JPS583033U - ウエハ−洗浄装置 - Google Patents
ウエハ−洗浄装置Info
- Publication number
- JPS583033U JPS583033U JP9484081U JP9484081U JPS583033U JP S583033 U JPS583033 U JP S583033U JP 9484081 U JP9484081 U JP 9484081U JP 9484081 U JP9484081 U JP 9484081U JP S583033 U JPS583033 U JP S583033U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wafer cleaning
- cleaning equipment
- catalyst material
- cleaning liquid
- cleaning apparatus
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Cleaning In General (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
第１図は従来例を示す断面図、第２図および第３図はい
ずれも本考案実施例を示す断面図である。 １・・・ウェハー、２・・・±ヤリア、３・・・洗浄液
、４・・・容器、５・・・触媒材料、７・・・簀子板。
ずれも本考案実施例を示す断面図である。 １・・・ウェハー、２・・・±ヤリア、３・・・洗浄液
、４・・・容器、５・・・触媒材料、７・・・簀子板。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 １ 処理すべきウェハーを保持子るためのキャリアと、
洗浄液および上記キ、ヤリアを収容するための容器とを
含み、上記洗浄液内に触媒材料が配置されてなることを
特徴と子るウェハー洗浄装置。− ２上記触媒材料が容器壁面に配置されてなることを特徴
とする実用新案登録請求の範囲第１項記載のウェハー洗
浄装置。 ３ 上記触媒材料がキャリア壁面に配置されてなること
を特徴とする実用新案登録請求の範囲第１項記載のウェ
ハー洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9484081U JPS583033U (ja) | 1981-06-26 | 1981-06-26 | ウエハ−洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9484081U JPS583033U (ja) | 1981-06-26 | 1981-06-26 | ウエハ−洗浄装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS583033U true JPS583033U (ja) | 1983-01-10 |
Family
ID=29889759
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9484081U Pending JPS583033U (ja) | 1981-06-26 | 1981-06-26 | ウエハ−洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS583033U (ja) |
-
1981
- 1981-06-26 JP JP9484081U patent/JPS583033U/ja active Pending
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