JPS59189238U - ドライエツチング装置 - Google Patents
ドライエツチング装置Info
- Publication number
- JPS59189238U JPS59189238U JP8344683U JP8344683U JPS59189238U JP S59189238 U JPS59189238 U JP S59189238U JP 8344683 U JP8344683 U JP 8344683U JP 8344683 U JP8344683 U JP 8344683U JP S59189238 U JPS59189238 U JP S59189238U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electrode
- dry etching
- etching equipment
- counter electrode
- size
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Landscapes
- ing And Chemical Polishing (AREA)
- Drying Of Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
第１図は従来装置の模式的概略構成図、第２図は本考案
の一実施例のドライエツチング装置の模式的概略構成図
、第３図は同装置における対向電極の裏面図である。 図において、２は試料、３は試料を載置する下部電極、
１．１は対向電極、１２はガス導入路、１３はガス噴出
孔を示す。
の一実施例のドライエツチング装置の模式的概略構成図
、第３図は同装置における対向電極の裏面図である。 図において、２は試料、３は試料を載置する下部電極、
１．１は対向電極、１２はガス導入路、１３はガス噴出
孔を示す。
Claims (1)
- 試料を載置する電極と、該電極に対向する対向電極とを
具備し、前記対向電極に設けられたガス導入路に連通ず
る複数個のガス噴出孔の大きさが、電極の中心部より周
縁部に遠ざかるにしたがって順次大きく形成されている
対向電極を有することを特徴とするドライエツチング装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8344683U JPS59189238U (ja) | 1983-05-31 | 1983-05-31 | ドライエツチング装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8344683U JPS59189238U (ja) | 1983-05-31 | 1983-05-31 | ドライエツチング装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59189238U true JPS59189238U (ja) | 1984-12-15 |
Family
ID=30213403
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8344683U Pending JPS59189238U (ja) | 1983-05-31 | 1983-05-31 | ドライエツチング装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59189238U (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0272621A (ja) * | 1988-09-07 | 1990-03-12 | Teru Kyushu Kk | アッシング装置 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5684478A (en) * | 1979-12-10 | 1981-07-09 | Matsushita Electronics Corp | Apparatus for plasma treatment |
-
1983
- 1983-05-31 JP JP8344683U patent/JPS59189238U/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5684478A (en) * | 1979-12-10 | 1981-07-09 | Matsushita Electronics Corp | Apparatus for plasma treatment |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0272621A (ja) * | 1988-09-07 | 1990-03-12 | Teru Kyushu Kk | アッシング装置 |
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