JP2006307282A - 蒸着用マスク - Google Patents
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Abstract
【課題】従来の蒸着用マスクでは、橋梁部と被加工物表面が接触してしまうことにより、どうしても電極膜の一部に電極膜が形成されない切断部が形成されてしまう。このため、完全に繋がった(電極膜により完全に閉じられた電極膜が形成されていない領域を有する)電極膜による特性に比べ、被加工物がセンサ素子などでは所望の感度を得られない、又圧電材などでは振動特性に不具合が発生する可能性がある。
【解決手段】蒸着用マスクにおいて、マスクパターンの外側輪郭部を構成する第1のマスク部と、該マスクパターンの内側輪郭部を構成する第2のマスク部とが、第1のマスク部及び第2のマスク部の厚みより薄く、且つ被加工物表面にマスクを配置した際に、被加工物表面との間に隙間を形成する形態で繋ぐ少なくとも1つの橋梁部により接続されている蒸着用マスクである。
【選択図】 図2
【解決手段】蒸着用マスクにおいて、マスクパターンの外側輪郭部を構成する第1のマスク部と、該マスクパターンの内側輪郭部を構成する第2のマスク部とが、第1のマスク部及び第2のマスク部の厚みより薄く、且つ被加工物表面にマスクを配置した際に、被加工物表面との間に隙間を形成する形態で繋ぐ少なくとも1つの橋梁部により接続されている蒸着用マスクである。
【選択図】 図2
Description
本発明は、蒸着用マスクに関し、特に電極膜の膜面内側に電極膜を形成しない周囲を電極膜で完全に閉鎖された領域を有する電極膜を形成する蒸着マスクに関する。
従来より、ジャイロセンサ、圧力センサやランジュバン型超音波振動子などに用いられるような圧電材等の表裏主面上には、通常この圧電材を励振させたり、或いは振動している圧電材より信号を取り出す電極膜が形成されており、ワイヤボンディングや導電性接合材等で外部の電子回路網に電気的に接続されている。
図7には、従来における電極膜の膜面内側に電極膜を形成しない領域を有する電極膜を作成する際に使用される蒸着用マスク70の一部分を例示する。通常は、開示したマスクパターンを複数個配列した蒸着用マスク板を用い、一度に複数個の被加工物(圧電材など)の表裏環状主面にマスクパターンの金、銀等の単一金属又は合金などの単層又は積層の電極膜を形成している。
電極膜を形成する方法としては蒸着法を用いる。蒸着装置を構成する真空槽の内部で蒸着材料の金属を加熱蒸発させ、同槽内に配置した前述したような蒸着マスクを装着した被加工物のマスクパターン形状に露出した表面に蒸発した金属が付着することで電極膜を形成する。
尚、このような環状電極膜を形成する方法については、以下のような先行技術文献が公知となっている。
なお、出願人は前記した先行技術文献情報で特定される先行技術文献以外には、本発明に関連する先行技術文献を、本件出願時までに発見するに至らなかった。
しかし、前述したような蒸着用マスク70は、マスクへ電極膜の膜面内側に電極膜を形成しない領域を有する形状のマスクパターンを形成するために、パターンの環状形状の内周輪郭形状を構成する第2のマスク部72を、同一の厚みの少なくとも1つの橋梁部73で外形輪郭形状を構成する第1のマスク部71と接続して固定保持する形態である。
このような形態の蒸着マスク70を電極膜の蒸着形成工程に用いた場合、橋梁部73と被加工物表面が接触してしまうことにより、どうしても電極膜の一部に電極膜が形成されない切断部が形成されてしまう。このため、完全に繋がった(電極膜により完全に閉じられた電極膜が形成されていない領域を有する)電極膜による特性に比べ、被加工物がセンサ素子などでは所望の感度を得られない、又圧電材などでは振動特性に不具合が発生する可能性があるなど問題点があった。
