面斜視図、第7図は第6図に示した実施例
の他の例を示す部分断面斜視図、第8図は本発明の樹脂
封止型半導体素置の更に他の実施例を示す部分断面斜視
図、第9図は第8図のハーバ線断面図、第10図は第8
図に示した実施例の他の例を示す断面図、第11図は本
発明の樹脂封止型半導体素置の更に他の実施例を示す部
分断面斜視図、第12図は第11図の二一二線断面図、
第13図。 第14図、第15図、第16図はいずれも第12図に示
した実施例の他の例を示す断面図、第17図は従来のタ
ブレス型半導体素置の例をす部分断面斜視図、第18図
は第17図ホーホ線断面図。 第19図は樹脂クラックの発生メカニズムを説明するた
めの部分断面図である。 1・・・半導体素子、1a・・・半導体素子の回路形成
面、2・・・絶縁部材、3・・・共用インナーリード、
4・・・信号用インナーリード、7・・・金属細線、8
・・・樹脂、3a・・・金属細線接続部、3b・・・金
属細線非接続部、3c、4c・・・薄肉部分。 力 3 図 第 困 第 図 叉ギV甲4ンナー1ノード C 清削険 遁 乙 図 力 9 図 χ /ρ 図 予」1Alンブー1にド 夛Wr!−,l 呈 口 ?弔4ンアーゝj−ト と 衝触 築 2 図 第 3 図 Φ 遁 目 遁 5 区 /θ 砺化仲γ ! /2 /I ”EJ χ /7 (2)

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、回路の形成された半導体素子の該回路形成面側の少
    なくとも2箇所に絶縁フィルムが接着され、夫々の該絶
    縁フィルム上に電気接続用インナーリードが位置するこ
    とにより該電気接続用インナーリード同士が互いに対向
    するよう配置され、更に該電気接続用インナーリードと
    は離れた位置に信号用インナーリードが配置され、以上
    の要素を樹脂にて封止してなる樹脂封止型半導体装置に
    おいて、前記絶縁フィルムと前記電気接続用インナーリ
    ードとの間に少なくとも部分的に封止樹脂を介在させた
    ことを特徴とする樹脂封止型半導体装置。 2、回路の形成された半導体素子の該回路形成面側の少
    なくとも2箇所に絶縁フィルムが接着され、夫々の該絶
    縁フィルム上に電気接続用インナーリードが位置するこ
    とにより該電気接続用インナーリード同士が互いに対向
    するよう配置され、更に該電気接続用インナーリードと
    は離れた位置に信号用インナーリードが配置され、以上
    の要素を樹脂にて封止してなる樹脂封止型半導体装置に
    おいて、前記絶縁フィルム同士の各対向面と前記電気接
    続用インナーリード同士の各対向面との位置をずらした
    ことを特徴とする樹脂封止型半導体装置。 3、回路の形成された半導体素子の該回路形成面側の少
    なくとも2箇所に絶縁フィルムが接着され、夫々の該絶
    縁フィルム上に電気接続用インナーリードが位置するこ
    とにより該電気接続用インナーリード同士が互いに対向
    するよう配置され、更に該電気接続用インナーリードと
    は離れた位置に信号用インナーリードが配置され、以上
    の要素を樹脂にて封止してなる樹脂封止型半導体装置に
    おいて、前記電気接続用インナーリード同士の対向面が
    微細に凹凸を呈して封止樹脂と密着していることを特徴
    とする樹脂封止型半導体装置。 4、回路の形成された半導体素子の該回路形成面側の少
    なくとも2箇所に絶縁フィルムが接着され、夫々の該絶
    縁フィルム上に電気接続用インナーリードが位置するこ
    とにより該電気接続用インナーリード同士が互いに対向
    するよう配置され、更に該電気接続用インナーリードと
    は離れた位置に信号用インナーリードが配置され、以上
    の要素を樹脂にて封止してなる樹脂封止型半導体装置に
    おいて、前記電気接続用インナーリードの表面に突起を
    形成したことを特徴とする樹脂封止型半導体装置。 5、回路の形成された半導体素子の該回路形成面側の少
    なくとも2箇所に絶縁フィルムが接着され、夫々の該絶
    縁フィルム上に電気接続用インナーリードが位置するこ
    とにより該電気接続用インナーリード同士が互いに対向
    するよう配置され、更に該電気接続用インナーリードと
