JP3043709B2 - 基板の乾燥装置 - Google Patents

基板の乾燥装置

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JP3043709B2 JP10214599A JP21459998A JP3043709B2 JP 3043709 B2 JP3043709 B2 JP 3043709B2 JP 10214599 A JP10214599 A JP 10214599A JP 21459998 A JP21459998 A JP 21459998A JP 3043709 B2 JP3043709 B2 JP 3043709B2
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Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、洗浄処理後におけ
る半導体ウエハやＬＣＤ用ガラスなどの基板の乾燥装置
に関する。
【０００２】
【従来の技術】図２８に、従来の乾燥方法の第１の例を
示す。この第１の例は、直接置換式ＩＰＡ乾燥法（別称
「マランゴニ乾燥法」）と呼ばれるもので、蓋９１によ
って密閉されたすすぎ槽９２内の純水９３中に薬液洗浄
後の半導体ウエハ（以下、単に「ウエハ」と略称）Ｗを
浸漬し、純水９３でウエハ表面のすすぎを行なった後、
ガス送排口９５ａ，９５ｂを通じて槽内上部空間にＩＰ
Ａ（イソプロピルアルコール）とＮ２ （窒素）の混合
ガスを送給し、槽内を混合ガスで充満せしめる。
【０００３】この状態で、二点鎖線で示すように、ウエ
ハＷを載せたホルダ９４を槽内上部空間に向けてゆっく
りと引き上げていくと、ウエハＷが液面を横切って上部
空間に抜け出ていく際に、ウエハ表面にＩＰＡが付着す
る。そして、この付着したＩＰＡの濃度勾配に基づく表
面張力の変化によって、ウエハ表面に付着している水膜
が液面側に向かって引き戻され、ウエハ表面の迅速な乾
燥が行なわれるものである。なお、この第１の例では、
ホルダ９４を引き上げていくようにしたが、ホルダ９４
側を固定とし、すすぎ槽９２内から純水９３をゆっくり
と引き抜いていってもよい。
【０００４】図２９に、従来の乾燥方法の第２の例を示
す。この第２の例は、上記第１の例と同様の乾燥方法に
おいて、ホルダ９４側を固定とし、ガス送排口９５ａ，
９５ｂを通じて槽内上部空間にＩＰＡ（イソプロピルア
ルコール）とＮ２ （窒素）の混合ガスを送給し、この
ガス圧ですすぎ槽９２内の純水９３を水抜きバルブ９６
からゆっくりと引き抜いていくとともに、水抜き終了後
に、第２のガス送排口９７ａ，９７ｂを通じて加熱Ｎ
２ ガスを送給し、ウエハ表面をさらに加熱乾燥するよ
うにしたものである。なお、この第２の例では純水９３
を引き抜いていくようにしたが、ホルダ９４側を引き上
げていくようにしてもよい。
【０００５】図３０に、従来の乾燥方法の第３の例を示
す。この第３の例は、温水乾燥法と呼ばれるもので、す
すぎ槽９２内の純水９３を所定温度まで加熱して温水と
し、この温水中に薬液洗浄後のウエハＷを浸漬してすす
ぎを行なう。すすぎ完了後、ウエハＷを載せたホルダ９
４を二点鎖線で示す位置まで引き上げ、自然乾燥あるい
は熱風乾燥するものである。なお、この第３の例ではホ
ルダ９４を引き上げていくようにしたが、ホルダ９４側
を固定とし、純水９３を引き抜いていってもよい。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記し
た従来の乾燥方法によるときは、いずれの場合も次のよ
うな問題があった。すなわち、ウエハＷを載置するホル
ダ９４は、図３１（Ａ）（Ｂ）にその構造を示すよう
に、左右の支持凸部９４ａの先端面にＹ字状のウエハ保
持溝９４ｂが形成されており、このＹ字状のウエハ保持
溝９４ｂ内にウエハＷを差し込むことにより、ウエハＷ
をホルダ９４上に垂直に保持するようにしている。した
がって、ホルダ９４上に載置されたウエハＷは、図３２
に拡大して示すように、ウエハ保持溝９４ｂのいずれか
の部分に常に接した状態となっている。
【０００７】このため、ウエハＷが純水中から引き上げ
られ、あるいは槽内から純水が引き抜かれる際に、図３
２中に示すように、ウエハＷとウエハ保持溝９４ｂとの
接触部にすすぎ液が水滴９８となって溜まり、そのまま
残ってしまうという問題があった。
【０００８】このように、水滴９８が接触部に残ると、
ウエハＷを純水中から取り出した後、さらにこの水滴９
８を乾燥させるための時間が必要となり、乾燥処理に要
する時間が必要以上に長くなって、装置全体のスループ
ットが低下してしまうという問題があった。また、水滴
９８が乾燥する際に、水滴中に含まれている不純物がウ
エハ表面に水滴痕（ウォータマーク）となって残り、不
良発生の原因になるという問題もあった。
【０００９】本発明は、上記のような問題を解決するた
めになされたもので、ウエハやＬＣＤ用ガラスなどの基
板の洗浄に際して、基板とこれを保持するホルダとの接
触部に純水などのすすぎ液が水滴となって付着残存する
ことのない基板の乾燥装置を提供することを目的とす
る。
【００１０】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、請求項１記載の発明は、基板を垂直に載置したホル
ダをすすぎ液中に浸漬してすすぎを行なった後、すすぎ
液中からホルダを引き上げ、あるいはすすぎ液を排水す
ることによって、ホルダ上に載置された基板を乾燥する
ようにした基板の乾燥装置において、基板を垂直に載置
して保持する第１のホルダと、該第１のホルダよりも下
側に位置して配置された第２のホルダと、前記第１およ
び第２のホルダを上下方向に移動するホルダ上下機構と
を備え、前記ホルダ上下機構は、すすぎ槽の下底部付近
に位置して配設された上下一対の平面状の可撓性シート
を有し、該上下一対の可撓性シートによって形成される
密閉空間内に、第１の偏心カムと、該第１の偏心カムの
左右両側にそれぞれ配置された第２および第３の偏心カ
ムと、各偏心カムにそれぞれ連結され、各偏心カムの回
転または回動によってそれぞれ上下動される第１，第２
および第３のガイド板とを設け、前記第１のホルダは第
２のホルダを中に挟んで左右２つに分割され、該分割さ
れた第１のホルダの一方の側は前記第２のガイド板に連
結されてすすぎ槽内に臨まされているとともに、分割さ
れた第１のホルダの他方の側は前記第３のガイド板に連
結されてすすぎ槽内に臨まされ、前記第２のホルダは前
記第１のガイド板に連結されてすすぎ槽内に臨まされて
おり、すすぎ液の液面が上側の第１のホルダの基板保持
溝部分を通過する際には下側の第２のホルダのみで基板
を保持し、かつ、すすぎ液の液面が下側の第２のホルダ
の基板保持溝部分を通過する際には上側の第１のホルダ
のみで基板を保持するように、前記ホルダ上下機構によ
って前記第１および第２のホルダを上下移動するように
したものである。
【００１１】請求項２記載の発明は、前記第１のホルダ
と第２のホルダの上下動の動きを逆相に同期させ、いず
れか一方のホルダが上昇されるとき、これと同時に他方
のホルダを下降させるようにしたことを特徴とするもの
である。
【００１２】請求項３記載の発明は、基板を垂直に載置
したホルダをすすぎ液中に浸漬してすすぎを行なった
