JPS58192946U - アモルフアスシリコン感光体の成膜装置 - Google Patents

アモルフアスシリコン感光体の成膜装置

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Publication number
JPS58192946U
JPS58192946U JP8875182U JP8875182U JPS58192946U JP S58192946 U JPS58192946 U JP S58192946U JP 8875182 U JP8875182 U JP 8875182U JP 8875182 U JP8875182 U JP 8875182U JP S58192946 U JPS58192946 U JP S58192946U
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
amorphous silicon
chamber
silicon photoreceptor
film forming
liquid nitrogen
Prior art date
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Pending
Application number
JP8875182U
Other languages
English (en)
Inventor
明 三城
Original Assignee
株式会社東芝
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Publication date
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Priority to JP8875182U priority Critical patent/JPS58192946U/ja
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Pending legal-status Critical Current

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Landscapes

  • Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
  • Chemical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第1図はアモルファスシリコン感光体の成膜中における
本考案の一実施例であるアモルファスシリコン感光体の
成膜装置を示す断面側面図、第2図は同例を示す断面平
面図、第3図は同例の要部を示す平面図、第4図はアモ
ルファスシリコン感 ・光体の成膜後における同例を示
す断面側面図である。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. チェンバー内で少なくともSiを含むガスのプラズマ状
    態を生じさせ導電性基体表面にアモルファスシリコン感
    光体を成膜させるアモルファスシリコン感光体の成膜装
    置において、前記チェンバー内に液体チッ素を流入させ
    るための流入手段と前記チェンバーの底部から前記チェ
    ンバー外へ液体チッ素を流出させるための流出手段とを
    具備して成り、アモルファスシリコン感光体の成膜後に
    前記流入手段により液体チッ素を前記チェンバー内へ流
    入させ前記チェンバー内に付着する金属質シリコンを剥
    離し、前記流出手段により液体チッ素とともに廃棄させ
    ることを特徴とするアモルファスシリコン感光体の成膜
    装置。
JP8875182U 1982-06-16 1982-06-16 アモルフアスシリコン感光体の成膜装置 Pending JPS58192946U (ja)

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JPS58192946U true JPS58192946U (ja) 1983-12-22

Family

ID=30097411

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JP8875182U Pending JPS58192946U (ja) 1982-06-16 1982-06-16 アモルフアスシリコン感光体の成膜装置

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