    は離れた位置に信号用インナーリードが配置され、以上
    の要素を樹脂にて封止してなる樹脂封止型半導体装置に
    おいて、前記電気接続用インナーリードの対向面に表面
    処理層を形成して封止樹脂と該電気接続用インナーリー
    ド対向面が密着していることを特徴とする樹脂封止型半
    導体装置。 6、請求項1、2、3、4又は5において前記各電気接
    続用インナーリードの主要部は夫々前記半導体素子の長
    手方向に配置されることにより該主要部の側面同士が前
    記電気接続用インナーリード同士の対向面となることを
    特徴とする樹脂封止型半導体装置。 7、請求項6において前記電気接続用インナーリードの
    外方に前記信号用インナーリード群を位置させてなるこ
    とを特徴とする樹脂封止型半導体装置。 8、回路の形成された半導体素子と、該半導体素子の回
    路形成面上に絶縁フィルムを介して配置された電気接続
    用インナーリードと、該電気接続用インナーリードと前
    記半導体素子とを電気的に接続する第1の導通部材と、
    前記電気接続用リードとは離して配置しかつ前記半導体
    素子の回路形成面上に絶縁フィルムを介して配置された
    複数の信号用インナーリードと、該信号用リードの夫々
    と半導体素子とを電気的に接続する第2の導通部材と、
    前記半導体素子前記各絶縁フィルム、前記各インナーリ
    ード群並びに前記各導通部材を封止する樹脂とを備えて
    なる樹脂封止型半導体装置において、前記各絶縁フィル
    ムは前記回路形成面に接着し、前記電気信号用インナー
    リードと前記絶縁フィルムとの間は少なくとも部分的に
    封止樹脂を入り込ませたことを特徴とする樹脂封止型半
    導体装置。 9、回路の形成された半導体素子と、該半導体素子の回
    路形成面上に絶縁物を介して配置された複数のインナー
    リード部分と、夫々の該インナーリード部分と前記半導
    体素子とを電気的に接続する導通部材と、少なくとも以
    上の要素を封止する樹脂とを備えた樹脂封止型半導体装
    置において、前記絶縁部は、前記インナーリード直下の
    領域について少なくとも部分的に封止樹脂であることを
    特徴とする樹脂封止型半導体装置。 10、支持用インナーリードによって支持された半導体
    素子の回路形成面に絶縁部材を接着し、該絶縁部材の上
    に前記電気接続用インナーリードを配設し、該電気接続
    用インナーリードと前記半導体素子とを夫々金属細線で
    電気的に接続し、これらの周囲を封止樹脂で封止した樹
    脂封止型半導体装置において、前記絶縁部材よりも上方
    に離れて配設され、かつ該絶縁部材との間に前記封止樹
    脂を介在させた電気接続用インナーリードを設けたこと
    を特徴とする樹脂封止型半導体装置。 11、半導体素子の回路形成面に絶縁部材を接着し、該
    絶縁部材の上に共用インナーリード及び信号用インナー
    リードを配設し、該共用インナーリード及び該信号用イ
    ンナーリードと前記半導体素子とを夫々金属細線で電気
    的に接続し、これらの周囲を封止樹脂で封止した樹脂封
    止型半導体装置において、前記信号用インナーリードを
    前記絶縁部材に接着し、さらに、前記絶縁部材よりも上
    方に離れて配設され、かつ該絶縁部材との間に前記封止
    樹脂を介在させた共用インナーリードを設けたことを特
    徴とする樹脂封止型半導体装置。 12、半導体素子と、該半導体素子上に接着された絶縁
    フィルムと、該絶縁フィルム上に配設されかつその主要
    部互いに向かい合って配置された2本の電気接続用リー
    ドと、夫々の該電気接続用リードの外側に各該電気接続
    用リードとは離して設けられた複数の信号用インナーリ
    ードとを備え、以上の要素を樹脂にて封止してなる樹脂
    封止形半導体装置において、前記各電気接続用リードの
    半導体素子対向面が部分的に凹部となるよう該インナー
    リードを部分的に薄肉にし、この凹部に前記封止樹脂を
    入れたことを特徴とする樹脂封止型半導体装置。 13、請求項12において、部分的に薄肉にするインナ
    ーリードの当該薄肉部位は該インナーリードを幅方向に
