JPH01199432A - シリコンウエハーの洗浄、濯ぎ、乾燥方法及び装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 現創案は、半導体過程工業における、シリコン・ウェハ
ースまたは他のウェハース、あるいは薄い平円盤状の物
質または成分を、濯ぎ、乾燥させる装置および手段に広
（関連づけられるものである。

さらにまた創案は、ウェハースの洗浄、濯ぎ、乾燥の統
合装置および手段に、また特に、音波洗浄技術を用いた
、ウェハースの洗浄、濯ぎ、乾燥のための、このような
装置および手段に関連づけられるものである。

〔従来の技術〕

シリコン・ウェハースに半導体の仕組みを生みだすまで
の過程においては、ウェハースには無数の段階が踏まれ
るべきものである。これら多くの段階を実践するのには
、ひとまとめのウェハースを、しばしばボートまたはカ
セットとして参照されるような溝口運搬設備に配置して
行えば合理的である。運搬設備は、相対する垂直の側面
に、ウェハースを緑にそってはさみ守備よい間隔で受容
するための無数の空洞状の溝目を有している。運搬設備
の底部には、運搬されるウェハースの裏側の縁に接近さ
せるための開放口が設けられている。

運搬設備の上端は、ウェハースが挿入され移動されるよ
う、開かれている。

半導体の仕組み製造辷おいては、おびただしい回数の洗
浄、塗布、拡散段階が要求されるものである。ウェハー
ス表面上の塵および残留物の微粒子洗浄および除去は、
難解な作業である。塵、ごみ、はこりの極小粒子は、ウ
ェハースの表面上にむしろ堅固に付着されるものである
。ウエハース表面上よりの、このような異質物除去には
、強力な洗浄作用が要求される。手作業によるウェハー
スの洗い落としは、有効な一方、高価格かつ摩滅により
破壊的である。

ウェハースの熱い化学溶液への浸し入れには幾分の効果
があり、また手作業による洗い落としに比較し、価格の
点ではるかに効果的であること、多量製造にはより順応
的であることが発見されている。化学的浸し入れ方法の
効力向上のため、超音波および大型音波洗浄手段を、化
学洗浄溶液浸し入れに兼用もしくは付加として用いる事
が示唆されている。従来、そのような化学的洗浄法およ
び音波エネルギー洗浄法は、特別の改造洗浄槽において
、洗浄され洗浄槽より移されたウェハースを、濯ぎ液中
で濯ぐため行われているものである。

工業界は、回転濯ぎ・乾燥機として知られる機械を、シ
リコン・ウェハースの最終スプレーリンスおよび回転乾
燥への効力のため、多年にわたり使用している。濯ぎ・
乾燥機は、ウェハースおよびウェハースを包含する運搬
装置より水分を噴出する、遠心分離機体である。このよ
うな機械にて行われる回転活動のため、シリコン・ウェ
ハースは、強い圧迫を受ける。加えて、シリコンの塵は
、他の微粒子繁殖とともにウェハース表面上に生じ、再
付着するものである。半導体工業は、シリコン装置作製
における非常に大規模な統合によって、より小型の装置
幾何へと向かって進んでおり、小型装置幾何における微
粒子繁殖は、ウェハースの最終濯ぎ及び乾燥の間に、著
しい欠損問題を引き起こすものである。

照合によりここに編入された全内容であるところの、１
９８６年６月１６日付とじ込み、通し番号０６／８７４
，３８３の、当共同係争中の特許申請における、ウェハ
ースが熱いウォーター・バスで規定の溝口運搬設備に維
持されながら濯がれる箇所では、シリコン・ウェハース
のような薄いウェハースの濯ぎ及び乾燥の手段が表され
ている。

ウェハースは、ウォーター・バス水面上の表面張力がウ
ェハースの浮上する表面から水分を均等に効力的に牽引
するように、ウォーター・バスより徐々に持ち上、げら
れることにより乾燥される。ウェハースは、遠心分離型
の濯ぎ機及び乾燥機において展開されたような強力な圧
迫を受けることなしに、乾燥状態で徐々にウォーター・
バスより上がるものである。

〔発明が解決しようとする課題〕

創案の主要なる目的は、シリコン・ウエノ＼−スのよう
な薄いウェハースの能率的かつ同時の洗浄、濯ぎ及び乾
燥を、洗浄、濯ぎ、乾燥段階を分離する別々の装置と手
段とを避け、能率的に同時に行なうための、新奇的また
は合理的な統合システムを供給することである。

現創案の特別の目的は、シリコン・ウェハースのような
薄いウェハースのち密でしかも比較的に格安な、洗浄、
濯ぎ、及び乾燥が、ウェハースが清浄度の高（熱い非イ
オン化水槽中で、音波エネルギーの波動を受けるべく徐
々に音波エネルギー域を通過しながら洗浄され、濯がれ
、さらに全エネルギー域での緩やかな動きの継続におい
て、槽内の熱い非イオン化水からゆっくりと移動される
ことによって乾燥されるような、統合的手順で行ない得
る装置を供給することである。

現創案の一層の目的は、ウェハースが、汚染微粒子の効
果的除去をもたらすための周囲上澄み層のすくい取りも
しくは氾濫作用のある槽野中で、槽の底部より沸く清浄
度の高く熱い非イオン化水の薄層の上方向に向かう流れ
を用い、洗浄され濯がれるような統合システムを供給す
ることである。

現創案の付随的な目的は、薄いウェハースが、大型音波
の波動エネルギーを受けるべく、音波エネルギー域を当
初貫通活動するため、熱く清浄度の高い非イオン化水に
浸し入れられ、さらに熱い非イオン化水の全表面におい
て、ゆるやかで継続的な動作で動き続けることにより乾
燥される一方で、維持カセットより持ち上げられる、リ
フト機構および洗浄、濯ぎ槽を包含する装置の新奇な組
み合わせを供給することである。

〔課題を解決するための手段〕

上述の諸口的は、シリコン・ウェハースのような、ウェ
ハース及び薄い平円盤状の部または成分の、清浄度の高
（熱い、非イオン化水の、ウォーター・バスを用いた最
終洗浄、濯ぎ、乾燥のための新奇な手段と装置を供給す
ることにより、現創案と一致して達せられるものである
。維持手段に含まれたウェハースは、熱い非イオン化水
槽の中に浸し入れられる。熱い非イオン化水は、水中に
浮流する微粒子除去のため、全槽内を通して、薄層流動
型の上方向への流れとされるべくものである。槽におけ
る、少なくとも周囲部分の氾濫水は、それによって水面
に瞬発的に浮上中の微粒子の除去となるために、熱い非
イオン化水面における上澄み層すくい取り作動に非常な
効果をもたらすものである。液体による薄層流動および
液体表面の上澄み層すくい取りは、ウェハースにおける
微粒子再付着の可能性を実質的に減するものである。

