JP2011100969A - 超音波洗浄装置、超音波洗浄方法、およびこの超音波洗浄方法を実行するためのコンピュータプログラムが記録された記録媒体 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明による超音波洗浄装置1は、洗浄液を貯留する洗浄槽10と、洗浄槽10内に挿入可能に設けられ、被処理体Wを保持して洗浄液に浸漬させる被処理体保持装置20と、洗浄槽10の底部に設けられた振動子40と、振動子40に超音波振動を生じさせる超音波発振装置42とを備えている。洗浄槽10内には、被処理体Wを保持する側部保持部材50が設けられている。また、被処理体保持装置20は、駆動装置26によって側方に移動するようになっている。制御装置44は、被処理体Wを側部保持部材50に保持させた後、被処理体保持装置20を側方へ移動させるように駆動装置26を制御すると共に、振動子40に超音波振動を生じさせて振動子40からの超音波振動を被処理体Wに伝播させるようになっている。
【選択図】図2
Description
以下、図面を参照して、本発明の第1の実施の形態について説明する。図1乃至図14は、第1の実施の形態における超音波洗浄装置、超音波洗浄方法、およびこの超音波洗浄方法を実行するためのコンピュータプログラムが記録された記録媒体の第1の実施の形態を説明するための図である。
この場合、まず、制御装置44からの制御信号を受けてハンド駆動部が駆動されて、各挟持部51が退避位置から受渡位置に移動し、各挟持部51がウエハWの側面に当接する(第3工程、図8参照)。このことにより、ウエハWは一対の挟持部51により挟持され、バスハンド50に保持される。このとき、ウエハ保持部21a、21bはウエハWを保持する保持位置に維持されている。
すなわち、制御装置44からの制御信号を受けて昇降駆動部27a、27bが同期して駆動され、ウエハ保持部21a、21bが下降する(図9参照)。このことにより、ウエハ保持部21a、21bはウエハWから離れる。このとき、ウエハ保持部21a、21bは、保持位置よりも下方に位置する下降位置にある。
次に、図15乃至図17により、本発明の第2の実施の形態について説明する。図15乃至図17は、第2の実施の形態における超音波洗浄装置、超音波洗浄方法、およびこの超音波洗浄方法を実行するためのコンピュータプログラムが記録された記録媒体の第2の実施の形態を説明するための図である。
10 洗浄槽
11 側壁
12 パッキング
13 固定ボルト
14 底板
15 切欠溝
16 容器
20 ウエハボード
21a、21b ウエハ保持部
22a、22b 基部
23a、23b 保持棒
24a、24b 連結部材
25a、25b 保持溝
26 駆動装置
27a、27b 昇降駆動部
28a、28b 昇降駆動力伝達部
29a、29b アダプタ
30a、30b 側方移動駆動部
31a、31b 側方駆動力伝達部
40 振動子
41 振動子単体
42 超音波発振装置
43 駆動電源部
44 制御装置
45 記録媒体
50 バスハンド
51 挟持部
52 当接棒
53 連結部材
60 洗浄液供給装置
61 洗浄液供給ノズル
61a 管状ノズル本体
61b 第1ノズル孔
61c 第2ノズル孔
62 洗浄液供給管
63 切換弁
64 純水供給管
65 純水供給源
66 薬液供給管
67 薬液タンク
68 開閉弁
69 薬液ポンプ
80 排出弁機構
81 被当接部
82 弁体
83 ピストンロッド
84 シリンダ装置
85 排液口
W ウエハ
Claims (21)
- 洗浄液を貯留する洗浄槽と、
前記洗浄槽内に挿入可能に設けられ、被処理体を保持して洗浄液に浸漬させる被処理体保持装置と、
前記洗浄槽の底部に設けられた振動子と、
前記振動子に超音波振動を生じさせる超音波発振装置と、
前記洗浄槽内に設けられ、前記被処理体を保持する側部保持部材と、
前記被処理体保持装置を側方に移動させる駆動装置と、
前記超音波発振装置および前記駆動装置を制御する制御装置と、を備え、
前記制御装置は、前記被処理体を前記側部保持部材に保持させた後、前記被処理体保持装置を側方へ移動させるように前記駆動装置を制御すると共に、前記振動子に超音波振動を生じさせ、当該振動子からの超音波振動を、前記被処理体に伝播させるように前記超音波発振装置を制御することを特徴とする超音波洗浄装置。 - 前記側部保持部材は、前記被処理体保持装置から前記被処理体を引き受けて保持するように構成され、
前記駆動装置は、前記被処理体保持装置を、前記被処理体を保持する保持位置から当該保持位置の側方に位置する側方位置まで移動させるように構成されており、
