JPH011728A - アリールアミン含有ポリヒドロキシエーテル樹脂 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は一般にアリールアミン化合物、さらに詳しくは
、高分子ターシャリ−アリールアミン化合物およびその
ような高分子ターシャリ−アリールアミン化合物を用い
た電子写真像形成部材および方法に関する。

〔従来の技術〕

電子写真技術においては、伝導性層上に光導電性絶縁層
を含む電子写真プレートを先ず該光導電性絶縁層の表面
を均一に静帯電させることによって像形成させる。次い
でプレートを光のような活性化用の電磁線照射像に露光
し、これにより非照射領域の静電潜像を残しながら光導
電性絶縁層の照射領域の電荷を選択的に消散させる。次
いで、この静電潜像は微分割検電トナー粒子を導電性絶
縁層表面に付着させることによって現像し可視像とする
ことができる。得られる可視トナー像は紙のような適当
な受は入れ部材に転写できる。この像形成法は再使用可
能な光導電性絶縁層によって多数回１桑返し得る。

さらに進歩したものとして、より高速の電子写真複写機
、デュプリケーターおよびプリンターが開発され、像品
質の劣下がサイクル操作中に生していた。さらにまた、
高速で操作する複雑な高性能複写装装置は感光体上での
狭い操作限界を包含する厳しい条件を有している。例え
ば、多くの最近の光導電性像形成部材において見い出さ
れる数多くの層は高度に可撓性で隣接層に良好に付着し
かつ狭い操作限界内で予期どおりの電気特性を示して多
数回のサイクルに亘って優れたトナー像を形成しなけれ
ばならない。また、極めて限られたスペースに押し込め
られた感光体ヘルド装置用の小直径支持ロールを用いる
コンパクトな像形成装置においては長使用寿命の可撓性
感光体が商業的に大いに求められている。小直径支持ロ
ールはコピー紙のビーム強度を用いてトナー像転写後の
感光体ヘルド表面からコピー紙を自動的にはぎ取る節−
川な信頼できるコピー紙はぎ取り装置においても大いに
望ましいものである。しかしながら、小直径、例えば、
約０．７５インチ（１９ｍｍ）以下の直径を有するロー
ルは感光体ヘルドのａ械的性能基阜の限界値を一時的な
感光体ベルト材料の欠陥が可撓性（８光体ベルトの緊発
的事件となるような高レベルまで引き上げている。

電子写真像形成装置でヘルドとして使用されている多層
型感光体の１つのタイプは基体、伝導性層、電荷ブロッ
キング層、電荷励起層、および電荷移送層を含む。電荷
移送層は多くの場合高分子フィルム形成性バイングー中
に分散または溶解させた活性化用小分子を含む。一般に
、移送層内の高分子フィルム形成性バインダーはそれ自
体電気的に不活性であり活性化用分子を含有したときに
電気的に活性となる。“電気的に活性”なる表現はその
材料が電荷励起層中の材料からの光励起電荷キャリヤー
の注入を支持し得かつこれら電荷キャリヤーの移送を電
気的活性層を通して行い活性層上の表面電荷を放電し得
ることを意味する。多層型の感光体はまた抗カール裏打
ち層、接着層、およびオーバーコーテイング層のような
追加のも含、７７９＋７る。イ２れた１−ナー像は乾燥
現像剤粉末（トナー）によって現像する多層型ベルト感
光体によっても得るごとができるけれども、これらの感
光体は液体現像系で用いたとき不安定になることが判っ
ている。これらの感光体は液体現像剤インク中で昔通に
使用される有機、キャリヤー液、イソパラフィン系炭化
水素例えばアイソバール（Ｉｓｏｐａｒ）との接触によ
って生じるクラツキング、グレージング、活性化合物の
結晶化、活性化用化合物の相分離および活性化用化合物
の抽出を受け、これらは感光体の機械的一体性および電
気的性質を著しく劣下させる。さらに詳細には、液体現
像剤の有機キャリヤー液は電荷移送層中で典型的に使用
されるアリールアミン含有化合物のような活性化用小分
子を浸出させる傾向を有する。このクラスの物質の代表
的なものには、Ｎ、Ｎ’−ジフェニル−Ｎ、Ｎ’−ビス
（３−メチルフェニル）−〔１，Ｉ’−ビフェニル）−
４，４’−ジアミン；ビス−（４−ジエチルアミノ−２
−メチルフェニル）−フェニルメタン；２，５−ビス−
（４′−ジメチルアミノフエニル）−１，３，４−オキ
サジアゾール；１−フェニル−３−（４’−ジエチルア
ミ／スチリル）−５−（４’−ジエチルアミンフェニル
）−ピラゾリン、１．１−ビス−５４−（シーＮ、Ｎ’
−ｐ−メチルフェニル）−アミノフェニルヨーシクロヘ
キサン；４−ジエチルアミノベンズアルデヒド−１，１
′−ジフェニルヒドラフン；１，１−ジフエニル−２（
ｐ−Ｎ。

Ｎ’−ジフェニルアミノフェニル）−エチレン；Ｎ−エ
チルカルバゾール−３−カルボキシアルデヒド−１−メ
チル−１−フェニルヒドラゾンがある。浸出は上述のア
リールアミン化合物のような活性化用化合物の感光体表
面上への結晶化および引き続いてのアリールアミンの液
体現像剤インク中−の移行をもたらす。さらに、インク
ビヒクル代表的にはＣ１０％Ｃ１４分岐炭化水素頚は感
光体表面にクラックおよびグレーズの形成を誘発する。

これらの作用はコピー欠陥および感光体寿命の短縮をも
たらす。感光体の劣下はそれ自体で増大した背景および
完全な物理的感光体欠陥が生ずる前の他の複写欠陥とし
て表われる。

活性化用小分子の浸出はまたベルトを非使用時にベルト
支持ロール上に留め置いた場合の溶媒／応カタラノキン
グに対する移送層の感受性を増大させる。ある種のキャ
リヤー液はまた移送ＪＵ中のアリールアミン化合物およ
びその上述した３Ａ導体のような活性化用小分子の相分
離を特に高濃度のアリールアミン化合物が移送層バイン
ダー中に存在する場合に促進する。活性化用小分子の相
分離もまた感光体の電気的および機械的性質を悪変させ
る。高分子フィルム形成性バインダー中に分散または溶
解させた活性化用小分子を含有する電荷移送層を用いる
硬質の円筒状多層型感光体においては、屈曲は通常化じ
ないけれども、電気的劣下は液体現像剤による現像中に
同様に生ずる。これら感光体の液体現像剤による十分な
劣下は使用の８時間以内で起り、そのため、感光体を幾
分低品質の像形成目的においてさえも適さないものとし
ている。

高分子でもって調製された電荷移送コンブレノクスを含
む感光体が開発されている。例えば、ポリビニルカルバ
ゾールから調製された電荷移送コンプレックスは米国特
許第４，０４７，９４８号、第４、．３４６．１５８号
および第４，３８８，３９２号に開示されている。ポリ
ビニルカルバゾール層を用いる感光体は、現在の感光体
必要条件に照したとき、電気的および機械的性質の両方
において比較的貧弱な静電複写性能を示している。ジ第
２級アミンとシイオドアリール化合物の縮合により調製
した高分子量り−ルアミン分子は１９８１年８月２６０
に公開され、１９８４年５月１６日に公告されたヨーロ
ッパ特許公報第３４，４２５号に開示されている。これ
らのポリマーは極端にもろくまた極めて物理的劣下を受
けやすいフィルムを形成するので、その可撓性ヘルド形
状での使用は困難である。即ち、液体現像剤系に露出す
る多層型ベルト感光体を用いる進歩した像形成システム
においては、クランキングおよびクレージングがベルト
サイクル操作中の臨界的電荷移送層中で生じている。

サイクル提作中の電荷移送層中に発現するタラツクニオ
コピー品質に悪影Ｎ′ｌ（を及：よす曳写十り欠陥とし
て示すことができる。さらにまた、感光体中○クラック
はクリーニンク工程において（除去てき１よ・、・トナ
ート立子を捕獲し、このトナー電子：まその後の複写物
中の背景に転写し得る。しかも、クランク領域はブレー
ドクリーニング装置と接触したとき：まがｆ′ｌ−（離
層）を受け、かくして電子写真製品設計の融通性を制限
する。