ウェハースの洗浄は、ウォーター・バスにおいて維持さ
れる、非常な高頻度の音波エネルギーのビームを通して
ウェハースを徐々に動かすことによって達せられる。変
換機は、およそ０．０４から５ＭＨｚの間の頻度による
振動電流に適用され、熱い非イオン化水を包含する槽内
に配置される。

変換機は、槽の垂直面もしくはその隣接地点に据え付け
られることが望ましく、それが槽内の水の総体にわたり
横断する音波エネルギーのビームを誘導するものである
。音波エネルギーは、大型音波配列下にあること、すな
わち、波動エネルギーの頻度はおよそ０．２から５ＨＭ
、間に配列されることが望ましい。

新奇かつ垂直のリフト機構は、シリコン・ウエハースヲ
槽内の音波エネルギーのビーム下の水中に浸し入れたと
ころの位置より持ち上げ、槽内の音波エネルギーのビー
ムを横断に通して徐々に移動させるため供給されるもの
である０機構は、要望によりウェハースを、音波エネル
ギーのビームに通しながら、幾度か上下に動かすことに
適用し得る。音波エネルギーのビームを通してのウェハ
ースの上方向への移動に従い（この場合は、機構が音波
エネルギーのビームを通してのウェハースの幾度かの上
下活動に適用された時においての、最終の上方向への移
動である）、ウェハースは熱い非イオン化水体の表面を
通って、徐々に持ち上げられる。創案の具体化の提起の
一つにおいては、リフト機構は、−時的に音波エネルギ
ーのビームの発生を止め、さらにウェハース及びカセッ
トを、双方がウォーター・バスより移動された後のウェ
ハースのカセット内への再配置の最終段階とともに、ウ
ェハースが分離独立した別の操作によってすでにウォー
ター・バスから移動されているところより、徐々に持ち
上げるのに適用される。当具体案においては、リフト機
構は、カセットを維持するための維持組織、およびウェ
ハースを持ち上げるためのリフト要素、またウォーター
・バスを含めた槽に関する充分な垂直活動で維持組織お
よびリフト要素双方を移動させるところの分離独立した
手段を包含する０手段は、維持組織及び、ウェハースの
保護を含む個々のカセットそれぞれを、槽の低部にて洗
浄され濯がれべく配置するために、供給されるものであ
る。

音波エネルギーのビームの発生がさらに開始され、よっ
て、カセット及びそれに伴うウェハースは音波エネルギ
ーのビームのもとに配置される。

その時リフト要素は、カセット底部の開口を通じて、ウ
ェハースの裏側の縁に随伴する。リフト要素は、ウェハ
ースがカセットより持ち上げられるに従い、徐々にウォ
ーター・バスの音波エネルギーのビームを通りながら、
継続的な動作で上方向に移動する。さらに、リフト要素
が継続的にゆるやかに上方向へ移動するのに伴われ、ウ
ェハースはやがてウォーター・バスの表面より上に持ち
上がる。過程の限定的説明においては、リフト要素は、
ウェハースがウォーター・バスの表面より持ち上げられ
る最終の上方向への移動を行なう前に、交互の上下活動
をしながら徐々に動くものである。

交互活動の間、ウェハースは音波エネルギーのビームを
通りながら、上下に動くものである。

リフト要素が、ウォーター・バスの音波エネルギーのビ
ームを通しての最終活動においてウェハースを移動させ
た後、音波エネルギーの発生は一時的に停止せられ、維
持組織は、空いたカセットを槽内のウォーター・バスの
表面より結果的に持ち上げるべく、槽内においてのゆっ
くりとした上昇活動を始めるものである。いったんウォ
ーター・バスの上となると、空のカセットはウェハース
に再随伴し、洗浄され、濯がれ、乾燥されたウェハース
を包含する乾いたカセットは、そこで維持組。

織よりはずされる。洗浄され、濯がれるべきウェハース
を包含する他のカセットが、そこで維持組織に配置され
得る。そこで、維持組織および濯ぎリフト要素は、新た
な洗浄および濯ぎ循環を開始するため、槽内の水中の音
波エネルギーのビーム下にある、槽の中の低位置に向け
て下降活動をする。

創案の付加的な目的および特徴は、付随の製図とあわせ
て、次に続く詳細記述より次第に明白となるものである
。

〔実施例〕

創案は、例証のように、創案は清浄度の高く熱い非イオ
ン化水に満たされた、槽１０の洗浄および（もしくは）
濯ぎを含むものである。水温は、少な（とも摂氏約７０
度から９０度の間、また望ましくは摂氏約８５度から９
０度の間とされるものである。拡散機１１は、槽１０の
底部付近の、槽１０内部に据えられる。熱い清浄化され
た非イオン化水は、熱い非イオン化水の上向きの薄層流
動を槽１０に全体に渡って造るために、拡散機１１を通
して上向きに槽１０へと注ぎ込まれる。図式ｌによく示
されているように、差し込みノズル１３は、清浄化され
た熱い非イオン化水を槽１０の底部および拡散機の隙間
を防いで注ぎ込むために、槽１０の底部に適用される。

熱い非イオン化水は、拡散機１１を通過し、槽１０内部
において、充分な薄層流動により上向きに流れる０周辺
的氾濫は、槽１０の周辺を氾濫することによって、槽１
０の上部より熱い非イオン化水を排水させる。熱い非イ
オン化水の薄層流動は、槽１０中に入れられた半導体ウ
ェハースを濯ぎ、また周辺的氾濫をともなった上向きの
水の流れは、熱い非イオン化水に浮流する様々な微粒子
を除去するものである。周辺的氾濫は、槽１０内の水の
表面において非常に有効な上澄み層すくい取り効果をも
たらす。

ウェハースは、槽１０中において、熱い非イオン化水に
よって濯がれると同時に、有効な最終洗浄をされる。こ
の最終段階では、槽１０の水金体に渡って充分な水平方
向で広がる、音波エネルギー（好ましくは大型音波エネ
ルギー）のビームを伝達するための手段が施される。変
換機１５は、槽１０の側面の一つに沿って適用される。

