JP4767523B2 - 電子写真感光体、それを用いた画像形成方法、画像形成装置及び画像形成装置用プロセスカートリッジ - Google Patents
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Description
一方、最近画像形成装置の小型化から感光体の小径化が進み、機械の高速化やメンテナンスフリーの動きも加わり感光体の高耐久化が切望されるようになってきた。この観点からみると、有機感光体は、表面層が低分子電荷輸送材料と不活性高分子を主成分としているため一般に柔らかく、電子写真プロセスにおいて繰り返し使用された場合、現像システムやクリーニングシステムによる機械的な負荷により摩耗が発生しやすいという欠点を有している。加えて高画質化の要求からトナー粒子の小粒径化に伴いクリーニング性を上げる目的でクリーニングブレードのゴム硬度の上昇と当接圧力の上昇が余儀なくされ、このことも感光体の摩耗を促進する要因となっている。このような感光体の摩耗は、感度の劣化、帯電性の低下などの電気的特性を劣化させ、画像濃度低下、地肌汚れ等の異常画像の原因となる。また摩耗が局所的に発生した傷は、クリーニング不良によるスジ状汚れ画像をもたらす。現状では感光体の寿命はこの摩耗や傷が律速となり、交換に至っている。
したがって、有機感光体の高耐久化においては前述の摩耗量を低減することが不可欠であり、これが当分野でもっとも解決が迫られている課題である。
さらに、この感光体は、具体的には高分子バインダーを含有した状態でモノマーを反応させるため、硬化が充分に進行しないことや、硬化物とバインダー樹脂との相溶性の問題があり、硬化時に相分離による表面凹凸が生じクリーニング不良を引き起こす傾向が見られた。
また、同一分子内に二つ以上の連鎖重合性官能基を有する正孔輸送性化合物を硬化した化合物を含有する感光層も知られている(例えば、特許文献6参照。)。
しかし、この感光層は嵩高い正孔輸送性化合物が二つ以上の連鎖重合性官能基を有するため硬化物中に歪みが発生し内部応力が高くなり、表面層の荒れや経時におけるクラックが発生しやすい場合があり、十分な耐久性を有していない。
感光体表面の表面エネルギーや摩擦係数を低減させるためには、感光体の表面層に各種滑剤を添加する方法が知られている。表面層にフッ素変性シリコーンオイル等の滑剤を含有させる方法が開示されている(例えば、特許文献7、8、9参照。)。この方法は、感光体の表面エネルギーを低減させることにより、クリーニング性や異物除去に対して効果が認められる方法ではあるが、これらのフッ素変性シリコーンオイルは保護層の形成過程で表面近傍に移行するため、繰り返し使用による表面層の極微量な摩耗によって早期にその効果が失われてしまう。従って、高耐久化に対しては十分な効果が得られていないのが実情であった。
更に、表面層にバインダー樹脂との相溶性を持つアクリル変性ポリオルガノシロキサンを含有させる方法(特許文献19参照)が提案され、表面エネルギー低減、クリーニング性、画像ボケ抑制等効果を表した。しかしながら、アクリル架橋系の感光層に従来のアクリル変性ポリオルガノシロキサンを添加した場合、架橋反応そのものが阻害され耐摩耗性の高い感光層が得られないことが分かった。数十%のアクリル変性ポリオルガノシロキサンを添加した場合では架橋反応を長く続けても表面粘着性が消えない。原因は定かでないが、ラジカル連鎖反応がアクリル変性オルガノシロキサンによって抑制されてしまうためと考えられる。
以上のようなことから、これら従来技術における滑剤を含有させた架橋感光層を有する感光体においても、現状では充分な総合特性を有しているとは言えない。
すなわち、以下の構成要件を満足することにより、クリーニング性に優れ、低表面エネルギーの持続性が著しく、耐摩耗性が高く安定であり、且つ電気的特性が良好であり、特に重合トナー(或いは球形トナー)に好適であり、長期間にわたり高画質化を実現した電子写真感光体を提供することができ、また、それらの長寿命、高性能感光体を使用した画像形成方法、画像形成装置及び画像形成装置用プロセスカートリッジを提供することができる。
(2)「導電性支持体上に少なくとも感光層を有する電子写真感光体において、該感光層の表面層が、主としてアミン構造を有するアクリル変性ポリオルガノシロキサンをラジカル重合性モノマー中に分散させ、硬化させた架橋樹脂層であり、前記ラジカル重合性モノマーの全部又は一部に、電荷輸送性構造を有しない3官能以上のモノマーを含むことを特徴とする電子写真感光体」;
(3)「導電性支持体上に少なくとも感光層を有する電子写真感光体において、該感光層の表面層が、主としてアミン構造を有するアクリル変性ポリオルガノシロキサンと、ラジカル反応性を有するアクリル変性ポリオルガノシロキサンとを、ラジカル重合性モノマー中に分散させ、硬化させた架橋樹脂層であり、前記ラジカル重合性モノマーの全部又は一部に、電荷輸送性構造を有しない3官能以上のモノマーを含むことを特徴とする電子写真感光体」;
(4)「前記ラジカル反応性を有するアクリル変性ポリオルガノシロキサンが、シリコーン主鎖にアクリル単量体をグラフト化させた化合物であることを特徴とする前記第(3)項に記載の電子写真感光体」;
(5)「前記アミン構造を有するアクリル変性ポリオルガノシロキサンが、シリコーン主鎖にアクリル単量体をグラフト化させた化合物であることを特徴とする前記第(2)項又は第(3)項に記載の電子写真感光体」;
(6)「前記アミン構造が二級アミン、三級アミンから選ばれる少なくとも1種であることを特徴とする前記第(2)項乃至第(5)項のいずれかに記載の電子写真感光体」;
(7)「前記アミン構造が、下記構造式で表わされるヘキサヒドロフタルイミド構造を有するモノマー、又は下記構造式で表わされるN−(1,1−ジメチル−3−オキソブチル)アクリルアミド、(メタ)アクリルアミド、N,N−ジメチルアクリルアミドのアミド構造を有するモノマー、或いは下記構造式で表わされるN,N−ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレートのアミン構造を有するモノマー
(8)「前記電荷輸送性構造を有しない3官能以上のラジカル重合性モノマーにおける官能基数に対する分子量の割合(分子量/官能基数)が、250以下であることを特徴とする前記第(1)項乃至前記第(7)項のいずれかに記載の電子写真感光体」;
(9)「前記ラジカル重合性モノマーのラジカル重合性基が、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、ビニル基の何れか又は混合であることを特徴とする前記第(1)項乃至第(8)項の何れかに記載の電子写真感光体」;
(10)「前記ラジカル重合性モノマーに更に電荷輸送性構造を有するラジカル重合性モノマーが使用されることを特徴とする前記第(1)項乃至第(9)項の何れかに記載の電子写真感光体」;
(11)「前記電荷輸送性構造を有するラジカル重合性モノマーが、1官能であることを特徴とする前記第(10)項に記載の電子写真感光体」;
(12)「前記電荷輸送性構造を有するラジカル重合性モノマーのラジカル重合性基が、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、ビニル基の何れか又は混合であることを特徴とする前記第(10)項又は第(11)項に記載の電子写真感光体」;
(13)「前記電荷輸送性構造を有するラジカル重合性モノマーの電荷輸送構造が、トリアリールアミン構造であることを特徴とする前記第(10)項乃至第(12)項の何れかに記載の電子写真感光体」;
(14)「前記電荷輸送性構造を有するラジカル重合性モノマーが、下記一般式(1)又は(2)で表わされるモノマーの一種以上であることを特徴とする前記第(10)項乃至第(13)項の何れかに記載の電子写真感光体
(15)「前記電荷輸送性構造を有するラジカル重合性モノマーが、下記一般式(3)で表わされるモノマーの一種以上であることを特徴とする前記第(14)項に記載の電子写真感光体
(16)「前記アクリル変性ポリオルガノシロキサン化合物が、粒状に分散されていることを特徴とする前記第(1)項乃至第(15)項の何れかに記載の電子写真感光体」;
(17)「前記表面層の硬化手段が、加熱又は光エネルギー照射手段であることを特徴とする前記第(1)項乃至第(16)項の何れかに記載の電子写真感光体」;
(18)「前記感光層が、支持体側から電荷発生層、電荷輸送層、表面層の積層構成であることを特徴とする前記第(1)項乃至第(17)項の何れかに記載の電子写真感光体」により達成される。
また、上記課題は、本発明の(19)「前記第(1)項乃至第(18)項の何れかに記載の電子写真感光体を用いて、少なくとも帯電、画像露光、現像、転写を繰り返し行なうことを特徴とする画像形成方法」により達成される。
また、上記課題は、本発明の(20)「前記第(1)項乃至第(18)項の何れかに記載の電子写真感光体を有することを特徴とする画像形成装置」;
(21)「前記第(1)項乃至第(18)項の何れかに記載の電子写真感光体と、帯電手段、現像手段、転写手段、クリーニング手段および除電手段よりなる群から選ばれた少なくとも一つの手段を有するものであって、画像形成装置本体に着脱可能としたことを特徴とする画像形成装置用プロセスカートリッジ」により達成される。
上記第(2)、(3)項の電子写真感光体に関しては、従来技術に記載したようにアクリル変性ポリオルガノシロキサンを滑剤として感光体の表面層に添加する際、バインダー樹脂との相溶性を持つため、表面層に均一分散され、持続的な低エネルギーを提供できたが、架橋反応を促進する構造を有しないので、表面層の強度を下げられ、摩耗しやすくなった。そこで上記第(2)、(3)項の電子写真感光体により、本発明のアミン構造、或いはさらにラジカル反応性を有するアクリル変性ポリオルガノシロキサンを添加する場合に、ラジカルを消費する酸素を還元する作用が働くので、架橋速度を上げられ、バインダー樹脂との相分離が発生する前に、アクリル変性ポリオルガノシロキサンが一次粒子のサイズで均一分散している強固的な架橋膜が形成できる。得られた表面層は持続的な低表面エネルギーを有すると同時に耐摩耗性が落ちない。つまり、低エネルギーと耐摩耗性が両立する感光体は実現できる。
上記第(4)、(5)項の電子写真感光体により、本発明のアクリル変性ポリオルガノシロキサンは、そのシロキサン構造部で滑り性や低表面エネルギー化を発揮すると共に、そのグラフトされたアクリル重合体部でバインダー樹脂との相溶性を持つので、感光体の電子写真特性への副作用が少なく、膜中に十分な量を含有させることが出来る。このようなアクリル変性ポリオルガノシロキサンの添加は、感光体の低表面エネルギーの持続性を向上させ、クリーニング性に効果を有する。
上記第(6)、(7)項の電子写真感光体により、より効果的に架橋反応を促進し、アクリル変性ポリオルガノシロキサンを均一分散させることができ、強固な感光体表面層が実現できる。
上記第(8)項の電子写真感光体により、本発明で使用されるラジカル反応性を有するアクリル変性ポリオルガノシロキサンとアミン構造を有するアクリル変性ポリオルガノシロキサンは機械的強度には弱い材料であるが、架橋用モノマーとして3官能以上のモノマーを使用することで耐摩耗性低下を防止できる。
上記第(9)項の電子写真感光体により、3官能モノマーの官能基数当たりの分子量を250以下にすることで架橋密度が高く、均一な膜が可能となり表面平滑性に優れた感光体が提供できる。
上記第(10)項の電子写真感光体において、均一な膜を作製するには速い架橋速度が必要であり、そのためには上記のラジカル重合性基が優れている。
上記第(11)、(12)項の電子写真感光体において、電荷輸送性構造を含むラジカル重合性モノマーの導入により、表面層に電荷トラップが少なくなり、耐摩耗性と電気特性の両立ができる。表面層が厚くなっても電気特性が変わらないので、用途に応じ感光体の寿命設計に対しては余裕度がある。
上記第(13)項の電子写真感光体において、均一な膜を作製するには速い架橋速度が必要であり、そのためには上記のラジカル重合性基が優れている。
上記第(14)、(15)、(16)項の電子写真感光体は、さらに感度、残留電位等の電気特性が良好に持続される。
上記第(17)項の電子写真感光体に関しては、アクリル変性ポリオルガノシロキサンは上記したようにオルガノシロキサン部で滑り性や低表面エネルギー性を発現させ、アクリル重合部で相溶性を発現させるものであるが、感光体の滑り性を上げるためにはシロキサン部が低濃度で均一な膜よりも部分的に高濃度なところが不均一に分散されている膜のほうが同一濃度で比較すると有利と考え、その方法として、組成比を調整し、相溶性のコントロールをすること、或いは更に分散処理を行なうことにより、アクリル変性ポリオルガノシロキサン化合物を粒状に分散させることが挙げられる。上記第(17)項の電子写真感光体により、このような分散膜とすることで比較的添加量の少ない系においても良好な滑り性やクリーニング性が達成される。