前記制御装置は、前記被処理体を前記被処理体保持装置から前記側部保持部材に引き渡した後、当該被処理体保持装置を前記保持位置から前記側方位置へ移動させ、当該被処理体保持装置が少なくとも当該側方位置にあるときに、前記振動子に超音波振動を生じさせ、当該振動子からの超音波振動を、前記被処理体のうち前記被処理体保持装置により保持される領域に伝播させるように前記超音波発振装置および前記駆動装置を制御することを特徴とする請求項1に記載の超音波洗浄装置。 - 前記被処理体保持装置は、前記被処理体を保持する一対の被処理体保持部を有し、
前記各被処理体保持部は、個別に移動自在となっていることを特徴とする請求項2に記載の超音波洗浄装置。 - 一対の前記被処理体保持部は、前記被処理体に対して略対称的に移動することを特徴とする請求項3に記載の超音波洗浄装置。
- 前記制御装置は、前記被処理体保持装置を前記保持位置から当該保持位置の下方に位置する下降位置に移動させ、その後当該下降位置から前記側方位置へ移動させ、当該被処理体保持装置を当該下降位置から当該側方位置へ移動させている間においても前記振動子に超音波振動を生じさせるように、前記超音波発振装置および前記駆動装置を制御することを特徴とする請求項2乃至4のいずれかに記載の超音波洗浄装置。
- 前記制御装置は、前記被処理体保持装置を前記側方位置から前記下降位置に移動させ、当該被処理体保持装置を当該側方位置から当該下降位置へ移動させている間においても前記振動子に超音波振動を生じさせるように前記超音波発振装置および前記駆動装置を制御することを特徴とする請求項5に記載の超音波洗浄装置。
- 前記側部保持部材は、前記被処理体を引き受けて保持する受渡位置と、前記被処理体から離れて退避する退避位置との間を移動することを特徴とする請求項1乃至6のいずれかに記載の超音波洗浄装置。
- 前記側部保持部材は、前記被処理体の側面に当接して当該被処理体を挟持する一対の挟持部を有していることを特徴とする請求項7に記載の超音波洗浄装置。
- 前記側部保持部材は、前記被処理体保持装置から前記被処理体を引き受けて保持するように構成され、
前記駆動装置は、前記被処理体保持装置を、前記被処理体を保持する保持位置から当該保持位置の側方に位置する側方位置まで移動させるように構成され、
前記被処理体保持装置は、前記被処理体を保持する一対の被処理体保持部を有しており、
前記制御装置は、前記被処理体を前記被処理体保持装置から前記側部保持部材に引き渡した後、前記被処理体保持装置の少なくとも一方の前記被処理体保持部を前記保持位置から前記側方位置へ移動させ、当該一方の被処理体保持部が少なくとも当該側方位置にあるときに、前記振動子に超音波振動を生じさせ、当該振動子からの超音波振動を、前記被処理体のうち当該一方の被処理体保持部により保持される領域に伝播させるように、前記超音波発振装置および前記駆動装置を制御することを特徴とする請求項1に記載の超音波洗浄装置。 - 前記被処理体保持装置は、個別に移動自在な第1被処理体保持部と第2被処理体保持部とを有しており、
前記駆動装置は、前記被処理体保持装置の前記第1被処理体保持部を、前記被処理体を保持する第1保持位置から当該第1保持位置の側方に位置する第1側方位置まで移動させると共に、前記第2被処理体保持部を、前記被処理体を保持する第2保持位置から当該第2保持位置の側方に位置する第2側方位置まで移動させるように構成され、
前記制御装置は、前記被処理体を前記側部保持部材および前記第1被処理体保持部に保持させた後、前記被処理体保持装置の前記第2被処理体保持部を前記第2保持位置から前記第2側方位置へ移動させ、その後に当該第2保持位置に戻し、更に、前記被処理体を前記側部保持部材および当該第2被処理体保持部に保持させた後、当該第1被処理体保持部を前記第1保持位置から前記第2側方位置へ移動させ、その後に当該第1保持位置に戻すように前記駆動装置を制御すると共に、当該第1被処理体保持部が少なくとも当該第1側方位置にあるとき、および当該第2被処理体保持部が少なくとも当該第2側方位置にあるときに、前記振動子に超音波振動を生じさせ、当該振動子からの超音波振動を、前記被処理体のうち前記第1被処理体保持部および前記第2被処理体保持部により保持される領域に伝播させるように、前記超音波発振装置を制御することを特徴とする請求項1に記載の超音波洗浄装置。 - 被処理体保持装置によって保持され、洗浄槽内の洗浄液に浸漬されている被処理体を、当該洗浄槽内に設けられた側部保持部材に保持させる工程と、
前記被処理体保持装置を側方に移動させる工程と、
前記洗浄槽の底部に設けられた振動子に超音波振動を生じさせて前記被処理体を超音波洗浄する工程と、を備え、
前記被処理体保持装置を側方に移動させる工程と超音波洗浄する工程は、前記被処理体を前記側部保持部材に保持させる工程の後に行われることを特徴とする超音波洗浄方法。 - 前記被処理体を前記側部保持部材に保持させる工程において、前記被処理体保持装置によって保持されている前記被処理体は、前記側部保持部材に引き渡され、