変換機１５は、槽ｌＯ内の水金体に渡って充分な水平方
向で押し流れる、音波エネルギーの水平体ビームを生む
、伸張装置である。商業ベースによる入手の可能である
変換機１５は、少なくとも約０．０４から５ＭＨｚの間
の頻度で操作される。変換機は、規定の調整された高頻
度のアンプに交互に接続される、適切なリードを通して
活力が与えられる。アンプの組立は技術的によく知られ
ていることから、製図においては示されておらず、また
当記述の以下文でも説明の必要とされるものではない。

音波洗浄構成を含む、装置の作用は、以下文においてさ
らに充分に記述されるものである。

ウェハースの濯ぎにおいては、音波洗浄段階が同時に含
まれるか否かに係わりなく、ウェハースの乾燥は、それ
を流動する熱湯の表面を通して持ち上げることにより、
非常に効果的に行なわれるものであるとの事が発見され
ている。熱いウォーター・バスの境界面における表面張
力および個々のウェハースは、ウェハースの表面より水
を効果的に牽引する０本質的には、ウェハースとカセッ
トとの合体を、水の表面より非常にゆっくりと移動させ
ることにより、水の表面との境界面における毛管現象が
、ウェハースとカセットとの合体の濡れた表面より水を
牽引するものである。ウェハースおよびカセットの移動
率は、一分間につき約１インチから４インチ、望ましく
は一分間につき約２インチから３インチとされるべきで
ある。

しかしながら、仮にウェハースとウェハースを含有する
カセットとが、共に水の表面を通して持ち上げられるな
らば、すなわち、カセット内の保有溝にウェハースの側
面の縁が随伴されたまま持ち上げられるとするならば、
水は、ウェハースの縁の周囲の、カセット内の溝の中に
はまり込み、残留するものである。残留した水は、ウェ
ハースの縁の水染みの原因となり、また場合によっては
、カセット内の溝に留まった水滴は、カセットがウォー
ター・バスより移動された後、ウェハースの面を渡って
流れ得る。ウェハースの面を渡る水の流れは、ウェハー
ス全体に、深刻な損傷をきたし得るものである。

仮にウェハースが、ウォーター・バスの表面との境界面
のようなところにおいて、カセットと接することなく、
ウォーター・バスの表面を通して独自に動かされ得るな
らば、水はウェハースより均等に引かれ、水より上に持
ち上げられているウェハースは乾燥されるとの事が発見
されている。

同様に、仮にカセットが、水の表面との境界面のような
ところにおいて、ウェハースと接することなく、ウォー
ター・バスの表面を通して独自に移動させられるならば
、水はカセットより均等に引かれ、水の上に持ち上げら
れたカセットは、内側の溝まで乾燥されるとの事が発見
されている。特別リフト機構は、ウォーター・バスの表
面境界面を通るウェハース及びカセットの、独自の活動
を果たすのに、適用されるものでなければならない。

特別リフト機構は、ひとまとめのウェハースを個々に離
して保持するカセット、少なくとも一個を維持するため
の、槽１０内に配置された維持組織を含む。維持組織は
、カセット及びひとまとめのウェハースが、槽１０内の
、熱い非イオン北本表面の下に完全に浸し入れられるま
で運ばれるような、槽１０の中を下降するものでなけれ
ばならない。音波洗浄段階が、濯ぎと同時に行なわれる
べき時点においては、維持組織は、カセット及びひとま
とめのウェハースが、槽１０内の水全体に渡って広がる
音波エネルギーのビームのもとに浸し入れられるまで運
ばれるような、槽１０の中を下降するものでなければな
らない。

具体化例証において、維持組織は、槽１０の中に平行に
配置された二個の維持プレート２０を含む。

維持プレート２０は、槽１０内において維持プレート２
０を上下に上げ下げすることの可能な、リフト手段によ
り維持される。維持プレート２０のそれぞれが、図式１
によく示されているように、その上にカセット２５を受
理する縁棚２１を有している。二個のプレート２０は、
個々の上の平らな棚２１が、カセット２５のそれぞれの
裏側の縦の縁を維持するため、縦列となるように空間が
保たれている。

例証されているように、槽１０の中の二個のプレート２
０は、槽１０の上部を上方向に延長する。

接続アーム２２に接続される。これらの接続アームは、
プレート２０を上下に動かすためのリフト機構に、交互
につながれる。リフト機構は、槽１０付近に配置された
二重ピストン水圧システム２６を含む。接続アーム２２
は、以下文においてさらに充分に記述されるものである
ように、水圧システム２６のピストンの一個に接続され
る。

少なくとも一個のリフト要素が、槽１０内に、ひとまと
めのウェハースそれぞれを個々にカセットから持ち上げ
るため、適用される。例証のように、リフト要素３０は
、カセット２５を維持する維持組織の個々の維持プレー
ト２０の間に配置される。底部伸長組織体３１を含む。

底部伸長組織体３１は、対応する維持組織の維持プレー
ト２０の間に平行する形で、上昇および下降活動をする
のに適用される。

底部組織体３１は、水平組織体２９によって垂直方向接
続アーム３３の底部に、その底部先端を交互につながれ
る、垂直方向レッグ３２の上部に維持される。レッグ３
２は、カセット２５の底部における開口を通じて、維持
プレート２０上に維持されるカセット２５の下の低位置
（図式３）より、カセット２５の延長上である高位Ｗ（
図式５）へと移動するのに適用される。

維持プレート２０の接続アーム２２と同様に、接続アー
ム３３は、槽１０の上部を上方向に延長するものである
。二重ピストン水圧システム２６を含むリフト機構は、
槽１０の付近に配置される。

接続アーム３３は、以下文においてさらに充分に記述さ
れるものであるように、水圧システム２６のピストンの
一個に接続される。随伴手段は、個々のカセット２５そ
れぞれの中にあるウェハースの裏側の縁に随伴し、リフ
ト要素３０がその低位置より高位置へと移動するのに従
い、ウニ７、−スをカセット２５から外へ上方向に持ち
上げるため、リフト要素３０の底部伸長組織体３１に伴
って、適用されるものである。例証されているように、
随伴手段は、リフト要素３０の底部伸長体３１を上方向
および下方向に延長する、二個の伸長スレート３４を含
むものである。半導体過程技術においてよく知られてい
るように、スレート３４は、それが上方向への移動をす
るように、ウェハースの裏側の縁に随伴する溝に、適用
されるものである。そのような随伴手段は、ウェハース
を一個の運搬設備あるいはカセットより、他の運搬設備
あるいはカセットへと転移させ°るのに使用される他の
装置においてもよく知られており、随伴システムの一層
の記述は必要ではないと見なされる。

