JPS58158441U - 半導体エツチング装置 - Google Patents

半導体エツチング装置

Info

Publication number
JPS58158441U
JPS58158441U JP5519382U JP5519382U JPS58158441U JP S58158441 U JPS58158441 U JP S58158441U JP 5519382 U JP5519382 U JP 5519382U JP 5519382 U JP5519382 U JP 5519382U JP S58158441 U JPS58158441 U JP S58158441U
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
etching equipment
semiconductor etching
etching
semiconductor
container
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP5519382U
Other languages
English (en)
Inventor
和田 敏威
Original Assignee
日本電気株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 日本電気株式会社 filed Critical 日本電気株式会社
Priority to JP5519382U priority Critical patent/JPS58158441U/ja
Publication of JPS58158441U publication Critical patent/JPS58158441U/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Weting (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
図は、本考案の一実施例を示す構成図である。 )   1・・・・・・エツチング容器、2・・・・・
・回転体、3・・・・・・ビ  基板落下板、4・・・
・・・基板落し込み金具。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. エツチング容器に、エツチング液を一定の流”yWで回
    転させる回転体を組込み、エツチング容器C周縁部に、
    半導体基板を落し込む基板落下板を旧誼したことを特徴
    とする半導体エツチング装置。
JP5519382U 1982-04-16 1982-04-16 半導体エツチング装置 Pending JPS58158441U (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP5519382U JPS58158441U (ja) 1982-04-16 1982-04-16 半導体エツチング装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP5519382U JPS58158441U (ja) 1982-04-16 1982-04-16 半導体エツチング装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS58158441U true JPS58158441U (ja) 1983-10-22

Family

ID=30065788

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP5519382U Pending JPS58158441U (ja) 1982-04-16 1982-04-16 半導体エツチング装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS58158441U (ja)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPS58158441U (ja) 半導体エツチング装置
JPS5888239U (ja) 半導体装置用マスク
JPS5926707U (ja) 充填装置に使用するロ−タリ−弁
JPS5917845U (ja) 螢光x線用標準試料
JPS6025635U (ja) 経絡用治療器具
JPS5836738U (ja) 露光用マスク装置
JPS58153457U (ja) 半導体冷却装置
JPS60103142U (ja) ベルヌイ型半導体基板搬送装置
JPS5812268U (ja) 蒸着装置
JPS58137544U (ja) 砂ばり除去装置
JPS6052623U (ja) 超音波洗浄装置
JPS58187143U (ja) 半導体装置
JPS5916166U (ja) 磁気抵抗素子
JPS59151441U (ja) 半導体試験装置
JPS5982553U (ja) 粉粒体振動装置用多孔板
JPS58135957U (ja) 半導体装置
JPS583033U (ja) ウエハ−洗浄装置
JPS58180636U (ja) ペレツト載置トレ−
JPS5945928U (ja) 半導体装置
JPS5872844U (ja) Lsiパツケ−ジ
JPS5923750U (ja) 半導体装置
JPS58176298U (ja) バブルメモリカセツト装置
JPS6111979U (ja) レジスト塗布装置
JPS599365U (ja) 現像剤補給装置
JPS59187133U (ja) 蒸着装置