上記第(19)項の電子写真感光体においては、機能分離型の感光層を設けたものとすることができる。
上記第(20)、(21)、(22)項の画像形成方法、画像形成装置、画像形成装置用プロセスカートリッジは、上記第(1)〜第(19)項の何れかの電子写真感光体を使用したことにより、本発明の上記優れた作用効果を発揮することができる。
本発明は、導電性支持体上に少なくとも感光層を有する電子写真感光体において、該感光層の表面層がラジカル反応性を有する、或いはアミン構造を有するポリオルガノシロキサンをラジカル重合性モノマー中に分散させ、硬化させた架橋樹脂層であることにより、クリーニング性に優れ、耐摩耗性が高く、安定であり、かつ長期間にわたり高画質化を実現する電子写真感光体が達成されるものである。
この理由としては以下の要因が挙げられる。
また、前記アクリル変性ポリオルガノシロキサンは、シロキサン鎖が主鎖となりアクリル鎖が側鎖としてグラフト共重合され、架橋樹脂との相溶性を高められることにより、安定性が良く、より持続的な低表面エネルギーの表面層を提供できる。
その結果、感光体表面に付着する放電生成物やトナー外添剤、紙粉等の異物が付着しにくいあるいは付着しても除去しやすい効果を発揮し、さらにその効果の安定性を大幅に高めたことによって、画像ボケの抑制だけでなく、転写効率の向上、クリーニング性の向上、フィルミングや異物付着による異常画像の抑制、耐摩耗性の向上等が実現され、高耐久化及び高画質化に対して多くの効果を併せ持っている。
先ず、本発明において用いられる前記ラジカル反応性を有する、若しくはアミン構造を有する、或いは両方を有するアクリル変性ポリオルガノシロキサンについて述べる。
これらのアクリル変性ポリオルガノシロキサンは、例えば下記一般式(4)
(式中のR13、R14はそれぞれ同一又は異なる炭素数1〜20の炭化水素基又はハロゲン化炭素水素、R15は炭素数1〜20の炭化水素基もしくはハロゲン化炭化水素基、あるいはラジカル反応性基又はSH基もしくはその両方を有する有機基である)で表わされるトリオルガノシリル基、uは10,000以下の正の整数、vは1以上の整数である。]
で表わされるポリオルガノシロキサンに、好ましくは下記一般式(5)
で表わされる(メタ)アクリル酸エステル及び所望に応じて用いられる共重合可能な単量体を、乳化重合法により、グラフト重合させることにより製造される。
また、前記一般式(5)で表わされる成分のグラフト共重合用単量体は、成形膜により優れた摺動性、耐摩耗性を付与するためには、そのポリマー化物のガラス転移温度が20℃以上のものが好ましく、より好ましくは30℃以上のものが望ましい。
前記一般式(4)で表わされる成分と一般式(5)で表わされる成分との乳化グラフト共重合は、例えば一般式(4)で表わされる成分としてポリオルガノシロキサンの水性エマルジョンを用い、通常のラジカル開始剤を使用して、公知の乳化重合法によって行うことができる。
アクリル変性ポリオルガノシロキサンは、乳化重合法によって得られたエマルジョンに塩析剤を投入し、析出・水洗・乾燥を行うことによって得たり、スプレードライヤー等の噴霧乾燥によっても得ることができ、例えば、平均粒子径が約10μm〜500μmの粒子として得ることが出来る。本発明では、この粒子を溶解及び/又は分散により更に細かくし、好ましくは平均粒子径約0.01μm〜5μm、より好ましくは0.05μm〜0.5μmの粒子状に分散させて使用する。
これらの置換基を具体的に例示すると、ビニル基、スチリル基、2−メチル−1,3−ブタジエニル基、ビニルカルボニル基、アクリロイルオキシ基、アクリロイルアミド基、ビニルチオエーテル基等が挙げられる。
これらの置換基を具体的に例示すると、α−塩化アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、α−シアノエチレン基、α−シアノアクリロイルオキシ基、α−シアノフェニレン基、メタクリロイルアミノ基等が挙げられる。
これらのラジカル重合性官能基の中では、特にアクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、ビニル基が有用であり、3個以上のアクリロイルオキシ基を有する化合物は、例えば水酸基がその分子中に3個以上ある化合物とアクリル酸(塩)、アクリル酸ハライド、アクリル酸エステルを用い、エステル反応あるいはエステル交換反応させることにより得ることができる。また、3個以上のメタクリロイルオキシ基を有する化合物も同様にして得ることができる。また、ラジカル重合性官能基を3個以上有する単量体中のラジカル重合性官能基は、同一でも異なっても良い。
すなわち、本発明において使用する上記ラジカル重合性モノマーとしては、例えば、トリメチロールプロパントリアクリレート(TMPTA)、トリメチロールプロパントリメタクリレート、HPA(2−ヒドロキシプロピルアクリレート)変性トリメチロールプロパントリアクリレート、EO変性トリメチロールプロパントリアクリレート、PO変性トリメチロールプロパントリアクリレート、カプロラクトン変性トリメチロールプロパントリアクリレート、HPA変性トリメチロールプロパントリメタクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート(PETTA)、グリセロールトリアクリレート、ECH変性グリセロールトリアクリレート、EO変性グリセロールトリアクリレート、PO変性グリセロールトリアクリレート、トリス(アクリロキシエチル)イソシアヌレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(DPHA)、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールヒドロキシペンタアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールトリアクリレート、ジメチロールプロパンテトラアクリレート(DTMPTA)、ペンタエリスリトールエトキシテトラアクリレート、EO変性リン酸トリアクリレート、2,2,5,5,−テトラヒドロキシメチルシクロペンタノンテトラアクリレートなどが挙げられ、これらは、単独又は2種類以上を併用しても差し支えない。
前記一般式(1)、(2)において、R1の置換基中、アルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等が、アリール基としては、フェニル基、ナフチル基等が、アラルキル基としては、ベンジル基、フェネチル基、ナフチルメチル基等が、アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基等がそれぞれ挙げられ、これらは、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、メチル基、エチル基等のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基、フェノキシ基等のアリールオキシ基、フェニル基、ナフチル基等のアリール基、ベンジル基、フェネチル基等のアラルキル基等により置換されていても良い。
R1の置換基のうち、特に好ましいものは水素原子、メチル基である。
該縮合多環式炭化水素基としては、好ましくは環を形成する炭素数が18個以下のもの、例えば、ペンタニル基、インデニル基、ナフチル基、アズレニル基、ヘプタレニル基、ビフェニレニル基、as−インダセニル基、s−インダセニル基、フルオレニル基、アセナフチレニル基、プレイアデニル基、アセナフテニル基、フェナレニル基、フェナントリル基、アントリル基、フルオランテニル基、アセフェナントリレニル基、アセアントリレニル基、トリフェニレル基、ピレニル基、クリセニル基、及びナフタセニル基等が挙げられる。
(1)ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基等が挙げられる。
(2)アルキル基、好ましくは、C1〜C12とりわけC1〜C8、さらに好ましくはC1〜C4の直鎖または分岐鎖のアルキル基であり、これらのアルキル基にはさらにフッ素原子、水酸基、シアノ基、C1〜C4のアルコキシ基、フェニル基又はハロゲン原子、C1〜C4のアルキル基もしくはC1〜C4のアルコキシ基で置換されたフェニル基を有していてもよい。具体的にはメチル基、エチル基、n−ブチル基、i−プロピル基、t−ブチル基、s−ブチル基、n−プロピル基、トリフルオロメチル基、2−ヒドロキエチル基、2−エトキシエチル基、2−シアノエチル基、2−メトキシエチル基、ベンジル基、4−クロロベンジル基、4−メチルベンジル基、4−フェニルベンジル基等が挙げられる。
(3)アルコキシ基(−OR2)であり、R2は(2)で定義したアルキル基を表わす。具体的には、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、i−プロポキシ基、t−ブトキシ基、n−ブトキシ基、s−ブトキシ基、i−ブトキシ基、2−ヒドロキシエトキシ基、ベンジルオキシ基、トリフルオロメトキシ基等が挙げられる。
(4)アリールオキシ基であり、アリール基としてはフェニル基、ナフチル基が挙げられる。これは、C1〜C4のアルコキシ基、C1〜C4のアルキル基またはハロゲン原子等を置換基として含有してもよい。具体的には、フェノキシ基、1−ナフチルオキシ基、2−ナフチルオキシ基、4−メトキシフェノキシ基、4−メチルフェノキシ基等が挙げられる。
(5)アルキルメルカプト基またはアリールメルカプト基であり、具体的にはメチルチオ基、エチルチオ基、フェニルチオ基、p−メチルフェニルチオ基等が挙げられる。
(6)下記一般式で表わされるアミノ基が挙げられる。
(式中、R3及びR4は各々独立に水素原子、前記(2)で定義したアルキル基、またはアリール基を表わす。アリール基としては、例えばフェニル基、ビフェニル基又はナフチル基が挙げられ、これらはC1〜C4のアルコキシ基、C1〜C4のアルキル基またはハロゲン原子等を置換基として含有してもよい。またR3及びR4は共同で環を形成してもよい)
具体的には、アミノ基、ジエチルアミノ基、N−メチル−N−フェニルアミノ基、N,N−ジフェニルアミノ基、N,N−ジ(トリール)アミノ基、ジベンジルアミノ基、ピペリジノ基、モルホリノ基、ピロリジノ基等が挙げられる。
(7)メチレンジオキシ基、又はメチレンジチオ基等のアルキレンジオキシ基又はアルキレンジチオ基等が挙げられる。
(8)スチリル基、β−フェニルスチリル基、ジフェニルアミノフェニル基、ジトリルアミノフェニル基等が挙げられる。
前記Xは単結合、アルキレン基、シクロアルキレン基、アルキレンエーテル基、酸素原子、硫黄原子、ビニレン基を表わす。
アルキレン基としては、C1〜C12、好ましくはC1〜C8、さらに好ましくはC1〜C4の直鎖または分岐鎖のアルキレン基であり、これらのアルキレン基にはさらにフッ素原子、水酸基、シアノ基、C1〜C4のアルコキシ基、フェニル基又はハロゲン原子、C1〜C4のアルキル基もしくはC1〜C4のアルコキシ基等で置換されたフェニル基を有していてもよい。具体的にはメチレン基、エチレン基、n−ブチレン基、i−プロピレン基、t−ブチレン基、s−ブチレン基、n−プロピレン基、トリフルオロメチレン基、2−ヒドロキエチレン基、2−エトキシエチレン基、2−シアノエチレン基、2−メトキシエチレン基、ベンジリデン基、フェニルエチレン基、4−クロロフェニルエチレン基、4−メチルフェニルエチレン基、4−ビフェニルエチレン基等が挙げられる。
シクロアルキレン基としては、C5〜C7の環状アルキレン基であり、これらの環状アルキレン基にはフッ素原子、水酸基、C1〜C4のアルキル基、C1〜C4のアルコキシ基等を有していても良い。具体的にはシクロヘキシリデン基、シクロへキシレン基、3,3−ジメチルシクロヘキシリデン基等が挙げられる。
アルキレンエーテル基としては、エチレンオキシ、プロピレンオキシ、エチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、テトラエチレングリコール、トリプロピレングリコールを表わし、アルキレンエーテル基のアルキレン基部分はヒドロキシル基、メチル基、エチル基等の置換基を有してもよい。
ビニレン基は、
アルキレン基としては、前記Xのアルキレン基と同様なものが挙げられる。
アルキレンエーテル基としては、前記Xのアルキレンエーテル基が挙げられる。
アラルキレン基としては、上記アルキレン基と前記Ar1、Ar2のアリーレン基が結合したものが挙げられる。