操作においては、装置は、シリコン・ウェハースの濯ぎ
及び乾燥の新奇的な手段を完成するために使用される。

濯がれ、乾燥されるべきウェハースは、カセット２５の
ような溝口運搬設備の、相対する側面によって、縁に沿
って維持される。ウェハースは、平行に守備よい間隔を
空けて、カセット２５の中に維持される。カセット２５
は、二個の維持プレート２０それぞれの維持棚２１の上
に維持される。

カセット２５及びひとまとめのウェハースは、槽１０内
の熱い非イオン化水の表面の下に浸し入れられる。熱い
非イオン化水は、槽１０全体および槽ｌＯの水の中に浸
し入れられたウェハースとカセット２５の回りに、上方
向の熱い非イオン化水のえきたい薄層流動を起こすため
、拡散機１１を通して、槽１０内に注ぎ込まれるもので
ある。

ウェハース及びカセット２５は、ウェハースの濯ぎに充
分な時間、槽１０の中に浸され残される。

濯ぎに続いて、ウェハースとカセット２５は、ウェハー
スの同時乾燥および移動効果のため、槽１０内の水から
徐々に上げられる。当初移動活動において、そこに維持
されたカセット２５およびウェハースは、槽１０内の熱
い非イオン化水の表面直下およびその付近に、カセット
２５の上側の縁が位置されるところまで、徐々に上げら
れる。

この当初移動活動におけるカセット２５の上昇は、槽１
０の中で維持プレート２０を上方向に移動させるための
水圧システム２６のような、適切な手段により果たされ
る。水圧システム２６は、二個のピストン２７および２
８を含む、好都合に、ピストンは、外側のピストン２８
が内側のピストン２７の回りに軸さやを形作る、守備よ
い型のものである。ピストン２７と２８とは、その技術
がよく知られているように、水圧流動体によって独自に
運転される。維持プレート２０の接続アーム２２は、ブ
ロック４０に接続され、ブロック４０は、外側のピスト
ン２８と、繊条交差のように、交互に接続される。ピス
トン２８は、上述の当初移動活動において、カセット２
５およびそれに含まれるウェハースが置かれている。槽
１０内の水の表面直下の操縦位置まで、上方向に運転さ
れる。

当初移動活動の完了に続いて、リフト要素３０は、第２
の移動活動において、徐々に上昇する。

レッグ３２およびリフト要素３０の底部組織体３１は、
ウェハースの裏側の縁を随伴するスレート３４とともに
、カセット２５底部の開口を通して持ち上げられる。レ
ッグ３２がカセット２５を通して上がり続けるに従って
、ウェハースは、槽１０内の水のまさしく表面上の位置
まで、カセット２５の外に槽１０内の水の表面を通って
、徐々に持ち上げられる。

この第二の移動活動におけるリフト要素３０の上昇は、
水圧システム２６の内側のピストン２７のような、適切
な手段により果たされる。リフト要素３０の接続アーム
３３は、内側のピストン２７に交互に接続される。ブロ
ック４２に接続される。

ウェハースが水の表面より浮かび上がる折、他物体によ
って成されるウェハースとの唯一の接触は、リフト要素
３０のスレート３４によるもののみである。この接触は
極微のものであり、ウェハースの裏側の縁に位置される
。ウェハースの浮上表面の水は、水の表面とウェハース
の境界面において、水の表面張力により引き払われる。

ウエノ１−スの、水の表面より上の部分は、ウェハース
が徐々に水の外に上がるにつれて、水の表面において直
ちに乾燥する。ウェハースが槽１０内の水のまさしく表
面上となる位置まで上げられる、第二の移動活動完了直
後に、溝口運搬設備またはカセット２５は、第三の移動
活動において徐々に上昇する。カセット２５は、水の表
面を通って徐々に上がり、カセット２５が水の表面を通
過するに従って、カセット２５の浮上部分は直ちに乾燥
される。その部分の水は、水の表面とカセット２５の境
界面における水の表面張力によって、直ちに効果的に引
き払われるものである。ウェハースを包含するため使用
されるはずの、カセット２５の側面の溝が空の場合にお
いてさえも、それが徐々に水の外に上がるに従い、完全
に乾燥されるとの事が、意外にも発見されている。これ
は、仮に、溝が水から浮上する時にウェハースの縁を包
含している場合に生ずる事柄に相反する。同状態におい
ては、水は、１文で述べられているように、ウェハース
の縁の間にはまり込むものである。

カセット２５内の乾燥した溝は、水の表面より上のウェ
ハースの側面の縁に再随伴するため、充分に上がる。溝
およびウェハースの双方とも乾燥しているため、ウェハ
ースの水染みや汚濁の問題はない。カセット２５は、リ
フト要素３０のスレート３４を完全に離れたウェハース
を維持し、持ち上げるため上方向に移動を続ける。スレ
ート３４との接触によりウェハースの上に留まるいがな
る水も、直ちに乾燥され、ウェハースの裏側の縁におけ
る、ごく小さな接触点の水染みは、ウェハースの質に不
利な影響を与えるものではない。

第三の移動活動におけるカセット２５の上昇は、水圧シ
ステム２６の外側のピストン２７のような、適切な手段
により果たされる。水圧システム２６のピストン２７お
よび２８のそれぞれの活動は、水圧システム２６上の、
つまみ３５を通しての水圧システム２６への、水圧流動
体の流れを操縦することによって、たやすく操縦するこ
とができる。

