JPS60117857U - 蒸着機用ウエハ−ホルダ− - Google Patents
蒸着機用ウエハ−ホルダ−Info
- Publication number
- JPS60117857U JPS60117857U JP433384U JP433384U JPS60117857U JP S60117857 U JPS60117857 U JP S60117857U JP 433384 U JP433384 U JP 433384U JP 433384 U JP433384 U JP 433384U JP S60117857 U JPS60117857 U JP S60117857U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- vapor deposition
- wafer holder
- deposition machine
- machine
- vapor
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Physical Deposition Of Substances That Are Components Of Semiconductor Devices (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Electrodes Of Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
、 第１図は従来のウェハーホルダーの断面図である
。 １・・・・・・ウェハー、２・・・・・・ホルダー。 第２図は本考案の一実施例によるウェハーホルダーの断
面図である。 、 １′・・・・・・ウェハー、２′・・・・・・ホルダー
。
。 １・・・・・・ウェハー、２・・・・・・ホルダー。 第２図は本考案の一実施例によるウェハーホルダーの断
面図である。 、 １′・・・・・・ウェハー、２′・・・・・・ホルダー
。
Claims (1)
- 半導体素子の表面に金属を蒸着するために用いるウェハ
ーホルダーに於いて、蒸着面のウェハーホルダーの角を
あらかじめ除去した事を特徴とした蒸着機用ウェハーホ
ルダー。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP433384U JPS60117857U (ja) | 1984-01-17 | 1984-01-17 | 蒸着機用ウエハ−ホルダ− |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP433384U JPS60117857U (ja) | 1984-01-17 | 1984-01-17 | 蒸着機用ウエハ−ホルダ− |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60117857U true JPS60117857U (ja) | 1985-08-09 |
Family
ID=30479800
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP433384U Pending JPS60117857U (ja) | 1984-01-17 | 1984-01-17 | 蒸着機用ウエハ−ホルダ− |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60117857U (ja) |
-
1984
- 1984-01-17 JP JP433384U patent/JPS60117857U/ja active Pending
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