アルキレンオキシカルボニル基としては、カプロラクトン変性基等が挙げられる。
R7、R8、R9のアルキル基、アラルキル基のアリーレン基部分、アリール基は、それぞれ前記に説明したものと同様の基が挙げられる。
また、本発明の1官能の電荷輸送構造を有するラジカル重合性化合物として更に好ましくは、下記一般式(3)の構造の化合物が挙げられる。
また、上記アクリル変性ポリオルガノシロキサンはラジカル反応性を有するものとアミン構造を有するものとの併用も可能であり、その場合に両者の使用割合は重量比で1/9〜9/1が好ましい。
1官能のラジカルモノマーとしては、例えば、2−エチルヘキシルアクリレート、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、2−エチルヘキシルカルビトールアクリレート、3−メトキシブチルアクリレート、ベンジルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、イソアミルアクリレート、イソブチルアクリレート、メトキシトリエチレングリコールアクリレート、フェノキシテトラエチレングリコールアクリレート、セチルアクリレート、イソステアリルアクリレート、ステアリルアクリレート、スチレンモノマーなどが挙げられる。
表面保護層中のアクリル変性ポリオルガノシロキサン濃度は、高いほど低表面エネルギーの安定性が高いので良好であるが、高すぎる場合には残留電位の上昇、保護層の硬度が低下し、副作用を生じる場合がある。従って、概ね全固形分に対して、50重量%以下、好ましくは30重量%以下程度である。
架橋表面層塗工液に含有される組成物においては、バインダー樹脂を含有させることも感光体表面の平滑性、電気特性、あるいは耐久性を損なわない範囲であれば可能である。しかし塗工液にバインダー樹脂などの高分子材料を含有させると、ラジカル重合性組成物(ラジカル重合性モノマー及び電荷輸送性構造を有するラジカル重合性化合物等)の硬化反応より生成した高分子との相溶性の悪さから相分離が生じ、架橋表面層表面の凹凸が激しくなる。したがって、バインダー樹脂は使用しない方が好ましい。
硬化し、作製された表面架橋層は、有機溶媒に対して、不溶であることが好ましい。硬化が充分でない膜は、有機溶媒に対して可溶であり、且つ架橋密度が低いため、機械的耐久性も低くなる。
次いで、例えば、アルミシリンダー等の支持体上に、下引き層、電荷発生層、上記電荷輸送層を順次積層した感光体上に、上記調製した塗工液をスプレー等により塗布する。その後、比較的低温で短時間乾燥し(25〜80℃、1〜10分間)、UV照射あるいは加熱して硬化させる。
UV照射の場合、メタルハライドランプ等を用いるが、照度は50mW/cm2以上、1000mW/cm2以下が好ましく、例えば700mW/cm2のUV光を照射する場合、例えば硬化に際し、ドラムを回転して全ての面を均一に20秒〜600秒程度照射すればよい。このときドラム温度は50℃を越えないように制御する。
熱硬化の場合、加熱温度は100〜170℃が好ましく、例えば加熱手段として送風型オーブンを用い、加熱温度を150℃に設定した場合、加熱時間は20分〜3時間である。
硬化終了後は、残留溶媒低減のため、例えば100〜150℃で10分〜30分加熱して、本発明の感光体を得る。
<電子写真感光体の層構造について>
本発明に用いられる電子写真感光体を図面に基づいて説明する。
図1は、本発明の電子写真感光体を表わす断面図であり、導電性支持体上に、電荷発生機能と電荷輸送機能を同時に有する感光層が設けられた単層構造の感光体である。架橋表面層が感光層全体の場合を示したのが図1Aであり、架橋表面層が感光層の表面部分である場合を示したのが図1Bである。
図2は、導電性支持体上に、電荷発生機能を有する電荷発生層と、電荷輸送物機能を有する電荷輸送層とが積層された積層構造の感光体である。架橋表面層が電荷輸送層全体の場合を示すのが図2Aであり、架橋表面層が電荷輸送層の表面部分である場合を示すのが図2Bである。
導電性支持体としては、体積抵抗1×1010Ω・cm以下の導電性を示すもの、例えば、アルミニウム、ニッケル、クロム、ニクロム、銅、金、銀、白金などの金属、酸化スズ、酸化インジウムなどの金属酸化物を蒸着またはスパッタリングにより、フィルム状もしくは円筒状のプラスチック、紙に被覆したもの、あるいはアルミニウム、アルミニウム合金、ニッケル、ステンレスなどの板およびそれらを押し出し、引き抜きなどの工法で素管化後、切削、超仕上げ、研摩などの表面処理を施した管などを使用することができる。また、特開昭52−36016号公報に開示されたエンドレスニッケルベルト、エンドレスステンレスベルトも導電性支持体として用いることができる。
この導電性粉体としては、カーボンブラック、アセチレンブラック、また、アルミニウム、ニッケル、鉄、ニクロム、銅、亜鉛、銀などの金属粉、あるいは導電性酸化スズ、ITOなどの金属酸化物粉体などが挙げられる。また、同時に用いられる結着樹脂には、ポリスチレン、スチレン−アクリロニトリル共重合体、スチレン−ブタジエン共重合体、スチレン−無水マレイン酸共重合体、ポリエステル、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリアリレート樹脂、フェノキシ樹脂、ポリカーボネート、酢酸セルロース樹脂、エチルセルロース樹脂、ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、ポリビニルトルエン、ポリ−N−ビニルカルバゾール、アクリル樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、アルキッド樹脂などの熱可塑性、熱硬化性樹脂または光硬化性樹脂が挙げられる。このような導電性層は、これらの導電性粉体と結着樹脂を適当な溶剤、例えば、テトラヒドロフラン、ジクロロメタン、メチルエチルケトン、トルエンなどに分散して塗布することにより設けることができる。
次に感光層について説明する。感光層は積層構造でも単層構造でもよい。
積層構造の場合には、感光層は電荷発生機能を有する電荷発生層と電荷輸送機能を有する電荷輸送層とから構成される。また、単層構造の場合には、感光層は電荷発生機能と電荷輸送機能を同時に有する層である。
<感光層が積層構成のもの>
(電荷発生層)
電荷発生層は、電荷発生機能を有する電荷発生物質を主成分とする層で、必要に応じてバインダー樹脂を併用することもできる。電荷発生物質としては、無機系材料と有機系材料を用いることができる。
無機系材料には、結晶セレン、アモルファス・セレン、セレン−テルル、セレン−テルル−ハロゲン、セレン−ヒ素化合物や、アモルファス・シリコン等が挙げられる。アモルファス・シリコンにおいては、ダングリングボンドを水素原子、ハロゲン原子でターミネートしたものや、ホウ素原子、リン原子等をドープしたものが良好に用いられる。
一方、有機系材料としては、公知の材料を用いることができる。例えば、金属フタロシアニン、無金属フタロシアニン等のフタロシアニン系顔料、アズレニウム塩顔料、スクエアリック酸メチン顔料、カルバゾール骨格を有するアゾ顔料、トリフェニルアミン骨格を有するアゾ顔料、ジフェニルアミン骨格を有するアゾ顔料、ジベンゾチオフェン骨格を有するアゾ顔料、フルオレノン骨格を有するアゾ顔料、オキサジアゾール骨格を有するアゾ顔料、ビススチルベン骨格を有するアゾ顔料、ジスチリルオキサジアゾール骨格を有するアゾ顔料、ジスチリルカルバゾール骨格を有するアゾ顔料、ペリレン系顔料、アントラキノン系または多環キノン系顔料、キノンイミン系顔料、ジフェニルメタン及びトリフェニルメタン系顔料、ベンゾキノン及びナフトキノン系顔料、シアニン及びアゾメチン系顔料、インジゴイド系顔料、ビスベンズイミダゾール系顔料などが挙げられる。これらの電荷発生物質は、単独または2種以上の混合物として用いることができる。
また、後者の具体例としては、例えば特開昭63−285552号公報、特開平05−19497号公報、特開平05−70595号公報、特開平10−73944号公報等に記載のポリシリレン重合体が例示される。
電荷発生層に併用できる低分子電荷輸送物質には、正孔輸送物質と電子輸送物質とがある。
電子輸送物質としては、例えばクロルアニル、ブロムアニル、テトラシアノエチレン、テトラシアノキノジメタン、2,4,7−トリニトロ−9−フルオレノン、2,4,5,7−テトラニトロ−9−フルオレノン、2,4,5,7−テトラニトロキサントン、2,4,8−トリニトロチオキサントン、2,6,8−トリニトロ−4H−インデノ〔1,2−b〕チオフェン−4−オン、1,3,7−トリニトロジベンゾチオフェン−5,5−ジオキサイド、ジフェノキノン誘導体などの電子受容性物質が挙げられる。これらの電子輸送物質は、単独または2種以上の混合物として用いることができる。
前者の方法には、真空蒸着法、グロー放電分解法、イオンプレーティング法、スパッタリング法、反応性スパッタリング法、CVD法等が用いられ、上述した無機系材料、有機系材料が良好に形成できる。
また、後述のキャスティング法によって電荷発生層を設けるには、上述した無機系もしくは有機系電荷発生物質を必要ならばバインダー樹脂と共にテトラヒドロフラン、ジオキサン、ジオキソラン、トルエン、ジクロロメタン、モノクロロベンゼン、ジクロロエタン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、アニソール、キシレン、メチルエチルケトン、アセトン、酢酸エチル、酢酸ブチル等の溶媒を用いて、ボールミル、アトライター、サンドミル、ビーズミル等により分散し、分散液を適度に希釈して塗布することにより、形成できる。また、必要に応じて、ジメチルシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイル等のレベリング剤を添加することができる。塗布は、浸漬塗工法やスプレーコート、ビードコート、リングコート法などを用いて行なうことができる。
以上のようにして設けられる電荷発生層の膜厚は、0.01〜5μm程度が適当であり、好ましくは0.05〜2μmである。
電荷輸送層は電荷輸送機能を有する層で、本発明の電荷輸送性構造を有する架橋表面層は電荷輸送層としても有用に用いられる。架橋表面層が電荷輸送層の全体である場合、前述の架橋表面層作製方法に記載したように電荷発生層上に本発明のラジカル重合性組成物(電荷輸送性構造を有しないラジカル重合性モノマー及び電荷輸送性構造を有するラジカル重合性モノマー;以下同じ)と本発明のアクリル変性ポリオルガノシロキサンを含有する塗工液を塗布、必要に応じて乾燥後、外部エネルギーにより硬化反応を開始させ、架橋表面層が形成される。このとき、架橋表面層の膜厚は、好ましくは10〜30μm、より好ましくは10〜25μmである。10μmより薄いと充分な帯電電位が維持できず、30μmより厚いと硬化時の体積収縮により下層との剥離が生じやすくなる。
また、架橋表面層が電荷輸送層の表面部分に形成され、電荷輸送層が積層構造である場合、電荷輸送層の下層部分は電荷輸送機能を有する電荷輸送物質および結着樹脂を適当な溶剤に溶解ないし分散し、これを電荷発生層上に塗布、乾燥することにより形成し、この上に上記本発明のラジカル重合性組成物とアクリル変性ポリオルガノシロキサンを含有する塗工液を塗布し、外部エネルギーにより架橋硬化させる。
電荷輸送物質の量は結着樹脂100重量部に対し、好ましくは20〜300重量部、より好ましくは40〜150重量部が適当である。但し、高分子電荷輸送物質を用いる場合は、単独でも結着樹脂との併用も可能である。
電荷輸送層の下層部分の塗工に用いられる溶媒としては前記電荷発生層と同様なものが使用できるが、電荷輸送物質及び結着樹脂を良好に溶解するものが適している。これらの溶剤は単独で使用しても2種以上混合して使用しても良い。また、電荷輸送層の下層部分の形成には電荷発生層と同様な塗工法が可能である。
電荷輸送層の下層部分に併用できる可塑剤としては、ジブチルフタレート、ジオクチルフタレート等の一般の樹脂可塑剤として使用されているものがそのまま使用でき、その使用量は、結着樹脂100重量部に対して0〜30重量部程度が適当である。
電荷輸送層の下層部分に併用できるレベリング剤としては、ジメチルシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイル等のシリコーンオイル類や、側鎖にパーフルオロアルキル基を有するポリマーあるいはオリゴマーが使用され、その使用量は、結着樹脂100重量部に対して0〜1重量部程度が適当である。
電荷輸送層の下層部分の膜厚は、5〜40μm程度が適当であり、好ましくは10〜30μm程度が適当である。
