JP2008261638A - 慣性力センサの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】本発明は基板のクラックや割れを抑制して歩留まりを向上し、検出特性の劣化を抑制して検出精度を向上する慣性力センサの製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】基板64上に第1導体層66を形成する第1導体層形成工程と、第1導体層66上に圧電層68を形成する圧電層形成工程と、圧電層68上に第2導体層70を形成する第2導体層形成工程と、圧電層68および第1、第2導体層66、70にエッチング加工を施して、慣性力を検出する電極部を形成する電極部形成工程と、基板64にエッチング加工を施して、検出素子52を形成する素子形成工程とを備え、基板64の裏面に機械研削加工を施して、基板64の厚みを薄く加工する厚み加工工程を設け、かつ、厚み加工工程後に、基板64の裏面の表層を除去する表層除去工程を設けた構成である。
【選択図】図3
【解決手段】基板64上に第1導体層66を形成する第1導体層形成工程と、第1導体層66上に圧電層68を形成する圧電層形成工程と、圧電層68上に第2導体層70を形成する第2導体層形成工程と、圧電層68および第1、第2導体層66、70にエッチング加工を施して、慣性力を検出する電極部を形成する電極部形成工程と、基板64にエッチング加工を施して、検出素子52を形成する素子形成工程とを備え、基板64の裏面に機械研削加工を施して、基板64の厚みを薄く加工する厚み加工工程を設け、かつ、厚み加工工程後に、基板64の裏面の表層を除去する表層除去工程を設けた構成である。
【選択図】図3
Description
本発明は、各種電子機器に用いる慣性力センサの製造方法に関するものである。
以下、従来の慣性力センサの一つとして、角速度センサの製造方法について図面を用いて説明する。
図5は従来の角速度センサの検出素子の斜視図である。
図5において、従来の角速度センサは、音叉型の検出素子2と、この検出素子2から出力される信号を処理して角速度を算出する信号処理回路(図示せず)とを備えている。
検出素子2は、対向する一対のアーム4を基部6にて支持した音叉型であって、この基部6を実装基板に実装して用いる。一対のアーム4には、アーム4を駆動させる駆動信号を入力するための駆動用の駆動電極部8と、検出素子2に与えられた角速度に起因して発生する角速度信号を出力するための感知用の感知電極部10と、検出素子2の駆動状態を検知して検知信号を出力するための検知用の検知電極部12を配置している。アームの対向方向に向かって、2つの駆動電極部8で1つの感知電極部10を挟むように配置し、アーム4と基部6の境界近傍に検知用の検知電極部12を配置している。また、これら、駆動電極部8、感知電極部10、検知電極部12からは信号線13を引き出している。
次に、検出素子の製造方法について説明する。
第1に、図6に示すようなウエハ状のシリコンからなる基板14上に、図7(a)〜図7(d)に示すように、第1導体層16を形成し、この第1導体層16上に圧電層18を形成し、この圧電層18上に第2導体層20を形成する。
第2に、フォトリソ工法を用いて、圧電層18および第1、第2導体層16、20にドライエッチング加工を施して、図7(e)に示すように、所定形状の駆動電極部8、感知電極部10、検知電極部12、およびそれらから引き出された信号線13を形成する。
第3に、分極処理とアニール処理を施して、PZT特性(分極状態)を安定化させ諸特性を確保する。なお、この際、第2導体層20をウェットエッチング加工するとともに、圧電層18をウェットエッチング加工している。
第4に、図7(f)に示すように、基板裏面に機械研削加工(バックグラインド加工)を施して、所定の厚みまで薄く加工する。
第5に、基板にドライエッチング加工を施して、一部分を介して互いに連結された音叉形状の複数の素子を形成する。この図7(f)のA部は図1におけるA部に相当する。最後に、図8に示すように、隣接する素子が連結された部分を、ダイシングラインCに沿ってダイシングして、個片の検出素子2に分離する。
なお、この出願の発明に関連する先行技術文献情報としては、例えば、特許文献1が知られている。
特開2005−129652号公報
上記構成では、図7(f)に示すように、基板14の裏面に機械研削加工(バックグラインド加工)を施して、所定の厚みまで薄く加工した際、この機械研削加工の研削応力等によって、図9に示すように、基板14の裏面の表層に加工変質層22が形成される。この加工変質層22は、シリコンの単結晶の構造が破壊されており、アモルファス化したり多結晶化したりしている。
これによって、ウエハ状の基板14に反りが発生し、クラックが発生したり割れたりして歩留まりが低下するという問題点を有していた。また、慣性力を検出する検出素子2として用いた場合において、加工変質層22に経時変化が生じて、検出特性が変化するという問題点を有していた。
本発明は上記問題点を解決するもので、基板のクラックや割れを抑制して歩留まりを向上するとともに検出特性の変化を抑制して検出精度を向上する慣性力センサの製造方法を提供することを目的とする。
上記目的を達成するために本発明は、基板上に第1導体層を形成する第1導体層形成工程と、前記第1導体層上に圧電層を形成する圧電層形成工程と、前記圧電層上に第2導体層を形成する第2導体層形成工程と、前記圧電層および前記第1、第2導体層にエッチング加工を施して、慣性力を検出する電極部を形成する電極部形成工程と、前記基板にエッチング加工を施して、素子を形成する素子形成工程とを備え、前記基板の裏面に機械研削加工を施して、前記基板の厚みを薄く加工する厚み加工工程を設け、かつ、厚み加工工程後に、前記基板裏面の表層を除去する表層除去工程を設けた構成である。