ポリカーボネートのような各種の［封脂中に分散または
溶解させた小分子アリールアミン（ヒ合物を含む電荷移
送層を有する感光体は当該技術において公知である。同
随に、ペンダントアリールアミンを有するポリビニル力
ルハゾーノベポリメククリレートのような分子を含有す
る高分子アリールアミンを１吏用した感光体も公知であ
るっさろに、シ第２級アミンとジーイオドアリール化合
物との縮合ポリマーも従来技術において記載されて戸る
。

カナダ特許第１，１７１，４３１号（１９８１年８月２
６日に公開され、１９３４年５月１６日に公告されたヨ
ーロンパ特許出願第３４，４２５号に相応する）には、
ジ第２級アミンとジーイオドアリール化合物との縮合ポ
リマーが例えば実施例■とＸに開示されている。

ストルカ等の゛′ホールトランスポートインポリマーズ
オブアロマテインクアミンーコンティニンクメタクリレ
ー）　　（Ｈｏｌｅ　Ｔｒａｎｓｐｏｒｔ　＋ｎ　Ｐｏ
ｌｙｍｅｒｓｏｆ　　八ｒｏｍａｔｉｃ　　Ａｍｉｎｅ
−Ｃｏｎｔａｉｎｉｎｇ　　Ｍｅｔｈａｃｒｙｌａｔｅ
ｓ）　　、ジャーナルオブポリマーサイエンス（Ｊｏｕ
ｒｎａｌ　ｏｆＰｏｌｙｍｅｒ　５ｃｔｅｎｃｅ）　：
ポリマーケミストリーエデインヨ７　（Ｐｏｌｙｍｅｒ
　Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ　Ｅｄｉｔｉｏｎ）、Ｖｏｌ、２
１．９６９（１９８３）”には、正孔移送が高分子量ア
リールアミン置換ポリヌククリレート中で開示されてい
る。モノマーの合成、その重合、およびこれらポリマー
の一般的性質も記載されている。

１９７７年１０月４日付でストルカ等に付与された米国
特許第４，０５２，２０５号には、移送層中にポＩＪ　
　Ｎ−ヒ゛ニルカルバ 活性ポリマーを含む感光性像形成部材が開示されている
（例えば、第５（閘４５行〜第６［閏２７行）。

活性ポリマーの誘導体はヒドロキシ置換し得る（例えば
、第５欄、６２〜６５行）。

１９８１年５月５日付でストルカ等に付与された米国特
許第４，２６５，９９０号には、小分＋７りールアミン
とポリカーボネート樹脂バインダーを含む移送層が開示
されている。

１９８３年１１月１５日付でテトラ等に付与された米国
特許第４，４１５，６４１号には、カルバゾール誘導体
を含む電子写真感光性要素が開示されている（第３欄１
〜１４行参照）。Ｒ２はヒドロキシ基を表わし得る。

■９８６年５月１３日付でストルカ等に付与された米国
特許第４，５８８，６６６号には、テトラフェニルビフ
ェニルジアミンのアルコキソ誘ＮＬ　体ヲ含む正孔移送
分子が開示されている（第３欄３３〜６６行参照）。Ｒ
１およびＲ２はメトキシを包含するアルコキシ基を示す
。ポリビニルカルバゾール、ポリカーボネート樹脂、エ
ポキシ樹脂、ポリビニルブチラール、ポリヒドロキシエ
ーテルのような樹脂を正孔移送用分子のバインダーとじ
て使用できる。

１９７７年９月１３日付でＡ、　Ｍ、ホーガンに付与さ
れた米国特許第４，０４７，９４８号にはポリビニルカ
ルバゾールを含み得る層を含む感光体が開示されている
。移送層中の小分チアり−ルアミン活性化用化合物の使
用も開示されている。好ましい小分子樹脂バインダーは
ポリカーボネート樹脂である。

１９８２年８月２４日付でペイ等に付与された米国特許
第、ｌ、３４６，１５８号にはポリビニルカルバゾール
を含み得る感光体が開示されている。移送層中の小分子
アリールアミン活性化用化合物の使用も開示されている
。好ましい小分子樹脂バインダーはポリカーボネート樹
脂である。

１９８７年６月１４０付でカトウ等に付与された米国特
許第４，３８８，３９２号には、ポリビニルカルバゾー
ルを含み得る感光体が開示されている。

電荷移送層中の電子供与性高分子光導電体中に混入させ
た電子供与性多環式芳香族炭化水素の使用も開示されて
いる。

１９８１年６月１６日付でペイ等に付与された米国特許
第４．２７３．８４Ｇ号には、ポリカーボネート樹脂材
料と了り−ルアミンとを含む像形成部材が開示されてい
る（第２欄２１〜３４行の一般式参照）。ポリ−Ｎ−ビ
ニルカルバゾールは励起層中で使用できる。

１９７４年１０月９日付でツチャ等に付与された米国特
許第３，８４４，７８１号には、ヒドロキシル、アミノ
およびアルコキシ基のような置換基を含む種々の光導電
性物質が開示されている。

１９７５年６月１７日付でナガシマ等に伺与された米国
特許第３．８９０．１４６号には、ヒドロキシル、アミ
ノおよびアルコキシ基のような置換基を含む種々の光導
電性物質が開示されている。

１９８６年５月１３日付でジョネスに付り、された米国
特許第４．５８８，６６７号には、基体、チタン金属層
、シロキサンブロッキング層、接若層、電荷励起バイン
ダー層、および電荷移送層とを有する多層型像形成部材
を包含するオーバーコーテイング型電子写真像形成部材
が開示されている。

移送層はポリカーボネート樹脂のような樹脂バインダー
中に約２５〜約７５重量％のアリールアミン移送物質を
含み得る。

〔発明が解決しようとする課題〕

即ち、クラッキング、クレージング、はがれ、軟質化、
膨潤、活性化合物の結晶化、活性化合物の相分離および
活性化合物の浸出に対する改良された抵抗性を有する多
層型感光体が求められている。インク適応性条件以外に
も、電荷移送層中の活性化合物はまた電荷保持に対する
高抵抗性、急速放電に対する高正孔移動性、および長寿
命における機械的強じん性も有しなければならない。

従って、本発明の１つの目的は上述の欠点を克服する改
良された高分子ターシャリ−アリールアミン化合物およ
びこの高分子化合物を含む感光性部材を提供することで
ある。

本発明の別の目的は液体インクキャリヤー液によって誘
起されるクラッキングおよびクレージングに対するより
大きい抵抗性を示す改良された電子写真部材を提供する
ことである。

本発明のさらに別の目的は小直径ロールの周りをベルト
タイプ形状で機械的にサイクル操作するときにクランキ
ングおよびクレージングに対してより大きい抵抗性を示
す改良された電子写真部材を提供することである。

本発明のさらに別の目的は液体現像中の成分浸出に対す
る改良された抵抗性を示す光導電性像形成部材を提供す
ることである。

本発明のさらに別の目的は液体現像中の成分結晶化に対
する改良された抵抗性を示す光導電性像形成部材を提供
することである。

本発明のさらに別の目的はサイクル操作中に安定な電気
的性質を保持する電子写真像形成部材を提供することで
ある。

本発明のさらに別の目的はブレードクリーニング装置に
供したとき摩耗に耐える改良された電子写真部材を提供
することである。

本発明のさらに別の目的は液体インクキャリヤー液にさ
らしたとき軟質化および膨潤に対する抵抗性を示す改良
された光導電性像形成部材を提供することである。

〔課題を解決するための手段〕

上記および他の目的は、本発明によれば、次式で示され
る高分子アリールアミン化合物を提供することによって
達成される： 〔式中、Ｒは−Ｈ１ＣＨ３および−Ｃ２Ｈｓからなる群
より選ばれ； ｍは約４〜約１，０００であり； Ａは式： で示されるアリールアミン基、および Ａｒ　　（Ｘ）、ｌＡｒ− （式中、ｍはＯ宏たは１であり、Ｚは および−Ａｒ　　（Ｘ）ｎ−Ａｒ　− からなる群より選ばれ、ｎは０または１であり、八ｒは からなる群より選ばれ、Ｒは−ＣＨ３、ＣｚＨｓ　、　
ＣｚＨ７、および−Ｃ４Ｈｑからなる群より選ばれ、Ａ
ｒ’は 〉 からなる群より選ばれ、Ｘは からなる群より選ばれる） からなる群より選ばれ； ＢはＡで定義したアリールアミン基、および−　Ａ　ｒ
−←■＋７−−Ａ　ｒ　− （式中、計は前述したとおりであり、■ばからなる群よ
り選ばれる） からなる群から選ばれ；そして 少なくともＡまたはＢが上記アリールアミン基を包含す
る。〕 本発明の高分子子り−ルアミン化合物は、電導性表面を
有する基体、電荷ブロッキング層、電荷励起層および正
孔移送層とを含む電子写真像形成一 部材において使用し、少なくとも上記の電荷励起層また
は電荷移送層が本発明の上記高分子アリールアミン化合
物を含む。