単層構造の感光層は電荷発生機能と電荷輸送機能を同時に有する層で、本発明の電荷輸送性構造を有する架橋表面層は電荷発生機能を有する電荷発生物質を含有させることにより、単層構造の感光層として有用に用いられる。上記の電荷発生層のキャスティング形成方法に記載したように、電荷発生物質をラジカル重合性組成物を含有する塗工液と共に分散し、電荷発生層上に塗布、必要に応じて乾燥後、外部エネルギーにより硬化反応を開始させ、架橋表面層が形成される。なお、電荷発生物質はあらかじめ溶媒と共に分散した液を本架橋表面層用塗工液に加えてもよい。このとき、架橋表面層の膜厚は、好ましくは10〜30μm、より好ましくは10〜25μmである。10μmより薄いと充分な帯電電位が維持できず、30μmより厚いと硬化時の体積収縮により導電性基体または下引き層との剥離が生じやすくなる。
架橋表面層が単層構造の感光層の表面部分である場合、前述のようにかかる感光層の下層部分上に本発明のラジカル重合性組成物と電荷発生物質を含有する塗工液を塗布、必要に応じて乾燥後、熱や光の外部エネルギーにより硬化し、架橋表面層を形成する。このとき、架橋表面層の膜厚は、好ましくは1〜20μm、より好ましくは2〜10μmである。1μmより薄いと膜厚ムラによって耐久性のバラツキが生じる。
単層構造の感光層中に含有される電荷発生物質は感光層全量に対し1〜30重量%が好ましく、感光層の下層部分に含有される結着樹脂は全量の20〜80重量%、電荷輸送物質は10〜70重量部が良好に用いられる。
本発明の感光体においては、架橋表面層が感光層の表面部分となる場合、架橋表面層への下層成分混入を抑える又は下層との接着性を改善する目的で中間層を設けることが可能である。この中間層はラジカル重合性組成物を含有する最表面層中に下部感光層組成物の混入により生ずる、硬化反応の阻害や架橋表面層の凹凸を防止する。また、下層の感光層と表面架橋層の接着性を向上させることも可能である。
中間層には、一般にバインダー樹脂を主成分として用いる。これら樹脂としては、ポリアミド、アルコール可溶性ナイロン、水溶性ポリビニルブチラール、ポリビニルブチラール、ポリビニルアルコールなどが挙げられる。中間層の形成法としては、前述のごとく一般に用いられる塗工法が採用される。なお、中間層の厚さは0.05〜2μm程度が適当である。
本発明の感光体においては、導電性支持体と感光層との間に下引き層を設けることができる。下引き層は一般には樹脂を主成分とするが、これらの樹脂はその上に感光層を溶剤で塗布することを考えると、一般の有機溶剤に対して耐溶剤性の高い樹脂であることが望ましい。このような樹脂としては、ポリビニルアルコール、カゼイン、ポリアクリル酸ナトリウム等の水溶性樹脂、共重合ナイロン、メトキシメチル化ナイロン等のアルコール可溶性樹脂、ポリウレタン、メラミン樹脂、フェノール樹脂、アルキッド−メラミン樹脂、エポキシ樹脂等、三次元網目構造を形成する硬化型樹脂等が挙げられる。また、下引き層にはモアレ防止、残留電位の低減等のために、酸化チタン、シリカ、アルミナ、酸化ジルコニウム、酸化スズ、酸化インジウム等で例示できる金属酸化物の微粉末顔料を加えてもよい。
また、本発明においては、耐環境性の改善のため、とりわけ、感度低下、残留電位の上昇を防止する目的で、架橋表面層、電荷発生層、電荷輸送層、下引き層、中間層等の各層に酸化防止剤を添加することができる。
本発明に用いることができる酸化防止剤として、下記のものが挙げられる。
2,6−ジ−t−ブチル−p−クレゾール、ブチル化ヒドロキシアニソール、2,6−ジ−t−ブチル−4−エチルフェノール、ステアリル−β−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、2,2′−メチレン−ビス−(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、2,2′−メチレン−ビス−(4−エチル−6−t−ブチルフェノール)、4,4′−チオビス−(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、4,4′−ブチリデンビス−(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、1,1,3−トリス−(2−メチル−4−ヒドロキシ−5−t−ブチルフェニル)ブタン、1,3,5−トリメチル−2,4,6−トリス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)ベンゼン、テトラキス−[メチレン−3−(3′,5′−ジ−t−ブチル−4′−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]メタン、ビス[3,3′−ビス(4′−ヒドロキシ−3′−t−ブチルフェニル)ブチリックアッシド]グリコールエステル、トコフェロール類など。
N−フェニル−N′−イソプロピル−p−フェニレンジアミン、N,N′−ジ−sec−ブチル−p−フェニレンジアミン、N−フェニル−N−sec−ブチル−p−フェニレンジアミン、N,N′−ジ−イソプロピル−p−フェニレンジアミン、N,N′−ジメチル−N,N′−ジ−t−ブチル−p−フェニレンジアミンなど。
2,5−ジ−t−オクチルハイドロキノン、2,6−ジドデシルハイドロキノン、2−ドデシルハイドロキノン、2−ドデシル−5−クロロハイドロキノン、2−t−オクチル−5−メチルハイドロキノン、2−(2−オクタデセニル)−5−メチルハイドロキノンなど。
ジラウリル−3,3′−チオジプロピオネート、ジステアリル−3,3′−チオジプロピオネート、ジテトラデシル−3,3′−チオジプロピオネートなど。
トリフェニルホスフィン、トリ(ノニルフェニル)ホスフィン、トリ(ジノニルフェニル)ホスフィン、トリクレジルホスフィン、トリ(2,4−ジブチルフェノキシ)ホスフィンなど。
本発明における酸化防止剤の添加量は、添加する層の総重量に対して0.01〜10重量%が適当である。
次に、図面に基づいて本発明の画像形成方法ならびに画像形成装置を詳しく説明する。
本発明の画像形成方法ならびに画像形成装置とは、本発明の前記平滑な電荷輸送性架橋表面層を有する感光体を用い、例えば少なくとも感光体に帯電、画像露光、現像の過程を経た後、画像保持体(転写紙)へのトナー画像の転写、定着及び感光体表面のクリーニングというプロセスよりなる画像形成方法ならびに画像形成装置である。
場合により、静電潜像を直接転写体に転写し現像する画像形成方法等では、感光体に配した上記プロセスを必ずしも有するものではない。
次に、必要に応じて感光体上の潜像を取り除く目的で除電手段が用いられる。除電手段としては除電ランプ(2)、除電チャージャが用いられ、それぞれ前記露光光源、帯電手段が利用できる。
本発明は、このような画像形成手段に本発明に係る電子写真感光体を用いる画像形成方法及び画像形成装置に関するものである。
この画像形成手段は、複写装置、ファクシミリ、プリンタ内に固定して組み込まれていてもよいが、プロセスカートリッジの形態でそれら装置内に組み込まれ、着脱自在としたものであってもよい。プロセスカートリッジの一例を図4に示す。
画像形成装置用プロセスカートリッジとは、感光体(101)を内蔵し、他に帯電手段(102)、現像手段(104)、転写手段(106)、クリーニング手段(107)、除電手段(図示せず)の少なくとも一つを具備し、画像形成装置本体に着脱可能とした装置(部品)である。
以上の説明から明らかなように、本発明の電子写真感光体は電子写真複写機に利用するのみならず、レーザービームプリンター、CRTプリンター、LEDプリンター、液晶プリンター及びレーザー製版等の電子写真応用分野にも広く用いることができるものである。
本発明における電荷輸送性構造を有する化合物は、例えば特許第3164426号公報記載の方法にて合成される。また、下記にこの一例を示す。
メトキシ基置換トリアリールアミン化合物(下記構造式A)113.85g(0.3mol)と、ヨウ化ナトリウム138g(0.92mol)にスルホラン240mlを加え、窒素気流中で60℃に加温した。この液中にトリメチルクロロシラン99g(0.91mol)を1時間で滴下し、約60℃の温度で4時間半撹拌し反応を終了させた。この反応液にトルエン約1.5Lを加え室温まで冷却し、水と炭酸ナトリウム水溶液で繰り返し洗浄した。その後、このトルエン溶液から溶媒を除去し、カラムクロマト処理(吸着媒体:シリカゲル、展開溶媒:トルエン:酢酸エチル=20:1)にて精製した。得られた淡黄色オイルにシクロヘキサンを加え、結晶を析出させた。このようにして下記構造式Bの白色結晶88.1g(収率=80.4%)を得た。
融点:64.0〜66.0℃
元素分析値(%)
上記(1)で得られたヒドロキシ基置換トリアリールアミン化合物(構造式B)82.9g(0.227mol)をテトラヒドロフラン400mlに溶解し、窒素気流中で水酸化ナトリウム水溶液(NaOH:12.4g,水:100ml)を滴下した。この溶液を5℃に冷却し、アクリル酸クロライド25.2g(0.272mol)を40分かけて滴下した。その後、5℃で3時間撹拌し反応を終了させた。この反応液を水に注ぎ、トルエンにて抽出した。この抽出液を炭酸水素ナトリウム水溶液と水で繰り返し洗浄した。その後、このトルエン溶液から溶媒を除去し、カラムクロマト処理(吸着媒体:シリカゲル、展開溶媒:トルエン)にて精製した。得られた無色のオイルにn−ヘキサンを加え、結晶を析出させた。このようにして例示化合物No.54の白色結晶80.73g(収率=84.8%)を得た。
融点:117.5〜119.0℃
元素分析値(%)
アミン構造を有するアクリル変性ポリオルガノシロキサンの製造例を具体的に説明するが、本発明は下記の製造例に制限されるものではない。なお、例中の部及び%はそれぞれ重量部と重量%を示す。
<オルガノポリシロキサンの調製>
オクタメチルシクロテトラシロキサン1,500部、ビニルジメトキシメチルシラン8.8部、及びイオン交換水1,500部を混合し、これにラウリル硫酸ナトリウム15部、ドデシルベンゼンスルホン酸10部を添加してからホモミキサーで攪拌して乳化した後、圧力3,000barのホモジナイザーに2回通して安定なエマルジョンを作った。次いで、これをフラスコに仕込み70℃で12時間加熱し、25℃まで冷却して24時間熟成した後、炭酸ナトリウムを用いてこのエマルジョンのpHを7に調整し、4時間窒素ガスを吹き込んでから水蒸気蒸留して揮発性のシロキサンを留去し、次にイオン交換水を加えて不揮発分を45%に調整し、ポリシロキサンのエマルジョンを得た。
<共重合エマルジョンの製造>
攪拌機、コンデンサー、温度計及び窒素ガス導入口を備えた2Lの三ッ口フラスコに、上記で得たエマルジョンを778部(シロキサン分350部)とイオン交換水322部を仕込み、窒素ガス気流下に器内を30℃に調整した後、t−ブチルヒドロパーオキサイド1.0部、L−アスコルビン酸0.5部、硫酸第一鉄7水和物0.002部を加え、次いで器内温を30℃に保ちながら、メチルメタアクリレート112.4部、トリス(2−アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート7.5部、アクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタルイミド30部を5時間かけて滴下した。滴下終了後、更に3時間攪拌を続けて反応を完結させた。得られた共重合エマルジョンの固形分濃度は39.6%であった。
次いで、このエマルジョン1000部を攪拌機付きフラスコに仕込み80℃に加熱し、ここに硫酸ナトリウム70部をイオン交換水280部に溶解した溶液を加えて、アクリル変性ポリオルガノシロキサンを析出させ、濾過・水洗を繰り返してから80℃で乾燥して、アクリル変性ポリオルガノシロキサンポリマー(ポリマー1−1)を得た。
製造例1−1において、アクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタルイミドをN−(1,1−ジメチル−3−オキソブチル)アクリルアミドに代えた他は、製造例1−1と同じにしてアクリル変性ポリオルガノシロキサンポリマー(ポリマー1−2)を得た。
製造例1−1において、アクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタルイミドをアクリルアミドに代えた他は、製造例1−1と同じにしてアクリル変性ポリオルガノシロキサンポリマー(ポリマー1−3)を得た。
ラジカル反応性を有するアクリル変性ポリオルガノシロキサンの製造例を具体的に説明するが、本発明は下記の製造例に制限されるものではない。なお、例中の部及び%はそれぞれ重量部と重量%を示す。
