JP2574411B2 - 純水引き上げ乾燥用支持方法 - Google Patents
純水引き上げ乾燥用支持方法Info
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- JP2574411B2 JP2574411B2 JP19715988A JP19715988A JP2574411B2 JP 2574411 B2 JP2574411 B2 JP 2574411B2 JP 19715988 A JP19715988 A JP 19715988A JP 19715988 A JP19715988 A JP 19715988A JP 2574411 B2 JP2574411 B2 JP 2574411B2
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Description
【発明の詳細な説明】 〔概 要〕 半導体産業におけるシリコンウェハーやマスク用ガラ
スの洗浄時に用いる被洗浄物支持方法に関し、 被洗浄物を純水槽より引き上げ乾燥時に支持機構との
接触部に生ずる汚れの発生を防止することを目的とし、 被洗浄物を純水槽より緩速度で引き上げ、被洗浄物の表
面に付着した水を、その表面張力で純水槽に引き戻して
乾燥させる洗浄方式における被洗浄物支持方法であっ
て、被洗浄物を挟持することができる２対の挟持部材を
上下２段に設けた支持機構を用い、被洗浄物が水中にあ
るときは下段の挟持部材で挟持し、被洗浄物の引き上げ
途中で下段の挟持部材の挟持部が未だ水中にある間に被
洗浄物の約1/2が水面上に出て乾燥した部分を上段の挟
持部材で挟持した後、下段の挟持部材は挟持を解くよう
に構成する。
スの洗浄時に用いる被洗浄物支持方法に関し、 被洗浄物を純水槽より引き上げ乾燥時に支持機構との
接触部に生ずる汚れの発生を防止することを目的とし、 被洗浄物を純水槽より緩速度で引き上げ、被洗浄物の表
面に付着した水を、その表面張力で純水槽に引き戻して
乾燥させる洗浄方式における被洗浄物支持方法であっ
て、被洗浄物を挟持することができる２対の挟持部材を
上下２段に設けた支持機構を用い、被洗浄物が水中にあ
るときは下段の挟持部材で挟持し、被洗浄物の引き上げ
途中で下段の挟持部材の挟持部が未だ水中にある間に被
洗浄物の約1/2が水面上に出て乾燥した部分を上段の挟
持部材で挟持した後、下段の挟持部材は挟持を解くよう
に構成する。
本発明は半導体産業におけるシリコンウェハーやマス
ク用ガラスの洗浄時に用いる被洗浄物支持方法に関す
る。
ク用ガラスの洗浄時に用いる被洗浄物支持方法に関す
る。
近年、シリコンウェハーやマスク用ガラス等の洗浄
は、品質，歩留り等を左右する程の大きな要因になって
おり、様々な形態，方法の洗浄方法が用いられている
が、より優れた洗浄方法が要求されている。
は、品質，歩留り等を左右する程の大きな要因になって
おり、様々な形態，方法の洗浄方法が用いられている
が、より優れた洗浄方法が要求されている。
従来、ウェハーやマスク用ガラス等の洗浄は、中間の
薬液洗浄→リンスと最終の乾燥に大別できる。乾燥はス
ピン乾燥、加熱乾燥、有機溶剤ベーパー乾燥、自然乾燥
が一般的であり、最近では純水引き上げ乾燥が加わって
いる。
薬液洗浄→リンスと最終の乾燥に大別できる。乾燥はス
ピン乾燥、加熱乾燥、有機溶剤ベーパー乾燥、自然乾燥
が一般的であり、最近では純水引き上げ乾燥が加わって
いる。
純水引き上げ乾燥は、被洗浄物を洗浄水から10〜20分
掛けて引き上げ、その引き上げ中に被洗浄物表面に付着
している水を、表面張力を利用して洗浄水に引きおろし
乾燥させるものである。
掛けて引き上げ、その引き上げ中に被洗浄物表面に付着
している水を、表面張力を利用して洗浄水に引きおろし
乾燥させるものである。
上記のような、どの乾燥方法を採用しても一番の問題
点は被洗浄物と支持機構との接触部にゴミや汚れが残り
易く、純水引き上げ法においても例外ではない。そして
大チップICになるほど周辺部での汚れによる不良は歩留
りに大きな影響を占める。
点は被洗浄物と支持機構との接触部にゴミや汚れが残り
易く、純水引き上げ法においても例外ではない。そして
