JPS6016535U - 気相成長装置 - Google Patents
気相成長装置Info
- Publication number
- JPS6016535U JPS6016535U JP10780683U JP10780683U JPS6016535U JP S6016535 U JPS6016535 U JP S6016535U JP 10780683 U JP10780683 U JP 10780683U JP 10780683 U JP10780683 U JP 10780683U JP S6016535 U JPS6016535 U JP S6016535U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- vapor phase
- phase growth
- growth equipment
- equipment
- semiconductor wafer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
第1図は従来装置を示す概略的断面図である。
第2図ないし第4図は本考案の一実施例を示し、第2図
は概略的断面図、第3図、第4図はウェハ保持台を示す
斜視図である。 3・・・・・・反応炉、4・・・・・・半導体ウェハ、
5・・曲ウェハ保持台。
は概略的断面図、第3図、第4図はウェハ保持台を示す
斜視図である。 3・・・・・・反応炉、4・・・・・・半導体ウェハ、
5・・曲ウェハ保持台。
Claims (1)
- 半導体ウェハの平面と、反応ガスの流入部における流線
とのなす角度dが、60°以下である気相成長装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10780683U JPS6016535U (ja) | 1983-07-11 | 1983-07-11 | 気相成長装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10780683U JPS6016535U (ja) | 1983-07-11 | 1983-07-11 | 気相成長装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6016535U true JPS6016535U (ja) | 1985-02-04 |
Family
ID=30251759
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10780683U Pending JPS6016535U (ja) | 1983-07-11 | 1983-07-11 | 気相成長装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6016535U (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2016027636A (ja) * | 2014-06-27 | 2016-02-18 | 株式会社Flosfia | サセプタ |
-
1983
- 1983-07-11 JP JP10780683U patent/JPS6016535U/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2016027636A (ja) * | 2014-06-27 | 2016-02-18 | 株式会社Flosfia | サセプタ |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPS6016535U (ja) | 気相成長装置 | |
JPS59131150U (ja) | 化合物半導体の熱処理装置 | |
JPS599084U (ja) | 化学的気相成長装置 | |
JPS6057125U (ja) | 半導体気相成長装置 | |
JPS5937939U (ja) | 排煙口装置 | |
JPS596836U (ja) | 薄膜気相成長装置 | |
JPS6018541U (ja) | 気相成長装置 | |
JPS60103142U (ja) | ベルヌイ型半導体基板搬送装置 | |
JPS5812940U (ja) | 気相成長装置用サセプタ | |
JPS5996830U (ja) | コ−テイング装置 | |
JPS6135748U (ja) | 半導体ウエハ−用ピンセツト | |
JPS60124032U (ja) | 半導体ウエハ処理用縦型炉 | |
JPS59182932U (ja) | ウエハ−搬送装置 | |
JPS5926238U (ja) | Cvd装置 | |
JPS60185666U (ja) | 液相エピタキシヤル成長炉 | |
JPS58193631U (ja) | 半導体製造装置 | |
JPS6035536U (ja) | 減圧式気相成長装置 | |
JPS5945926U (ja) | 化学気相成長装置 | |
JPS58168575U (ja) | 有機金属気相成長装置 | |
JPS60166142U (ja) | 半導体ウエハの気相成長装置 | |
JPS5939937U (ja) | 半導体ウエハ支持台 | |
JPS59169370U (ja) | 液相エピタキシヤル膜成長用基板ホルダ | |
JPS5895634U (ja) | アニ−ル装置 | |
JPS58137107U (ja) | 電柱用立上り管の支持装置 | |
JPS59180424U (ja) | 半導体基板用治具 |