上記製造例1−1の<共重合エマルジョンの製造>段階に、メチルメタアクリレート112.4部、トリス(2−アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート7.5部、アクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタルイミド30部に変えて、メチルメタアクリレート78部、エチルアクリレート13.5部、ブチルアクリレート13.5部、1,3,5,7−テトラメチル−3,5,7−トリビニルシクロテトラシロキシプロピルメタクリレート15部、アクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタルイミド30部を5時間かけて滴下した他は、製造例1−1と同様の方法でアクリル変性ポリオルガノシロキサンポリマー(ポリマー2)を得た。
Al製支持体(外径30mmφ)に、乾燥後の膜厚が3.5μmになるように浸漬法で塗工し、下引き層を形成した。
・下引き層用塗工液
アルキッド樹脂 6部
(ベッコゾール1307−60−EL、大日本インキ化学工業製)
メラミン樹脂 4部
(スーパーベッカミン G−821−60、大日本インキ化学工業製)
酸化チタン 40部
(CR−EL:石原産業)
メチルエチルケトン 50部
この下引き層上に下記構造のビスアゾ顔料を含む電荷発生層塗工液に浸漬塗工し、加熱乾燥させ、膜厚0.2μmの電荷発生層を形成した。
・電荷発生層用塗工液
下記構造のビスアゾ顔料 2.5部
シクロヘキサノン 200部
メチルエチルケトン 80部
この電荷発生層上に下記構造の電荷輸送層用塗工液を用いて、浸積塗工し、加熱乾燥させ、膜厚22μmの電荷輸送層とした。
・電荷輸送層用塗工液
ビスフェーノールZ型ポリカーボネート 10部
下記構造の低分子電荷輸送物質 10部
1%シリコーンオイルのテトラヒドロフラン溶液 0.2部
(KF50−100CS、信越化学工業製)
電荷輸送層上に下記構成の架橋表面層塗工液を用いて、スプレー塗工し、メタルハライドランプ、照射強度:500mW/cm2、照射時間:200秒の条件で光照射を行ない、更に130℃で30分乾燥を加え4.0μmの架橋表面層を設け、本発明の電子写真感光体を得た。
・架橋表面層塗工液
電荷輸送性構造を有さない3官能以上のラジカル重合性モノマー 9部
トリメチロールプロパントリアクリレート
(KAYARAD TMPTA、日本化薬製)
分子量:382、官能基数:3官能、分子量/官能基数=99
電荷輸送性構造を有するラジカル重合性モノマー 9部
(例示化合物No.54)
光重合開始剤 1.8部
1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン
(イルガキュア184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製)
アクリル変性ポリオルガノシロキサン(ポリマー1−1) 1.8部
テトラヒドロフラン 100部
実施例1の架橋表面層塗工液材料のアクリル変性ポリオルガノシロキサンとしてポリマー1−2を用いること以外は全て実施例1と同じにして電子写真感光体を作製した。架橋表面層の膜厚を4.0μmとした。
実施例1の架橋表面層塗工液材料のアクリル変性ポリオルガノシロキサンとしてポリマー1−3を用いること以外は全て実施例1と同じにして電子写真感光体を作製した。架橋表面層の膜厚を4.0μmとした。
実施例1の架橋表面層塗工液材料のアクリル変性ポリオルガノシロキサンとしてポリマー2を用いること以外は全て実施例1と同じにして電子写真感光体を作製した。架橋表面層の膜厚を4.0μmとした。
実施例1の架橋表面層塗工液材料の電荷輸送性構造を有するラジカル重合性モノマーを使用しないこと以外は全て実施例1と同じにして電子写真感光体を作製した。架橋表面層の膜厚を1.0μmとした。
実施例4の架橋表面層塗工液材料の電荷輸送性構造を有するラジカル重合性モノマーを使用しないこと以外は全て実施例4と同じにして電子写真感光体を作製した。架橋表面層の膜厚を1.0μmとした。
実施例1の架橋表面層塗工液中の電荷輸送性構造を有するラジカル重合性モノマーとして例示化合物No.182を用いたこと以外は全て実施例4と同じにして電子写真感光体を作製した。架橋表面層の膜厚は4.0μmとした。
実施例1の架橋表面層塗工液中の電荷輸送性構造を有するラジカル重合性モノマーとして例示化合物No.363を用いたこと以外は全て実施例1と同じにして電子写真感光体を作製した。架橋表面層の膜厚は4.0μmとした。
実施例1の架橋表面層塗工液中の電荷輸送性構造を有するラジカル重合性モノマーとして例示化合物No.1を用いたこと以外は全て実施例1と同じにして電子写真感光体を作製した。架橋表面層の膜厚は4.0μmとした。
実施例1の架橋表面層塗工液中の電荷輸送性構造を有するラジカル重合性モノマーとして例示化合物No.53を用いたこと以外は全て実施例1と同じにして電子写真感光体を作製した。架橋表面層の膜厚は4.0μmとした。
実施例1の架橋表面層塗工液中の電荷輸送性構造を有するラジカル重合性モノマーとして例示化合物No.161を用いたこと以外は全て実施例1と同じにして電子写真感光体を作製した。架橋表面層の膜厚は4.0μmとした。
実施例1の架橋表面層用塗工液に含有される電荷輸送性構造を有さない3官能以上のラジカル重合性モノマーを下記のモノマーに変えた以外は全て実施例1と同じにして電子写真感光体を作製した。架橋表面層の膜厚は4.0μmとした。
電荷輸送性構造を有さない3官能以上のラジカル重合性モノマー
カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
(KAYARAD DPCA−60、日本化薬製)
分子量:1263、官能基数:6官能、分子量/官能基数=211
実施例1〜10の感光体の架橋表面層切片をルテニウム酸蒸気で染色して、透過型電子顕微鏡(H−9000NAR)によりモルフォロジーを観察した。
いずれも架橋表面層のマトリックス相に、平均粒径0.2〜0.4μmのアクリル変性ポリオルガノシロキサン分散相が均一に分布されているいわゆるミクロ相分離構造を呈することが分かる。
実施例1において架橋表面層塗工液に含有されたアクリル変性ポリオルガノシロキサンを無添加とした以外は全て実施例1と同様にして電子写真感光体を作成した。
実施例1において架橋表面層塗工液に含有されたアクリル変性ポリオルガノシロキサンを、ラジカル反応性とアミン構造を有しない、主鎖がポリオルガノシロキサンであり側鎖がアクリルであるアクリル変性ポリオルガノシロキサン(アクリルとポリオルガノシロキサンの重量比3/7)の市販品(シャリーヌR−170、日信化学工業株式会社製)とした以外は全て実施例1と同様にして電子写真感光体を作成した。
実施例1において、アクリル変性ポリオルガノシロキサンを、ポリシロキサン微粒子(トレフィルR−902A東レシリコン社製)に代えた他は、実施例1と同様にして電子写真用感光体を作製した。
実施例1において、アクリル変性ポリオルガノシロキサンを、四フッ化エチレン樹脂粒子(ルブロンL−2、ダイキン工業(株)製)に代えた他は、実施例1と同様にして電子写真用感光体を作製した。
実施例1において、アクリル変性ポリオルガノシロキサンを、下記構造式で表わされる液体反応性シリコーン:比重0.98、分子量5,000の液体(両末端サイラプレーン、FM−7721、窒素株式会社製)に代えた他は、実施例1と同様にして電子写真用感光体を作製した。
各実施例及び比較例で作製した電子写真感光体を、リコー製imagio MF2200改造機(画像露光光源として655nmの半導体レーザー)を用いて、15万枚の実機通紙試験(A4、NBSリコー製MyPaper、スタート時帯電電位−700V)を実施し、摩耗特性、機内電位、画像評価を行った。摩耗量、機内電位、画像特性の各結果を表6、7、8に示す。
比較例2はアクリル変性ポリオルガノシロキサンを含有するが、ラジカル反応性とアミン構造を持っていないので、得られた架橋膜の架橋度が低くて、摩耗量が大きかった。
比較例3は良く使われている潤滑剤のポリシロキサン微粒子を架橋膜に添加したが、該微粒子と架橋膜樹脂の間に相溶性が欠けるので、クリーニング不良が発生し、5万枚通紙試験でスジ画像が全面に発生し、画像濃度も低下した。
比較例4は初期より露光部電位が大きく、画像濃度低下が見られた。
比較例5は表面が平滑な感光体を得られたが、反応性シリコーンがバインダー樹脂と相溶性構造を持っていないので、架橋表面層を乾燥する時、最表面層に遷移し、持続的なクリーニング性が足りなかった。
2 除電ランプ
3 帯電チャージャ
4 イレーサ
5 画像露光部
6 現像ユニット
7 転写前チャージャ
8 レジストローラ
9 転写体
10 転写チャージャ
11 分離チャージャ
12 分離爪
13 クリーニング前チャージャ
14 ファーブラシ
15 クリーニングブレード
101 感光ドラム
102 帯電手段
103 露光手段
104 現像手段
105 転写体
106 転写手段
107 クリーニング手段(ブレード)
Claims (21)
- 導電性支持体上に少なくとも感光層を有する電子写真感光体において、該感光層の表面層が、主としてラジカル反応性を有するアクリル変性ポリオルガノシロキサンをラジカル重合性モノマー中に分散させ、硬化させた架橋樹脂層であり、前記ラジカル反応性を有するアクリル変性ポリオルガノシロキサンが、シリコーン主鎖にアクリル単量体をグラフト化させた化合物であり、前記ラジカル重合性モノマーの全部又は一部に、電荷輸送性構造を有しない3官能以上のモノマーを含むことを特徴とする電子写真感光体。
- 導電性支持体上に少なくとも感光層を有する電子写真感光体において、該感光層の表面層が、主としてアミン構造を有するアクリル変性ポリオルガノシロキサンをラジカル重合性モノマー中に分散させ、硬化させた架橋樹脂層であり、前記ラジカル重合性モノマーの全部又は一部に、電荷輸送性構造を有しない3官能以上のモノマーを含むことを特徴とする電子写真感光体。
- 導電性支持体上に少なくとも感光層を有する電子写真感光体において、該感光層の表面層が、主としてアミン構造を有するアクリル変性ポリオルガノシロキサンと、ラジカル反応性を有するアクリル変性ポリオルガノシロキサンとを、ラジカル重合性モノマー中に分散させ、硬化させた架橋樹脂層であり、前記ラジカル重合性モノマーの全部又は一部に、電荷輸送性構造を有しない3官能以上のモノマーを含むことを特徴とする電子写真感光体。
- 前記ラジカル反応性を有するアクリル変性ポリオルガノシロキサンが、シリコーン主鎖にアクリル単量体をグラフト化させた化合物であることを特徴とする請求項3に記載の電子写真感光体。
- 前記アミン構造を有するアクリル変性ポリオルガノシロキサンが、シリコーン主鎖にアクリル単量体をグラフト化させた化合物であることを特徴とする請求項2又は3に記載の電子写真感光体。
- 前記アミン構造が二級アミン、三級アミンから選ばれる少なくとも1種であることを特徴とする請求項2乃至5のいずれかに記載の電子写真感光体。
- 前記電荷輸送性構造を有しない3官能以上のラジカル重合性モノマーにおける官能基数に対する分子量の割合(分子量/官能基数)が、250以下であることを特徴とする請求項1乃至7のいずれかに記載の電子写真感光体。
- 前記ラジカル重合性モノマーのラジカル重合性基が、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、ビニル基の何れか又は混合であることを特徴とする請求項1乃至8の何れかに記載の電子写真感光体。
- 前記ラジカル重合性モノマーに更に電荷輸送性構造を有するラジカル重合性モノマーが使用されることを特徴とする請求項1乃至9の何れかに記載の電子写真感光体。
- 前記電荷輸送性構造を有するラジカル重合性モノマーが、1官能であることを特徴とする請求項10に記載の電子写真感光体。
- 前記電荷輸送性構造を有するラジカル重合性モノマーのラジカル重合性基が、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、ビニル基の何れか又は混合であることを特徴とする請求項10又は11に記載の電子写真感光体。
- 前記電荷輸送性構造を有するラジカル重合性モノマーの電荷輸送構造が、トリアリールアミン構造であることを特徴とする請求項10乃至12の何れかに記載の電子写真感光体。
- 前記電荷輸送性構造を有するラジカル重合性モノマーが、下記一般式(1)又は(2)で表わされるモノマーの一種以上であることを特徴とする請求項10乃至13の何れかに記載の電子写真感光体。
- 前記アクリル変性ポリオルガノシロキサン化合物が、粒状に分散されていることを特徴とする請求項1乃至15の何れかに記載の電子写真感光体。
- 前記表面層の硬化手段が、加熱又は光エネルギー照射手段であることを特徴とする請求項1乃至16の何れかに記載の電子写真感光体。