水圧流動体の源は、製図においては示されていない。水
圧は、その吸水と制御を行なうことによって・技術的に
知られている。

カセット２５およびウェハースが、完全に水から外に持
ち上げられた後、濯がれ乾燥されたウェハースを含む、
乾燥されたカセットは、リフト要素３０の維持プレー）
２０からはずされる。追加のウェハースを包含する他の
カセットが、そこで維持プレート２０の上に配置され得
て、さらに維持プレート２０は、カセットおよびウェハ
ースが水の中に完全に浸し入れられるように、引き下げ
、または降ろされる。前に言及されたように、現創案の
装置は、槽ｌＯ内の水体における音波エネルギーを発生
させるための手段を好都合に含むものであり、また、ウ
ェハースには、１文に記述されているように、濯ぎ及び
乾燥に加えて、非常に有効な最終洗浄が同時に施され得
るとのことが発見されている。濯ぎと乾燥に加えて洗浄
を同時に完了するために装置が使用されている間、洗浄
され、濯がれ、乾燥されるべきウェハースは、カセット
２５のような溝口運搬設備に維持され、ひとまとメツウ
ェハースを包含するカセット２５はＦｔ。

内の熱い非イオン化水の表面下に浸し入れられる。

カセット２５及びその中の、ひとまとめのウェハースは
、完全に槽ｌＯの側面上の変換機１５水準の下となる位
置まで下げられる。熱い非イオン化水は、槽１０全体お
よびそこに組み合わされているカセット２５とウェハー
スの回りにわたる、熱い非イオン化水の薄層流動の上方
向の流れを創るための拡散機１１を通して、槽１０に注
ぎ込まれる。変換機１５は、槽１０内の水全体にわたっ
て起こる音波エネルギーの水平ビームを生むため、電気
活性化される。

洗浄され濯がれ乾燥されるべきウェハースを含むカセッ
ト２５の浸し入れに続いて、リフト要素３０はウェハー
スをカセット２５より持ち上げ、音波エネルギーの水平
ビームを通すための、当初継続活動において、上方向に
移動する。この当初移動活動におけるリフト要素３０と
個々のウェハースの濯ぎは、前に記述されているように
、水圧システムによって果たされる。

洗浄、濯ぎ及び乾燥手順における当初活動の間ウェハー
スは、変換機１５によって生みだされた音波エネルギー
の水平ビームを、徐々に通過する。

ウェハースは、望ましくは、リフト要素３０上に、音波
エネルギーの水平ビームがウェハースの表面と平行に向
くように、位置づけられ、方向づけられる。音波エネル
ギーのビームを通ってウェハースが動くに従って、その
表面は、効果的に洗浄され持ち上げられる。微小粒子物
質は、音波エネルギーの水平ビームの働きによってウェ
ハースの表面より取り除かれ、遊離した微小粒子物質は
全て、槽１０内の水の薄層流動によって押し流され、濯
ぎ去られる。槽１０内の水を、槽の周囲の、少なくとも
、垂直の反響音波エネルギーの波動が水の表面を横切る
域で氾濫させると有効である。微粒子物質を上方向に押
し流す、水の上方向への流れにそった反響音波エネルギ
ー及び、反響音波エネルギーの波動域付近の氾濫水は、
槽１０より微粒子の除去を、効果的に行なうものである
。

この当初移動活動において、リフト要素３０は、カセッ
ト２５内のウェハースの裏側の縁に随伴スるリフト要素
３０のスレート３４とともに、カセット２５底部の開口
を通って上方向に徐々に上げられる。リフト要素３０の
レッグ３２が、カセット２５を通して上がり続けるに従
い、ウェハースはカセット２５から徐々に持ち上げられ
、そこで槽ｌＯの中の音波エネルギーの水平ビームを通
じて運送されるものである。リフト要素３０は、この時
点において、それによってウェハースに音波エネルギー
のビームを通して幾度か上下の動きを起こさせるべく、
交互の上下活動による動きをせられ得る。最終の上方向
への移動において、リフト要素３０は、スレート３４が
、またスレート３４によって運ばれるところのウェハー
ス２４（図式４）が槽ｌＯ内の水体の表面上に上げられ
るまで、徐々に上がり続ける。ウェハースの表面は、そ
れが水より浮上するに従い、直ちに乾燥される。

リフト要素３０が、ウェハースをカセット２５より音波
エネルギーの水平ビームを通して持ち上げた後、音波の
波動を生む変換機の力は、音波エネルギーのビームの発
生を一時的に止めるべく、断たれる。維持プレート２０
及びカセット２５は、そこでリフト要素３０と同じ率で
、上方向に移動し始める。リフト要素３０が、いったん
行程の上限まで到達すると、維持プレート２０及びカセ
ット２５は、それによって槽１０内の水体の表面を終局
通りぬけて、水体の表面の上のリフト要素３０に追いつ
くべく、上方向に移動する。カセット２５が徐々に水の
表面を通過するに従い、カセットの浮上点は、前に記述
されているように、直ちに乾燥させられるものである。

乾燥したカセット２５は、リフト要素３０及び乾燥され
たウェハース２４に終局追いつき、さらにカセット２５
はウェハース２４に随伴し、リフト要素３０よりウェハ
ース２４を持ち上げる。カセット２５の後続の上昇が、
さらにリフト要素３０よりカセット２５及びウェハース
２４を持ち上げ、カセット２５及びウェハース２４は装
置よりはずされ得るものである。この第二の移動活動に
おける、維持プレート２０及びカセット２５の操作は、
前に記述されているように、水圧システムによって果た
される。

カセット２５とウェハース２４とが再随伴された後、洗
浄され濯がれ乾燥されたウェハース２４を含む、乾燥さ
れたカセットは、リフト要素３０の維持プレート２０よ
りはずされる。追加のウェハースを包含する他のカセッ
トが、そこで維持プレート２０の上に配置され得、また
リフト要素３０は、カセット及びウェハースが音波エネ
ルギーの水平ビームしたにある水の中に完全に浸し入れ
られるように、引きおろされ、あるいは下降される。