大チップICになるほど周辺部での汚れによる不良は歩留
りに大きな影響を占める。
本発明は、被洗浄物を洗浄水より引き上げた時に支持
機構との接触部に生ずる汚れの発生を防止した純水引き
上げ乾燥用支持方法を提供することを目的とする。
機構との接触部に生ずる汚れの発生を防止した純水引き
上げ乾燥用支持方法を提供することを目的とする。
第１図は本発明の原理説明図である。
本発明方法は同図（ａ）に示すようにウェハー等の被
洗浄物１を挟持することができる２対の挟持部材2a,2b
及び3a,3bを上下２段に配置した支持機構４を用い、ま
ず下段の挟持部材2a,2bで被洗浄物１を支持して純水槽
５に浸漬した後、引上げを開始し、その途中で（ｂ）図
に示すように、未だ下段の挟持部材2a,2bの挟持部2a′,
2b′が水中にある間に、被洗浄物１の約/2が水面上に出
て乾燥した部分を上段の挟持部材3a,3bで挟持した後、
下段の挟持部材2a,2bの被洗浄物の挟持を開放し、その
状態で被洗浄物１を完全に引き上げるのである。
洗浄物１を挟持することができる２対の挟持部材2a,2b
及び3a,3bを上下２段に配置した支持機構４を用い、ま
ず下段の挟持部材2a,2bで被洗浄物１を支持して純水槽
５に浸漬した後、引上げを開始し、その途中で（ｂ）図
に示すように、未だ下段の挟持部材2a,2bの挟持部2a′,
2b′が水中にある間に、被洗浄物１の約/2が水面上に出
て乾燥した部分を上段の挟持部材3a,3bで挟持した後、
下段の挟持部材2a,2bの被洗浄物の挟持を開放し、その
状態で被洗浄物１を完全に引き上げるのである。
先ず支持機構４の下段の挟持部材2a,2bで被洗浄物を
支持して純水中に浸漬し、その引き上げ途中で、水面上
に出て乾燥した部分を上段の挟持部材3a,3bが交替して
支持することにより、被洗浄物１が水中から出るとき
は、下段の挟持部材2a,2bの挟持部2a′,2b′は被洗浄物
１に接触していないため、被洗浄物１に汚れを生じさせ
ることはない。
支持して純水中に浸漬し、その引き上げ途中で、水面上
に出て乾燥した部分を上段の挟持部材3a,3bが交替して
支持することにより、被洗浄物１が水中から出るとき
は、下段の挟持部材2a,2bの挟持部2a′,2b′は被洗浄物
１に接触していないため、被洗浄物１に汚れを生じさせ
ることはない。
第２図は本発明の実施例に用いる支持機構の１例を示
す図であり、（ａ）は正面図、（ｂ）は斜視図である。
す図であり、（ａ）は正面図、（ｂ）は斜視図である。
同図において、2a,2bは下段の挟持部材、3a,3bは上段
の挟持部材であり、それぞれＬ字状をなし、下段の挟持
部材2a,2b及び上段の挟持部材3a,3bはそれぞれ対をな
し、各挟持部材2a,2b,3a,3bはその折曲部近傍でピン7,
7′及び8,8′により支持板６に軸着されている。そして
各挟持部材2a,2b,3a,3bの下方に延びるレバーの先端は
フォーク状の挟持部2a′,2b′,3a′,3b′となってい
る。また各挟持部材2a,2b,3a,3bの水平部分のレバーの
端部には噛合い歯9,10が形成され下段の挟持部材2a,2b
同士及び上段の挟持部材3a,3b同士がそれぞれ噛み合っ
て左右の挟持部材が対称的に動くようになっている。ま
た下段の挟持部材の一方2aと上段の挟持部材の一方3bの
水平部分のレバーには立上り部11,12がそれぞれ設けら
れており、各立上り部11,12には一端を支持板６に係止
した引張ばね13,14の他端が係止されている。また各立
上り部11,12をロッド15,16でそれぞれ押圧できるように
エアシリンダ17,18が支持板６に設けられている。
の挟持部材であり、それぞれＬ字状をなし、下段の挟持
部材2a,2b及び上段の挟持部材3a,3bはそれぞれ対をな
し、各挟持部材2a,2b,3a,3bはその折曲部近傍でピン7,
7′及び8,8′により支持板６に軸着されている。そして
各挟持部材2a,2b,3a,3bの下方に延びるレバーの先端は
フォーク状の挟持部2a′,2b′,3a′,3b′となってい
る。また各挟持部材2a,2b,3a,3bの水平部分のレバーの
端部には噛合い歯9,10が形成され下段の挟持部材2a,2b
同士及び上段の挟持部材3a,3b同士がそれぞれ噛み合っ