- 前記感光層が、支持体側から電荷発生層、電荷輸送層、表面層の積層構成であることを特徴とする請求項1乃至17の何れかに記載の電子写真感光体。
- 請求項1乃至18の何れかに記載の電子写真感光体を用いて、少なくとも帯電、画像露光、現像、転写を繰り返し行なうことを特徴とする画像形成方法。
- 請求項1乃至18の何れかに記載の電子写真感光体を有することを特徴とする画像形成装置。
- 請求項1乃至18の何れかに記載の電子写真感光体と、帯電手段、現像手段、転写手段、クリーニング手段および除電手段よりなる群から選ばれた少なくとも一つの手段を有するものであって、画像形成装置本体に着脱可能としたことを特徴とする画像形成装置用プロセスカートリッジ。
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JP2007241140A (ja) * | 2006-03-10 | 2007-09-20 | Ricoh Co Ltd | 像担持体及びそれを用いた画像形成方法、並びに画像形成装置、プロセスカートリッジ |
KR100863760B1 (ko) * | 2006-03-10 | 2008-10-16 | 가부시키가이샤 리코 | 전자 사진 감광체, 그것을 이용한 화상 형성 장치용 프로세스 카트리지, 및 화상 형성 장치 |
JP4686419B2 (ja) * | 2006-03-29 | 2011-05-25 | 株式会社リコー | 電子写真感光体、並びに画像形成方法、画像形成装置及びプロセスカートリッジ |
US7838188B2 (en) * | 2006-03-29 | 2010-11-23 | Ricoh Company, Ltd. | Electrophotographic photoconductor, image forming method, image forming apparatus, and process cartridge |
US7858278B2 (en) | 2006-05-18 | 2010-12-28 | Ricoh Company Limited | Electrophotographic photoreceptor, and image forming apparatus and process cartridge using the electrophotographic photoreceptor |
JP4668853B2 (ja) | 2006-06-16 | 2011-04-13 | 株式会社リコー | 電子写真感光体、並びにこれを用いた画像形成装置及びプロセスカートリッジ |
JP2008070664A (ja) * | 2006-09-14 | 2008-03-27 | Ricoh Co Ltd | 電子写真感光体、それを用いた画像形成方法、画像形成装置及び画像形成装置用プロセスカートリッジ |
US20080138727A1 (en) * | 2006-12-06 | 2008-06-12 | Kotaro Fukushima | Electrophotographic photoreceptor and image forming apparatus including the same |
US8669030B2 (en) * | 2006-12-11 | 2014-03-11 | Ricoh Company, Limited | Electrophotographic photoreceptor, and image forming method and apparatus using the same |
JP5102646B2 (ja) * | 2007-02-21 | 2012-12-19 | 株式会社リコー | 電子写真感光体とこれを搭載する電子写真用プロセスカートリッジ及び画像形成装置 |
US8084170B2 (en) | 2007-03-13 | 2011-12-27 | Ricoh Company, Ltd. | Electrophotographic photoconductor, electrophotographic process cartridge containing the same and electrophotographic apparatus containing the same |
US20080304867A1 (en) * | 2007-06-07 | 2008-12-11 | Ricoh Company, Ltd. | Image bearing member, method of manufacturing the same, image formation method, image forming apparatus and process cartridge |
JP5294045B2 (ja) * | 2007-06-13 | 2013-09-18 | 株式会社リコー | 電子写真感光体とこれを搭載するプロセスカートリッジないし電子写真装置 |
JP5382404B2 (ja) * | 2007-07-02 | 2014-01-08 | 株式会社リコー | 電子写真感光体、該電子写真感光体を有するプロセスカートリッジ及び電子写真装置 |
CN104263291A (zh) | 2007-08-08 | 2015-01-07 | 日立化成工业株式会社 | 粘接剂组合物、膜状粘接剂和电路部件的连接结构 |
JP5111029B2 (ja) * | 2007-09-12 | 2012-12-26 | 株式会社リコー | 電子写真感光体、並びにプロセスカートリッジ、及び画像形成装置 |
JP5205941B2 (ja) | 2007-11-29 | 2013-06-05 | 株式会社リコー | 電子写真感光体、画像形成方法、画像形成装置及び画像形成装置用プロセスカートリッジ |
US8088542B2 (en) * | 2008-03-31 | 2012-01-03 | Xerox Corporation | Overcoat containing titanocene photoconductors |
JP5516936B2 (ja) * | 2009-07-23 | 2014-06-11 | 株式会社リコー | 画像形成装置 |
JP5697629B2 (ja) | 2011-05-24 | 2015-04-08 | キヤノン株式会社 | 電子写真感光体、電子写真感光体の製造方法、プロセスカートリッジおよび電子写真装置 |
JP5875455B2 (ja) | 2011-05-24 | 2016-03-02 | キヤノン株式会社 | 電子写真感光体、プロセスカートリッジ、電子写真装置、電子写真感光体の製造方法、及びウレア化合物 |
JP5680015B2 (ja) | 2011-05-24 | 2015-03-04 | キヤノン株式会社 | 電子写真感光体、プロセスカートリッジ、および電子写真装置 |
JP5546574B2 (ja) | 2011-11-30 | 2014-07-09 | キヤノン株式会社 | 電子写真感光体、電子写真感光体の製造方法、プロセスカートリッジおよび電子写真装置 |
JP5535268B2 (ja) | 2011-11-30 | 2014-07-02 | キヤノン株式会社 | 電子写真感光体、電子写真感光体の製造方法、プロセスカートリッジおよび電子写真装置 |
JP6406931B2 (ja) | 2013-10-15 | 2018-10-17 | キヤノン株式会社 | 電子写真感光体、その製造方法、電子写真装置およびプロセスカートリッジ |
JP6481324B2 (ja) | 2013-12-13 | 2019-03-13 | 株式会社リコー | 電子写真感光体、電子写真方法、電子写真装置及びプロセスカートリッジ |
JP2015210366A (ja) | 2014-04-25 | 2015-11-24 | 株式会社リコー | 電子写真感光体、画像形成装置、及びプロセスカートリッジ |
JP2016099421A (ja) | 2014-11-19 | 2016-05-30 | 株式会社リコー | 電子写真感光体、画像形成装置、及びプロセスカートリッジ |
US9753384B2 (en) | 2015-05-08 | 2017-09-05 | Ricoh Company, Ltd. | Photoconductor, electrophotographic method, electrophotographic apparatus, and electrophotographic process cartridge |
US9766562B2 (en) | 2015-05-13 | 2017-09-19 | Ricoh Company, Ltd. | Photoconductor, image forming apparatus, and process cartridge |
Family Cites Families (96)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5648637A (en) | 1979-09-28 | 1981-05-01 | Canon Inc | Electrophotographic receptor |
US4518669A (en) * | 1982-11-06 | 1985-05-21 | Canon Kabushiki Kaisha | Electrophotographic photosensitive member |
US4579801A (en) * | 1983-08-02 | 1986-04-01 | Canon Kabushiki Kaisha | Electrophotographic photosensitive member having phenolic subbing layer |
JPS60177349A (ja) | 1984-02-24 | 1985-09-11 | Dainippon Ink & Chem Inc | 電子写真用感光体 |
US4775605A (en) * | 1986-01-09 | 1988-10-04 | Ricoh Co., Ltd. | Layered photosensitive material for electrophotography |
JPH0682221B2 (ja) | 1986-09-08 | 1994-10-19 | キヤノン株式会社 | 電子写真感光体 |
US4818650A (en) | 1987-06-10 | 1989-04-04 | Xerox Corporation | Arylamine containing polyhydroxy ether resins and system utilizing arylamine containing polyhydroxyl ether resins |
JPH02143257A (ja) | 1988-11-25 | 1990-06-01 | Canon Inc | 電子写真感光体 |
JP2678778B2 (ja) | 1988-11-28 | 1997-11-17 | キヤノン株式会社 | 電子写真感光体及びその製造方法 |
JPH0693129B2 (ja) * | 1989-01-21 | 1994-11-16 | キヤノン株式会社 | 電子写真感光体 |
US5286588A (en) | 1989-08-24 | 1994-02-15 | Ricoh Company, Ltd. | Electrophotographic photoconductor |
JP3286711B2 (ja) | 1991-03-08 | 2002-05-27 | 株式会社リコー | 電子写真用感光体 |
DE69215315T2 (de) * | 1991-09-24 | 1997-06-12 | Agfa Gevaert Nv | Elektrophotographisches Aufzeichnungsmaterial |
JP3194392B2 (ja) | 1992-01-31 | 2001-07-30 | 株式会社リコー | 電子写真感光体 |
US5721080A (en) * | 1992-06-04 | 1998-02-24 | Agfa-Gevaert, N.V. | Electrophotographic material containing particular phthalocyanines |
US5492784A (en) | 1992-08-07 | 1996-02-20 | Ricoh Company, Ltd. | Positively-chargeable single-layered type electrophotographic photoconductor |
