JPS59169042U - 液処理装置 - Google Patents
液処理装置Info
- Publication number
- JPS59169042U JPS59169042U JP6495283U JP6495283U JPS59169042U JP S59169042 U JPS59169042 U JP S59169042U JP 6495283 U JP6495283 U JP 6495283U JP 6495283 U JP6495283 U JP 6495283U JP S59169042 U JPS59169042 U JP S59169042U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- liquid processing
- processing equipment
- rocking
- rocking plate
- liquid
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- ing And Chemical Polishing (AREA)
- Weting (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
第1図は従来の液処理装置の断面図である。第2図はこ
の考案の第1の実施例の液処理装置の断面図である。第
3図はこの考案の第2の実施例の液処理装置の断面図で
ある。 1・・・・・・槽、2・・・・・・処理液、3・・・・
・・揺動板、4・・・・・・キャリヤ、6・・・・・・
ウェーハ、7・・・・・・透孔、8゜9.11・・・・
・・突起物。
の考案の第1の実施例の液処理装置の断面図である。第
3図はこの考案の第2の実施例の液処理装置の断面図で
ある。 1・・・・・・槽、2・・・・・・処理液、3・・・・
・・揺動板、4・・・・・・キャリヤ、6・・・・・・
ウェーハ、7・・・・・・透孔、8゜9.11・・・・
・・突起物。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 槽と、槽内に収容された処理液と、揺動板さ、揺動板を
処理液内で上下動せしめる揺動装置と、揺動板上に載置
された多数のウエーノ1を所定ピッチで収納したキャリ
ヤとを備える液処理装置において、 前記揺動板に透孔を設けるとともに、この透孔、 を通
ってキャリヤ内のウェーハの下端に当接する突起物を設
けたことを特徴とする液処理装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6495283U JPS59169042U (ja) | 1983-04-26 | 1983-04-26 | 液処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6495283U JPS59169042U (ja) | 1983-04-26 | 1983-04-26 | 液処理装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS59169042U true JPS59169042U (ja) | 1984-11-12 |
Family
ID=30195145
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6495283U Pending JPS59169042U (ja) | 1983-04-26 | 1983-04-26 | 液処理装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS59169042U (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61170035A (ja) * | 1985-01-23 | 1986-07-31 | Toshiba Ceramics Co Ltd | 高精度エツチング方法 |
JP2021048290A (ja) * | 2019-09-19 | 2021-03-25 | 大日本印刷株式会社 | エッチング装置およびエッチング方法 |
-
1983
- 1983-04-26 JP JP6495283U patent/JPS59169042U/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61170035A (ja) * | 1985-01-23 | 1986-07-31 | Toshiba Ceramics Co Ltd | 高精度エツチング方法 |
JP2021048290A (ja) * | 2019-09-19 | 2021-03-25 | 大日本印刷株式会社 | エッチング装置およびエッチング方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPS59169042U (ja) | 液処理装置 | |
JPS6031376U (ja) | 導電性ペ−スト成形装置 | |
JPS5887340U (ja) | 半導体装置の製造装置 | |
JPS593531U (ja) | 半導体基板支持用ボ−ド | |
JPS5883149U (ja) | 半導体装置 | |
JPS6094842U (ja) | 半導体基板用研削装置 | |
JPS59189238U (ja) | ドライエツチング装置 | |
JPS583033U (ja) | ウエハ−洗浄装置 | |
JPS5946927U (ja) | 基板送り機構 | |
JPS58159737U (ja) | 半導体基板のエツチング装置 | |
JPS5936257U (ja) | 放熱装置 | |
JPS6046954U (ja) | 自動半田づけ装置における基板保持機構 | |
JPS5984843U (ja) | 半導体製造用キヤリアハンガ | |
JPS59151441U (ja) | 半導体試験装置 | |
JPS59162932U (ja) | 液体用酸化防止器 | |
JPS59169047U (ja) | 集積回路素子 | |
JPS5865590U (ja) | 小型電子装置の構造 | |
JPS6094835U (ja) | 半導体装置 | |
JPS6052996U (ja) | ドクタ装置 | |
JPS58159742U (ja) | 半導体ペレツタイズ装置 | |
JPS5812938U (ja) | 半導体ウエ−ハ | |
JPS59171728U (ja) | 洗気装置 | |
JPS5811883U (ja) | ソケツト | |
JPS59187133U (ja) | 蒸着装置 | |
JPS60174243U (ja) | 半導体装置のウエハ半田付け装置 |