て左右の挟持部材が対称的に動くようになっている。ま
た下段の挟持部材の一方2aと上段の挟持部材の一方3bの
水平部分のレバーには立上り部11,12がそれぞれ設けら
れており、各立上り部11,12には一端を支持板６に係止
した引張ばね13,14の他端が係止されている。また各立
上り部11,12をロッド15,16でそれぞれ押圧できるように
エアシリンダ17,18が支持板６に設けられている。
このように構成された支持機構を用いた本発明方法を
第３図により説明する。
第３図により説明する。
先ず（ａ）図に示すようにエアシリンダ17,18を動作
させ、下段の挟持部材の一方2aと上段の挟持部材の一方
3bの立上り部11,12を押圧して両挟持部材の挟持部2a′,
2b′及び3a′,3b′を左右に開く。次に（ｂ）図の如く
エアシリンダ17の動作を止め、引張ばね13の力で下段の
挟持部材2a,2bを回動させ、その挟持部2a,′と2b′で被
洗浄物１を挟持し、該被洗浄物１を純水19の中に浸漬す
る。その後被洗浄物をゆっくりと引き上げるのである
が、その途中で（ｃ）図に示すように被洗浄物１が水面
上に1/2程度出た状態で未だ下部挟持部材2a,2bの挟持部
2a′,2b′が水中にあるとき、（ｄ）図の如くエアシリ
ンダ18の動作を止め、引張ばね14の力で上部挟持部材3
a,3bを回動し、その挟持部3a′,3b′で被洗浄物１の水
面上を出て乾燥した部分を挟持した後、エアシリンダ17
を動作させ下段の挟持部材2a,2bを回動させて被洗浄物
１の挟持を解放する。その後この状態で被洗浄物１を水
中より完全に引き上げることにより洗浄・乾燥を完了す
る。
させ、下段の挟持部材の一方2aと上段の挟持部材の一方
3bの立上り部11,12を押圧して両挟持部材の挟持部2a′,
2b′及び3a′,3b′を左右に開く。次に（ｂ）図の如く
エアシリンダ17の動作を止め、引張ばね13の力で下段の
挟持部材2a,2bを回動させ、その挟持部2a,′と2b′で被
洗浄物１を挟持し、該被洗浄物１を純水19の中に浸漬す
る。その後被洗浄物をゆっくりと引き上げるのである
が、その途中で（ｃ）図に示すように被洗浄物１が水面
上に1/2程度出た状態で未だ下部挟持部材2a,2bの挟持部
2a′,2b′が水中にあるとき、（ｄ）図の如くエアシリ
ンダ18の動作を止め、引張ばね14の力で上部挟持部材3
a,3bを回動し、その挟持部3a′,3b′で被洗浄物１の水
面上を出て乾燥した部分を挟持した後、エアシリンダ17
を動作させ下段の挟持部材2a,2bを回動させて被洗浄物
１の挟持を解放する。その後この状態で被洗浄物１を水
中より完全に引き上げることにより洗浄・乾燥を完了す
る。
本実施例によれば、被洗浄物を純水中から引き上げる
とき、挟持部材の挟持部が被洗浄物に接触したまま水中
から水面上に出ることはないので、水滴が残ることはな
く、従って汚れの発生はない。
とき、挟持部材の挟持部が被洗浄物に接触したまま水中
から水面上に出ることはないので、水滴が残ることはな
く、従って汚れの発生はない。
以上説明した様に、本発明によれば、被洗浄物を上下
２段で支持できる支持機構を用い、先ず下段の挟持部材
で挟持し、水中から引き上げる途中で上段の挟持部材で
挟持するように切替えることにより、挟持部材の挟持部
が被洗浄物を挟持したまま水中から水上にでることはな
く、従ってこの部分に水滴が残らないため乾燥後に生ず
るシミ等の汚れの発生は防止される。
２段で支持できる支持機構を用い、先ず下段の挟持部材
で挟持し、水中から引き上げる途中で上段の挟持部材で
挟持するように切替えることにより、挟持部材の挟持部
が被洗浄物を挟持したまま水中から水上にでることはな
く、従ってこの部分に水滴が残らないため乾燥後に生ず
るシミ等の汚れの発生は防止される。
【図面の簡単な説明】 第１図は本発明の原理説明図、 第２図は本発明の実施例に用いる支持機構を示す図、 第３図は本発明の実施例を説明するための図である。 図において、 １は被洗浄物、2,2′は下段の挟持部材、 3,3′は上段の挟持部材、 ４は支持機構、５は純水槽 を示す。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０１Ｌ 21/304 ３５１ Ｈ０１Ｌ 21/304 ３５１Ｃ