上記構成により、基板の裏面に機械研削加工を施すので、基板の厚みを所定の厚みまで薄くできるとともに、基板裏面の表層に機械研削加工に起因する加工変質層が形成されたとしても、厚み加工工程後に、基板裏面の表層を除去するので、加工変質層も除去される。したがって、基板のクラックや割れを抑制して歩留まりを向上できるとともに、経時変化も生じないので検出特性の劣化を抑制して検出精度を向上できる。
図1は本発明の一実施の形態における電子部品の一つである角速度センサの検出素子の斜視図、図2は図1のA−A断面図である。
図1において、本発明の一実施の形態における角速度センサは、音叉型の検出素子52と、この検出素子52から出力される信号を処理して角速度を算出する信号処理回路(図示せず)とを備えている。
検出素子52は、対向する一対の可撓性を有するアーム54を基部56にて支持した音叉型であって、この基部56を実装基板に実装して用いる。一対のアーム54には、アーム54を駆動させる駆動信号を入力するための駆動用の駆動電極部58と、検出素子52に与えられた角速度に起因して発生する角速度信号を出力するための感知用の感知電極部60と、検出素子52の駆動状態を検知して検知信号を出力するための検知用の検知電極部62を配置している。アーム54の対向方向に向かって、2つの駆動電極部58で1つの感知電極部60を挟むように配置し、また、アーム54と基部56の境界近傍に検知用の検知電極部62を配置している。さらに、駆動電極部58、感知電極部60、検知電極部62を延長して引き廻した信号線63(電極パッド等も含む)を配置している。
次に、検出素子の製造方法について説明する。
第1に、ウエハ状のシリコンからなる基板64上に、図3(a)〜図3(d)に示すように、第1導体層66を形成し(第1導体層形成工程)、この第1導体層66上に圧電層68を形成し(圧電層形成工程)、この圧電層68上に第2導体層70を形成する(第2導体層形成工程)。
第1導体層66はチタンを含有し白金を主成分とするPt−Ti層からなり、圧電層68は鉛を含有する圧電材料であって、チタン酸ジルコン酸鉛を主成分とするPZTや、ランタン添加チタン酸ジルコン酸鉛を主成分とするPLZT等からなり、第2導体層70は金を主成分とするAu層からなる。
また、基板64と第1導体層66との間には、第1導体層66との密着性を向上させるために高融点金属を主成分とする層を介して形成したり、第1導体層66と圧電層68との間には、圧電層68の分極特性を向上させるためにチタン酸鉛を主成分とする配向制御層を介して形成したり、圧電層68と第2導体層70との間には、第2導体層70との密着性を向上させるために高融点金属層を介して形成したりしてもよい。
第2に、フォトリソ工法を用いて、圧電層68および第1、第2導体層66、70にドライエッチング加工を施して、図3(e)に示すように、所定形状の駆動電極部58、感知電極部60、検知電極部62、およびそれらから引き出された信号線63を形成する(電極部形成工程)。
この際、信号線63の一部は完全にエッチングを施さず、その一部を通じて、電極部がアースされるようにアースと電気的に接続しておく。次に、これら電極部を形成した後、ウェットエッチングを施して、信号線63の一部を取り除き、所定形状の信号線63を形成する。
第3に、分極処理とアニール処理を施して、例えば、PZTからなる圧電層の特性(分極状態)を安定化させ諸特性を確保する。なお、この際、第2導体層70をウェットエッチング加工するとともに、圧電層68をウェットエッチング加工している。
第4に、図3(f)に示すように、基板裏面に機械研削加工(バックグラインド加工)を施して、所定の厚みまで薄く加工する。
第5に、図3(g)に示すように、電極部を形成した基板64上に保護層72を形成する(保護層形成工程)。この保護層72を形成した状態で、図3(h)に示すように、基板64の裏面の表層にウェットエッチング加工を施して、基板64の裏面の表層を除去する(表層除去工程)。
これにより、機械研削加工の研削応力等に起因した加工変質層74が除去される。基板64と加工変質層74との境界近傍の図3(g)のB部の拡大図を図4に示す。図4に示すように、機械研削加工により基板64の表層は微小凹凸76が形成されており、基板64と加工変質層74との境界近傍にも微小凹凸76が形成されている。すなわち、ウェットエッチング加工を施して加工変質層74を除去すると、基板64の裏面に形成された微小凹凸76が露出することとなる。
第6に、図3(i)に示すように、保護層72を除去する(保護層除去工程)。図3(i)のA部が図1のA部に相当する。
第7に、ウエハ状の基板64にドライエッチング加工を施して、一部分を介して互いに連結された音叉形状の複数の検出素子52を形成する。この図3(i)のA部は図1におけるA部に相当する。
最後に、隣接する検出素子52が連結された部分を、ダイシングして、個片の検出素子52に分離する。
上記検出素子52は、図1に示すように、互いに直交するX軸、Y軸、Z軸において、アーム54の駆動電極部58に交流信号を通電すれば、アーム54が駆動振動方向に駆動振動する。このとき、駆動振動方向がX軸になるように配置した場合、Z軸周りの角速度が生じると、アーム54にY軸方向のコリオリ力が発生するので、アーム54がY軸方向に撓もうとする。したがって、この撓みを感知電極部60によって、感知することにより角速度信号を感知できる。