JP3444911B2 (ja) | 1992-10-29 | 2003-09-08 | 株式会社リコー | 電子写真用感光体 |
US5656407A (en) * | 1993-06-29 | 1997-08-12 | Mita Industrial Co., Ltd. | Photosensitive material for electrophotography |
US5578405A (en) | 1993-10-14 | 1996-11-26 | Ricoh Company | Electrophotographic photoconductor containing disazo and trisazo pigments |
JPH07128872A (ja) | 1993-10-29 | 1995-05-19 | Konica Corp | 電子写真感光体とその製造法 |
US6960417B2 (en) | 1993-11-05 | 2005-11-01 | Ricoh Company, Ltd. | Electrophotographic photoconductor |
JP2727964B2 (ja) | 1994-04-25 | 1998-03-18 | 日本電気株式会社 | 電子写真用感光体とその製造方法 |
JPH07301936A (ja) | 1994-04-30 | 1995-11-14 | Nec Corp | 電子写真用感光体およびその製造方法 |
JPH0882940A (ja) | 1994-09-12 | 1996-03-26 | Nec Corp | 電子写真用感光体とその感光層の製造方法 |
JP3939775B2 (ja) | 1994-10-31 | 2007-07-04 | 株式会社リコー | 電子写真感光体 |
US5747204A (en) | 1994-11-25 | 1998-05-05 | Ricoh Company, Ltd. | Electrophotographic photoconductor and aromatic polycarbonate resin for use in the same |
JPH08190213A (ja) | 1995-01-10 | 1996-07-23 | New Oji Paper Co Ltd | 電子写真感光体 |
US5723243A (en) | 1995-05-16 | 1998-03-03 | Ricoh Company, Ltd. | Electrophotographic photoconductor and aromatic polycarbonate resin for use therein |
US5840454A (en) | 1995-06-21 | 1998-11-24 | Ricoh Company, Ltd. | Aromatic polycarbonate and electrophotographic photosensitive medium using same |
US6027846A (en) | 1995-06-30 | 2000-02-22 | Ricoh Company, Ltd. | Electrophotographic photoconductor and aromatic polycarbonate resin for use therein |
US5667096A (en) * | 1995-07-18 | 1997-09-16 | Wu; King-Sheng | Drug storing apparatus for automatic drug dispensing machines |
DE19638447B4 (de) | 1995-09-19 | 2005-12-08 | Ricoh Co., Ltd. | Elektrophotographisches Aufzeichnungsmaterial |
US5789128A (en) | 1995-12-15 | 1998-08-04 | Ricoh Company, Ltd. | Electrophotographic photoconductor and aromatic polycarbonate resin for use therein |
US5942363A (en) | 1995-12-15 | 1999-08-24 | Ricoh Company, Ltd. | Electrophotographic photoconductor and aromatic polycarbonate resin for use therein |
US5846680A (en) | 1995-12-19 | 1998-12-08 | Ricoh Company, Ltd. | Electrophotographic photoconductor and aromatic polycarbonate resin for use therein |
US5641599A (en) * | 1996-01-11 | 1997-06-24 | Xerox Corporation | Electrophotographic imaging member with improved charge blocking layer |
JP3262488B2 (ja) | 1996-02-19 | 2002-03-04 | キヤノン株式会社 | 電子写真感光体、それを用いた電子写真装置および装置ユニット |
EP0803645B1 (en) * | 1996-04-23 | 2004-02-04 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | A compression-ignition type engine |
JPH09319113A (ja) | 1996-05-24 | 1997-12-12 | Ricoh Co Ltd | 電子写真感光体 |
JP3456565B2 (ja) | 1997-02-05 | 2003-10-14 | 株式会社リコー | 画像形成方法及び画像形成装置 |
US5853935A (en) | 1997-03-12 | 1998-12-29 | Ricoh Company, Ltd. | Electrophotographic photoconductor |
US5998072A (en) | 1997-03-13 | 1999-12-07 | Konica Corporation | Electrophotographic photoreceptor, and an image-forming method and apparatus for using the same |
JPH10254160A (ja) | 1997-03-13 | 1998-09-25 | Konica Corp | 電子写真用感光体とそれを用いた画像形成方法及び装置 |
JP3708323B2 (ja) | 1997-03-28 | 2005-10-19 | 株式会社リコー | 電子写真感光体 |
US6045959A (en) | 1997-04-15 | 2000-04-04 | Ricoh Company, Ltd. | Electrophotographic photoconductor and aromatic polycarbonate resin for use therein |
US6130310A (en) | 1997-04-15 | 2000-10-10 | Ricoh Company, Ltd. | Electrophotographic photoconductor and aromatic polycarbonate resin for use therein |
US5976746A (en) | 1997-06-11 | 1999-11-02 | Ricoh Company, Ltd. | Electrophotographic photoconductor and aromatic polycarbonate resin for use therein |
US6066428A (en) | 1997-06-19 | 2000-05-23 | Ricoh Company, Ltd. | Electrophotographic photoconductor and aromatic polycarbonate resin for use therein |
US6030733A (en) | 1998-02-03 | 2000-02-29 | Ricoh Company, Ltd. | Electrophotographic photoconductor with water vapor permeability |
US6026262A (en) | 1998-04-14 | 2000-02-15 | Ricoh Company, Ltd. | Image forming apparatus employing electrophotographic photoconductor |
JP3743161B2 (ja) | 1998-04-20 | 2006-02-08 | 三菱化学株式会社 | 電子写真感光体及びその製造方法 |
JP4011791B2 (ja) | 1998-06-12 | 2007-11-21 | キヤノン株式会社 | 電子写真感光体の製造方法 |
US6187492B1 (en) | 1998-07-07 | 2001-02-13 | Ricoh Company, Ltd. | Electrophotographic photoconductor and method of producing aromatic polycarbonate resin for use in the photoconductor |
US6187494B1 (en) | 1998-07-24 | 2001-02-13 | Ricoh Company, Ltd. | Electrophotographic photoconductor and aromatic polycarbonate resin for use in the photoconductor |
US6136483A (en) | 1998-08-27 | 2000-10-24 | Ricoh Company, Ltd. | Electrophotographic photoconductor and electrophotographic image forming apparatus using the photoconductor |
US6416915B1 (en) * | 1998-11-13 | 2002-07-09 | Canon Kabushiki Kaisha | Electrophotographic photosensitive member, process cartridge and electrophotographic apparatus |
JP3773238B2 (ja) | 1999-04-30 | 2006-05-10 | 株式会社リコー | 電子写真感光体、その物を有するプロセスカートリッジ及び電子写真装置 |
US6790571B2 (en) | 1999-07-06 | 2004-09-14 | Ricoh Company, Ltd. | Aromatic polycarbonate resin, electrophotographic photoconductor, process cartridge, and electrophotographic image forming method and apparatus |
JP3907392B2 (ja) | 1999-08-10 | 2007-04-18 | 株式会社リコー | 芳香族ポリカーボネート樹脂、該芳香族ポリカーボネート樹脂を使用した電子写真感光体、電子写真方法、電子写真装置、並びにプロセスカートリッジ |
US6326112B1 (en) | 1999-08-20 | 2001-12-04 | Ricoh Company Limited | Electrophotographic photoreceptor, and process cartridge and image forming apparatus using the photoreceptor |
US6200716B1 (en) * | 1999-11-15 | 2001-03-13 | Xerox Corporation | Photoreceptor with poly (vinylbenzyl alcohol) |