Claims (1)
- 【請求項１】被洗浄物（１）を純水槽（５）より緩速度
で引き上げ、被洗浄物の表面に付着した水を、その表面
張力で純水槽（５）に引き戻して乾燥させる洗浄方式に
おける被洗浄物支持方法であって、 被洗浄物（１）を挟持することができる２対の挟持部材
（2a,2b,3a,3b）を上下２段に設けた支持機構を用い、
被洗浄物（１）が水中にあるときは下段の挟持部材（2
a,2b）で挟持し、被洗浄物（１）の引き上げ途中で下段
の挟持部材の挟持部（2a′,2b′）が未だ水中にある間
に被洗浄物（１）の約1/2が水面上に出て乾燥した部分
を上段の挟持部材（3a,3b）で挟持した後、下段の挟持
部材（2a,2b）は挟持を解くことを特徴とした純水引き
上げ乾燥用支持方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19715988A JP2574411B2 (ja) | 1988-08-09 | 1988-08-09 | 純水引き上げ乾燥用支持方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19715988A JP2574411B2 (ja) | 1988-08-09 | 1988-08-09 | 純水引き上げ乾燥用支持方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0246727A JPH0246727A (ja) | 1990-02-16 |
| JP2574411B2 true JP2574411B2 (ja) | 1997-01-22 |
Family
ID=16369753
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19715988A Expired - Fee Related JP2574411B2 (ja) | 1988-08-09 | 1988-08-09 | 純水引き上げ乾燥用支持方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2574411B2 (ja) |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2584214Y2 (ja) * | 1992-11-04 | 1998-10-30 | 株式会社カイジョー | 基板自動処理装置 |
| JP3043709B2 (ja) * | 1997-11-19 | 2000-05-22 | 株式会社カイジョー | 基板の乾燥装置 |
| JP3364620B2 (ja) | 1998-12-11 | 2003-01-08 | 東邦化成株式会社 | 基板処理装置 |
| DE19859468C2 (de) * | 1998-12-22 | 2002-01-17 | Steag Micro Tech Gmbh | Vorrichtung zum Behandeln und Handhaben von Substraten |
| DE10127042A1 (de) * | 2001-06-02 | 2002-12-12 | Astec Halbleitertechnologie Gm | Verfahren und Vorrichtung zum Behandeln von Substraten |
| JP3802446B2 (ja) | 2002-05-15 | 2006-07-26 | 東邦化成株式会社 | 基板乾燥方法およびその装置 |
| CN105750264A (zh) * | 2016-03-30 | 2016-07-13 | 周靖 | 一种双机械臂全自动超声波清洗机 |
-
1988
- 1988-08-09 JP JP19715988A patent/JP2574411B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0246727A (ja) | 1990-02-16 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |