JPS59164236U - 蒸着用マスク - Google Patents
蒸着用マスクInfo
- Publication number
- JPS59164236U JPS59164236U JP5883283U JP5883283U JPS59164236U JP S59164236 U JPS59164236 U JP S59164236U JP 5883283 U JP5883283 U JP 5883283U JP 5883283 U JP5883283 U JP 5883283U JP S59164236 U JPS59164236 U JP S59164236U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- vapor deposition
- deposition mask
- support
- mask
- ring
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Electrodes Of Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
第1図a、 bは従来のメタルマスクを示す平面図及
び断面図、第2図a、 bは従来のメタルマスクを用
いて、蒸着した半導体素子を示す平面図及び断面図、第
3図a、 bは、本考案の一実施例を示す、平面図及
び断面図である。− ・ 1.2.3.11.12.13・・・・・、・リ
ング、4゜14・・・・・・支持体、5・・・・・・金
属蒸着膜、6・・・・・・半導体基板、7・・・・・・
支持体跡、8・・・・・・電極板。
び断面図、第2図a、 bは従来のメタルマスクを用
いて、蒸着した半導体素子を示す平面図及び断面図、第
3図a、 bは、本考案の一実施例を示す、平面図及
び断面図である。− ・ 1.2.3.11.12.13・・・・・、・リ
ング、4゜14・・・・・・支持体、5・・・・・・金
属蒸着膜、6・・・・・・半導体基板、7・・・・・・
支持体跡、8・・・・・・電極板。
Claims (1)
- 蒸着によって半導体素子のシリコン基板上に金属電極を
形成する際に使用するマスクにおいて、円心円状のリン
グと、それを固定するための支持体を別々に形成゛して
、リングの片側の表面上に、支持体を溶接又はろう付け
で連結して、マスクが半導体表面と接する面と、支持体
の間の距離を、リングの厚さ分、あるいはそれ以上数れ
ることを特徴とする蒸着用マスク。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5883283U JPS59164236U (ja) | 1983-04-20 | 1983-04-20 | 蒸着用マスク |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5883283U JPS59164236U (ja) | 1983-04-20 | 1983-04-20 | 蒸着用マスク |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS59164236U true JPS59164236U (ja) | 1984-11-02 |
Family
ID=30189101
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5883283U Pending JPS59164236U (ja) | 1983-04-20 | 1983-04-20 | 蒸着用マスク |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS59164236U (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62105839U (ja) * | 1985-12-24 | 1987-07-06 | ||
JP2006307282A (ja) * | 2005-04-28 | 2006-11-09 | Kyocera Kinseki Corp | 蒸着用マスク |
JP2011184722A (ja) * | 2010-03-05 | 2011-09-22 | Ricoh Co Ltd | パターン形成方法、パターン形成基板及び太陽電池素子 |
-
1983
- 1983-04-20 JP JP5883283U patent/JPS59164236U/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62105839U (ja) * | 1985-12-24 | 1987-07-06 | ||
JP2006307282A (ja) * | 2005-04-28 | 2006-11-09 | Kyocera Kinseki Corp | 蒸着用マスク |
JP2011184722A (ja) * | 2010-03-05 | 2011-09-22 | Ricoh Co Ltd | パターン形成方法、パターン形成基板及び太陽電池素子 |
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