又、橋梁部を無くし独立した第2のマスク部により電極膜の形成を試みた場合、例えば第2のマスク部をマグネット等で別途固定した後に電極膜を蒸着する方法が考えられるが、この方法では蒸着に使用する部品及び工具点数が多くなり非常に煩雑である。又、この方法ではマグネット等の第2のマスク部を所望の位置で配置固定する機能を有する物体を挿入する空間が被加工物部分に必要となり、電極膜を形成できる被加工物形状に制約が生じ、更に被加工物の厚みが薄い場合は、被加工物両主面上それぞれに第2のマスクパターン部を配置保持できるようなマグネットを配置することが困難であり、被加工物両主面に同時に電極膜をできない可能性がある。
上記課題を解決するために本発明は成されたものであり、個片化した被加工物の主面上に電極膜を蒸着法により形成する際に使用する、この電極膜のマスクパターンを形成した蒸着用マスクにおいて、このマスクパターンのうち、マスクパターンの外側輪郭部を構成する第1のマスク部と、該マスクパターンの内側輪郭部を構成する第2のマスク部とが、第1のマスク部及び第2のマスク部の厚みより薄く、且つ被加工物表面にマスクを配置した際に、被加工物表面との間に隙間を形成する形態で繋ぐ少なくとも1つの橋梁部により接続されていることを特徴とする蒸着用マスクである。
又、この橋梁部が弾性力を有する形態で形成されていることを特徴とする上記記載の蒸着用マスクでもある。
更に、個片化した被加工物の主面上に電極膜を蒸着法により形成する際に使用する、電極膜のマスクパターンを形成した蒸着用マスクにおいて、このマスクパターンのうち、マスクパターンの外側輪郭部を構成する第1のマスク部と、マスクパターンの内側輪郭部を構成する第2のマスク部とが、第1のマスク部及び第2のマスク部の厚みより薄く、且つ被加工物表面にマスクを配置した際に、被加工物表面との間に隙間を形成する形態で繋ぐ該マスクの厚み方向に貫通孔を複数個有するメッシュパターン部により接続されていることを特徴とする蒸着用マスクである。
上記記載の本発明の蒸着用マスクによれば、マスクを被加工物表面に配置した際に、橋梁部又はメッシュパターン部と被加工物表面との間に隙間が形成されるので、蒸着法を用いて電極膜を被加工物表面に形成した場合、蒸発した金属粒子は、橋梁部以外の開口空間又はメッシュパターン部の貫通孔よりこの隙間へ入り込み、橋梁部下又はメッシュパターン部の貫通孔以外の部分の下の被加工物表面にも均一に付着するので、個片化した被加工物の表裏両主面上に、電極膜で完全閉鎖された電極膜を形成しない領域を有するパターンの電極膜を、複数個同時に非常に精密且つ精確な形状に形成することが可能となる。
又、本発明のマスクを使用することにより、電極蒸着時に使用する治具としては、被加工物の表裏主面に配置する2枚の蒸着用マスクと、個片の被加工物を複数個所定の位置に固定配置するスペーサのみであり治具点数が少なくてすむ。又、この蒸着用マスクを用いることにより、内部に第2のマスク部を所望の位置で配置固定する機能を有する物体を挿入する空間ない被加工物でも、更に、被加工物の厚み寸法に関係なく、その表面に電極膜で完全閉鎖された電極膜を形成しない領域を有するパターンの電極膜を、複数個同時に非常に精密且つ精確な形状に形成することが可能となる。
因って、本発明により形成した電極膜をセンサ部品に用いた場合では、所望の感度でセンシング信号を得ることができ、又圧電材の励振用電極膜に用いた場合では、正常な振動特性を得ることができるので、信頼性が高く且つ高精度な圧電製品を各種提供できる効果を奏する。
以下に図面を参照しながら本発明の実施形態について説明する。
図1において、(a)は本発明における一形態の蒸着用マスクの一部分を示した平面図であり、(b)は(a)に図示した仮想切断線A1−A2で切断した場合を示した部分断面図である。図2は図1に開示した蒸着用マスクの一部分を一方の主面上方より示した斜視図である。図3は図1又は図2に開示した蒸着用マスクを使用する形態を示した部分分解断面図である。図4は本発明における他の形態の蒸着用マスクの一部分を示した断面図である。図5は本発明における他の形態の蒸着用マスクの一部分を示した平面図である。図6は、図1乃至5に開示の蒸着用マスクを用いて電極膜を形成した被加工物の外観を示した斜視図である。尚、各図において、本説明に必ずしも必要としない部品又は構造体は図示していない。又、各図を明確にするために一部部品又は構造体を誇張して図示してあり、特に厚み方向の寸法は、他の方向の寸法に比べ著しく誇張している。