前記被処理体保持装置を側方に移動させる工程において、当該被処理体保持装置は、前記被処理体を保持する保持位置から当該保持位置の側方に位置する側方位置まで移動し、
前記被処理体保持装置が少なくとも前記側方位置にあるときに、前記振動子からの超音波振動を、前記被処理体のうち当該被処理体保持装置により保持される領域に伝播させることを特徴とする請求項11に記載の超音波洗浄方法。 - 前記被処理体保持装置は、前記被処理体を保持する一対の被処理体保持部を有し、
前記各被処理体保持部は、個別に移動自在になっていることを特徴とする請求項12に記載の超音波洗浄方法。 - 一対の前記被処理体保持部は、前記被処理体に対して略対称的に移動することを特徴とする請求項13に記載の超音波洗浄方法。
- 前記被処理体保持装置を側方に移動させる工程において、当該被処理体保持装置は、前記保持位置から当該保持位置の下方に位置する下降位置に移動して、その後当該下降位置から前記側方位置へ移動し、
前記被処理体保持装置を前記下降位置から前記側方位置へ移動させている間においても、前記振動子に超音波振動を生じさせることを特徴とする請求項12乃至14のいずれかに記載の超音波洗浄方法。 - 前記被処理体保持装置を前記側方位置から前記下降位置に移動させる工程を更に備え、
前記被処理体保持装置を前記側方位置から前記下降位置に移動させている間においても、前記振動子に超音波振動を生じさせることを特徴とする請求項15に記載の超音波洗浄方法。 - 前記被処理体を前記側部保持部材に保持させる工程において、当該側部保持部材は、前記被処理体から離れて退避する退避位置から当該被処理体を引き受けて保持する受渡位置に移動して、当該被処理体を保持することを特徴とする請求項11乃至16のいずれかに記載の超音波洗浄方法。
- 前記側部保持部材は、前記被処理体の側面に当接して当該被処理体を挟持する一対の挟持部を有し、
前記被処理体を前記側部保持部材に保持させる工程において、当該側部保持部材は、一対の前記挟持部を当該被処理体の前記側面に当接させて当該被処理体を挟持することを特徴とする請求項17に記載の超音波洗浄方法。 - 前記被処理体保持装置は、前記被処理体を保持する一対の被処理体保持部を有し、
前記被処理体を前記側部保持部材に保持させる工程において、前記被処理体保持装置によって保持されている前記被処理体は、前記側部保持部材に引き渡され、
前記被処理体保持装置を側方に移動させる工程において、当該被処理体保持装置の少なくとも一方の前記被処理体保持部は、前記被処理体を保持する保持位置から当該保持位置の側方に位置する側方位置まで移動し、
前記被処理体保持装置の前記一方の被処理体保持部が少なくとも前記側方位置にあるときに、前記振動子からの超音波振動を、前記被処理体のうち当該被処理体保持装置により保持される領域に伝播させることを特徴とする請求項11に記載の超音波洗浄方法。 - 前記被処理体保持装置は、個別に移動自在な第1被処理体保持部と第2被処理体保持部とを有し、
前記被処理体保持装置を側方に移動させる工程において、前記被処理体を前記側部保持部材および前記第1被処理体保持部に保持させた後、当該被処理体保持装置の前記第2被処理体保持部は、前記被処理体を保持する第2保持位置から当該第2保持位置の側方に位置する第2側方位置まで移動し、その後に当該第2保持位置に戻し、更に、前記被処理体を前記側部保持部材および当該第2被処理体保持部に保持させた後、当該第1被処理体保持部は、前記被処理体を保持する第1保持位置から当該第1保持位置の側方に位置する第1側方位置まで移動し、その後に当該第1保持位置に戻し、
前記被処理体保持装置の前記第1被処理体保持部が少なくとも前記第1側方位置にあるとき、および前記第2被処理体保持部が少なくとも前記第2側方位置にあるときに、前記振動子からの超音波振動を、前記被処理体のうち前記第1被処理体保持部および前記第2被処理体保持部により保持される領域に伝播させることを特徴とする請求項11に記載の超音波洗浄方法。 - 超音波洗浄方法を実行するためのコンピュータプログラムが記録された記録媒体であって、
当該超音波洗浄方法は、
被処理体保持装置によって保持され、洗浄槽内の洗浄液に浸漬されている被処理体を、当該洗浄槽内に設けられた側部保持部材に保持させる工程と、
前記被処理体保持装置を側方に移動させる工程と、
前記洗浄槽の底部に設けられた振動子に超音波振動を生じさせて前記被処理体を超音波洗浄する工程と、を備え、
前記被処理体保持装置を側方に移動させる工程と超音波洗浄する工程は、前記被処理体を前記側部保持部材に保持させる工程の後に行われることを特徴とする記録媒体。
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