後、すすぎ液中からホルダを引き上げ、あるいはすすぎ
液を排水することによって、ホルダ上に載置された基板
を乾燥するようにした基板の乾燥装置において、基板を
垂直に載置したホルダをすすぎ液中に浸漬してすすぎを
行なった後、すすぎ液中からホルダを引き上げ、あるい
はすすぎ液を排水することによって、ホルダ上に載置さ
れた基板を乾燥するようにした基板の乾燥装置におい
て、基板を垂直に載置して保持する第１のホルダと、該
第１のホルダよりも下側に位置して配置された第２のホ
ルダと、前記第１および第２のホルダを上下方向に移動
するホルダ上下機構とを備え、前記ホルダ上下機構はす
すぎ槽の下底部付近に位置して所定の間隔をおいて配設
された左右一対の水密式のボックスを有し、該左右一対
のボックス内のそれぞれに、第１の偏心カムと、該第１
の偏心カムの左右両側に配置された第２および第３の偏
心カムと、該各偏心カムにそれぞれ連結され、かつ、各
偏心カムの回転または回動によってそれぞれ上下動され
る第１，第２および第３のガイド板とを設け、前記左右
一対の第１の偏心カムは、前記左右一対のボックス間に
水密に掛け渡された第１のパイプ内に収納された第１の
ロータリアクチュエータに連結されているとともに、前
記左右一対の第２の偏心カムは、前記左右一対のボック
ス間に水密に掛け渡された第２のパイプ内に収納された
第２のロータリアクチュエータに連結されており、前記
左右一対の第３の偏心カムは、前記左右一対のボックス
間に水密に掛け渡された第３のパイプ内に挿通された従
動シャフトによってお互いに連結されているとともに、
該従動シャフトはその一端を前記第２のロータリアクチ
ュエータにリンク結合されて第２のロータリアクチュエ
ータと同期して回動するように構成され、第１のホルダ
は第２のホルダを中に挟んで左右２つに分割され、該分
割された第１のホルダの一方の側は前記左右一対の第２
のガイド板の間に掛け渡されてすすぎ槽内に臨まされて
いるとともに、分割された第１のホルダの他方の側は前
記左右一対の第３のガイド板の間に掛け渡されてすすぎ
槽内に臨まされ、第２のホルダは前記第１のガイド板の
間に掛け渡されてすすぎ槽内に臨まされており、すすぎ
液の液面が上側の第１のホルダの基板保持溝部分を通過
する際には下側の第２のホルダの みで基板を保持し、か
つ、すすぎ液の液面が下側の第２のホルダの基板保持溝
部分を通過する際には上側の第１のホルダのみで基板を
保持するように、前記ホルダ上下機構によって前記第１
および第２のホルダを上下移動するようにしたものであ
る。
【００１３】請求項４記載の発明は、前記請求項１〜３
のいずれかに記載の発明において、前記第２のホルダの
中央位置にホルダの上下面を貫通する開口部を形成し、
該開口部内に先端を三角屋根状に尖らせたエッジフロー
トを浮かべ、該浮力によって浮かぶエッジフロートの三
角屋根状の尖端部をホルダ上に載置されたウエハの下端
縁に接触させるようにしたことを特徴とするものであ
る。
【００１４】
【００１５】
【００１６】
【作用】ウエハとホルダが接触している場合、純水など
のすすぎ液は毛細管現象や表面張力によってウエハとホ
ルダの接触部に大きな水滴となって付着残存しやすい
が、すすぎ液の液面が横切る際にウエハとホルダが接触
していなければ、ウエハやホルダ部分にすすぎ液が大き
な水滴となって付着残存するようなことがなくなる。本
発明は、このような現象に着目して開発されたものであ
る。
【００１７】本発明の乾燥原理を、図１（Ａ）〜（Ｅ）
を参照して説明する。図１は、ウエハＷ側を固定とし、
すすぎ液たる純水２６を槽内から引き抜いていく場合の
例を示すものである。なお、本発明を実現するには、図
中に示したように、ウエハＷを保持するホルダとして、
第１のホルダ２と、この第１のホルダ２よりも下側位置
でウエハＷを保持する第２のホルダ３の二つのホルダを
用意する必要がある。
【００１８】薬液洗浄などの終わったウエハＷは、
（Ａ）に示すように、すすぎ槽１内に配置された第１お
よび第２の二つのホルダ２，３上に垂直に載置される。
なお、この処理開始時におけるウエハＷの保持は、第１
および第２の二つのホルダ２，３の両方で行なってもよ
いし、いずれか一方のホルダのみで行なってもよい。こ
の後に続く処理動作におけるホルダの動きを簡単にする
という観点からすれば、背の低い内側の第２のホルダ３
のみで保持する方が望ましい。
【００１９】ウエハＷをホルダ上に載置した後、（Ｂ）
に示すように、すすぎ槽１内に純水２６などのすすぎ液
を注水し、ウエハＷの表面に付着した薬液などのすすぎ
を行なう。そして、すすぎ完了後、すすぎ槽１内の純水
２６を排水していきながら、例えば前述した直接置換式
ＩＰＡ乾燥法や温水乾燥法などを利用してウエハＷの表
面を乾燥させていく。
【００２０】そして、（Ｃ）に示すように、純水２６の
液面が背の高い外側の第１のホルダ２の上端位置（すな
わちウエハ保持溝位置）Ｌ１ まで達したら、第１のホ
ルダ２を所定距離だけ引き下げ、ウエハＷを背の低い内
側の第２のホルダ３のみによって保持するように移動制
御する。これによって、ウエハＷと第１のホルダ２とは
非接触状態となり、ウエハＷは第２のホルダ３のみによ
って保持された状態となる。
【００２１】この状態で液面が下がっていくと、ウエハ
Ｗと第１のホルダ２は非接触状態となっているので、槽
内の純水２６がウエハＷと第１のホルダ２の接触部分に
水滴となって付着残存するというようなことがなくな
り、ウエハＷの表面と第１のホルダ２のウエハ保持溝と
は極めて短時間のうちに清澄に乾燥される。
【００２２】次いで、（Ｄ）に示すように、純水２６の
液面が背の低い内側の第２のホルダ３の上端位置（すな
わちウエハ保持溝位置）Ｌ２ まで達したら、第１のホ
ルダ２を引き上げてウエハＷを保持すると同時に、第２
のホルダ３を所定距離だけ引き下げ、外側の背の高い第
１のホルダ２のみによってウエハＷを保持するように移
動制御する。これによって、ウエハＷと第２のホルダ３
とは非接触状態となり、ウエハＷは第１のホルダ２のみ
によって保持された状態となる。
【００２３】この状態で液面が下がっていくと、ウエハ
Ｗと第２のホルダ３は非接触状態となっているので、槽
内の純水２６がウエハＷと第２のホルダ３の接触部分に
水滴となって付着残存するというようなことがなくな
り、ウエハＷの表面と第２のホルダ３のウエハ保持溝と
は極めて短時間のうちに清澄に乾燥される。
【００２４】そして、（Ｅ）に示すように、純水２６の
液面がウエハＷの下端位置Ｌ３ に達した時点、あるい
は純水２６がすすぎ槽１内から完全に排水された時点
で、乾燥処理が終了する。乾燥処理の終わったウエハＷ
は、図示しない搬送機構によってすすぎ槽１内から取り
出され、次工程へ移送される。
【００２５】上記したように、本発明の乾燥方法による
ときは、純水などのすすぎ液の液面が通過する際に、ウ
エハなどの基板とこれを保持するホルダとを非接触状態
に切り換えるようにしているので、基板とホルダとの接
触部に純水などのすすぎ液が水滴となって付着残存する
ことがなくなる。このため、基板の乾燥時間を短縮する
ことが可能となる。
【００２６】そして、本発明に係る基板の乾燥装置は、
上記乾燥方法を利用して作られたものであって、第１と
第２の２つのホルダを用意し、この第１と第２の２つの
ホルダをホルダ上下機構によって上下方向に移動制御す
