JP4959933B2 - 環状物への環状電極膜の形成方法 - Google Patents
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Description
図1は、本発明の環状電極膜の形成方法の工程を、各対象物を斜視した状態で示した工程図である。尚、図1において、本説明に必ずしも必要としない部品又は構造体は図示していない。又、図1を明確にするために一部部品又は構造体を誇張して図示してある。
11・・・円筒状中空部
12・・・マグネット
13・・・突起部
14・・・環状電極膜
15・・・第1のマスク
16・・・円形空間
17・・・第2のマスク
18・・・マスクパターン部
Claims (1)
- 環状の被加工物の表裏主面に該被加工物と同心の環状電極膜を形成する方法において、
環状の該被加工物の筒状内空部内にマグネットを配置する工程と、
該被加工物の該筒状内空部の開口部形状に嵌め合う突起部を一方の主面に有し、且つ被加工物の表裏主面上に形成する環状電極膜の内周形状を外形形状とする磁性体により形成された2個の第1のマスクを、該突起部を該被加工物の該筒状内空部の開口部に嵌め合う形態で該被加工物の表主面及び裏主面のそれぞれに配置する工程と、
該被加工物の表裏主面上に形成する環状電極膜の外周形状を内形形状とする空間を形成した2個の第2のマスクを、該空間の中心と該第1のマスクの中心とが同心となるように該被加工物の表主面及び裏主面上のそれぞれに配置し、該第1のマスク及び該第2のマスクの上より、成膜法により該第1のマスクと該第2のマスクとにより形成したマスクパターン部に露出した該被加工物の表主面及び裏主面に金属膜を形成する工程と、
該被加工物より、該第1のマスク、該第2のマスク及び該マグネットと取り外す工程と
を具備することを特徴とする環状物への環状電極膜の形成方法。
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