図1において、(a)は本発明における一形態の蒸着用マスクの一部分を示した平面図であり、(b)は(a)に図示した仮想切断線A1−A2で切断した場合を示した部分断面図である。図2は図1に開示した蒸着用マスクの一部分を一方の主面上方より示した斜視図である。図3は図1又は図2に開示した蒸着用マスクを使用する形態を示した部分分解断面図である。図4は本発明における他の形態の蒸着用マスクの一部分を示した断面図である。図5は本発明における他の形態の蒸着用マスクの一部分を示した平面図である。図6は、図1乃至5に開示の蒸着用マスクを用いて電極膜を形成した被加工物の外観を示した斜視図である。尚、各図において、本説明に必ずしも必要としない部品又は構造体は図示していない。又、各図を明確にするために一部部品又は構造体を誇張して図示してあり、特に厚み方向の寸法は、他の方向の寸法に比べ著しく誇張している。
図1及び図2に示す蒸着用マスク10において、外形形状が矩形状の平板状の金属板の複数の所定の箇所に、所望の電極膜パターン(本実施例ではリング状の電極膜)をリング状の表裏主面を要する円筒形状の被加工物の主面に形成するためのマスクパターンが形成されている。
この蒸着マスク10の構成は、このマスクパターンの外側輪郭部を構成する第1のマスク部11と、マスクパターンの内側輪郭部を構成する複数個の第2のマスク部12と、第1のマスク部11及び第2のマスク部12の厚みより薄く、且つ後述する被加工物31表面にマスクを配置した際に、被加工物31表面との間に隙間を形成する形態で繋ぐ3つの橋梁部13により一体で構成されており、蒸着用マスク10の材質としては様々なものが当てはまるが、本実施例では金属を使用している。尚、図1及び図2では蒸着マスク10の一部分のみを開示しているが、実際は作業性や生産効率を考慮し、複数個のマスクパターンをマトリクス状に形成した蒸着用マスクを使用している。
図3には、図1及び図2に開示した蒸着用マスク10を使用した電極膜形成形態を示している。即ち、圧電材である水晶により成るリング状の被加工物31を複数個用意し(図3では一つの被加工物部分を図示)、その各被加工物31を、被加工物31の厚みと概略同寸法の厚み寸法であるスペーサ32に形成されている被加工物31の外形形状と概略同形状の複数個の貫通穴部分にそれぞれ配置する。各貫通穴に被加工物31が配置されたスペーサ32の表裏両主面上に、蒸着マスク10を各々密着配置し、これら各蒸着マスク10とスペーサ32を一群として固定する。尚、蒸着マスク10に形成されている複数個のマスクパターンは、蒸着マスク10をスペーサ32の表裏両主面上に配置したときに、各被加工物31上の所定の箇所に位置するように形成されている。
このような形態に組み込んだ被加工物31、スペーサ32及び蒸着マスク10を蒸着炉内に設置し、金又は銀等の電極膜を構成する金属や、被加工物31と電極膜を構成する金属との密着性を向上させるためのNiCrからなる下地金属等を加熱蒸発させ、蒸着マスク10に形成されたマスクパターン上より被加工物31表面に、それら金属を蒸着させ電極膜33を形成する。
このとき蒸着用マスク10のマスクパターン開口部分より被加工物31の表面部分に進入してきた金属粒子は、マスクパターン開口部下の被加工物31表面に付着すると同時に、橋梁部13下の被加工物31表面にも、橋梁部13と被加工物31との間に形成された隙間から進入し付着する。このようにして、図6のような、被加工物31表面に電極膜33で完全閉鎖された電極膜を形成しない領域(第2のマスク部12で被覆された領域)を有するパターンの電極膜33を形成した被加工物31を複数個同時に得る。
図4には、本発明における蒸着用マスクの他の形態として、図1又は図2に開示した蒸着用マスク10の橋梁部13の形態を、第2のマスク部12に厚み方向に力が加わった際に変形し弾性を生じるような形態の橋梁部41にした蒸着マスク40を開示する。即ち、第2のマスク部12は、第2のマスク部12の被加工物接触側主面12aを、第1のマスク部11のスペーサ接触側主面11aより、僅かながらスペーサ及び被加工物側に突出した位置で、弾性力を有する4つの橋梁部により保持されている。