本発明の電子写真像形成部材は任意の適当な電子写真像
形成法において使用できる。

一般に、本発明の高置チアり−ルアミン化合物は、次式
： （式中、ｍ、　Ａｒ、　Ａｒ　’およびＺは前述したと
おりである） で示されるヒドロキシアリールアミン、および式：％式
％ （式中、ＡｒおよびＶは前述したとおりである）で示さ
れるヒドロキシジフェニレン化合物からなるヒドロキシ
化合物を式： （式中、ｍ、Ｚ、ＡｒおよびＡｒ’は前述したとおりで
ある） で示されるジグリシジルアリールアミン化合物、および
弐： （式中、Ａｒ、　Ｖおよびｎは前述したとおりである）
で示されるジグリシジルジフェニレン化合物からなる群
から選ばれた反応物と反応させることによって３１’Ｅ
Ｉ　ｍでき、そして使用する反応物の少なくとも１つは
、式： で示されるアリールアミン基を含有する。

触媒は反応に使用できる。典型的な触媒には炭酸アンモ
ニウム、酢酸アンモニウム、重炭酸アンモニウム、炭酸
カリウム、トリエタノールアミン、トリフェニルホスフ
ィン、ベンジルトリメチルアンモニウムヒドロオキサイ
ドおよびテトラメチルアンモニウムヒドロオキサイドが
ある。

トリフェニルアミンが著しく反応時間を短縮するので好
ましい。

必要ならば、得られる高分子アリールアミンのヒドロキ
シ末端基はＫＯＨのような強塩基およびＣＨ３Ｔ　、　
Ｃ２１（Ｓ　Ｉのようなアルキル化剤等で処理すること
によってアルコキシ末端基に転喚してもよい。ＯＨ末端
基のアルコキシ基による互換はＯｆ（基がポリマーのア
リールアミン部分の末端フェニレン基のバラ位に存在す
るときに臨界的である。何故ならば、そのようなポリマ
ーはそのポリマーを用いる電子写真像形成部材中で許容
できない亮水準の篭筒捕捉を引き起すからである。

上記の反応は次の一般的反応弐によって表わし得る： 上記のヒドロキシアリールアミン式で示される化合物は
アルコキシアリールアミンを加水分解することによって
調製できる。アルコキシアリールアミンを調製する典型
的な方法はストルカ等の米国特許第４．５８８，６６６
号の実施例１に開示されており、その記載はすべて参考
として本明細書に引用する。米国特許第４，５８８，６
６６号の実施例１の手順に従って、Ｎ、Ｎ’−ジ（３−
メトキシフェニル）Ｎ、Ｎ’−シフェニルグ１，１’−
ビフェニル〕−４，４′シアミンはｍ−イオドアニソー
ルから合成して９０％の収率でｍ、ｐ、１２０〜１２５
℃を得た。Ｎ、　　Ｎ’−ジフェニル−Ｎ。

Ｎ′−ビス（３−ヒドロキシフェニル）−Ｃ１゜１′−
ビフェニルニー４．、ｒ’−ジアミンは、例えば、Ｎ、
　　Ｎ’−ジ（３−メトキンフェニル）−Ｎ、　　Ｎ’
−ジフェニル−〔１，１′−ビフェニルクー４．４’−
ジアミンから、ｆｉｌ的撹拌器およびアルゴンガス入口
を備えた２β三つ日丸底フラスコに１３７．５ｇのＮ、
Ｎ’　−ジフェニル−Ｎ、　Ｎ’−ビス（３−メトキシ
フェニル）−Ｃ１，１’　−ビフェニルツー４．４′−
ジアミン（０，２５モル）、２３３、５　ｇの無水沃化
す）　ＩＪウム（１，５モル）および５００ｄの加温ス
ルホラン（蒸留したもの）を導入することによって調製
した。フラスコ内容物を１２０℃に加熱し次いで６０℃
に冷却した。

５　ｍ（ｌのり、１．水を滴下しながら加え、次いで１
９０．５ｍｌのトリメチル（−クロロシラン）（１，５
モル）を加えた。内容物を６時間リフラ・７クスせしめ
た。ＨＰ　Ｌ　Ｃ分析を用いて反応が完了したときを測
定した。フラスコ内容物を１．５βの脱イオン水を含有
する３乏エーレンマイヤーフラスコ中に注いだ。水層を
デカンテーションし、暗色の油状残留物を５００ｎｙ２
メタノール中に捕集した。メタノール？容ン夜を２部の
４００ｍｆｆヘキサンで抽出処理してヘキサメチルジシ
ロキナン副生成物を除去した。メタノール溶液は回転医
発させて溶媒を除去した。残留物を５００ｍｆｆのアセ
ｌ−ン中に溶解し、次いで１．５ｆｆの脱イオン中に沈
澱させた。灰白色固形分を濾過し、次いで脱イオン水で
洗浄し真空乾燥させた。粗Ｎ、Ｎ’−ジフェニル−Ｎ、
Ｎ’−ビス（３−ヒドロキシフェニル）−（１，Ｍ−ビ
フェニル）−４，４’−ジアミンをマグネチソクスター
ラーと１βのトルエンを含む２１丸底フラスコ中に入れ
た。５０ｇのフロリシル（Ｆｌｏｒｉｓｉｌ、フロリゾ
イン社の登録商標）をフラスコに加え２時間攪拌せしめ
た。暗色フロリシルは濾別除去して薄黄色トルエン溶液
を残存させた。１−ルエンを回転蒸発させて薄黄色粘稠
油状物を得た。この油状生成物を４００ｍｊ！のアセト
ンに溶解し、次いで４００ｍ１ｌのへブタンで希釈して
結晶化させた。無色結晶を濾過した。追加の生成物を濾
液からアセトンを回転蒸発させることによって得た。収
率は８５％であり、ｍ、ｐ、　１１３〜１１７℃であっ
た。ヒドロキシアリールアミン化合物の前記式で示され
る代表的な化合物には次の如きものが包含される： 前記式で示される化合物にはＮ、Ｎ’−ジフェニル−Ｎ
、Ｎ’−ビス（３−ヒドロキシフェニル）−Ｃ１，１’
−ビフェニル）−４，４’−ジアミン、Ｎ、Ｎ’−ジ（
４−ヒドロキシフェニル）−ｍ−）ルイジン；ビス（（
Ｎ−（３−ヒドロキシフェニル）−Ｎ−フェニル）−４
−アミノフェニルツーイソプロピリデン、Ｎ、Ｎ’−ジ
フェニル−Ｎ、Ｎ’−ビス（３−ヒドロキシフェニル）
−（１，１’　：４’、ｌ’−ターフェニル〕−４゜４
“−ジアミン；９−エチル−３，６−ビス〔Ｎ−フェニ
ル−Ｎ−３（３−ヒドロキシフェニル）−アミノ〕−カ
ルバゾール；１，４−ビス（Ｎ−フェニル−Ｎ−（３−
ヒドロキシフェニル）〕−フエニレンジアミン等がある
。

前述のヒドロキンジフェニレン化合物の式で示される化
合物には次の如きものがある：前述のジグリシジルアリ
ールアミン化合物の式で表わされる化合物は上記式によ
ってエビブロモヒドリンまたはエビクロロヒドリン（ア
ルドリッチケミカル社）によって調製できる。典型的な
反応はアルゴンを約１０分間パップリングさせているＮ
−メチルピロリジノン２００ｍｆｆを用いて行い得る０
次いで、ｌ１ｇの粉末ＫＯＨを攪拌しながら加える。こ
の混合物は約２０分間攪拌した。

