JPS6094842U - 半導体基板用研削装置 - Google Patents

半導体基板用研削装置

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JPS6094842U
JPS6094842U JP18758783U JP18758783U JPS6094842U JP S6094842 U JPS6094842 U JP S6094842U JP 18758783 U JP18758783 U JP 18758783U JP 18758783 U JP18758783 U JP 18758783U JP S6094842 U JPS6094842 U JP S6094842U
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JP
Japan
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semiconductor substrates
grinding equipment
semiconductor
chucking
semiconductor substrate
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Pending
Application number
JP18758783U
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English (en)
Inventor
須崎 正博
Original Assignee
九州日本電気株式会社
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Publication date
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Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第1図は従来技術を示す断面図であり、第2図は第1図
のA部を拡大して示した断面図である。 第3図は本考案の実施例を示す斜視図である。−尚、図
において、1は半導体基板、2は無孔質アルミナ、3.
13は多孔質アルミナ、4は配管、5は多数の小孔を有
する無孔質アルミナ、6は液体を供給する配管である。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 半導体基板を真空吸着する部分め周囲に設けられた円筒
    状の部材より、液体を噴出させることを可能な゛らしめ
    たことを特徴とする半導体基板用研削装置。
JP18758783U 1983-12-05 1983-12-05 半導体基板用研削装置 Pending JPS6094842U (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20180082957A (ko) * 2017-01-11 2018-07-19 가부시기가이샤 디스코 척테이블과 연삭 장치

Cited By (3)

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KR20180082957A (ko) * 2017-01-11 2018-07-19 가부시기가이샤 디스코 척테이블과 연삭 장치
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