    貫通させることによって形成されることを特徴とする樹
    脂封止型半導体装置。 14、請求項12において、部分的に薄肉にするインナ
    ーリードの当該薄肉部位は該インナーリード同士の対向
    面でかつ前記絶縁フィルムに面する側を部分的にへこま
    せて形成することを特徴とする樹脂封止型半導体装置。 15、半導体素子の回路形成面に絶縁部材を接着し、該
    絶縁部材の上に電気接続用インナーリードを配設し、該
    電気接続用インナーリードと前記半導体素子とを夫々金
    属細線で電気的に接続し、これらの周囲を封止樹脂で封
    止した樹脂封止型半導体装置において、前記電気接続用
    インナーリードの前記半導体素子に対向する面の一部を
    、その幅方向に貫通するようにくぼませて薄肉化し、前
    記絶縁部材との間に前記封止樹脂を介在させ、かつ薄肉
    化されていない部分を前記絶縁部材と接着させたことを
    特徴とする樹脂封止型半導体装置。 16、請求項15において、前記電気接続用インナーリ
    ードの前記薄肉化する部分を、前記金属細線接続部の前
    記半導体素子に対向する面以外の部分に限定したことを
    特徴とする樹脂封止型半導体装置。 17、半導体素子の回路形成面に絶縁部材を接着し、該
    絶縁部材の上に共用インナーリード及び信号用インナー
    リードを配設し、該共用インナーリード及び該信号用イ
    ンナーリードと前記半導体素子とを夫々金属細線で電気
    的に接続し、これらの周囲を封止樹脂で封止した樹脂封
    止型半導体装置において、前記信号用インナーリードを
    前記絶縁部材に接着し、さらに、前記共用インナーリー
    ドの前記半導体素子に対向する面の一部を、その幅方向
    に貫通するようにくぼませて薄肉化し、前記絶縁部材と
    の間に前記封止樹脂を介在させ、かつ薄肉化されていな
    い部分を前記絶縁部材と接着させたことを特徴とする樹
    脂封止型半導体装置。 18、請求項17において、前記共用インナーリードの
    前記薄肉化した部分を、前記金属細線接続部の前記半導
    体素子に対向する面以外の部分に限定したことを特徴と
    する樹脂封止型半導体装置。 19、半導体素子と、該半導体素子の回路形成面上に接
    着された絶縁フィルムと、該絶縁フィルム上に主たる部
    分が位置する電気接続用インナーリードとを備え、これ
    らを樹脂にて封止してなる樹脂封止型半導体装置におい
    て、前記電気接続用インナーリードの表面に(1)突起
    の形成、(2)微細凹凸による粗化、(3)接着割付与
    から選ばれる亀裂抑制手段を講じたことを特徴とする樹
    脂封止型半導体装置。 20、請求項1乃至19のいずれかにおいて、前記半導
    体素子は、4メガ又は16メガビットのダイナミック・
    ランダム・アクセス・メモリであることを特徴とする樹
    脂封止型半導体装置。 21、夫々が樹脂封止体内部の電気接続用インナーリー
    ド部と樹脂封止体外部のアウターリード部とからなるリ
    ードが集合してなるリードフレームにおいて、前記電気
    接続用インナーリード部の内、少なくとも半導体素子の
    回路形成面に接着している絶縁部材の上に配設される部
    分については、前記半導体素子に対向する面の一部を、
    その幅方向に貫通するようにくぼませて薄肉化したこと
    を特徴とするリードフレーム。 22、請求項21において、前記電気接続用インナーリ
    ード部の前記薄肉化する部分を、金属細線接続部の半導
    体素子に対向する面以外の部分に限定したことを特徴と
    するリードフレーム。 23、夫々が樹脂封止体内部の共用インナーリード部及
    び信号用インナーリード部と樹脂封止体外部のアウター
    リード部とからなるリードが集合してなるリードフレー
    ムにおいて、前記共用インナーリード部の内、少なくと
    も半導体素子の回路形成面接着している絶縁部材の上に
    配設される部分については、前記半導体素子に対向する
    面の一部を、その幅方向に貫通するようにくぼませて薄
    肉化したことを特徴とするリードフレーム。 24、請求項22において、前記共用インナーリード部
