JPS59189238U - ドライエツチング装置 - Google Patents

ドライエツチング装置

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Publication number
JPS59189238U
JPS59189238U JP8344683U JP8344683U JPS59189238U JP S59189238 U JPS59189238 U JP S59189238U JP 8344683 U JP8344683 U JP 8344683U JP 8344683 U JP8344683 U JP 8344683U JP S59189238 U JPS59189238 U JP S59189238U
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
electrode
dry etching
etching equipment
counter electrode
size
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP8344683U
Other languages
English (en)
Inventor
吉沢 威
賢一 小林
宮原 温
Original Assignee
富士通株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 富士通株式会社 filed Critical 富士通株式会社
Priority to JP8344683U priority Critical patent/JPS59189238U/ja
Publication of JPS59189238U publication Critical patent/JPS59189238U/ja
Pending legal-status Critical Current

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  • ing And Chemical Polishing (AREA)
  • Drying Of Semiconductors (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第1図は従来装置の模式的概略構成図、第2図は本考案
の一実施例のドライエツチング装置の模式的概略構成図
、第3図は同装置における対向電極の裏面図である。 図において、2は試料、3は試料を載置する下部電極、
1.1は対向電極、12はガス導入路、13はガス噴出
孔を示す。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 試料を載置する電極と、該電極に対向する対向電極とを
    具備し、前記対向電極に設けられたガス導入路に連通ず
    る複数個のガス噴出孔の大きさが、電極の中心部より周
    縁部に遠ざかるにしたがって順次大きく形成されている
    対向電極を有することを特徴とするドライエツチング装
    置。
JP8344683U 1983-05-31 1983-05-31 ドライエツチング装置 Pending JPS59189238U (ja)

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JP8344683U JPS59189238U (ja) 1983-05-31 1983-05-31 ドライエツチング装置

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JP8344683U JPS59189238U (ja) 1983-05-31 1983-05-31 ドライエツチング装置

Publications (1)

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JPS59189238U true JPS59189238U (ja) 1984-12-15

Family

ID=30213403

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JP8344683U Pending JPS59189238U (ja) 1983-05-31 1983-05-31 ドライエツチング装置

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JP (1) JPS59189238U (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0272621A (ja) * 1988-09-07 1990-03-12 Teru Kyushu Kk アッシング装置

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5684478A (en) * 1979-12-10 1981-07-09 Matsushita Electronics Corp Apparatus for plasma treatment

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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