JPS5812268U - 蒸着装置 - Google Patents
蒸着装置Info
- Publication number
- JPS5812268U JPS5812268U JP10574381U JP10574381U JPS5812268U JP S5812268 U JPS5812268 U JP S5812268U JP 10574381 U JP10574381 U JP 10574381U JP 10574381 U JP10574381 U JP 10574381U JP S5812268 U JPS5812268 U JP S5812268U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- vapor deposition
- holder
- deposition equipment
- evaporation
- wafer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
第1図は従来の蒸着装置の模式図を示し、また、第2図
はこの考案の実施例である蒸着装置の要部断面図、第3
図は同装置に用いられる蒸発しゃへい板の一例の平面図
を示している。 1・・・蒸発源、2,3・・・ウェハーホルダ、11・
・・蒸発しゃへい板、12a〜12f・・・開口部、1
3・・・ウェハー。
はこの考案の実施例である蒸着装置の要部断面図、第3
図は同装置に用いられる蒸発しゃへい板の一例の平面図
を示している。 1・・・蒸発源、2,3・・・ウェハーホルダ、11・
・・蒸発しゃへい板、12a〜12f・・・開口部、1
3・・・ウェハー。
Claims (1)
- ウェハーホルダにプラネタリウム式ホルダを用い、この
ホルダを自公転させることによってウェハー面に金属を
蒸着させる装置であって、中心部から周縁部に向かって
開口面積の小さくなる様にし−た開口部を設けた蒸発し
ゃへい板を、蒸発源の上方に配置させたことを特徴とす
る蒸着装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10574381U JPS5812268U (ja) | 1981-07-15 | 1981-07-15 | 蒸着装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10574381U JPS5812268U (ja) | 1981-07-15 | 1981-07-15 | 蒸着装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5812268U true JPS5812268U (ja) | 1983-01-26 |
Family
ID=29900269
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10574381U Pending JPS5812268U (ja) | 1981-07-15 | 1981-07-15 | 蒸着装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5812268U (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012525503A (ja) * | 2009-04-28 | 2012-10-22 | フェローテック(ユーエスエー)コーポレイション | 円錐型蒸着チャンバにおける密度最適化のためのhula基板ホルダを特徴とする、リフトオフ蒸着システム |
-
1981
- 1981-07-15 JP JP10574381U patent/JPS5812268U/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012525503A (ja) * | 2009-04-28 | 2012-10-22 | フェローテック(ユーエスエー)コーポレイション | 円錐型蒸着チャンバにおける密度最適化のためのhula基板ホルダを特徴とする、リフトオフ蒸着システム |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPS5812268U (ja) | 蒸着装置 | |
JPS5989275U (ja) | 表面線量率測定装置 | |
JPS58158441U (ja) | 半導体エツチング装置 | |
JPS583033U (ja) | ウエハ−洗浄装置 | |
JPS5892730U (ja) | 蒸着装置 | |
JPS59187133U (ja) | 蒸着装置 | |
JPS5817763U (ja) | オシロスコ−プ | |
JPS5953919U (ja) | 球体表面処理装置 | |
JPS58129569U (ja) | 手書き入力装置 | |
JPS59133663U (ja) | 電子ビ−ム蒸着装置 | |
JPS5967258U (ja) | スタンプ | |
JPS5977370U (ja) | あんか兼用集蝿器 | |
JPS5828773U (ja) | 部品浮き防止器 | |
JPS5858335U (ja) | スピンコ−タ | |
JPS5832310U (ja) | 回転対称形被測定物の形状測定装置 | |
JPS58162163U (ja) | 電子写真装置 | |
JPS59104533U (ja) | レジスト処理装置 | |
JPS59170954U (ja) | 塗布装置 | |
JPS6033605U (ja) | 回転テ−ブルの位置検出機構 | |
JPS5856434U (ja) | 薄板の加工装置 | |
JPS6169824U (ja) | ||
JPS5890215U (ja) | 除塵装置 | |
JPS5916166U (ja) | 磁気抵抗素子 | |
JPS58172465U (ja) | スパツタリングコ−テイング装置 | |
JPS6016535U (ja) | 気相成長装置 |