洗浄、濯ぎ及び乾燥の操作は、上記されているように、
くり返され得るものである。

現創案の装置の詳細な具体化提起が例証され、またウェ
ハースの濯ぎ及び（または）洗浄の二つま提起手段が記
述されているが、現発表は実例方式であること、またそ
の課題が創案であると見なされるところの、これに続く
請求の範囲内における、次の課題よりはずれることなし
に、創案の様々な他の具体化が可能であることが理解さ
れるべきものである。現創案の最も広義な見地において
、単一のリフト機構は、前条に製図で示され、また記述
されている二重リフト機構への配置下にあるウェハース
の、移動活動に使用され得るとのことが認められるべき
ものである。ウェハースは、前条に記述され例証されて
いるように、リフト要素３０の伸長スレート３４による
随伴に同様の方法で、ウェハースの裏の縁のみを随伴す
る維持機構とともに、水の表面より上の維持機構上に初
めに配置されることも可能である。維持機構およびウェ
ハースは、そこで、ウェハースの濯ぎと洗浄のため、単
一リフト機構によって、水の表面下に下降されることが
可能である。濯ぎと洗浄に続いて、維持機構は徐々に水
体よりウェハースを上昇させ、そこでウェハースは維持
機構からはずされ得るものである。二重リフト機構は、
ここに例証され記述されているように、ウェハースのカ
セットが、初めに維持機構上に配置される場合において
さえも、単一リフト機構を補充し得るものであるとのこ
とが、特に認められるべきである。当室の具体化におい
ては、維持機構は、ウェハースを、カセットが維持機構
上に配置されるため、カセットにおける維持よりわずか
に（ウェハースがカセットに触れないように）、自動的
に持ち上げるのに適用去れ得る。維持機構はそこで、ウ
ェハースの洗浄および濯ぎのため、カセット及びウェハ
ースを浸し入れるよう移動され得る。洗浄および濯ぎに
続いて、維持機構は、水体よりカセット及びウェハース
を上げ得るものである。カセットが維持機構より持ち上
がると同時に、ウェハースは自動的に、カセットにより
再随伴され得るものである。

【図面の簡単な説明】

第１図は、創案に一致する洗浄、濯ぎ乾燥装置の上面図
。 第２図は、極度な低位置にあるリフト機構のリフト要素
および維持組織を示す第１図の２−２線による断面図。 第３図は、これも極度な低位置にあるリフト機構のリフ
ト要素および維持機構を示す、第１図の３−３線による
断面図。 第４図は、ウェハースがウォーター・バスより持ち上げ
られ、またカセットがウォーター・バスよりまさに持ち
上げられようとしている位置まで、それと共に運ばれた
、リフト要素およびウェハースを示している、第３図と
同様の断面図である。 ＦＩＧ、　１ 手続打１ｊ−正書（方式） 平成　１年　２Ｊｌ　　７１１ 特許庁長官　　吉　１）文　毅　殿 １、事件の表示　　特願昭６３−２２３６５４号２、発
明の名称　　シリコンウェハーの洗浄、濯ぎ、乾燥方法
及び装置 ３、補正をする者 事件との関係　特許出願人 住　所　アメリカ合衆国　ユタ州　８４１２１ソルト　
レイク　シティ、ウッドリッジ　サークル氏　名　ロバ
ート　エフ、オアー 国　籍　アメリカ合衆国 ４、代理人 東京都港区新橋１丁目１８番１９号キムラヤ大塚ビル６
階７、補正の内容　　別紙のとおり