るようにしたものである。これによって、液面が通過す
る側のホルダをウエハＷと非接触状態に切り換えながら
乾燥処理することができ、基板とホルダとの接触部に純
水などのすすぎ液が水滴となって付着残存することがな
くなる。
【００２７】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態について説明する。図２〜図１２に、本発明の
第１の実施の形態を示す。図２は第１の実施の形態の略
示縦断面図、図３はその略示横断面図、図４は図２中の
Ａ−Ａ線断面図、図５は図２中のＢ−Ｂ線断面図、図６
は第１のホルダの正面図、図７はその平面図、図８はそ
の側面図、図９は第１のホルダのウエハ保持溝部分の拡
大図、図１０は第２のホルダの正面図、図１１はその平
面図、図１２はその側面図である。
【００２８】この第１の実施の形態は、ホルダ側を固定
とし、すすぎ槽内から純水（すすぎ液）を引き抜いてい
くようにした、いわゆる水引き抜き式の乾燥装置に本発
明を適用した場合の一例を示すものである。
【００２９】図２および図３において、１はすすぎ用の
純水を貯溜するためのすすぎ槽であって、このすすぎ槽
１の下底部付近に、第１のホルダ２ａ，２ｂと、第２の
ホルダ３を選択的に上下動させるためのホルダ上下機構
４が配設されている。このホルダ上下機構４の左右両側
部には、上下機構４の動力源となるエア駆動式アクチュ
エータ６ａ，６ｂを収容したアクチュエータ収納部７
ａ，７ｂが設けられている。
【００３０】なお、図示は略したが、前記アクチューエ
ータ収納部７ａ，７ｂには、アクチュエータ６ａ，６ｂ
に駆動用圧縮空気を送給するためのエア供給ポート、エ
ア排出ポート、ホルダ上下機構４内とアクチューエータ
収納部７ａ，７ｂ内を外気に連通するための換気用ポー
トなどが設けられている。
【００３１】アクチュエータ収納部７ａに収容された第
１のアクチュエータ６ａの回転駆動軸８ａは、継手９ａ
を介してホルダ上下機構４の第１の駆動シャフト１０ａ
に連結されている。この第１の駆動シャフト１０ａに
は、第１のホルダ２ａ，２ｂを上下させるための偏心カ
ム１１ａ，１１ｂが、第１のホルダ２ａ，２ｂの直下に
位置してそれぞれ固設されている。
【００３２】また、アクチュエータ収納部７ｂに収容さ
れた第２のアクチュエータ６ｂの回転駆動軸８ｂは、継
手９ｂを介してホルダ上下機構４の第２の駆動シャフト
１０ｂに連結されている。この第２の駆動シャフト１０
ｂには、第２のホルダ３を上下動させるための偏心カム
１１ｃが、第２のホルダ３の直下に位置して固設されて
いる。
【００３３】前記第１および第２の駆動シャフト１０
ａ，１０ｂは軸受と位置規制板を兼ねた２枚の補強板１
２ａ，１２ｂにそれぞれ挿通され、定位置に支持されて
いる。
【００３４】ホルダ上下機構４の前板１３ａ、後板１３
ｂ、右側面板１４ａ、左側面板１４ｂは水密ケースを構
成しており、この水密ケースの上下両面にテフロンなど
からなる可撓性シート５ａ，１５ｂが図示を略したパッ
キンを介して水密に張設されている。また、後板１３ｂ
の内側には、第１のホルダ２ａ，２ｂの上下方向の移動
を案内するためのリニアスライダ１６ａ，１６ｂと、第
２のホルダ３の上下方向の移動を案内するためのリニア
スライダ１６ｃが固設されている。
【００３５】前記リニアスライダ１６ａには、ガイド板
１７ａが、リニアスライダ１６ｂにはガイド板１７ｂ
が、また、リニアスライダ１６ｃにはガイド板１７ｃが
それぞれ上下方向に摺動自在に取り付けられている。ガ
イド板１７ａ，１７ｂの上端部は、図４に示すように、
上側の可撓性シート１５ａを中に挟んで、第１のホルダ
２ａ，２ｂにそれぞれ水密に固着され、その下端部は押
さえ板１８ａ，１８ｂによって、下側の可撓性シート１
５ｂに水密に固着されている。
【００３６】さらに、ガイド板１７ａ，１７ｂの側面部
には、横向きＵ字溝１９ａ，１９ｂが形成されており、
この横向きＵ字溝１９ａ，１９ｂ内に、第１の駆動シャ
フト１０ａに固設された偏心カム１１ａ，１１ｂが、そ
れぞれ回動自在に挿入配置されている。
【００３７】したがって、第１のアクチュエータ６ａを
制御して、第１の駆動シャフト１０ａを１８０°づつ回
転させてやれば、横向きＵ字溝１９ａ，１９ｂ内の偏心
カム１１ａ，１１ｂも１８０°づつ回転し、これに伴っ
てガイド板１７ａ，１７ｂが偏心カム１１ａ，１１ｂの
偏心量に相当する距離だけ上下動し、ガイド板１７ａ，
１７ｂの上端部に固着した第１のホルダ２ａ，２ｂを上
下動させることができる。
【００３８】一方、ガイド板１７ｃの上端部は、図５に
示すように、上側の可撓性シート１５ａを中に挟んで、
第２のホルダ３に水密に固着されているとともに、その
下端部は押さえ板１８ｃによって、下側の可撓性シート
１５ｂに水密に固着されている。
【００３９】さらに、ガイド板１７ｃの側面部には、横
向きＵ字溝１９ｃが形成されており、この横向きＵ字溝
１９ｃ内に第２の駆動シャフト１０ｂに固設された偏心
カム１１ｃが回動自在に挿入配置されている。
【００４０】したがって、第２のアクチュエータ６ｂを
制御して第２の駆動シャフト１０ｂを１８０°づつ回転
させてやれば、横向きＵ字溝１９ｃ内の偏心カム１１ｃ
も１８０°づつ回転し、これに伴ってガイド板１７ｃが
偏心カム１１ｃの偏心量に相当する距離だけ上下動し、
ガイド板１７ｃの上端部に固着した第２のホルダ３を上
下動させることができる。
【００４１】ウエハＷを載置するための第１のホルダ２
ａ，２ｂは、図６〜図８にその具体的な構造を示すよう
に、ウエハＷの大きさに合わせてその長さと間隔を設定
された２つの支持凸部２０ａ，２０ｂを備えており、こ
の支持凸部２０ａ，２０ｂの先端面に、ウエハＷを挿入
載置するためのウエハ保持溝２１ａ，２１ｂが所要数形
成されている。２２は、第１のホルダ２ａ，２ｂをホル
ダ上下機構４４内のガイド板１７ａ，１７ｂの上端面に
固設するためのネジ穴である。
【００４２】なお、図９に溝部分を拡大して示すよう
に、前記ウエハ保持溝２１ａ，２１ｂは、ウエハＷの厚
さに比べてその溝幅をかなり広くされているとともに、
一側に傾斜面を有する左右反転型の溝形状とされてお
り、この左右反転型のウエハ保持溝２１ａ，２１ｂをお
互いに左右に僅かずらして配置することにより、ウエハ
Ｗを上下のウエハ保持溝２１ａ，２１ｂで挟み込んで垂
直に保持するように構成されている。
【００４３】ウエハ保持溝２１ａ，２１ｂを上記のよう
な溝形状とすることによって、ウエハＷを確実に保持す
ることができるとともに、ウエハＷとウエハ保持溝２１
ａ，２１ｂが離れている状態においては、ウエハＷとウ
エハ保持溝２１ａ，２１ｂとの間にできるだけ大きな空
間を形成し、溝部への水滴の付着残存を可能な限りなく
すように工夫している。
【００４４】また、第２のホルダ３も、図１０〜図１２
にその構造を示すように、４つの支持凸部２３ａ〜２３
ｄの先端面に、前記第１のホルダ２ａ，２ｂと同様の形
状になるウエハ保持溝２４ａ〜２４ｄが形成されてい
る。２５は、第２のホルダ３をホルダ上下機構４内のガ
イド板１７ｃの上端面に固設するためのネジ穴である。
【００４５】次に、上記装置の乾燥処理動作を説明す
る。なお、処理開始時には、第１のホルダ２ａ，２ｂは
下側に下げられ、ウエハＷは第２のホルダ３だけで保持
されるようにセットされているものとする。
【００４６】薬液などによる洗浄を終了したウエハＷ