次いで、Ｎ、Ｎ’−ジフェニル−Ｎ、Ｎ’−４−ヒドロ
キシフェニル−（１，１’−ビフェニルツー４．４’−
ジアミン（０，０７８モル）４２．８ｇを粒状で攪拌し
ながら加える。溶解後、反応混合物を約１０°Ｃに冷却
する。エビブロモヒドリンを滴下して攪拌しながら加え
る。％の添加を終えたのら、水浴を取り除いて、添加を
終了させる。反応は添加終了後２時間攪拌させる。反応
を水中で冷却する。華離した生成物をエチルアルコール
から再結晶できる。３０ｇを単離した（収率５０％）ジ
グリシジルアリールアミン化合物の前述の式で示される
化合物には次の如きものがある：＼； 前記式で示される化合物には、Ｎ、Ｎ’−ジフェニル−
Ｎ、Ｎ’−ビス（３−（２，３−エポキシプロピル）フ
ェニル）−（１，１’−ビフェニル）−４，４’−ジア
ミン、Ｎ、Ｎ’−ジ（４−（２，３−エポキシプロピル
）−フェニル）−アニリン；１．■−ビス（４−（Ｎ−
３−（２，３−エポキシプロピル）フェニル）−４−（
Ｎ−フェニル）−アミノフェニル）−シクロヘキサン；
ビス（Ｎ−（３−（２，３−エポキシプロピル）フェニ
ル）−Ｎ−フェニル−４−アミノフェニル〕−メタン；
ビスＣＮ−（４−（２，３−エポキシプロピル）フェニ
ル）−Ｎ−フェニル−４−アミノフェニル〕−イソプロ
ピリデン、Ｎ、Ｎ’−ジフェニル−Ｎ、Ｎ’−ビス（３
−（２，３−エポキシプロピル）フェニル）−（１，１
：４’、ＩＡ−ターフェニル）−４，４’−ジアミン；
９−エチル−３，６−ビス〔Ｎ−フェニル−Ｎ−（３−
（２，３−エポキシプロピル）フェニル）−アミノコ−
カルボゾール；１，４−ビス〔Ｎ−フェニル−Ｎ−（３
−（２，３−エポキシプロピル）フェニル〕−フェニレ
ンジアミン等がある。

ジグリシジルジフェニル化合物の前述の式で示される典
型的な化合物には次の如きものがある：【 前記式で示される化合物には、ジ（４−（２゜３−エポ
キシプロピル）フェニル）−エーテル；ジー（３−（２
，３−エポキシプロピル）フェニル）−エーテル；ジー
（４−（２，３−エポキシプロピル）フェニル）−メタ
ン；ジー（３−（２゜３−エポキシプロピル）フェニル
）−イソプロピリデン；ジ（４−（２，３−エポキシプ
ロピル）フェニル）−イソプロピリデン；ジ（４−（２
゜３−エポキシプロピル）フェニル）−チオエーテル；
・ｉ、４″−ジ（２，３−エポキシプロピル）−１，１
’：３’、Ｉ“−ターフェニル等がある。

次は特定のジグリシジルジフェニレン化合物と特定のジ
ヒドロキシアリールアミン化合物との反応およびその後
の得られるポリマーのヒドロキシ基のメトキシ基による
置換を具体的に示す：亡口 （ｍの値は約１８〜約１９である） Ｎ、　　Ｎ’−ジく４−ヒドロキシフェニル）−Ｎ。

Ｎ’−’；フェニルーＣ１，ｌ’ｈ”フェニル〕−４，
４’　−ジアミンとビス（４−（２，３−エポキシプロ
ピル）フェニル）−イソプロピリデンｊこ基づくポリヒ
ドロキシエーテル樹脂、フェノキシ樹脂の調製： 反応容器に、５．２ｇ（０，０１モル）の上記ジヒドロ
キシアリールアミン化合物と３．４ｇ（０，０１モル）
の上記ジグリシジルジフェニレン化合物、５ｃｃのｐ−
ジオキサンおよび０．５２ｇ（ＬＯ−２モル／エポキシ
ド当量）のトリフェニルホスフィン（ＣｓＨｓ）３ｐを
加えた。反応混合物を加熱し１０２±１℃に９日間維持
した。室温に冷却したときガラスに固化する極めて粘稠
な塊りを最少量のＴＨＦに溶解し、ウォーリングベレン
ダー中で５００ｃｃのＭｅＯＨ中にゆっくり加えて単離
した（収率８５．６％）。

上記フェノキシ樹脂のアルキル化は４ｇの上記ポリマー
を溶解したＮ−メチルピロリジノン（アルドリンチケミ
カル社）１０ｍ７！中で行う。この溶液に１ｇの粉末に
○■４を加える。得られた黄色ン容ン夜にＣＨ３１，２
ｍｌをカロえ、５　ｍｊ！のＮ−メチルピロリジノンで
稀釈した。これを約２時間攪拌せしめる。反応を５０ｃ
ｃのＭｅＯＨ中で急冷させる。白色ｐｐｔを濾過して集
成する。赤外スペクトルはすべてのＯＨがブロックされ
ていることを示した。

メチル化前の高分子反応生成物はジヒドロキシアリール
アミン反応物からの硬質ロッド様移送用アリールアミン
部分とポリマーに良好な機械的性質を与えるジグリシジ
ル−ビス−フェノール共反応物からの可撓性ユニットと
を交互に含んでいた。

メチル化前のポリマーの赤外スペクトルからは、多くの
末端基がジヒドロキシアリールアミン出発物質のヒドロ
キシ基を有していることを示した。

このポリマーを無定形セレン光励起体層上に２０μｍ厚
フィルムとして注型し電気的性質について試験したとき
は、装置は、良好なフィルム形成性および機械的性質を
有していたにもかかわらず、静電複写用途においては使
用できない程の高水準の捕捉を示していた。しかしなが
ら、メチル化前の高分子反応生成物を塩基（ＫＯＨ）お
よびメチル化材（ＣＨ３Ｉ　）による処理によって完全
メチル化ポリマーＢ（フェノール性末端基および主鎖中
のヒドロキシ単位の両方を含む）に転換したときには、
メチル化前の高分子反応生成物と同じ試験条件でのメチ
ル化ポリマーの電気的評価は、メチル化ポリマーが正孔
移送能力において良好に機能したところ、即ら、高易動
性と低残留性を有していたことを示した。良好な正孔移
送能力を得るのに、メチル化はヒドロキシ基がアリール
アミン部分のフェニレン基のパラ位に存在するときのみ
必要であるようである。メチル化はヒドロキシ基が了り
−ルアミン部分のフェニレン基メタまたはオルソ位にあ
るときは必要でない。

次は特定のジグリシジルアリールアミン化合物と特定の
ジヒドロキシアリールアミン化合物間の具体的反応を示
すニ ー２２・ Ｎ、Ｎ’−ジフェニル−Ｎ、Ｎ’−ビス（４−ヒ１−口
キジフェニル）−１１，１’−ビフェニル〕−４．．ｉ
’−ジアミンとＮ、Ｎ’−ジフヱニルーＮ、Ｎ′−ビス
（４−（２，３−エポキシプロピル）フヱニル）−Ｎ、
１’−ビフェニル）−４，４’−ジアミンに基づくポリ
ヒトＩ−トドジエーテル樹脂、フェノキシ樹脂の調装：
２種類の反応物、３．１６　ｇの上記ジェポキシアリー
ルアミン化合物と２．６ｇの上記ヒドロキシアリールア
ミン化合物を２ｃｃのジオキサンと０．０２６ｇの１−
リフェニルホスフィンを含む反応容器に入れた。反応は
加熱して１０５℃に３時間保った。

この反応時間中、ジオキサンを加えて粘度を攪拌に適す
るように維持した。殆んどゲル状の生成物をＮ−メチル
ピロリジノンとジオキサン中に溶解した。ポリマー沈澱
はＭｅＯＨで行った。収率は７８％であった。

前記反応において生成したポリマーとは異なり、移送用
部分に結合したフェノール末端基の数は実ｎ的に減少し
、［多送用部分の含有量は５７．８％から８５．１％に
増大している。このポリマーは了り−ルアミン部分のフ
ェノール基のバラ位にヒドロキシ基を含んでいるけれど
も、このポリマーはその後のメチル基プロソキング工程
なしで正孔を移送する。しかも、ジグリシジルアリール
アミン化合物とジヒドロキシアリールアミン化合物との
反応によって生成したこのポリマーは鎖間水素結合を形
成し得る。この現象はその機械的強度を大いに増強し、
さらに、水素結合ができないポリマーに対しての疎油性
を増大させる。すべてのポリマーに誘導する合成工程お
よび重合工程自体は高収率である。