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、縁にそって維持されることの可能な、溝口運搬設備
   内に縁沿い平行に守備よい配列で包含された比較的薄い
   板状の物質の洗浄、濯ぎ及び乾燥のための、その底部に
   開口を有する上部開放体の前記の溝口運搬設備を伴い、
   清浄度の高く熱い非イオン化水に満たされた槽を含む装
   置； 拡散機； 前記の槽全体に熱い非イオン化水の上方向の薄層流動を
   起こすよう、前記の拡散機を通して槽の中に清浄度の高
   く熱い非イオン化水を注ぎ込むための手段； 熱い非イオン化水を、前記の槽の少なくとも周囲ｄ辺り
   排水させる氾濫； 前記の槽の中の水体に渡る音波エネルギーのビームを生
   みだすための手段； それぞれの溝口運搬設備およびその中で運搬されるひと
   まとめの物質が、前記の槽内の非イオン化水の表面下、
   また音波エネルギーのビームの充分に下に、完全に浸し
   入れられるような前記の溝口運搬設備を少なくとも一個
   と、個々に離されたひとまとめの物質を維持するための
   、前記の槽内における維持手段； ひとまとめの物質それぞれを、前記の溝口運搬設備から
   持ち上げるための、前記の維持手段の上に維持された、
   個々に離された溝口運搬設備の下の低位置から、前記の
   個々の溝口運搬設備の底部における開口を通して、前記
   の個々の溝口運搬設備の上の高位置までの移動をするこ
   との可能なリフト要素少なくとも一個を含む、前記の槽
   内におけるリフト手段； 個々に離された溝口運搬設備におおいて物質の裏側の縁
   に随伴し、前記のリフト要素が低部より高部へと移動す
   るに従い、前記の個々の溝口運搬設備の外へ上方向に物
   質を持ち上げるための、前記のリフト要素における手段
   ； 物質を、槽内のエネルギーのビームを通し、さらにまた
   、熱い非イオン化水体の表面を通して、槽内の熱い非イ
   オン化水の表面より上に配置する、個々の溝口運搬設備
   に随伴し、物質を外に持ち上げる前記のリフト手段にお
   ける当初移動活動での、前記のリフト手段の前記のリフ
   ト要素の上方向への移動のための手段； 前記の維持手段が、溝口運搬設備が槽内の熱い非イオン
   化水の表面より上の位置における物質に随伴するように
   、さらに上向きに動き続けるに従い、維持手段および溝
   口運搬設備が、その上に維持された個々のリフト要素お
   よび物質が槽内の熱い非イオン化水体と熱い非イオン化
   水体の表面を貫通するのに、空間をおいて続くところの
   第二の移動活動において、維持手段を上方向に移動させ
   るための手段。 ２、次において、さらに進んで規定されるところの請求
   １に一致する装置。 前記の維持手段および前記のリフト要素を、第三の併合
   された移動活動において、溝口運搬設備および、それに
   よって運搬されるいかなる物質もが、前記の槽内の熱い
   非イオン化水体中の音波エネルギーのビーム下に浸し入
   れられるところの位置まで、熱い非イオン化水体の表面
   下を下向方に移動させるための手段；及び 前記の当初および第二の移動活動をくり返すための手段
   。 ３、次における、請求１と一致する装置。 前記のリフト要素に連結され、当初移動活動を生みだす
   よう整調された水圧ピストンを含む、前記の当初移動活
   動においての前記のリフト要素を移動させるための手段
   ；及び、前記の維持手段に連結され、第二移動活動を生
   みだすよう整調された第二水圧ピストンを含む、前記の
   第二移動活動においての前記の維持手段を移動させるた
   めの手段。 ４、前記の変換機が、前記の槽内の熱い非イオン化水全
   体に渡るよう操作されている音波エネルギーの水平ビー
   ムを充分に生みだすように、前記の槽の側面の一つに沿
   って取り付けられた伸長変換機を含む、音波エネルギー
   のビームを生みだすための手段の示されている請求１と
   一致する装置。 ５、次の段階を含む、縁に沿って維持されることの可能
   な、比較的に薄い板状の物質を洗浄し、濯ぎ、または乾
   燥する方法； （ａ）槽内に入れられた熱い非イオン化水体の保持； （ｂ）物質が、溝口運搬設備の相対する側面に沿って平
   行に守備よい間隔を空て縁ぞいに維持されるところにお
   いて、洗浄され、濯がれ、乾燥されるための、物質の配
   置； （ｃ）溝口運搬設備および、槽内に入れられた熱い非イ
   オン化水体中において洗浄され、濯がれ、乾燥されるべ
   き物質の浸し入れ； （ｄ）熱い非イオン化水の前記の槽内への、前記の槽全
   体および、熱い非イオン化水体中に浸し入れられた前記
   の物質と溝口運搬設備の周囲に渡って、熱い非イオン化
   水の上方向の薄層流動を創造する変換機を通しての、注
   入； （ｅ）前記の層内の熱い非イオン化水体における、前記
   の物質および溝口運搬設備上での音波エネルギーのビー
   ムの製造； （ｆ）前記の溝口運搬設備の底部の開口を通しての、リ
   フト要素の上方向への、１前記の物質の底部を浮上させ
   、２物質を溝口運搬設備より外に徐々に持ち上げ、３水
   体中における音波エネルギーのビームを通して物質を徐
   々に移動させ、また４前記の槽内の熱い非イオン化水体
   の表面を通して、物質を前記の槽内の熱い非イオン化水
   体の表面より上に配置するための、徐々の上昇；及び （ｇ）溝口運搬設備の上方向への、溝口運搬設備が、１
   個々のリフト要素および物質に、前記の槽内の熱い非イ
   オン化水全体と熱い非イオン化水体の表面を通して、空
   間をおいて続き、さらに２槽内の熱い非イオン化水の表
   面より上の位置において物質に再随伴するような、徐々
   の上昇、 その点での、前記の溝口運搬設備およびリフト要素の、
   物質と溝口運搬設備が非イオン化水の表面との境界面を
   渡って移動するに伴う水の表面張力によって、非イオン
   化水が物質および清算運搬設備から牽引されるように、
   充分にゆっくりな移動活動。 ６、それが物質を熱い非イオン化水体の表面を通して移
   動させるに従うところの、リフト要素の上方向への移動
   率は、一分間につき約１インチから４インチの間で、溝
   口運搬設備の上方向への移動率は、リフト要素のそれに
   同じであるとのことがしめされている請求５に一致する
   方法。 ７、音波エネルギーのビームは、約０．２から５ＭＨｚ
   の頻度を有しているとのことが示されている請求５に一
   致する方法。 ８、リフト要素は、物質を音波エネルギーのビームを通
   して、上下動作で往来する移動活動をさせる段階ｆ３に
   おいて、交互の上下動作で移動活動をするとのことが示
   されている、請求５に一致する方法。 ９、縁にそって維持されることの可能な、溝口運搬設備
   内に縁沿い平行に守備よい配列で包含された比較的薄い
   板状の物質の洗浄、濯ぎ及び乾燥のための、その底部に
   開口を有する上部開放体の前記の溝口運搬設備を伴い、
   次のものを含む装置清浄度の高く熱い非イオン化水に満
   たされた槽；変換機； 前記の槽全体に熱い非イオン化水の上方向の薄層流動を
   起こすよう、前記の拡散機を通して槽の中に清浄度の高
   く熱い非イオン化水を注ぎ込むための手段； 熱い非イオン化水を、前記の槽の少なくとも周囲部辺り
   排水させる氾濫； それぞれの溝口運搬設備およびその中で運搬されるひと
   まとめの物質が、前記の槽内の非イオン化水の表面下に
   完全に浸し入れられるような、前記の溝口運搬設備を少
   なくとも一個と、個々に離されたひとまとめの物質を維
   持するための、前記の槽内における維持手段； ひとまとめの物質それぞれを、前記の溝口運搬設備から
   持ち上げるための、前記の維持手段の上に維持された、
   個々に離された溝口運搬設備の下の低位置から、前記の
   個々の溝口運搬設備の底部における開口を通して、前記
   の個々の溝口運搬設備の上の高位置までの移動をするこ
   との可能なリフト要素少なくとも一個を含む、前記の槽