は、図示を略した搬送機構やチャックによってすすぎ槽
１内に運び込まれ、すすぎ槽１内の第２のホルダ３上に
垂直に載置される。そして、図示を略した上蓋を閉じた
後、図示を略した純水供給装置から純水２６を注水し、
ウエハ表面のすすぎを行なう。
【００４７】純水によるすすぎが完了したら、すすぎ槽
１の上部密閉空間に、図示を略したガス供給装置からＩ
ＰＡとＮ２ の混合ガスを送給開始するとともに、図示
を略した排水弁を開き、すすぎ槽１内の純水を引き抜い
ていく。
【００４８】なお、純水の引き抜き速度は、液面がウエ
ハＷの上端部にかかるまでは可能な限り高速で引き抜い
ていけばよいが、液面がウエハＷの上端部に達した後
は、マランゴニ効果が有効に発生するに適した液面降下
速度（例えば、１．５ｃｍ／秒程度）で引き抜いていく
ように排水弁を制御する。
【００４９】純水２６の液面が降下していき、ウエハＷ
の表面を横切るようになると、液面が横切っていく際に
ウエハＷの表面は前述したマランゴニ効果によって清浄
に乾燥されていく。そして、液面は降下を続け、第１の
ホルダ２ａ，２ｂの上端位置Ｌ１ （すなわちウエハ保
持溝２１ａ，２１ｂの位置）に達して横切るようになる
が、前述したように、ウエハ保持溝２１ａ，２１ｂはウ
エハＷから離れた状態（図１３参照）にあるので、ウエ
ハＷとウエハ保持溝２１ａ，２１ｂの接触部分にすすぎ
用の純水２６が大量に溜まってしまうというようなこと
がなくなる。
【００５０】したがって、ウエハＷとウエハ保持溝２１
ａ，２１ｂは、液面から外に出た時点でそれぞれ極めて
短時間のうちに清澄に乾燥される。このため、従来のよ
うにウエハとウエハ保持溝の接触部分に大量に溜まった
水滴を乾燥する必要がなくなるので、その分だけ乾燥時
間を短くすることができる。また、溜まった水滴が乾燥
する際にウエハ表面に水滴痕を生じるというようなこと
もなくなる。
【００５１】さらに液面の降下が進み、液面が第２のホ
ルダ３の上端位置Ｌ２ （すなわちウエハ保持溝２４
ａ，２４ｄの位置）まで達したら、図示を略した制御装
置によって左右のアクチュエータ６ａ，６ｂを制御し、
ホルダ上下機構４内の第１および第２の駆動シャフト１
０ａ，１０ｂを半回転、すなわち１８０°回転する。
【００５２】これによって、第１および第２の駆動シャ
フト１０ａ，１０ｂのそれぞれに固着されている偏心カ
ム１１ａ，１１ｂ，１１ｃがそれぞれ１８０°回転さ
れ、ガイド板１７ａと１７ｂは偏心カム１１ａ，１１ｂ
によってその偏心量に相当する距離だけ上側へ押し上げ
られるとともに、ガイド板１７ｃは偏心カム１１ｃによ
ってその偏心量に相当する距離だけ下側へ引き下げられ
る。
【００５３】このため、第１のホルダ２ａ，２ｂは、可
撓性シート１５ａを介してガイド板１７ａ，１７ｂによ
り上側へ押し上げられ、第２のホルダ３は、可撓性シー
ト１５ａを介してガイド板１７ｃにより下側へ引き下げ
られる。この結果、液面が第２のホルダ３の上端位置Ｌ
２ に達した時点で、ウエハＷを保持するためのホルダ
が第２のホルダ３から第１のホルダ２ａ，２ｂに切り換
えられ、それまでウエハＷを保持していた第２のホルダ
３のウエハ保持溝２４ａ〜２４ｄは、ウエハＷから離れ
た状態となる。
【００５４】このような状態で液面がさらに降下してい
くと、液面は第２のホルダ３のウエハ保持溝２４ａ〜２
４ｄの部分を横切るようになるが、前述したようにウエ
ハ保持溝２４ａ〜２４ｄはウエハＷから離れた状態にあ
るので、ウエハＷとウエハ保持溝２４ａ〜２４ｄの接触
部分にすすぎ用の純水２６が大量に溜まってしまうとい
うようなことがなくなる。
【００５５】したがって、前述した第１のホルダ２ａ，
２ｂの場合と同様に、ウエハＷとウエハ保持溝２４ａ〜
２４ｄは、液面から外に出た時点でそれぞれ極めて短時
間のうちに清澄に乾燥される。このため、従来のように
ウエハとウエハ保持溝の接触部分に大量に溜まった水滴
を乾燥する必要がなくなるので、その分だけ乾燥時間を
短くすることができる。また、溜まった水滴が乾燥する
際にウエハ表面に水滴痕（を生じるというようなことも
なくなる。
【００５６】そして、純水２６の液面がウエハＷの下端
位置Ｌ３ よりもさらに下側まで降下するか、あるいは
すすぎ槽２内から純水２６が完全に排水された時点で、
ウエハＷの乾燥処理が終了する。乾燥処理が終了する
と、ウエハＷは図示を略したチャックや搬送機構によっ
て取り出され、次工程へ送られる。
【００５７】なお、上記のような装置構成とした場合、
第１および第２のホルダ２ａ，２ｂ，３を上下動する際
に、可撓性シート１５ａ，１５ｂの全体が上下動し、こ
れに伴ってすすぎ槽２の内容積が変動して液面が上下に
変動するおそれがあるが、上記実施の形態では、これを
防止するために、第１のホルダ２ａ，２ｂと第２のホル
ダ３の上下方向の動きを逆相とし、第１のホルダ２ａ，
２ｂを上方に移動させると同時に、第２のホルダ３を下
方に移動させ、また第１のホルダ２ａ，２ｂを下方に移
動させると同時に、第２のホルダ３を上方へ移動させる
ようにしている。
【００５８】このように、第１および第２のホルダ２
ａ，２ｂ，３を逆相に同期をとって上下動するように制
御すれば、可撓性シート１５ａ，１５ｂの上下動による
容積の変動を相殺させることができ、液面の変動をなく
すことができる。このため、第１のホルダ２ａ，２ｂと
第２のホルダ３の位置を上下切り替える際の液面変動に
伴う液面の泡立ちや飛沫飛散などを防止することがで
き、より清浄度の高い洗浄を実現することができる。
【００５９】図１４〜図１６に、本発明の第２の実施の
形態を示す。この第２の実施の形態は、前記第１の実施
の形態における第１のホルダ２ａ，２ｂと第２のホルダ
３を上下動するためのホルダ上下機構を他の構造のもの
に替えたものである。
【００６０】この第２の実施の形態におけるホルダ上下
機構は、第１のホルダ２を連結杆３２を介して第１のリ
ニア駆動機構３３に連結するとともに、第２のホルダ３
を連結杆３４を介して第２のリニア駆動機構３５に連結
し、この第１および第２のリニア駆動機構３３，３５を
駆動制御することによって、第１のホルダ２と第２のホ
ルダ３を上下方向に移動するようにしたものである。
【００６１】なお、二つのホルダ２，３の上下方向の移
動タイミングとウエハＷの乾燥処理動作自体は、前述し
た第１の実施の形態と同様であるので、その詳細な説明
は省略する。
【００６２】図１７〜図２５に、本発明の第３の実施の
形態を示す。図１７は蓋部を省略した第３の実施の形態
の略示縦断面図、図１８はその略示平面図、図１９は図
１７中のＤ−Ｄ線断面図、図２０は図１９中のＥ−Ｅ線
断面図、図２１は図１９中のＦ−Ｆ線断面図、図２２は
リンク機構の結合状態を示す説明図、図２３は第２のホ
ルダの構造示す図、図２４はエッジフロートの斜視図、
２５はエッジフロートの動作説明図である。なお、前述
した第１の実施の形態と同一もしくは同等の部分には同
一の符号を付して示した。
【００６３】この第３の実施の形態におけるホルダ上下
機構４は、図１７〜図１９に示すように、第１のホルダ
２ａ，２ｂと第２のホルダ３を上下方向に駆動するため
の機構を収容するための一対の水密式ボックス４１ａ，
４１ｂと、これらボックス同士を連結する三本のパイプ
４２，４３，４４とを備えている。
【００６４】中央のパイプ４２（図１９参照）の内部に
は、中央部の第２のホルダ３を上下動させるための駆動
