JPS6068640U - 半導体ウエ−ハ超音波洗浄装置 - Google Patents

半導体ウエ−ハ超音波洗浄装置

Info

Publication number
JPS6068640U
JPS6068640U JP15974283U JP15974283U JPS6068640U JP S6068640 U JPS6068640 U JP S6068640U JP 15974283 U JP15974283 U JP 15974283U JP 15974283 U JP15974283 U JP 15974283U JP S6068640 U JPS6068640 U JP S6068640U
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
semiconductor wafer
carrier
ultrasonic cleaning
cleaning liquid
tank
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP15974283U
Other languages
English (en)
Other versions
JPS6317248Y2 (ja
Inventor
毛利　幹生
Original Assignee
関西日本電気株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 関西日本電気株式会社 filed Critical 関西日本電気株式会社
Priority to JP15974283U priority Critical patent/JPS6068640U/ja
Publication of JPS6068640U publication Critical patent/JPS6068640U/ja
Application granted granted Critical
Publication of JPS6317248Y2 publication Critical patent/JPS6317248Y2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第１図及び第２図は従来の半導体ウェーハ超音波洗浄装
置の側断面図及びＡ−Ａ線に沿う断面図、第３図及び第
４図は本考案の一実施例を示す側断面図及びＢ−Ｂ線に
沿う断面図、第５図及び第６図は第４図装置の動作を説
明するための各動作時の断面図、第７図は第５図状態に
おけるウェーハホルダの斜視図、第８図及び第９図は本
考案の他の実施例を示す側断面図及びＣ−Ｃ線に沿う断
面図、第１０図及び第１１図は第９図装置の動作を説明
するための各動作時の断面図である。 ２・・・・・・洗浄液、４・・・・・・半導体ウェーハ
、５・・・・・・　　　′キャリア、８，９・・・・・
・キャリアの上下開口、１１．１１’・・・・・・槽、
１２，１２’・・・・・・超音波振動子、１３，１４，
１３’、１４’・・・・・・ウェーハホルダ。 第３図 °川　。　　　　　− 、Ａ 第４図

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 複数の半導体ウェーハを上下開口形状のキャリア内に等
    間隔で平行に整列収納してキャリアと共に洗浄液に漬浸
    して超音波洗浄を行なう装置において、前記洗浄液を収
    納する槽と、該槽内の洗浄液に漬浸された前記キャリア
    からこのキャリアの上下開口より挿入されて複数の半導
    体ウェーハを整列状態のまま一括して１８０°反対の二
    方向から把持して洗浄液中に取出す一対のウェーハホル
    ダと、前記槽の前記ウェーハホルダによる半導体ウェー
    ハの把持方向と直交する方向に装着された超音波振動子
    とを具備したことを特徴とする半導体ウェーハ超音波洗
    浄装置。
JP15974283U 1983-10-14 1983-10-14 半導体ウエ−ハ超音波洗浄装置 Granted JPS6068640U (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP15974283U JPS6068640U (ja) 1983-10-14 1983-10-14 半導体ウエ−ハ超音波洗浄装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP15974283U JPS6068640U (ja) 1983-10-14 1983-10-14 半導体ウエ−ハ超音波洗浄装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS6068640U true JPS6068640U (ja) 1985-05-15
JPS6317248Y2 JPS6317248Y2 (ja) 1988-05-16

Family

ID=30351546

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP15974283U Granted JPS6068640U (ja) 1983-10-14 1983-10-14 半導体ウエ−ハ超音波洗浄装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS6068640U (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01199432A (ja) * 1987-09-09 1989-08-10 Orr Robert F シリコンウエハーの洗浄、濯ぎ、乾燥方法及び装置
JP2011100969A (ja) * 2009-10-05 2011-05-19 Tokyo Electron Ltd 超音波洗浄装置、超音波洗浄方法、およびこの超音波洗浄方法を実行するためのコンピュータプログラムが記録された記録媒体

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01199432A (ja) * 1987-09-09 1989-08-10 Orr Robert F シリコンウエハーの洗浄、濯ぎ、乾燥方法及び装置
JP2011100969A (ja) * 2009-10-05 2011-05-19 Tokyo Electron Ltd 超音波洗浄装置、超音波洗浄方法、およびこの超音波洗浄方法を実行するためのコンピュータプログラムが記録された記録媒体

Also Published As

Publication number Publication date
JPS6317248Y2 (ja) 1988-05-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPS6068640U (ja) 半導体ウエ−ハ超音波洗浄装置
JPS58138340U (ja) ウエハの洗浄・エツチング用キヤリア
JPS58158440U (ja) ウエハ洗浄装置
JPS59169042U (ja) 液処理装置
JPS6117742U (ja) 半導体製造装置
JPS58114042U (ja) シリコンウエハ−の洗浄装置
JPS59177940U (ja) 洗浄装置
JPS6022833U (ja) 半導体製造装置
JPS6322732U (ja)
JPS60111041U (ja) 半導体ウエ−ハの洗浄装置
JPH0438518Y2 (ja)
JPS60187534U (ja) 自動洗浄装置
JPS602830U (ja) 半導体ウエハのエツチング槽
JPS6052623U (ja) 超音波洗浄装置
JPS59185838U (ja) 半導体製造治具
JPS6096833U (ja) 半導体ウエ−ハ液処理用キヤリアハンガ−
JPS59191740U (ja) 半導体リ−ド成形装置
JPS6031964U (ja) ウエハ−ポリッシング装置用重り構造
JPH0330427U (ja)
JPS5984843U (ja) 半導体製造用キヤリアハンガ
JPS614951U (ja) 自動現像装置
JPS5858884U (ja) 筒状部材の洗浄装置
JPS5981030U (ja) 半導体製造装置
JPS58155833U (ja) 回転式半導体ウエハ−洗浄装置
JPS6064926U (ja) ウエハ搬送装置