   内におけるリフト手段； 個々に離された溝口運搬設備において物質の裏側の緑に
   随伴し、前記のリフト要素が低部より高部へと移動する
   に従い、前記の個々の溝口運搬設備の外へ上方向に物質
   を持ち上げるための、前記のリフト要素における手段； 物質を槽内の熱い非イオン化水体の表面を通して、槽内
   の熱い非イオン化水の表面より上に配置する、個々の溝
   口運搬設備に随伴し、物質を外に持ち上げる前記のリフ
   ト手段における当初移動活動での、前記のリフト手段の
   前記のリフト要素の上方向への移動のための手段； 前記の維持手段が、溝口運搬設備が槽内の熱い非イオン
   化水の表面より上の位置における物質に随伴するように
   、さらに上向きに動き続けるに従い、維持手段および溝
   口運搬設備が、その上に維持された個々のリフト要素お
   よび物質が槽内の熱い非イオン化水体の表面を貫通する
   のに、空間をおいて続くところの第二の移動活動におい
   て、維持手段を上方向に移動させるための手段。 １０、次において、さらに進んで規定されるところの請
   求９に一致する装置 前記の維持手段および前記のリフト要素を、第三の併合
   された移動活動において、溝口運搬設備および、それに
   よって運搬されるいかなる物質もが、前記の槽内の熱い
   非イオン化水体下に浸し入れられるところの位置まで、
   熱い非イオン化水体の表面下を下方向に移動させるため
   の手段；及び前記の当初および第二の移動活動をくり返
   すための手段。 １１、次における、請求９に一致する装置 前記のリフト要素に連結され、当初移動活動を生みだす
   よう整調された水圧ピストンを含む、前記の当初移動活
   動においての前記リフト要素を移動させるための手段；
   及び 前記の維持手段に連結され、第二移動活動を生みだすよ
   う整調された第二水圧ピストンを含む、前記の第二移動
   活動においての前記の維持手段を移動させるための手段
   。 １２、次の段階を含む、縁にそって維持されることの可
   能な、比較的に薄い板状の物質を濯いで乾燥する方法； （ａ）槽内に入れられた熱い非イオン化水体の保持； （ｂ）物質が、溝口運搬設備の相対する側面に沿って平
   行に守備よい間隔を空けて縁ぞいに維持されるところに
   おいて、濯がれ、乾燥されるための、物質の配置； （ｃ）溝口運搬設備および、槽内に入れられた熱い非イ
   オン化水体中において濯がれ、乾燥されるべき物質の浸
   し入れ； （ｄ）熱い非イオン化水の前記の槽内への、前記の槽全
   体および熱い非イオン化水体中に浸し入れられた前記の
   物質と溝口運搬設備の周囲に渡って、熱い非イオン化水
   の上方向の薄層流動を創造する変換機を通しての注入； （ｅ）前記の槽内に浸し入れられた物質および溝口運搬
   設備の、前記の物質を濯ぐに充分な時間の保持； （ｆ）前記の溝口運搬設備の底部の開口を通しての、リ
   フト要素の上方向への、１前記の物質の底部を浮上させ
   、２物質を溝口運搬設備より外に徐々に持ち上げ、また
   ３前記の槽内の熱い非イオン化水体の表面を通して、物
   体を、前記の槽内の熱い非イオン化水体の表面より上に
   配置するための、徐々の上昇；および （ｇ）溝口運搬設備の上方向への、溝口運搬設備が、１
   個々のリフト要素および物質に、前記の槽内の熱い非イ
   オン化水体の表面を通して、空間をおいて続き、さらに
   ２槽内の熱い非イオン化水の表面より上の位置において
   物質に再随伴するような、徐々の上昇 その点での、前記の溝口運搬設備およびリフト要素の、
   物質と溝口運搬設備が非イオン化水の表面との境界面を
   渡って移動するに伴う水の表面張力によって、非イオン
   化水が物質および溝口運搬設備から牽引されるように、
   充分にゆっくりな移動活動。 １３、リフト要素の上方向への移動率は、一分間につき
   約１インチから４インチの間で、溝口運搬設備の上方向
   への移動率は、リフト要素のそれに同じであるとのこと
   がしめされている請求１２に一致する方法。 １４、次のものを含む、比較的薄い板状の物質の洗浄、
   濯ぎ及び乾燥のための装置 清浄度の高く熱い非イオン化水に満たされた槽；前記の
   槽全体に熱い非イオン化水の上方向の薄層流動を起こす
   よう、前記の拡散機を通して槽の中に清浄度の高く熱い
   非イオン化水を注ぎ込むための手段； 熱い非イオン化水を、前記の槽の少なくとも周囲部辺り
   排水させる氾濫； 前記の槽の中の水体に渡る音波エネルギーのビームを生
   みだすための手段； ひとまとめの物質が、前記の槽内の非イオン化水の表面
   下および音波エネルギーのビームの充分に下に完全に浸
   し入れられて運搬されるように、そのひとまとめの物質
   を維持するための、前記の槽内における維持手段； 前記の維持手段が、前記の槽内の音波エネルギーのビー
   ムを通し、さらに熱い非イオン化水体の表面を通して、
   前記の槽内の熱い非イオン化水の表面より上の位置まで
   、物質を移動させるところの、当初移動活動において、
   維持手段を上方向に移動させるための手段。 １５、次において、さらに進んで規定されるところの請
   求１４に一致する装置 前記の維持手段を、第二の移動活動において、それによ
   って運搬されるいかなる物質もが、前記の槽内の熱い非
   イオン化水体中の音波エネルギーのビーム下に浸し入れ
   られるところの位置まで、熱い非イオン化水体の表面下
   を下向方に移動させるための手段；及び 前記の当初移動活動をくり返すための手段。 １６、前記の維持手段に連結され、当初移動活動を生み
   だすよう整調された水圧ピストンを含む、当初移動活動
   においての前記の維持手段を移動させるための手段の示
   されている請求１４と一致する装置。 １７、前記の変換機が、前記の槽内の熱い非イオン化水
   全体に渡るよう操作されている音波エネルギーの水平ビ
   ームを充分に生みだすように、前記の槽の側面の一つに
   沿って取り付けられた伸長変換機を含む、音波エネルギ
   ーのビームを生みだすための手段の示されている、請求
   １４と一致する装置。 １８、次の段階を含む、比較的に薄い板状の物質を洗浄
   し、濯ぎ、または乾燥する方法： （ａ）槽内に入れられたあつい非イオン化水体の保持； （ｂ）物質が、維持手段に守備よい間隔を空けて縁ぞい
   に維持されるところにおいて、洗浄され、濯がれ、乾燥
   されるための物質の配置； （ｃ）維持手段および、槽内に入れられた熱い非イオン
   化水体中において洗浄され、濯がれ、乾燥されるべき物
   質の浸し入れ； （ｄ）熱い非イオン化水の前記の槽内への、前記の槽全
   体および熱い非イオン化水体中に浸し入れられた前記の
   物質と維持手段の周囲に渡って、熱い非イオン化水の方
   向の薄層流を創造する変換機を通しての、注入； （ｅ）前記の層内の熱い非イオン化水体における、前記
   の物質および維持手段上での音波エネルギーのビームの
   製造； （ｆ）前記の維持手段の、層内の１水体における音波エ
   ネルギーのビームを通し、さらに２熱い非イオン化水体
   の表面を通しての、前記の層内の熱い非イオン化水体の
   表面より上の位置への、徐々の上昇； その点での、前記の維持手段および前記の物質の、物質
   と維持手段が非イオン化水の表面との境界面を渡って移
   動するに伴う水の表面張力によって、非イオン化水が物
   質および維持手段から牽引されるように、充分にゆっく
   りな移動活動。 １９、それが物質を熱い非イオン化水体の表面を通して
   移動させるに従うところの、維持手段の上方向への移動
   率は、一分間につき約１インチから４インチの間である
   とのことが示されている、請求１８に一致する方法。 ２０、音波エネルギーのビームは、約０．２から５ＭＨ
   ｚの頻度を有しているとのことが示されている、請求１
   ８に一致する方法。 ２１、維持手段は、物質を音波エネルギーのビームを通
   して、上下動作で往来する移動活動をさせる、段階ｆ３
   において、交互の上下動作で移動活動をするとのことが
   しめされている、請求１８に一致する方法。