源となる第１のロータリアクチュエータ４５が収容され
ている。この第１のロータリアクチュエータ４５は、図
２１にその略示断面構造を示すように、外筒４５ａ内に
ロータ４５ｂを回転自在に内蔵したもので、給排気口４
５ｃ，４５ｄから高圧空気を選択的に送給してやること
により、ロータ４５ｂを正逆方向に半回転（１８０°）
できるように構成されている。
【００６５】右側のパイプ４３（図１９参照）の内部に
は、左右１対の第１のホルダ２ａ，２ｂを上下動させる
ための駆動源となる第２のロータリアクチュエータ４６
が収容されている。この第２のロータリアクチュエータ
４６は、図２１に示した第１のロータリアクチュエータ
４５と同様の構造になるもので、給排気口４６ｃ，４５
ｄから高圧空気を選択的に送給してやることにより、ロ
ータ４６ｂを正逆方向に半回転（１８０°）できるよう
に構成されている。
【００６６】左側のパイプ４４（図１９参照）の内部に
は、両端のリンク４７ａ，４７ｂを介して前記パイプ４
３内の第２のロータリアクチュエータ４６によって回転
駆動される従動シャフト４８が回転自在に収容されてい
る。
【００６７】前記パイプ４２内に配置された第１のロー
タリアクチュエータ４５のロータ４５ｂの両端部には、
シャフト４９ａ，４９ｂが連結されており、ロータ４５
ｂが１８０°回転すると、シャフト４９ａ，４９ｂも同
方向に１８０°回転するようになっている。この左右の
シャフト４９ａ，４９ｂは、それぞれベアリング５０
ａ，５０ｂを介して左右のボックス４１ａ，４１ｂ内へ
入り込んでおり、その先端部に偏心カム５３ａ，５３ｂ
がそれぞれ固設されている。
【００６８】上記偏心カム５１ａ，５１ｂは、リニアス
ライダ５２ａ，５２ｂに沿って上下方向移動自在とされ
たガイド板５３ａ，５３ｂの横向きＵ字溝５４ａ，５４
ｂ内に入り込む形で、ガイド板５３ａ，５３ｂに組み付
けられている。このガイド板５３ａ，５３ｂは回転運動
を上下運動に変換するための機構であって、偏心カム５
１ａ，５１ｂが１８０°回転することにより、その偏心
量に応じた距離だけ上下動するものである。なお、偏心
カム５１ａ，５１ｂと横向きＵ字溝５４ａ，５４ｂとの
間の摩擦抵抗をできるだけ小さくするため、偏心カム５
１ａ，５１ｂの周面にはベアリング５５ａ，５５ｂが嵌
め込まれている。
【００６９】前記偏心カム５１ａ，５１ｂによって上下
動されるガイド板５３ａ，５３ｂの上面部には、第２の
ホルダ３を上下動するための駆動シャフト５６ａ，５６
ｂが固設されており、その先端側はボックス４１ａ，４
１ｂの天井部を通ってすすぎ槽１内に突出され、その先
端部に第２のホルダ３が固設されている。この駆動シャ
フト５６ａ，５６ｂの外周囲には、ボックス４１ａ，４
１ｂ内への純水の流入を防ぐとともに、駆動シャフト５
６ａ，５６ｂが自在に上下動できるようにするために、
ベローズ５７ａ，５７ｂが被せられている。
【００７０】前記パイプ４３内に配置された第２のロー
タリアクチュエータ４６のロータ４６ｂの両端部には、
シャフト５８ａ，５８ｂが連結されており、ロータ４６
ｂが１８０°回転すると、シャフト５８ａ，５８ｂも同
方向に１８０°回転するようになっている。この左右の
シャフト５８ａ，５８ｂは、それぞれベアリング５９
ａ，５９ｂを介して左右のボックス４１ａ，４１ｂ内へ
入り込んでおり、その先端部に偏心カム６０ａ，６０ｂ
がそれぞれ固設されている。
【００７１】上記偏心カム６０ａ，６０ｂは、リニアス
ライダ６１ａ，６１ｂに沿ってそれぞれ上下方向移動自
在とされたガイド板６２ａ，６２ｂの横向きＵ字溝６３
ａ，６３ｂ内に入り込む形で、ガイド板６２ａ，６２ｂ
に組み付けられている。このガイド板６２ａ，６２ｂは
回転運動を上下運動に変換するための機構であって、偏
心カム６０ａ，６０ｂが１８０°回転することにより、
その偏心量に応じた距離だけ上下動するものである。な
お、偏心カム６０ａ，６０ｂと横向きＵ字溝６３ａ，６
３ｂとの間の摩擦抵抗をできるだけ小さくするため、偏
心カム６０ａ，６０ｂの周面にはベアリング６４ａ，６
４ｂが嵌め込まれている。
【００７２】前記偏心カム６０ａ，６０ｂによって上下
動されるガイド板６２ａ，６２ｂの上面部には、第１の
ホルダ２ｂを上下動するための駆動シャフト６５ａ，６
５ｂが固設されており、その先端側はボックス４１ａ，
４１ｂの天井部を通ってすすぎ槽１内に突出され、その
先端部に第１のホルダ２ｂが固設されている。この駆動
シャフト６５ａ，６５ｂの外周囲には、ボックス４１
ａ，４１ｂ内への純水の流入を防ぐとともに、駆動シャ
フト６５ａ，６５ｂが自在に上下動できるようにするた
めに、ベローズ７４ａ，７４ｂが被せられている。
【００７３】一方、パイブ４４内には従動シャフト４８
が収容されており、その両端部はベアリング６７ａ，６
７ｂを介して左右のボックス４１ａ，４１ｂ内へ入り込
んでいる。この従動シャフト４８の両端部最先端には、
リンク４７ａ，４７ｂが連結されており、このリンク４
７ａ，４７ｂを介して、前記パイプ４３内の第２のロー
タリアクチュエータ４６によって回転駆動されるように
構成されている。さらに、この従動シャフト４８の両端
部には、偏心カム６８ａ，６８ｂがそれぞれ固設されて
いる。
【００７４】上記偏心カム６８ａ，６８ｂは、リニアス
ライダ６９ａ，６９ｂに沿って上下方向移動自在とされ
たガイド板７０ａ，７０ｂの横向きＵ字溝７１ａ，７１
ｂ内に入り込む形で、ガイド板７０ａ，７０ｂに組み付
けられている。このガイド板７０ａ，７０ｂは回転運動
を上下運動に変換するための機構であって、偏心カム６
８ａ，６８ｂが１８０°回転することにより、その偏心
量に応じた距離だけ上下動するものである。なお、偏心
カム６８ａ，６８ｂと横向きＵ字溝７１ａ，７１ｂとの
間の摩擦抵抗をできるだけ小さくするため、偏心カム６
８ａ，６８ｂの周面にはベアリング７２ａ，７２ｂが嵌
め込まれている。
【００７５】前記偏心カム６８ａ，６８ｂによって上下
動されるガイド板７０ａ，７０ｂの上面部には、第１の
ホルダ２ｂを上下動するための駆動シャフト７３ａ，７
３ｂが固設されており、その先端側はボックス４１ａ，
４１ｂの天井部を通ってすすぎ槽１内に突出され、その
先端部に第１のホルダ２ｂが固設されている。この駆動
シャフト７３ａ，７３ｂの外周囲には、ボックス４１
ａ，４１ｂ内への純水の流入を防ぐとともに、駆動シャ
フト７３ａ，７３ｂが自在に上下動できるようにするた
めに、ベローズ７４ａ，７４ｂが被せられている。
【００７６】なお、ボックス４１ａ側に設置されたリン
ク４７ａと、ボックス４１ｂ側に設置されたリンク４７
ｂは、図２２に示すように、レバー７５ａ，７６ａとレ
バー７５ｂ，７６ｂの取り付け位相を９０°ずらしてシ
ャフト５８ａ，５８ｂおよび従動シャフト４８に取り付
けられている。このように取り付け位相を９０°ずらし
てやることにより、リンク４７ａ，４７ｂの往復回転時
のデッドポイントをなくし、円滑な往復回転を確保して
いる。
【００７７】ウエハＷを保持するための第１のホルダ２
ａ，２ｂと、第２のホルダ３は、基本的には、前述した
第１の実施の形態で用いたものと同じ構造になるもので
あるが、第２のホルダ３については、次のような新たな
工夫が施されている。
【００７８】すなわち、この第３の実施の形態で用いら
れる第２のホルダ３は、図２３に示すように、その中央
部に開口部８０が形成されており、この開口部８０内
に、図２４に例示するようなエッジフロート８１が入り
込むことができるように構成されている。
【００７９】前記エッジフロート８１は、三角屋根状の
尖端部８１ａを有するフロート本体部８１ｂと、このフ
ロート本体部８１ｂの両側から水平に延びるサイドアー
ム８１ｃを備えている。フロート本体部８１ｂは、ウエ
ハＷよりも純水に対する親水性が高く、かつ、純水より
も軽いプラスチック樹脂などで作られているか、金属製
の場合などにはフロート本体部８１ｂの内部を中空状に
形成し、純水中で浮くことができるように構成されてい
る。
【００８０】上記構造になるエッジフロート８１は、図
１７、図１８中に示すように、サイドアーム８１ｃ，８
１ｃの先端をピン８３ａ，８３ｂによってボックス４１
ａ，４１ｂの側壁に回動自在に軸支されており、図２５
に示すように、例えば、純水の水位がＬ１ のようにエ
ッジフロート８１よりも上方にある場合には、実線で示
すように、フロート本体部８１ｂがその浮力によってピ
ン８３ａ，８３ｂを支点として上方へ回動し、三角屋根
状の尖端部８１ａがウエハＷの下端縁に接するように作
用する。
【００８１】一方、水位がＬ２ 位置のようにエッジフ
ロート８１よりも下側に下がった場合には、二点鎖線で
示すように、フロート本体部８１ｂがその自重によって
下方へ回動し、尖端部８１ａがウエハＷの下端縁から離
れるように作用する。これによって、純水がウエハＷの
下端縁を通過する際にウエハ下端縁に残留する水滴を、
フロート本体部８１ｂの尖端部８１ａで効果的に液面側
に誘導して引き込み、ウエハＷの下端縁に純水が残留す
ることがないようにするものである。
【００８２】次に、上記構成になる第３の実施の形態の
動作を説明する。なお、処理開始時には、図２６および
図２７にそれぞれ実線で示すように、すべてのガイド板
５３ａ，５３ｂ、６０ａ，６０ｂ、７０ａ，７０ｂは最
大上昇位置にあり、ウエハＷは第１のホルダ２ａ，２ｂ
と第２のホルダ３のすべてによって保持されるようにセ
ットされているものとする。
【００８３】薬液などによる洗浄を終了したウエハＷ
は、図示を略した搬送機構やチャックによってすすぎ槽
１内に運び込まれ、すすぎ槽１内の第１および第２のホ
ルダ２ａ，２ｂ，３上に垂直に載置される。そして、図
示を略した上蓋を閉じた後、図示を略した純水供給装置
から純水を注水し、ウエハ表面のすすぎを行なう。
【００８４】純水によるすすぎが完了したら、すすぎ槽
１の上部密閉空間に図示を略したガス供給装置からＩＰ
ＡとＮ２ の混合ガスを送給開始するとともに、図示を
略した排水弁を開き、すすぎ槽１内の純水を所定の速度
で引き抜いていく。そして、純水の液面が降下してい
き、ウエハＷの表面を横切るようになると、液面が横切
っていく際にウエハＷの表面は前述したマランゴニ効果
によって清浄に乾燥されていく。
【００８５】純水の液面がさらに降下していき、液面が
第１のホルダ２ａ，２ｂの上端位置近くまで達したら、
第２のロータリアクチュエータ４６を回転駆動し、その
ロータ４６ｂを１８０°回転する。これによって、ロー
タ４６ｂの左右両端にそれぞれ固定接続されたシャフト
５８ａ，５８ｂも一緒になって同方向へ１８０°回転す
る。
【００８６】シャフト５８ａ，５８ｂが１８０°回転す
ると、図２７（Ａ）中に二点鎖線で示すように、偏心カ
ム６０ａ，６０ｂも１８０°回転し、ガイド板６２ａ，
６２ｂは実線位置から二点鎖線で示す最大降下位置まで
下がる。この結果、駆動シャフト６５ａ，６５ｂの先端
に取り付けられている第１のホルダ２ａも最大降下位置
まで下がり、ウエハＷから離れた状態（図１３参照）と
なる。
【００８７】一方、前記シャフト５８ａ，５８ｂの回転
は、リンク４７ａ，４７ｂによって従動シャフト４８に
伝達され、従動シャフト４８がロータ４６ｂに同期して
同方向に１８０°回転する。従動シャフト４８が１８０
°回転すると、図２７（Ｂ）中に二点鎖線で示すよう
に、偏心カム６８ａ，６８ｂも１８０°回転し、ガイド
板７０ａ，７０ｂは二点鎖線で示す最大降下位置まで下
がる。この結果、駆動シャフト７３ａ，７３ｂの先端に
取り付けられている第１のホルダ２ｂも最大降下位置ま
で下がり、ウエハＷから離れた状態（図１３参照）とな
る。
【００８８】以上の動作の結果、ウエハＷは中央の第２
のホルダ３のみによって保持された状態となる。なお、
駆動力伝達用のリンク４７ａ，４７ｂは、図２２に示し
たように、シャフト５８ａ，５８ｂおよび従動シャフト
４８に９０°位相をずらして取り付けられているので、
回転時のデッドポイントがなくなり、きわめて滑らかに
回転する。
【００８９】このような状態で、純水の液面がさらに降
下していくと、液面は第１のホルダ２ａ，２ｂのウエハ
保持溝２１ａ，２１ｂ（図６〜図８参照）の部分を横切
るようになるが、前述したようにウエハ保持溝２１ａ，
２１ｂはウエハＷから離された状態にあるので、ウエハ
保持溝２１ａ，２１ｂの部分にすすぎ用の純水が溜まっ
てしまうというようなことがなくなる。
【００９０】したがって、ウエハＷとウエハ保持溝２１
ａ，２１ｂの表面は、それぞれ極めて短時間のうちに清
澄に乾燥される。このため、従来のようにウエハ保持溝
部分に溜まった水滴を乾燥する必要がなくなるので、そ
の分だけ乾燥時間を短くすることができ、また、溜まっ
た水滴によってウエハ表面に水滴痕を生ずるというよう
なこともなくなる。
【００９１】さらに液面の降下が進み、液面がウエハＷ
を保持している第２のホルダ３の上端位置近くまで達し
たら、前述した第２のロータリアクチューエータ４６を
元の方向に１８０°回転し、ガイド板６２ａ，６２ｂ，
７０ａ，７０ｂを図２７（Ａ）（Ｂ）中の実線で示す最
大上昇位置まで戻す。これと同時に、第１のロータリア
クチュエータ４５を回転駆動し、そのロータ４５ｂを１
８０°回転する。これによって、ロータ４５ｂの左右両
端にそれぞれ固定接続されたシャフト４９ａ，４９ｂも
一緒になって同方向へ１８０°回転する。
【００９２】シャフト４９ａ，４９ｂが１８０°回転す
ると、その先端部に取り付けられている偏心カム５１
ａ，５１ｂも１８０°回転し、図２６に示すように、こ
の偏心カム５１ａ，５１ｂによって上下動されるガイド
板５３ａ，５３ｂも実線位置から二点鎖線で示す最大降
下位置まで降下する。これによって、ガイド板５３ａ，
５３ｂの駆動シャフト５６ａ，５６ｂの先端に取り付け
られている第２のホルダ３が最大降下位置まで下がり、
ウエハＷから離れた状態となる。
【００９３】以上の動作の結果、それまで、第１のホル
ダ３によって保持されていたウエハＷは、第１のホルダ
２ａ，２ｂのみによって保持された状態となる。
【００９４】一方、上記のようにして第２のホルダ３が
ウエハＷから離されても、第２のホリダ３の開口部８１
内に入り込んでいるエッジフロート８１のフロート本体
部８１は、図２５に示すように、浮力によってピン８３
ａ，８３ｂを支点として上方へ回動し、その尖端部８１
ａがウエハＷの下端縁に接触した状態となっている。
【００９５】このような状態で液面が降下していくと、
液面は第２のホルダ３のウエハ保持溝２４ａ〜２４ｄ
（図１０参照）の部分を横切るようになるが、前述した
ようにウエハ保持溝２４ａ〜２４ｄはウエハＷから離さ
れた状態にあるので、従来のようにウエハ保持溝２４ａ
〜２４ｄの部分にすすぎ用の純水が溜まってしまうとい