任意の適当な溶媒を各反応物を溶解するのに使用できる
。典型的な溶媒にはジオキサン、テトラヒドロフラン等
がある。満足できる収率は約８０〜約１１０°Ｃの反応
温度によって達成できる。使用する反応温度は、ある程
度、使用する特定の反応物に依存する。反応温度は加熱
マントル、放射加熱ランプ、油浴等の任意の適当な方法
による。

反応時間は反応温度と使用する反応物による。

即ら、短い反応時間は高温度を用いたときである。

−ｍに、反応時間の増大は重合度を増大させる。

満足できる結果は約り０２℃°〜約１０５℃で約３日〜
約９０間の反応時間で達成される。実施目的においては
、十分な重合度は反応生成物を反応温度で攪拌できなく
なる時間によって達成される。

反応は大気圧を含む任意の適当な厚刃下で行い得る。

十分な反応が形成されたかどうかは粘度をモニターする
ことによって決定できる。本発明の典型的な高分子子り
−ルアミン化合物に、例えば、次のようなものがある： 「−−°−“−′°−゛−゛−°゛−゛−：「−−“−
”−”−°−゛゛パ−゛°−゛−°−°−”°］； 廖 ｒ　　−”−’“−： Ｊ ■ 本発明の好ましい高分子アリールアミンは約４、０００
〜約４０，０００の分子量を存するＮ、Ｎ’−ジフェニ
ルーＮ、Ｎ’−ビス〔３−ヒドロキシフェニル）−（１
，１’−ビフェニル）−４，４’−ジアミンとビス（４
−（２，３−エポキシプロビル）フェニル）−イソプロ
ピリデンとの反応により得られたポリヒドロキシエーテ
ル樹脂がパラヒドロキシ置換子り−ルアミン末端基を有
しない好ましい樹脂である。これはその後の反応を必要
としないで最良の正孔移送を与える。この樹脂はまた主
鎖中にヒドロキシ官能性を保持して良好な物性をもたら
す。最も良好なものは次の式を有する。

ｒ−”−”−”−””−−“−−一−−−−−゛−°゛
−本発明の光４電性像形成部材は電導性表面を有する基
体を用意し、この電導性表面上に電荷ブロッキング層を
適用し、このブロッキング層上に電荷励起層を適用し、
そしてこの電荷励起層上に電荷移送層を適用することに
よって作製できる。必要ならば、電荷移送層を電導性表
面に適用してもよいし、電荷励起層をその後電荷移送底
に適用してもよい。本発明の高分子子り−ルアミンは少
なくとも電荷励起層かあるいは電荷移送層中に存在する
。本発明の光導電性像形成部材を液体現像系で用いる場
合には、本発明の高分子アリールアミンは像形成部材の
少なくとも最外層中に存在することが好ましい。

基体は不透明または実質的に透明であり得、所定の機械
的性質を有する多くの適当な材料を含み得る。従って、
基体は無機または有機化合物のような電気的に非伝導性
または伝導性の層を含み得る。電気的に非伝導性の材料
としては、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリアミ
ド、ポリウレタン等を包含するこの目的において公知の
種々の材料を用い得る。電気絶縁性または電導性基体は
可撓質または硬質であり得、任意の多くの形状、例エバ
、円筒状、シーｉ・、スクロール、エンドレス可撓性ヘ
ルド等の形状を有し得る。好ましいのは、基体はエンド
レス可撓性ベルトの形であり、マイラー（Ｅ、１．デュ
ポン社より入手できる）またはメリネソクス（ＩＣ１社
より入手できる）として商業的に入手できる公知の二１
袖配向ポリエステルを含む。

基体層の厚さは経済性を含む多くの要因による、即ち、
可撓性ベルト用の層は、最終光導電性装置に悪影習を与
えない限り、例えば２００μｍ以上の実質的厚さまたは
５０μｍ以下の最小厚さを有し得る。１つの可撓性ヘル
ドの態様においては、この基体層の厚さは、小直径ロー
ル例えば１２ｍｍ直径Ｌ７−ルの周りでサイクル掻作す
るときの最適可（え性および伸縮性のために、約６５〜
約１５０μｍ好ましくは約７５〜約１２５μｍの範囲で
ある。基体表面はコーティング前にクリーニングして付
着コーティングのより大きい接着を促進させることか好
ましい。クリーニングは基体層表面をプラズマ放電、イ
オンボンバード等に露出することによって行い得る。

電導性層は光導電性部材に所望される光透過性および可
撓性によって実質的に広い範囲に亘って厚さにおいて変
化し得る。従って、可撓性の感光性像形成装置が望まれ
る場合には、電導性層の厚さは、電導性、可撓性および
光透過性の最適組合せにおいて、約２０〜約７５０オン
グストローム単位好ましくは約５０〜約２００オングス
トローム単位であり得る。電導性層は、例えば、基体上
に真空蒸着法のような任意の適当なコーティング技術に
よって形成された電導性金属層であり得る典型的な金属
にはアルミニウム、ジルコニウム、ニオブ、タンタル、
バナジウムとハフニウム、チタン、ニッケル、ステレス
スチーム、クロム、タングステン、モリブテン等がある
。必要ならば、適当な金属の合金も付着させ得る。典型
的な金属合金はジルコニウム、ニオブ、タンタル、バナ
ジウムおよびハフニウム、チタン、ニッケル、ステンレ
ススチール、クロム、タングステン、モリブデン等およ
びこれらの混合物のような２種以上の金属を含み得る。

金属層を形成するのに用いる方法に関係なく、金属酸化
物の７Ｎ層が、空気にさらしたとき、殆んどの金属の外
表面上で生成する。

即ら、金属層を覆う他の層が“連続”層として特徴付さ
れる場合には、これらの上部連′４？を層は、実際には
、酸化性金属層の外表面上に生成している金属酸化物薄
層と接触しているものとする。一般に、後の消去露光の
ためには、少なくとも約１５％の電導層光透過性が望ま
しい。電導性層は金属に限定されない。電導性層の他の
例には約４０００〜約７０００オングストロームの波長
を有する光用の透明層としての電導性インジウム錫酸化
物の組合せまたは不透明電導性層としてのプラスチック
バインダー中に分散させた電導性カーボンブラックがあ
る。

金属層の付着後、正孔ブロッキング層を該金属層に適用
できる。一般には、正帯電型感光体用の電子ブロッキン
グ層は正孔を感光体の像形成表面から電導性層に向って
移行させる。隣接の光導電性層と電導性下層間で正孔に
対する電子バリヤー層を形成し得る任意の適当なブロッ
キング層を使用できる。ブロッキング層は有機または無
機であってもよく任意の適当な方法により付着させ得る
。

例えば、ブロッキング層が溶媒に可溶であるならば、溶
液として適用でき、溶媒はその後乾燥によるような任意
の通常の方法で除去できる。典型的なブロッキング層に
はオルガノ金属塩を含むポリビニルブチラール、オルガ
ノシラン、エポキシ樹脂、ポリエステル、ポリアミド、
ポリウレタン、ピロキシリン塩化ビニリデン樹脂等があ
る。他のブロッキング層材料には、米国特許第４，３３
８，３８７号、第４，２８６，０３３号および第４，２
９１．１１０号に記載されているようなトリメトキシシ
リルプロピレンジアミン、加水分解トリメトキシシリル
プロピルエチレンジアミン、Ｎ−ベーター（アミノエチ
ル）ガンマー−アミノ−プロピルトリメトキシシラン、
イソプロピル４−アミノベンゼンスルホニル、ジ（ドデ
シルベンゼンスルホニル）チタネート、イソプロビルジ
（４−アミノベンゾイル）インステアロイルチタネ−１
−、イソプロピルトリ　（Ｎ、Ｎ−ジメヂルーエチルア
ミノ）チタネート、チタニウム−４−アミノヘンゼンス
ルホ不−１−オキシアセテート、チタニウム４−アミノ
ヘンシェードイソステアレートオキシアセテート、Ｃ１
１ｚＮ　（ＣＩ＋２）　４　）　ＣＩｌ＋Ｓｉ　（ＯＣ
１１３）　２、（ガンマ−アミノブチル）メチルジェト
キシシラン、および〔１１□Ｎ（Ｃ１ｌ□＞ｓ　〕Ｃ１
ｌ：＋Ｓｉ　（ＯＣｔ（ｉ）　ｚ、（ガンマ−アミノプ
ロピル）メチルジェトキシシランのような窒素含有シラ
ン類または窒素含有チタン化合物がある。

