JPS5895634U - アニ−ル装置 - Google Patents
アニ−ル装置Info
- Publication number
- JPS5895634U JPS5895634U JP19235381U JP19235381U JPS5895634U JP S5895634 U JPS5895634 U JP S5895634U JP 19235381 U JP19235381 U JP 19235381U JP 19235381 U JP19235381 U JP 19235381U JP S5895634 U JPS5895634 U JP S5895634U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- annealing equipment
- semiconductor substrate
- aluminum block
- annealing apparatus
- abstract
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
第１図は一般的なアニール治具の概略図、第２図は本考
案の一実施例のアニール装置の概略図、第３図は本考案
の他の実施例の同装置の概略図である。 ２１・・・・・・半導体基板、２３・・・・・・アルミ
ブロック、２４・・・・・・テ゛ルミナ膜、２５・・・
・・・ＣＶＤ膜。
案の一実施例のアニール装置の概略図、第３図は本考案
の他の実施例の同装置の概略図である。 ２１・・・・・・半導体基板、２３・・・・・・アルミ
ブロック、２４・・・・・・テ゛ルミナ膜、２５・・・
・・・ＣＶＤ膜。
Claims (2)
- （１）半導体基板を載置・加熱するアルミブロックを備
え、前記アルミブロック表面の少なくとも半導体基板載
置部分上にアルミナ膜が形成されているアニール装置。 - （２）アルミナ膜上には気相成長膜が形成されているこ
とを特徴とする実用新案登録請求の範囲第１項記載のア
ニール装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19235381U JPS5895634U (ja) | 1981-12-22 | 1981-12-22 | アニ−ル装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19235381U JPS5895634U (ja) | 1981-12-22 | 1981-12-22 | アニ−ル装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5895634U true JPS5895634U (ja) | 1983-06-29 |
Family
ID=30105769
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19235381U Pending JPS5895634U (ja) | 1981-12-22 | 1981-12-22 | アニ−ル装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5895634U (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60200963A (ja) * | 1984-03-23 | 1985-10-11 | Hitachi Ltd | 薄膜形成装置 |
-
1981
- 1981-12-22 JP JP19235381U patent/JPS5895634U/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60200963A (ja) * | 1984-03-23 | 1985-10-11 | Hitachi Ltd | 薄膜形成装置 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPS5895634U (ja) | アニ−ル装置 | |
| JPS6016998U (ja) | セラミツク焼成用治具 | |
| JPS5820536U (ja) | 半導体装置 | |
| JPS5933769U (ja) | 熱回復性物品 | |
| JPS60174240U (ja) | 熱処理ボ−ト | |
| JPS6096826U (ja) | 半導体装置 | |
| JPS59125976U (ja) | 薄膜成長装置用グラファイト加熱台 | |
| JPS59109133U (ja) | 赤外線加熱処理装置 | |
| JPS59185827U (ja) | Ｃｖｄ装置 | |
| JPS59117139U (ja) | 半導体製造装置 | |
| JPS60117857U (ja) | 蒸着機用ウエハ−ホルダ− | |
| JPS6035536U (ja) | 減圧式気相成長装置 | |
| JPS58118739U (ja) | ボンデイングブロツク | |
| JPS58168135U (ja) | 半導体装置 | |
| JPS606236U (ja) | 半導体装置 | |
| JPS60118234U (ja) | 気相成長装置 | |
| JPS6138682U (ja) | 貼着シ−ル | |
| JPS5945939U (ja) | 半導体装置 | |
| JPS6068649U (ja) | 半導体集積回路装置 | |
| JPS5812940U (ja) | 気相成長装置用サセプタ | |
| JPS58120664U (ja) | 放熱フイン | |
| JPS6135748U (ja) | 半導体ウエハ−用ピンセツト | |
| JPS6043318U (ja) | 低温マッサ−ジ装置 | |
| JPS59187139U (ja) | 半導体ウエハホルダ装置 | |
| JPS60129141U (ja) | 半導体装置 |