このような蒸着マスク40をスペーサに挿入した被加工物上に配置固定した場合、被加工物の表面により第2のマスク部12の被加工物接触側主面12aが第1のマスク部11のスペーサ接触側主面11aの位置まで押し上げられる。このとき各橋梁部41には、その弾性力により被加工物接触側主面12aに被加工物31側へ向かう力が発生する。この力により第2のマスク部12の被加工物接触側主面12aと被加工物31表面との密着性が向上し、より精密な電極膜33を得ることができる。
又、図5には、図1乃至4に開示の第2のマスク部12を保持する橋梁部に換えて、第1のマスク部11と第2のマスク部12との間を、第1のマスク部11と第2のマスク部12と一体構造であり、第1のマスク部11及び第2のマスク部12の厚みより薄く、且つ被加工物31表面にこの蒸着用マスクを配置した際に、被加工物31表面との間に隙間を形成し、更にこの蒸着用マスクの厚み方向に貫通孔を複数個有するメッシュパターン部51により接続し第2のマスク部を保持している蒸着用マスク50を開示した。このような蒸着マスク50を使用しても、蒸着工程における電極膜を構成する金属を蒸発させた金属粒子は、メッシュパターン部51に形成されている複数個の貫通孔より被加工物31表面上に進入でき、第1のマスク部及び第2のマスク部で被覆されていない貫通孔下の被加工物31表面だけではなく、貫通孔下以外の被加工物31表面にも金属粒子は付着し、図6に開示のような電極膜33を被加工物31表面に形成できる。
尚、上記実施例3では、メッシュパターン部51における貫通孔の開口形状は矩形状であるものを開示したが、本発明はメッシュパターン部51の貫通孔開口形状を限定するものではなく、他に円形や多角形状の開口形状を有する貫通孔を形成したメッシュパターン部51でも構わない。
10,40,50・・・蒸着用マスク
11・・・第1のマスク部
12・・・第2のマスク部
13,41・・・橋梁部
31・・・被加工物
33・・・電極膜
51・・・メッシュパターン部
11・・・第1のマスク部
12・・・第2のマスク部
13,41・・・橋梁部
31・・・被加工物
33・・・電極膜
51・・・メッシュパターン部
Claims (3)
- 個片化した被加工物の主面上に電極膜を蒸着法により形成する際に使用する、該電極膜のマスクパターンを形成した蒸着用マスクにおいて、
該マスクパターンのうち、該マスクパターンの外側輪郭部を構成する第1のマスク部と、該マスクパターンの内側輪郭部を構成する第2のマスク部とが、該第1のマスク部及び該第2のマスク部の厚みより薄く、且つ該被加工物表面に該マスクを配置した際に、該被加工物表面との間に隙間を形成する形態で繋ぐ少なくとも1つの橋梁部により接続されていることを特徴とする蒸着用マスク。 - 該橋梁部が弾性力を有する形態で形成されていることを特徴とする請求項1記載の蒸着用マスク。
- 個片化した被加工物の主面上に電極膜を蒸着法により形成する際に使用する、該電極膜のマスクパターンを形成した蒸着用マスクにおいて、
該マスクパターンのうち、該マスクパターンの外側輪郭部を構成する第1のマスク部と、該マスクパターンの内側輪郭部を構成する第2のマスク部とが、該第1のマスク部及び該第2のマスク部の厚みより薄く、且つ該被加工物表面に該マスクを配置した際に、該被加工物表面との間に隙間を形成する形態で繋ぐ該マスクの厚み方向に貫通孔を複数個有するメッシュパターン部により接続されていることを特徴とする蒸着用マスク。
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---|---|---|---|
JP2005131042A JP2006307282A (ja) | 2005-04-28 | 2005-04-28 | 蒸着用マスク |