米国特許第４，３３８，３８７号、第、ｌ、２８６，０
３３号および第４，２９１，１１０号の記載はすべて本
明細書に引用する。好ましいブロッキング層は加水分解
シランと金属基平面層の酸化表面間の反応生成物を含む
。酸化表面は殆んどの金属基平面の外表面上に付着後の
空気への露出により固有的に生成するものである。この
組合せは低Ｒ１１での電気的安全性を向上させる。加水
分解シランは次式またはその混合物を有する： （式中、Ｒ３は１〜２０個の炭素原子を有するアルキリ
デン基であり、Ｒ２、Ｒ３およびＲ７は、個々に、１１
．１〜３個の炭素原子を有する低級アルキル基およびフ
ェニル基からなる群より選ばれ、Ｘは酸または酸塩のア
ニオンであり、ｎは１．２．３または４であり、ｙは１
．２．３または４である） 保形成部材は、好ましくは、金属電導性アノード層の金
属酸化物層上にｐＨ約４〜約１０の加水分解アミノシラ
ンの水溶液のコーティングを付着させ、反応生成物層を
乾燥させてシロキサンフィルムを形成し、本発明の接着
層を適用し、その後光励起層および正孔移送層のような
電気作動層を上記シロキサンフィルムに適用することに
よって作製する。

ブロッキング層は連続でかつ約０．５μｍ以下の厚さを
有すべきである。それより厚い層は望ましくない高残留
電圧をもたらし得るからである。約０．００５．ｃ＋ｍ
〜約０．３　μｍ　（５０〜３０００オングストローム
）のブロッキング層が露光段階後の電荷中和を容易にし
最適電気性能が得られるので好ましい。金属酸化物層に
おいては、約０．０３〜約０．０６μｍの厚さが最適の
電気的挙動のために好ましい。最適の結果はシロキサン
ブロッキング層によって得られる。ブロッキング層はス
プレー法、デイツプコーティング法、引き延ばし棒コー
ティング法、グラビアコーティング法、シルクスクリー
ニング法、エアーナイフコーティング法、リバースロー
ルコーティング法、真空薄着、化学処理法等の任意の適
当な通常の方法によって適用できる。この層を得るのに
好都合なのは、ブロッキング層を好ましくは稀溶液の形
で適用し、溶媒をコーテイング付着後真空、加熱等の通
常の方法により除去することである。一般には、約０．
０５：１００〜約０．５：１００のブロッキング層物質
と溶媒の重量比がスプレーコーティングを満足させる。

このシロキサンコーティングはり、Ａ。

Ｔｅｕｓｃｈｅｒの米国特許第４，４６４，４５０号に
記載されており、該米国特許の記載はすべて本明細書に
引用する。

必要に応じて、任意の適当な接着層を上記正孔ブロッキ
ング層に適用できる。典型的な接着層には、ハイチル（
ＶｉＬｅｌ）ＰＥ　　１００、バイチルＰＥ−２００、
ハイチル１’Ｅ−２００ＤおよびハイチルＰＨ−２２２
（いずれもグツドイヤータイヤアンドラバー社より人手
できる）のようなポリエステル樹脂；ポリビニルブチラ
ール；およびデュポン４９．０００ポリエステル等があ
る。接着層を用いるときには、接着層は連続であるべき
でかつ好ましくは約２００〜約９００μｍ、より好まし
くは約４００〜約７００μｍの乾燥厚を有する。任意の
適当な溶媒または溶媒混合物を用いて接着層物質のコー
ティング溶液を調製できる。典型的な溶媒にはテ１−ラ
ヒドロフラン、トルエン、塩化メチレン、シクロヘキサ
ン、およびこれらの混合物等がある。一般には、グラビ
アコーティング法により約９００オングストロームまた
はそれ以下の連続接着層厚を達成するためには、固形分
濃度は樹脂と溶媒とのコーティング混合物の総重量基準
で約２〜約５重世％である。しかしながら、任意の他の
適当な通常の方法を用いて接着層コーティング混合物を
混合Ｌ２その後電荷ブロッキング層に適用できる。典型
的な適用方法にはスプレー法、デイツプコーチインク法
、ロールコーチインク法およびワイヤー巻き棒コーティ
ング法等がある。付着コーティングの乾燥はオーブン乾
燥法、赤外線照射乾燥法、風乾法等の任意の適当な通常
の方法により行い得る。

任意の適当な光励起層をブロッキング層または中間層（
使用した場合の）に適用でき、次いでこの光励起層を前
述したような連続正孔移送層でオーバーコーテイングす
ることができる。光励起層の例には、無定形セレン、三
方晶セレン、およびセレン−テルル、セレン−テルル−
ひ素、セレン−ひ素およびこれらの混合物からなる群よ
り選ばれたセレン合金のような無機光４電性粒子；およ
び米国特許筒３，３５７，９８９号に記載されているＸ
形の無金属フタロシアニン、バナジルフタロシアニンお
よび銅フタロシアニンのような金属フタロシアニンのよ
うな各種フタロシアニン顔料、デュポン社より商品名モ
ナストラル（Ｍｏｎａｓｔｒａｌ）レッド、モナストラ
ルバイオレットおよびモナストラルレ、ドＹとして人手
できるキナクリドン類、ジブロモアントアンスロン顔料
の商品名であるバットオレンジｌおよびバットオレンジ
３、ベンズイミダゾールペリレン、米国特許筒３，４４
２，７８１号に記載置換２，４−ジアミノ−トリアジン
類、アライドケミカル社より商品名インドファーストダ
ブルスカーレット、インドファーストバイオレットレー
キＢおよびインドファーストオレンジとして入手できる
多核芳香族キノン類等を包含する有機光導電性粒子であ
ってフィルム形成性高分子バインダー中に分散させたも
のがある。セレン、セレン合金、ヘンズイミダゾールお
よびこれらのン昆合物は連続の均質光励起層として形成
できる。ベンズイミダゾールペリレン化合物は周知であ
り、例えば米国特許筒４，５８７，１８９号に記載され
ており、その記載はすべて参考として本明細書に参考と
して引用する。複数光励起層物質は光導電性層が光励起
層の性質を向上または低減させる場合に使用できる。こ
のタイプの形状の例は米国特許筒４，４１５，６３９号
に記載されており、該米国特許の記載はすべて参考とし
て本明細書に引用する。

当該技術で公知の他の適当な光励起物質ももし必要なら
ば使用できる。バナジルフタロシアニン、無金属フタロ
シアニン、ベンズイミダゾールペリレン、無定形セレン
、三方晶セレン、およびセレン−テルル、セレン−テル
ル−ひ素およびセレン−ひ素のようなセレン合金等、並
びにこれらの混合物のような光導電性物質を含む粒子ま
たは層を含む電荷励起バインダー層がその白色光に対す
る感度故に特に好ましい。バナジルフタロシアニン、無
金属フタロシアニンおよびテルル合金はまたこれら物質
が赤外線に対して感応性である追加の利点を与えること
からも好ましい。

例えば、米国特許筒３，１２１．００６号に記載されて
いるものを包含する多くの不活性樹脂物質を光励起バイ
ンダー層で使用できる（該米国特許の記載はすべて参考
として本明細書に引用する）。

典型的な有機樹脂バインダーにはポリカーボネート、ポ
リエステル、ポリアミド、ポリウレタン、ポリスチレン
、ポリアリールエーテル、ポリアリ−ルスルホン、ポリ
ブタジェン、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポ
リエチレン、ポリプロピレン、ポリイミド、ポリメチル
ペンテン、ポリフェニルスルファイド、ポリ酢酸ビニル
、ホリシロニトサン、ポリアクリレート、ポリビニルア
セタール、アミン樹脂、フェニレンオキサイド樹脂、テ
レフタル酸樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリ
スチレン−アクリロニトリルコポリマー、ポリ塩化ビニ
ル、塩化ビニル−酢酸ビニルコポリマー、アクリレート
コポリマー、アルキッド樹脂、セルロース系フィルム形
成剤、ポリ　（アミド−イミド）、スチレン−ブタジェ
ンコポリマー、塩化ビニリデン−塩化ビニルコポリマー
、酢酸ビニル−塩化ビニリデンコポリマー、スチレンア
ルキッド樹脂等の熱可塑性および熱硬化性樹脂がある。