US6180309B1 (en) * | 1999-11-26 | 2001-01-30 | Xerox Corporation | Organic photoreceptor with improved adhesion between coated layers |
US6444387B2 (en) | 1999-12-24 | 2002-09-03 | Ricoh Company Limited | Image bearing material, electrophotographic photoreceptor using the image bearing material, and image forming apparatus using the photoreceptor |
JP4409103B2 (ja) | 2000-03-24 | 2010-02-03 | 株式会社リコー | 電子写真感光体、電子写真方法、電子写真装置、電子写真装置用プロセスカートリッジ、長鎖アルキル基含有ビスフェノール化合物及びそれを用いたポリマー |
US6492079B2 (en) | 2000-03-28 | 2002-12-10 | Ricoh Company, Ltd. | Electrophotographic photoconductor, image forming apparatus, and process cartridge using the photoconductor |
US6207334B1 (en) * | 2000-05-12 | 2001-03-27 | Xerox Corporation | Photoreceptor with improved combination of overcoat layer and charge transport layer |
JP4566468B2 (ja) | 2000-07-04 | 2010-10-20 | 株式会社リコー | 電子写真感光体及びそれを有するプロセスカートリッジ、電子写真装置 |
JP3734735B2 (ja) | 2000-11-02 | 2006-01-11 | 株式会社リコー | 電子写真感光体 |
US6790572B2 (en) | 2000-11-08 | 2004-09-14 | Ricoh Company Limited | Electrophotographic photoreceptor, and image forming method and apparatus using the photoreceptor |
US6664361B2 (en) | 2000-12-04 | 2003-12-16 | Ricoh Company, Ltd. | Diphenol compound, aromatic polycarbonate and electrophotoconductive photoconductor |
JP3841280B2 (ja) | 2001-03-06 | 2006-11-01 | 株式会社リコー | 電子写真感光体中間層用塗工液及びその製造方法、それを用いた電子写真感光体、電子写真装置及び電子写真装置用プロセスカートリッジ |
US6936388B2 (en) | 2001-03-23 | 2005-08-30 | Ricoh Company, Ltd. | Electrophotographic photoreceptor, and image forming method, image forming apparatus, and image forming apparatus processing unit using same |
US6939651B2 (en) | 2001-06-21 | 2005-09-06 | Ricoh Company, Ltd. | Electrophotographic photoconductor, and process cartridge and electrophotographic apparatus using the same |
US6830858B2 (en) | 2001-06-27 | 2004-12-14 | Ricoh Company, Ltd. | Electrophotographic photosensitive member, preparation method thereof, image forming process, apparatus and process cartridge using the same |
DE60239439D1 (de) | 2001-09-06 | 2011-04-28 | Ricoh Co Ltd | Elektrophotografischer Photorezeptor, Bildaufzeichnungsmethode, Bildaufzeichnungsgerät, und Prozesskartusche |
US6849367B2 (en) | 2001-09-14 | 2005-02-01 | Ricoh Company, Ltd. | Electrophotographic photoconductor, process for forming an image, image forming apparatus and a process cartridge for the same |
US6864027B2 (en) | 2001-09-17 | 2005-03-08 | Ricoh Company Limited | Coating liquid for electrophotographic photoreceptor, electrophotographic photoreceptor, and image forming method and apparatus using the photoreceptor |
US6800410B2 (en) | 2001-10-02 | 2004-10-05 | Ricoh Company, Ltd. | Image forming apparatus |
JP2003122208A (ja) | 2001-10-12 | 2003-04-25 | Ricoh Co Ltd | 電子写真方式の画像形成装置 |
US6695544B2 (en) * | 2001-11-02 | 2004-02-24 | New Technology Resources, Inc. | Environment resistant retaining wall planter block and methods of use thereof |
JP3637030B2 (ja) * | 2002-04-03 | 2005-04-06 | 株式会社リコー | 電子写真感光体、電子写真装置および電子写真用カートリッジ |
US7279260B2 (en) | 2002-06-12 | 2007-10-09 | Ricoh Company, Ltd. | Electrophotographic photoconductor having a crosslinked resin layer and method of preparing an electrophotographic photoconductor |
JP4021712B2 (ja) | 2002-06-13 | 2007-12-12 | 株式会社リコー | 電子写真方式の画像形成装置及び複写機 |
JP4037189B2 (ja) | 2002-07-04 | 2008-01-23 | 株式会社リコー | 電子写真方式のクリーナレスカラー画像形成装置 |
DE60301181T2 (de) | 2002-09-24 | 2006-03-30 | Ricoh Co., Ltd. | Electrophotographic photoconductor, electrophotography method, electrophotographic apparatus, electrophotographic apparatus process cartridge using a specific outermost surface layer coating solution for the photoconductor |
US6946227B2 (en) * | 2002-11-20 | 2005-09-20 | Xerox Corporation | Imaging members |
US7103301B2 (en) | 2003-02-18 | 2006-09-05 | Ricoh Company, Ltd. | Image forming apparatus using a contact or a proximity type of charging system including a protection substance on a moveable body to be charged |
JP4030895B2 (ja) | 2003-02-26 | 2008-01-09 | 株式会社リコー | 電子写真感光体、及び画像形成方法、画像形成装置、画像形成装置用プロセスカートリッジ |
JP4071653B2 (ja) | 2003-03-04 | 2008-04-02 | 株式会社リコー | 電子写真感光体、及び画像形成方法、画像形成装置、画像形成装置用プロセスカートリッジ、電子写真感光体製造方法 |
US7175957B2 (en) | 2003-03-20 | 2007-02-13 | Ricoh Company, Ltd. | Electrophotographic photoconductor, and image forming process, image forming apparatus and process cartridge for an image forming apparatus using the same |
US7179573B2 (en) | 2003-03-20 | 2007-02-20 | Ricoh Company, Ltd. | Electrophotographic photoconductor, and image forming process, image forming apparatus and process cartridge for an image forming apparatus using the same |
US7381511B2 (en) | 2003-06-02 | 2008-06-03 | Ricoh Company, Ltd. | Photoreceptor, image forming method and image forming apparatus using the photoreceptor, process cartridge using the photoreceptor and coating liquid for the photoreceptor |
JP4194973B2 (ja) | 2003-08-29 | 2008-12-10 | 株式会社リコー | 電子写真感光体、それを用いた画像形成方法、画像形成装置及び画像形成装置用プロセスカートリッジ |
JP4216228B2 (ja) | 2003-09-09 | 2009-01-28 | 株式会社リコー | 電子写真感光体、それを用いた画像形成方法、画像形成装置及び画像形成装置用プロセスカートリッジ |
US7556903B2 (en) * | 2003-09-19 | 2009-07-07 | Ricoh Company Limited | Electrophotographic photoreceptor, and image forming method, apparatus and process cartridge therefor using the photoreceptor |
JP4160512B2 (ja) * | 2004-01-20 | 2008-10-01 | 株式会社リコー | 電子写真感光体、それを用いた画像形成方法、画像形成装置及び画像形成装置用プロセスカートリッジ |
-
2004
- 2004-11-02 JP JP2004319768A patent/JP4767523B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2005
- 2005-07-05 US US11/172,989 patent/US7659044B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
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