うようなことがなくなる。
【００９６】液面がさらに降下してウエハＷの最下端縁
まで達し、最下端縁から離れようとすると、ウエハＷの
最下端縁に溜まった純水の最後の一滴は、ウエハＷの最
下端縁に接触しているフロート本体部８１ｂの尖端部８
１ａを伝って液面側に向かって流れ落ち、ウエハＷの最
下端縁に溜まった水滴のほぼ全量が除去される。
【００９７】したがって、純水の最後の一滴がウエハＷ
の最下端縁に付着してそのまま残るというようなことも
なくなり、ウエハＷとウエハ保持溝２４ａ〜２４ｄの表
面はそれぞれ極めて短時間のうちに清澄に乾燥される。
【００９８】そして、純水の液面がウエハＷの下端位置
よりも下側まで降下するか、あるいはすすぎ槽２内から
完全に排水された時点で純水の引き抜きが終了し、ウエ
ハＷの乾燥処理が終了する。乾燥処理が終了すると、ウ
エハＷは図示を略したチャックと搬送機構によって次工
程に送られる。
【００９９】なお、この第３の実施の形態の場合、左右
一対のボックス４１ａと４１ｂは３本のパイプ４２，４
３，４４のみで連結されており、すすぎ槽１の底面とウ
エハＷとの間に、第１の実施の形態（図２参照）で用い
た可撓性シート１５ａ，１５ｂなどの遮蔽物が何ら存在
しない。このため、槽内の純水の流れを阻害するような
ことがなく、すすぎ効果をより高めることができる。
【０１００】また、前述したエッジフロート８１は、第
１の実施の形態および第２の実施の形態にも適用できる
ものである。
【０１０１】以上説明した各実施の形態においては、す
すぎ液として純水を用いた場合を例に採ったが、すすぎ
液は純水だけに限られるものではなく、処理対象とする
基板の性質やすすぎ仕様に応じて種々のすすぎ液が用い
られるものである。
【０１０２】また、処理対象とする基板として半導体ウ
エハを用いた場合を例に採ったが、これに限定されるも
のではなく、例えばＬＣＤ用ガラスなど、基板状の被洗
浄物であれば同様に適用できるものである。
【０１０３】また、上記各実施の形態は、直接置換式Ｉ
ＰＡ乾燥装置に本発明を適用した場合を例示したが、本
発明の適用対象とする乾燥装置はこれだけに限定される
ものではなく、基板を垂直に載置したホルダをすすぎ液
中に浸漬してすすぎを行なった後、すすぎ液中からホル
ダを引き上げ、あるいはすすぎ液を排水することによっ
て、ホルダ上に載置された基板を乾燥するようにした乾
燥装置であれば適用可能である。
【０１０４】
【発明の効果】以上説明したように、請求項１記載の発
明によるときは、液面が通過する側のホルダとウエハな
どの基板を非接触状態としながら乾燥処理することがで
き、基板とこれを保持するホルダの接触部に純水などの
すすぎ液が水滴となって付着残存することのない乾燥装
置を提供することができる。このため、基板の乾燥時間
を短縮することができ、乾燥工程のために製造装置全体
のスループットが低下するというようなこともなくな
る。また、基板表面に水滴痕が発生するようなことがな
いので、基板の不良発生率を低減することができる。さ
らに、ホルダ上下機構を上下一対の平面状の可撓性シー
トで形成された水密な密閉空間内に配置したので、ホル
ダ上下機構とすすぎ液が直接接触するようなことがなく
なり、ホルダ上下機構から発生する汚染粒子や汚染物質
がすすぎ液中に混入することがなく、より清澄な乾燥を
実現することができる。
【０１０５】請求項２記載の発明によるときは、第１の
ホルダと第２のホルダの上下動の動きを逆相に同期さ
せ、いずれか一方のホルダが上昇されるとき、これと同
時に他方のホルダを下降させるようにしたので、可撓性
シートの上下動に伴うすすぎ槽の内容積の変動を相殺す
ることでき、ホルダの上下位置切り換え時の液面の変動
をなくすことができる。このため、液面の泡立ちや飛沫
の飛散などをなくすことができ、より清浄な乾燥を実現
することができる。
【０１０６】請求項３記載の発明によるときは、左右一
対の水密式ボックス間を３本のパイプで連結し、このパ
イプ内に、それぞれのボックス内に設けられたホルダ上
下動機構を上下方向に駆動するための駆動源となるロー
タリアクチュエータなどを収納するようにしたので、す
すぎ槽の底面とホルダ上に載置されたウエハとの間にす
すぎ液の流動を完全に遮るような遮蔽物が何ら存在しな
い。このため、槽内におけるすすぎ液の流動性がよくな
り、すすぎ効果をより高めることができる。
【０１０７】請求項４記載の発明によるときは、第２の
ホルダの中央位置にホルダの上下面を貫通する開口部を
形成し、該開口部内に先端を三角屋根状に尖らせたエッ
ジフロートを浮かべ、該浮力によって浮かぶエッジフロ
ートの三角屋根状の尖端部をホルダ上に載置されたウエ
ハの下端縁に接触させるようにしたので、液面が降下し
てウエハの最下端縁から離れようとするときにウエハの
最下端縁に溜まるすすぎ液をエッジフロートを伝わせて
液面側に排除することができ、すすぎ液の最後の一滴が
ウエハの最下端縁に付着してそのまま残るというような
ことがなくなる。このため、ウエハとウエハ保持溝の表
面を極めて短時間のうちに清澄に乾燥することができ
る。
【０１０８】
【０１０９】
【図面の簡単な説明】
【図１】（Ａ）〜（Ｅ）は本発明方法の原理説明図であ
る。
【図２】第１の実施の形態の略示縦断面図である。
【図３】第１の実施の形態の略示平面図である。
【図４】図２中のＡ−Ａ線断面図である。
【図５】図２中のＢ−Ｂ線断面図である。
【図６】第１のホルダの正面図である。
【図７】第１のホルダの平面図である。
【図８】第１のホルダの側面図である。
【図９】第１のホルダのウエハ保持溝部分の拡大図であ
る。
【図１０】第２のホルダの正面図である。
【図１１】第２のホルダの平面図である。
【図１２】第２のホルダの側面図である。
【図１３】第１のホルダにおいてウエハ保持溝とウエハ
とが離れた状態の説明図である。
【図１４】第２の実施の形態の略示縦断図である。
【図１５】第２の実施の形態の略示平面図である。
【図１６】図１５中のＣ−Ｃ線断面図である。
【図１７】第３の実施の形態の略示縦断面図である。
【図１８】第３の実施の形態の略示平面図である。
【図１９】図１７中のＤ−Ｄ線断面図である。
【図２０】図１９中のＥ−Ｅ線断面図である。
【図２１】図１９中のＦ−Ｆ線断面図である。
【図２２】リンク機構の説明図である。
【図２３】（Ａ）は第２のホルダの側面図、（Ｂ）はそ
の平面図である。
【図２４】エッジフロートの斜視図である。
【図２５】エッジフロートの動作説明図である。
【図２６】図１７中の中央のガイド板の動作説明図であ
る。
【図２７】（Ａ）は図１７中の右側のガイド板の動作説
明図、（Ｂ）図１７中の左側のガイド板の動作説明図で
ある。
【図２８】従来の乾燥方法の第１の例を示す図である。
【図２９】従来の乾燥方法の第２の例を示す図である。
【図３０】従来の乾燥方法の第３の例を示す図である。
【図３１】（Ａ）は従来のホルダの正面図、（Ｂ）は
（Ａ）中のＧ−Ｇ線断面図である。
【図３２】従来のホルダにおけるウエハ保持溝とウエハ
との接触状態を示す説明図である。
【符号の説明】
Ｗ 半導体ウエハ（基板） １ すすぎ槽 ２ａ，ｂ 第１のホルダ ３ 第２のホルダ ４ ホルダ上下機構 ６ａ，ｂ アクチュエータ ８ａ，ｂ 回転駆動軸 １０ａ，ｂ 第１および第２の駆動シャフト １１ａ〜ｃ 偏心カム １５ａ，ｂ 可撓性シート １７ａ〜ｃ ガイド板 １９ａ，ｂ Ｕ字溝 ２１ａ，ｂ ウエハ保持溝（基板保持溝） ２４ａ〜ｄ ウエハ保持溝（基板保持溝） ２６ 純水（すすぎ液） ３３，３５ リニア駆動機構 ４１ａ，４１ｂ 密閉式ボックス ４２〜４４ パイプ ４５ 第１のロータリアクチュエータ ４６ 第２のロータリアクチュエータ ４７ａ，ｂ リンク ４８ 従動シャフト ４９ａ，ｂ シャフト ５０ａ，ｂ ベアリング ５１ａ，ｂ 偏心カム ５３ａ，ｂ 偏心カム ５４ａ，ｂ 横向きＵ字溝 ５５ａ，ｂ ベアリング ５６ａ，ｂ 駆動シャフト ５７ ベローズ ５８ａ，ｂ シャフト ５９ａ，ｂ ベアリング ６０ａ，ｂ 偏心カム ６２ａ，ｂ ガイド板 ６３ａ，ｂ 横向きＵ字溝 ６４ａ，ｂ ベアリング ６５ａ，ｂ 駆動シャフト ６７ａ，ｂ ベアリング ６８ａ，ｂ 偏心カム ７０ａ，ｂ ガイド板 ７１ａ，ｂ 横向きＵ字溝 ７２ａ，ｂ ベアリング ７３ａ，ｂ 駆動シャフト ７４ａ，ｂ ベローズ ７５ａ，ｂ レバー ７６ａ，ｂ レバー ８０ 開口部 ８１ エッジフロート ８１ａ 尖端部 ８１ｂ フロート本体部 ８１ｃ サイドアーム
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) F26B 15/00 F26B 25/02 H01L 21/304

Claims (4)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 基板を垂直に載置したホルダをすすぎ液
    中に浸漬してすすぎを行なった後、すすぎ液中からホル
    ダを引き上げ、あるいはすすぎ液を排水することによっ
    て、ホルダ上に載置された基板を乾燥するようにした基
    板の乾燥装置において、 基板を垂直に載置して保持する第１のホルダと、該第１
    のホルダよりも下側に位置して配置された第２のホルダ
    と、前記第１および第２のホルダを上下方向に移動する
    ホルダ上下機構とを備え、 前記ホルダ上下機構は、すすぎ槽の下底部付近に位置し
    て配設された上下一対の平面状の可撓性シートを有し、 該上下一対の可撓性シートによって形成される密閉空間
    内に、第１の偏心カムと、該第１の偏心カムの左右両側
    にそれぞれ配置された第２および第３の偏心カムと、各
    偏心カムにそれぞれ連結され、各偏心カムの回転または
    回動によってそれぞれ上下動される第１，第２および第
    ３のガイド板とを設け、 前記第１のホルダは第２のホルダを中に挟んで左右２つ
    に分割され、該分割された第１のホルダの一方の側は前
    記第２のガイド板に連結されてすすぎ槽内に臨まされて
    いるとともに、分割された第１のホルダの他方の側は前
    記第３のガイド板に連結されてすすぎ槽内に臨まされ、 前記第２のホルダは前記第１のガイド板に連結されてす
    すぎ槽内に臨まされており、 すすぎ液の液面が上側の第１のホルダの基板保持溝部分
    を通過する際には下側の第２のホルダのみで基板を保持
    し、かつ、すすぎ液の液面が下側の第２のホルダの基板
    保持溝部分を通過する際には上側の第１のホルダのみで
    基板を保持するように、前記ホルダ上下機構によって前
    記第１および第２のホルダを上下移動すること を特徴と
    する基板の乾燥装置。
  2. 【請求項２】 前記第１のホルダと第２のホルダの上下
    動の動きを逆相に同期させ、いずれか一方のホルダが上
    昇されるとき、これと同時に他方のホルダを下降させる
    ようにしたことを特徴とする請求項１記載の基板の乾燥
    装置。
  3. 【請求項３】 基板を垂直に載置したホルダをすすぎ液
    中に浸漬してすすぎを行なった後、すすぎ液中からホル
    ダを引き上げ、あるいはすすぎ液を排水することによっ
    て、ホルダ上に載置された基板を乾燥するようにした基
    板の乾燥装置において、 基板を垂直に載置したホルダをすすぎ液中に浸漬してす
    すぎを行なった後、すすぎ液中からホルダを引き上げ、
    あるいはすすぎ液を排水することによって、ホルダ上に
    載置された基板を乾燥するようにした基板の乾燥装置に
    おいて、 基板を垂直に載置して保持する第１のホルダと、該第１
    のホルダよりも下側に位置して配置された第２のホルダ
    と、前記第１および第２のホルダを上下方向に移動する
    ホルダ上下機構とを備え、 前記ホルダ上下機構はすすぎ槽の下底部付近に位置して
    所定の間隔をおいて配設された左右一対の水密式のボッ
    クスを有し、 該左右一対のボックス内のそれぞれに、第１の偏心カム
    と、該第１の偏心カムの左右両側に配置された第２およ
    び第３の偏心カムと、該各偏心カムにそれぞれ連結さ
    れ、かつ、各偏心カムの回転または回動によってそれぞ
    れ上下動される第１，第２および第３のガイド板とを設
    け、 前記左右一対の第１の偏心カムは、前記左右一対のボッ
    クス間に水密に掛け渡された第１のパイプ内に収納され
    た第１のロータリアクチュエータに連結されているとと
    もに、前記左右一対の第２の偏心カムは、前記左右一対
    のボックス間に水密に掛け渡された第２のパイプ内に収
    納された第２のロータリアクチュエータに連結されてお
    り、 前記左右一対の第３の偏心カムは、前記左右一対のボッ
    クス間に水密に掛け渡された第３のパイプ内に挿通され
    た従動シャフトによってお互いに連結されているととも
    に、該従動シャフトはその一端を前記第２のロータリア
    クチュエータにリンク結合されて第２のロータリアクチ
    ュエータと同期して回動するように構成され、 第１のホルダは第２のホルダを中に挟んで左右２つに分
    割され、該分割された第１のホルダの一方の側は前記左
    右一対の第２のガイド板の間に掛け渡されてすすぎ槽内
    に臨まされているとともに、分割された第１のホルダの
    他方の側は前記 左右一対の第３のガイド板の間に掛け渡
    されてすすぎ槽内に臨まされ、 第２のホルダは前記第１のガイド板の間に掛け渡されて
    すすぎ槽内に臨まされており、 すすぎ液の液面が上側の第１のホルダの基板保持溝部分
    を通過する際には下側の第２のホルダのみで基板を保持
    し、かつ、すすぎ液の液面が下側の第２のホルダの基板
    保持溝部分を通過する際には上側の第１のホルダのみで
    基板を保持するように、前記ホルダ上下機構によって前
    記第１および第２のホルダを上下移動すること を特徴と
    する基板の乾燥装置。
  4. 【請求項４】 前記第２のホルダの中央位置にホルダの
    上下面を貫通する開口部を形成し、該開口部内に先端を
    三角屋根状に尖らせたエッジフロートを浮かべ、該浮力
    によって浮かぶエッジフロートの三角屋根状の尖端部を
    ホルダ上に載置されたウエハの下端縁に接触させるよう
    にしたことを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載
    の基板の乾燥装置。
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