    の前記薄肉化する部分を、金属細線接続部の半導体素子
    に対向する面以外の部分に限定したことを特徴とするリ
    ードフレーム。 25、夫々が樹脂封止体内部の電気接続用インナーリー
    ド部及び半導体素子支持用インナーリード部と樹脂封止
    体外部のアウターリード部とからなるリードが集合して
    なるリードフレームにおいて、前記電気接続用インナー
    リード部の内、少なくとも半導体素子の回路形成面に接
    着している絶縁部材の上に配設される部分については、
    前記絶縁部材よりも上方に離れるようにしたことを特徴
    とするリードフレーム。 26、夫々が樹脂封止体内部の共用インナーリード部及
    び信号用インナーリード部と樹脂封止体外部のアウター
    リード部とからなるリードが集合してなるリードフレー
    ムにおいて、前記共用インナーリード部の内、少なくと
    も半導体素子の回路形成面に接着している絶縁部材の上
    に配設される部分については、前記絶縁部材よりも上方
    に離れるようにしたことを特徴とするリードフレーム。 27、半導体素子の回路形成面に絶縁部材を接着し、該
    絶縁部材の上に電気接続用インナーリードを配設し、該
    電気接続用インナーリードと前記半導体素子とを夫々金
    属細線で電気的に接続し、これらの周囲を封止樹脂で封
    止した樹脂封止型半導体装置において、前記電気接続用
    インナーリードの前記半導体素子に対向する面の一部を
    、その幅方向に貫通するようにくぼませて前記絶縁部材
    との間に前記封止樹脂を介在させたことを特徴とする樹
    脂封止型半導体装置。 28、半導体素子の回路形成面に絶縁部材を接着し、該
    絶縁部材の上に電気接続用インナーリードを配設し、該
    電気接続用インナーリードと前記半導体素とを夫々金属
    細線で電気的に接続し、これらの周囲を封止樹脂で封止
    した樹脂封止型半導体装置において、前記電気接続用イ
    ンナーリードの前記半導体素子に対向する面の一部を、
    その幅方向に貫通するようにくぼませて前記絶縁部材と
    の間に前記封止樹脂を介在させ、かつくぼみが形成され
    ていない部分を前記絶縁部材と接着させたことを特徴と
    する樹脂封止型半導体装置。 29、半導体素子の回路形成面に絶縁部材を接着し、該
    絶縁部材の上に電気接続用インナーリードを配設し、該
    電気接続用インナーリードと前記半導体素子とを夫々金
    属細線で電気的に接続し、これらの周囲を封止樹脂で封
    止した樹脂封止型半導体装置において、前記電気接続用
    インナーリードの前記半導体素子に対向する面の一部と
    前記絶縁部材との間に前記封止樹脂を介在させたことを
    特徴とする樹脂封止型半導体装置。 30、請求項26、27又は28のいずれかにおいて、
    前記半導体素子は、4メガ又は16メガビットのダイナ
    ミック・ランダム・アクセス・メモリであることを特徴
    とする樹脂封止型半導体装置。 31、夫々が樹脂封止体内部の電気接続用インナーリー
    ド部と樹脂封止体外部のアウターリード部とからなるリ
    ードが集合してなるリードフレームにおいて、前記電気
    接続用インナーリード部の内、少なくとも半導体素子の
    回路形成面に接着している絶縁部材の上に配設される部
    分については、前記半導体素子に対向する面の一部を、
    その幅方向に貫通するようにくぼませたことを特徴とす
    るリードフレーム。 32、電気接続用リードのインナー側主要部が互いに略
    平行に対向配置され、その外方に夫々複数の信号用リー
    ドが配置されて成るリードフレームにおいて、前記電気
    接続用リードフレーム相互の対向面に接着剤を付与し、
    或いは微細凹凸加工を施こし、若しくは突起を形成し、
    又は部分的に薄肉にして成ることを特徴とするリードフ
    レーム。 33、請求項21乃至25のいずれかまたは請求項30
    若しくは31において、各インナーリード裏面に絶縁フ
    ィルムを接着剤を介して積層して成ることを特徴とする
    リードフレーム。
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