上記構成により、基板64の裏面に機械研削加工を施すので、基板64の厚みを所定の厚みまで薄くできるとともに、基板64の裏面の表層に機械研削加工に起因する加工変質層74が形成されたとしても、厚み加工工程後に、基板64の裏面の表層を除去するので、加工変質層74も除去される。したがって、基板64のクラックや割れを抑制して歩留まりを向上できるとともに、経時変化も生じないので検出特性の劣化を抑制して検出精度を向上できる。
また、機械研削加工は、バックグラインド加工にすることにより、精度よく基板64を薄く加工できるとともに、加工変質層74の厚みも精度よく形成される。その後の工程において、加工変質層74を除去する際に、加工変質層74の厚み精度がなければ、検出素子52として機能させる際に、2つのアーム54の厚みが異なることに起因して、駆動振動が安定せずに検出感度を劣化させる恐れがあるが、上記構成によれば検出感度の劣化を抑制できる。
さらに、基板64の裏面の表層にウェットエッチング加工を施す際には、あらかじめ保護層72を設けているので、基板64の電極側をエッチングしてしまう恐れがなく、検出素子52を精度よく製造できる。
なお、ウェットエッチング加工を施さずに、基板64の裏面の表層にポリッシング加工を施して、基板64の裏面の表層を除去してもよい。または、基板64の裏面の表層にドライエッチング加工を施して、基板64の裏面の表層を除去してもよい。
本発明に係る慣性力センサは、検出特性の変動を抑制し、特性向上を図れるので、各種電子機器に適用できるものである。
52 検出素子
54 アーム
56 基部
58 駆動電極部
60 感知電極部
62 検知電極部
63 信号線
64 基板
66 第1導体層
68 圧電層
70 第2導体層
72 保護層
74 加工変質層
76 微小凹凸
54 アーム
56 基部
58 駆動電極部
60 感知電極部
62 検知電極部
63 信号線
64 基板
66 第1導体層
68 圧電層
70 第2導体層
72 保護層
74 加工変質層
76 微小凹凸
Claims (5)
- 基板上に第1導体層を形成する第1導体層形成工程と、前記第1導体層上に圧電層を形成する圧電層形成工程と、前記圧電層上に第2導体層を形成する第2導体層形成工程と、前記圧電層および前記第1、第2導体層にエッチング加工を施して、慣性力を検出する電極部を形成する電極部形成工程と、前記基板にエッチング加工を施して、素子を形成する素子形成工程とを備え、前記基板の裏面に機械研削加工を施して、前記基板の厚みを薄く加工する厚み加工工程を設け、かつ、厚み加工工程後に、前記基板裏面の表層を除去する表層除去工程を設けた慣性力センサの製造方法。
- 前記表層除去工程では、前記基板裏面の表層にウェットエッチング加工を施して、前記基板裏面の表層を除去する表層除去工程とし、
前記表層除去工程前に、前記電極部を形成した前記基板上に保護層を形成する保護層形成工程を設け、前記表層除去工程後に、前記保護層を除去する保護層除去工程を設けた請求項1記載の慣性力センサの製造方法。 - 前記表層除去工程では、前記基板裏面の表層にポリッシング加工を施して、前記基板裏面の表層を除去する表層除去工程とした請求項1記載の慣性力センサの製造方法。
- 前記表層除去工程では、前記基板裏面の表層にドライエッチング加工を施して、前記基板裏面の表層を除去する表層除去工程とした請求項1記載の慣性力センサの製造方法。
- 前記機械研削加工は、バックグラインド加工とした請求項1記載の慣性力センサの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007102426A JP2008261638A (ja) | 2007-04-10 | 2007-04-10 | 慣性力センサの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2007102426A JP2008261638A (ja) | 2007-04-10 | 2007-04-10 | 慣性力センサの製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008261638A true JP2008261638A (ja) | 2008-10-30 |
Family
ID=39984236
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2007102426A Pending JP2008261638A (ja) | 2007-04-10 | 2007-04-10 | 慣性力センサの製造方法 |
Country Status (1)
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JP (1) | JP2008261638A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013192174A (ja) * | 2012-03-15 | 2013-09-26 | Seiko Epson Corp | 振動片の製造方法、振動片および電子機器 |
-
2007
- 2007-04-10 JP JP2007102426A patent/JP2008261638A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2013192174A (ja) * | 2012-03-15 | 2013-09-26 | Seiko Epson Corp | 振動片の製造方法、振動片および電子機器 |
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