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Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007197828A (ja) * | 2005-12-30 | 2007-08-09 | Brother Ind Ltd | 薄膜の形成方法およびそれに用いるマスク |
JP2008275728A (ja) * | 2007-04-26 | 2008-11-13 | Konica Minolta Opto Inc | 光学膜形成用治具及び光学素子 |
WO2015163127A1 (ja) * | 2014-04-24 | 2015-10-29 | 株式会社ブイ・テクノロジー | 成膜マスク、成膜マスクの製造方法及びタッチパネルの製造方法 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS50120977A (ja) * | 1974-03-12 | 1975-09-22 | ||
JPS56160962U (ja) * | 1980-04-30 | 1981-11-30 | ||
JPS59111041U (ja) * | 1983-01-14 | 1984-07-26 | 富士電機株式会社 | 選択蒸着マスク |
JPS59164236U (ja) * | 1983-04-20 | 1984-11-02 | 日本電気株式会社 | 蒸着用マスク |
JPH0987828A (ja) * | 1995-09-28 | 1997-03-31 | Murata Mfg Co Ltd | 電子部品の電極を形成する方法およびそれに用いる装置 |
-
2005
- 2005-04-28 JP JP2005131042A patent/JP2006307282A/ja active Pending
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS50120977A (ja) * | 1974-03-12 | 1975-09-22 | ||
JPS56160962U (ja) * | 1980-04-30 | 1981-11-30 | ||
JPS59111041U (ja) * | 1983-01-14 | 1984-07-26 | 富士電機株式会社 | 選択蒸着マスク |
JPS59164236U (ja) * | 1983-04-20 | 1984-11-02 | 日本電気株式会社 | 蒸着用マスク |
JPH0987828A (ja) * | 1995-09-28 | 1997-03-31 | Murata Mfg Co Ltd | 電子部品の電極を形成する方法およびそれに用いる装置 |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007197828A (ja) * | 2005-12-30 | 2007-08-09 | Brother Ind Ltd | 薄膜の形成方法およびそれに用いるマスク |
JP2008275728A (ja) * | 2007-04-26 | 2008-11-13 | Konica Minolta Opto Inc | 光学膜形成用治具及び光学素子 |
WO2015163127A1 (ja) * | 2014-04-24 | 2015-10-29 | 株式会社ブイ・テクノロジー | 成膜マスク、成膜マスクの製造方法及びタッチパネルの製造方法 |
JP2015209556A (ja) * | 2014-04-24 | 2015-11-24 | 株式会社ブイ・テクノロジー | 成膜マスク、成膜マスクの製造方法及びタッチパネルの製造方法 |
CN106232857A (zh) * | 2014-04-24 | 2016-12-14 | 株式会社V技术 | 成膜掩膜、成膜掩膜的制造方法以及触摸面板的制造方法 |
CN106232857B (zh) * | 2014-04-24 | 2019-06-07 | 株式会社V技术 | 成膜掩膜、成膜掩膜的制造方法以及触摸面板的制造方法 |
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