これらのポリマーはブロック、ランダムまたは交互コポ
リマーであり得る。

活性キャリヤー移送樹脂も光励起層中のバインダーとし
て使用できる。これらの樹脂はキャリヤー励起顔料粒子
の濃度が低くキャリヤー励起層の厚さが約０．７μｒｎ
より実質的に大きい場合に特に有用である。バインダー
として普通使用される活性樹脂はポリビニルカルバゾー
ルであり、その機能は励起層内に捕捉されたキャリヤー
を移送することである。

本発明の電気的に活性な高分子アミンは励起層中で上記
のポリビニルカルバゾールバインダーまたは他の任意の
活性または不活性バインダーと置き替えて使用できる。

励起層中で用いる活性樹脂の１部またはすべてを本発明
の電気活性高分子アリールアミンで置き替えることがで
きる。

゛光励起化合物理ち顔料は樹脂バインダー中に種々の量
で存在するが、一般には、約５〜約９０容量％の光励起
顔料を約２０〜約３０容量％の樹脂バインダー中に分散
させ、より好ましいのは約２０〜約３０容量％の光励起
顔料を約７０〜約８０容量％の樹脂バインダー中に分散
させる。１つの実施態様においては、約８容量％の光励
起顔料を約９２容量％の樹脂バインダー中に分散させる
。

光励起層が樹脂バインダーを含まない実施態様において
は、光励起層は任意の適当な良く知られた均質光励起物
質を含み得る。典型的な均質光励起物質には無定形セレ
ン、セレン−テルル、セレン−テルル−ひ素およびセレ
ン−ひ素のようなセレン合金のような無機光導電性化合
物；およびクロリンジウムフタロシアニン、クロルアル
ミニウムフタロシアニン、バナジルフタロシアニン等の
有機顔料がある。

光寡電性化合物および／または顔料と樹脂バインダー物
質とを含む光励起層は約０．１〜約５．０μｒｎの厚さ
範囲にあり、好ましくは約０．３〜約３μｍの厚さを有
する。光励起層厚はバインダー含有量に相関する。高バ
インダー含有組成物は一般に光励起用に厚目の層を必要
とする。上記範囲外の厚さも本発明の目的が達成される
限りにおいて使用できる。

活性電荷移送層は電荷励起層からの光励起正孔の注入を
支持しかつこれら正孔の移送層を通しての移送を可能に
して表面電荷を選択的に放電できる本発明高分子アリー
ルアミンを含む。光励起層が電導性層と活性電荷移送層
にはさまれているときには、移送層は正孔を移送するよ
うに作用するばかりでなく光導電性層を摩耗または化学
侵食から保護し従って電子写真像形成部材の操作寿命を
延長する。電荷移送層はゼログラフィーで使用できる波
長例えば４０００〜９０００オングストロームの波長に
露光させたときがあったとしても無視し得る放電を示さ
なければならない。従って、電荷移送層は感光体を使用
すべき領域の照射に対して実質的に透明である。即ち、
活性電荷移送層は励起層からの光励起正孔の注入を支持
する実質的に非光導電性の物質である。活性移送層は露
光をこの活性層を通して行ったとき通常透明であり照射
光の殆んどが効率的な光励起を行うために下層の電荷キ
ャリヤー励起体層によって利用されるのを確実にする。

透明基体と共に使用する場合には、像形成露光は基体を
通して行いすべての光が基体を通る。この場合、活性移
送物質は使用波長領域で透過性である必要はない。本発
明の励起層を組合せた電荷移送層は移送層上の静電荷が
照射光の不存在下では仏界しない程度に絶縁体の材料で
ある。

移送層中で使用する不活性バインダー中の正孔移送用小
分子を含む移送材料の１部またはすべてを高分子アリー
ルアミンフィルム形成性物質を含む前記本発明の活性物
質によって置き換えてもよい。高分子アリールアミン化
合物中の置換基はいずれもＮＯ２基、ＣＮ基等の電子吸
引基（ｅｌｅｃｔｒｏｎ　ｗｉｔｈｄｒａｗｉｎｇ　Ｂ
ｒｏｕρ）を含むべきでない。正孔移送小分子−不活性
バインダー組成物は１００％の本発明の高分子アリール
アミン化合物で完全に置き換えることができる。

任意の適当な溶媒を用いて移送層物質を下地層に適用で
きる。典型的な溶媒には塩化メチレン、トルエン、テト
ラヒドロフラン等がある。塩化メチレンがすべての成分
を適切に溶解しまたその低沸点故に電荷移送層コーティ
ング混合物の特に望ましい成分がある。

本発明の多層感光体の２つの電気作動層の１つに用いる
特に好ましい移送層は約５０〜約１００ｍ星％のポリ　
〔３，３−ビス−（ヒドロキシエチル）テトラフェニル
ヘンジジン〕カーボネートおよび約０〜約５０重量％の
ビスフェノール−Ａ−ポリカーボネートとを含む。

任意の適当な通常の方法を用いて電荷移送層コーティン
グ混合物を混合しその後下地層例えば電荷励起層に適用
することができる。典型的な適用方法にはスプレー法、
デイツプコーティング法、ロールコーティング法、ワイ
ヤー巻き捧コーティング法等がある。付着したコーティ
ングの乾燥はオーブン乾燥法、赤外線照射乾燥法、風乾
法等の任意の適当な通常の方法によって行い得る。

一般に、正孔移送層の厚さは約５〜約１００μｍである
が、この範囲以外の厚さも使用できる。

正孔移送層は正孔移送層上の静電荷が照射の存在下で静
電潜像の形成および滞留を妨げる程の十分な速度で伝導
しない程度に絶縁性であるべきである。一般には、正孔
移送層対電荷励起層の厚さの比は好ましくは２：１〜２
００　：　１に維持し、ある場合には４００：１程大き
く維持する。

例えば、フィルム形成性バインダー中に分散させた伝導
性粒子を含む通常の基ストリップのような他の層も電導
性表面、ブロッキング層、接着層または電荷励起層と接
触させて感光体の一端に適用し得る。

必要ならば、オーバーコート層も適用して耐摩耗性を改
良し得る。ある場合には、裏打ちコーティングを感光体
の反対面に適用して平坦さおよび／または耐摩耗性を付
与し得る。これらのオーバーコーテイング層および裏打
ちコーティング層は電気絶縁性またはわずかに半型導性
である有機ポリマーまたは無機ポリマーを含み得る。

少なくとも励起層または移送層中に電気活性高分子アリ
ールアミンを含む本発明の電子写真部材は活性化用電磁
線照射に像形成的に露光する前に帯電させることを用い
る任意の適当な通常の電子写真像形成法において使用し
得る。通常の正または逆現像法を用いてマーキング材料
像を本発明の電子写真像形成部材の像形成表面上に形成
できる。

即ち、適当な電気バイアスを適用し適当な極性の電荷を
有するトナーを使用することによって、トナー像を本発
明の電子写真部材の像形成表面上の負帯電領域または放
電領域中に形成できる。さらに詳細には、正現像法にお
いては、１つの極性の帯電トナー粒子を像形成表面の反
対荷電静電領域に付着させ、逆現像法においては、帯電
トナー粒子を像形成表面の放電領域に付着させる。本発
明の移送層が光励起層と電導性表面との間にはさまれて
いる場合には、正極性電荷が活性化用電磁線照射への像
形成的露光前に通常適用される。本発明の光励起層が移
送層と電導性表面の間にはさまれているときには、負極
性電荷が活性化用電磁線照射への像形成的露光前に通常
適用される。

本発明の電子写真部材はサイクル操作中のクラッキング
、クレージング、了り−ルアミン化合物の結晶化、アリ
ールアミン化合物の相分離およびアリールアミン化合物
の浸出に対する大きな抵抗性を有する。

と− 〔実施例〕 以下、本発明を特定の好ましい実施態様に沿って詳細に
説明するが、これらの実施例はｊ′Ａに例示を目的とす
るものであり本発明をこれら実施例で記載する材料、条
件、プロセスパラメーター等に限定するものでないこと
を理解されたい。すべての部およびパーセントは他に断
らない限り重量による。

実施例Ｉ Ｎ、Ｎ’−ジ（４−ヒドロキシフェニル）−Ｎ。

Ｎ′−ジフェニル−（１，１’−ビフェニルツー４．４
’−ジアミンとビス（４−２，３−エポキシプロピル）
フェニル）−イソプロピリデンに基づくポリヒドロキシ
エーテル樹脂、フェノキシ樹脂の調製二 反応容器に、５．２ｇ（０，０１モル）の上記ジヒドロ
キシアリールアミン化合物と３．’４　ｇ　　（０，０
１モル）の上記ジグリシジルジフェニレン化合物、５ｃ
ｃのｐ−ジオキサンおよび０．５２　ｇ　（１０−”モ
ル／エポキサイド当量）のトリフェニルホスフィン（Ｃ
ｚＨｓｈＰとを加えた。反応混合物を加熱し、１０２±
１℃に９日間保った。室温に冷却したときガラスに固化
する極めて粘稠な塊状物を最少量のＴＨＦに溶解し、ウ
ォーリングブレンダー中の５００ｃｃのＭｅＯＨにゆっ
くり加えることによって単離した。収率８５．６％、Ｍ
ｗ１５．３６８、Ｍｎ７．４３３゜ 無定形セレンの真空蒸着０．５μｍ層を有するアルミニ
ウムプレートを得られたポリヒドロキシエーテル樹Ｊ指
のテトラヒドロフラン？容液（２０重債％溶液）を５０
μｍ引き延し棒を用いてコーティングした。〜１２μｍ
の乾燥厚を有するフィルムを１２時間の真空乾燥後に得
た。このサンプルのフラットプレート電気走査試験は９
００■の■。

（電荷アクセプタンス）と〜８００■のＶＲ（残留電位
を示した。アイソバールし、即ち、イソパラフィン系炭
化水素への１週間の暴露は小分子浸出およびフィルムク
ラッキングを示さなかった。

実施例２ 上記フェノキシ樹脂のアルキル化を４ｇのポリマーを溶
解させたＮ−メチルピロリジノン（アルドリソヒケミカ
ル社）１０ｍｌ中で行った。この溶液に１ｇの粉末ＫＯ
Ｈを加えた。得られた黄色）容？夜に、Ｃ１１１１，２
ｍｌｌを力■え、５１ＩｌｌのＮ−メチルピロリジノン
で稀釈した。これを２時間攪拌せしめた。反応を５０ｃ
ｃのＭｅＯＨ中で冷却した。

白色ρｐｔを濾過して集成した。赤外スペクトルはすべ
てのＯＨがブロックされていることを示した。

無定形セレンの真空蒸着０．５μｍ層を有するアルミニ
ウムプレートを得られたポリエトキシエーテル樹脂のテ
トラヒドロフラン溶液（２０重量％溶液）を５０μｍ引
き延し棒を用いてコーティングした。〜Ｉ２μｍの乾燥
厚を有するフィルムを１２時間の真空乾燥後に得た。こ
のサンプルのフラットプレート電気走査試験は９２０■
のＶｏ（電荷アクセプタンス）と〜ＯＶのＶＲ（残留電
位を示した。アイソバールし、即ち、イソパラフィン系
炭化水素への１週間の暴露は小分子浸出およびフィルム
クランキングを示さなかった。

実施例３ Ｎ、Ｎ’−ジフェニル−Ｎ、Ｎ’−ビス（３−ヒドロキ
シフェニル）−（１，１’−ビフェニル）−４，４’−
ジアミンとビス（４−（２゜３−エポキシプロピル）フ
ェニル−イソプロピリデンに基づくポリヒドロキシエー
テル樹脂、フェノキシ樹脂の調製： アルゴンブランケット、機械的撹拌器、サーモスタット
付油浴を備えた三つ口２５０丸底フラスコ（掃気した）
に、上記ジェポキシフェニレン化合物ＤＥＲ３３２、お
よび上記ジヒドロキシアリールアミン化合物を加えた。

油浴を１１０℃に上昇させた。反応混合物に５ｍｌのジ
オキサンと０．１ｇのトリフェニルホスフィン、（Ｃｚ
Ｈｓ）３Ｐを加えた。反応混合物は黄色であった。反応
を４８時間続行した。この反応時間中、ジオキサンを、
１　ｍａｌづつ、攪拌を維持する必要に応じて加えた。

反応は５０ｍ１のＴＨＦを冷却反応フラスコに加えるこ
とによって終了させた。溶液をウォーリングブレンダー
中の約７００ｍ１０ＭｅＯＨ中に加えた。灰白色固形物
を単離した。Ｍｗ２１，７００、Ｍｎ６．７３３゜ 無定形セレンの真空蒸着０．５μｍ層を有するアルミニ
ウムプレートを得られたポリヒドロキシエーテル格ＩＩ
指のテ１−ラヒドロフランン容ンｅＬ（２０重量％溶液
）を５０μｍ引き延し棒を用いてコーティングした。〜
１２μｍの乾燥厚を有するフィルムを１２時間の真空乾
燥後に得た。このサンプルのフラットプレート電気走査
試験は９９０ＶのＶ。

（電荷アクセプタンス）と〜ＯＶの■、（残留電位を示
した。アイソバールし、即ち、イソパラフィン系炭化水
素への１週間の暴露は小分子浸出およびフィルムクラッ
キングを示さなかった。

実施例４ Ｎ、Ｎ’−ジフェニル−Ｎ、Ｎ’−ビス（４−ヒドロキ
シフェニル）−（１，１’−ビフェニル）−４，４’−
ジアミンとＮ、Ｎ’−ジフェニル−Ｎ、Ｎ’−ビス（４
−（２’、３−エポキシプロビル）フェニル）−Ｃ１，
１’−ビフェニル）−４，４’−ジアミンに基づくポリ
ヒドロキシエーテル樹脂、フェノキシ樹脂の調製：２種
類の反応物、３．１６　ｇの上記ジェポキシアリールア
ミン化合物と２．６ｇの上記ジヒドロキシアリールアミ
ン化合物を２ｃｃのジ第４−サンと０、０２６　ｇのト
リフェニルホスフィンを含む反応容器中に加えた。反応
を加熱して１０５℃に３日間保った。この反応期間中、
ジオキサンを加えてＰＡ拌に適する粘度を維持した。得
られた殆んどゲル状の生成物をＮ−メチルピロリジノン
とジオキサン中に溶解した。ポリマー沈澱は腕○Ｈで行
った。得られた収率は７８％であった。Ｍｗ５．７００
、Ｍｎ３．２３０゜ 無定形セレンの真空蒸着０．５μｍ層を有するアルミニ
ウムプレートを得られたポリヒドロキシエーテル樹脂の
テトラヒドロフラン溶液（５０１５０重量％溶液）を５
０μｍ引き延し棒を用いてコーティングした。〜１２μ
ｍの乾燥厚を有するフィルムを１２時間の真空乾燥後に
得た。このサンプルのフラットプレート電気走査試験は
９８０■のＶ。

（電荷アクセプタンス）と〜１０■のＶＲ（残留電位を
示した。アイソバールし、即ち、イソパラフィン系炭化
水素への１週間の暴露は小分子浸出およびフィルムクラ
ッキングを示さなかった。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 式： ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒは−Ｈ、−ＣＨ＿３および−Ｃ＿２Ｈ＿５か
   らなる群より選ばれ； ｍは約４〜約１，０００であり； Ａは式： ▲数式、化学式、表等があります▼ で示されるアリールアミン基 （式中、ｍは０または１であり、Ｚは ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
   表等があります▼、 ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
   表等があります▼、 および−Ａｒ−（Ｘ）＿η−Ａｒ− からなる群より選ばれ、ｎは０または１であり、Ａｒは ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
   表等があります▼および▲数式、化学式、表等がありま
   す▼、 からなる群より選ばれ、Ｒは−ＣＨ＿３、−Ｃ＿２Ｈ＿
   ５、−Ｃ＿３Ｈ＿７および−Ｃ＿４Ｈ＿９からなる群よ
   り選ばれ、Ａｒ′は ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
   表等があります▼および▲数式、化学式、表等がありま
   す▼ からなる群より選ばれ、Ｘは −ＣＨ＿２−、−Ｃ（ＣＨ＿３）＿２−、−Ｏ−、−Ｓ
   −、▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学
   式、表等があります▼、▲数式、化学式、表等がありま
   す▼および ▲数式、化学式、表等があります▼ からなる群より選ばれる） からなる群より選ばれ、 ＢはＡで定義したようなアリールアミン基、および ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ａｒは前述したとおりであり、Ｖは−ＣＨ＿２
   −、−Ｃ（ＣＨ＿３）＿２−、−Ｏ−、−Ｓ−、▲数式
   、化学式、表等があります▼▲数式、化学式、表等があ
   ります▼、 からなる群より選ばれる） からなる群より選ばれ；そして 少なくともＡまたはＢがアリールアミン基を含有してい
   る〕 で示されるアリールアミン化合物。