JP7014553B2 - めっき装置 - Google Patents

Description

本発明は、めっき装置に関する。

従来、半導体ウェハ等の基板の表面に設けられた微細な配線用溝、ホール、又はレジスト開口部に配線を形成したり、基板の表面にパッケージの電極等と電気的に接続するバンプ（突起状電極）を形成したりすることが行われている。この配線及びバンプを形成する方法として、例えば、電解めっき法、蒸着法、印刷法、ボールバンプ法等が知られている。半導体チップのＩ／Ｏ数の増加、細ピッチ化に伴い、微細化が可能で性能が比較的安定している電解めっき法が多く用いられるようになってきている。

電解めっき法で配線又はバンプを形成する場合、基板上の配線用溝、ホール、又はレジスト開口部に設けられるバリアメタルの表面に電気抵抗の低いシード層（給電層）が形成される。このシード層の表面において、めっき膜が成長する。近年、配線及びバンプの微細化に伴って、より薄い膜厚のシード層が用いられている。シード層の膜厚が薄くなると、シード層の電気抵抗（シート抵抗）が増加する。

一般的に、めっきされる基板は、その周縁部に電気接点を有する。このため、基板の中央部には、めっき液の電気抵抗値と基板の中央部から電気接点までのシード層の電気抵抗値との合成抵抗に対応する電流が流れる。一方で、基板の周縁部（電気接点近傍）には、ほぼ、めっき液の電気抵抗値に対応する電流が流れる。即ち、基板の中央部には、基板の中央部から電気接点までのシード層の電気抵抗値の分だけ、電流が流れにくい。この基板の周縁部に電流が集中する現象はターミナルエフェクトと呼ばれる。

比較的薄い膜厚のシード層を有する基板は、基板の中央部から電気接点までのシード層の電気抵抗値が比較的大きい。このため、比較的薄い膜厚のシード層を有する基板にめっきを行う場合、ターミナルエフェクトが顕著になる。また、基板が大型化するほど、基板の中央部から電気接点までのシード層の電気抵抗値が大きくなる。その結果、基板の中央部におけるめっき速度が低下し、基板の中央部におけるめっき膜の膜厚が基板の周縁部におけるめっき膜よりも薄くなり、膜厚の面内均一性が低下する可能性がある。

ターミナルエフェクトによる膜厚の面内均一性の低下を抑制するためには、基板に加わる電場を調整することが必要になる。特開２０１６－９８３９９号公報（特許文献１）に記載されたような、アノードから円形の基板に向かう電場を調整可能なアノードマスクを備えためっき装置が知られている。また、特開平６－１７２９７号公報（特許文献２）に記載されたような、基板とアノードとの間においてアノードから離れた位置に電流阻止部を設けためっき装置が知られている。

ところで、円形の半導体ウェハのような円形基板ではなく、矩形又は角形の基板にめっきを行う場合、処理すべき基板の縦横寸法比はさまざまである。めっきにより金属を埋め込む凹部等のパターンの配置もバリエーションが増えることになる。このような矩形の基板に膜厚均一性の良いめっきを行うには、従来の電流阻止手段では電場の制御が十分に行えなくなってきている。また、矩形以外の、例えば円形の基板であっても、外周部分のめっき膜厚をより均一にしたい場合がある。

特開２０１６－９８３９９号公報 特開平６－１７２９７号公報

本発明の目的は、めっき装置における電場調整機能を向上させることにある。

本発明の一側面は、 めっき装置に関し、このめっき装置は、めっき槽と、 前記めっき槽に配置され、基板を保持するための基板ホルダと、 前記基板ホルダと対向して配置されるアノードと、 前記アノードから前記基板への電場の一部を遮蔽するための少なくとも１つの電場遮蔽体と、を備え、 前記電場遮蔽体は、前記基板と前記アノードとの間の電場を通過させる開口部を有し、かつ、前記開口部の第１方向における開口寸法、及び第２方向における開口寸法を独立に調整可能に構成されている。

本発明の一側面は、 めっき装置に関し、このめっき装置は、めっき槽と、 前記めっき槽に配置され、基板を保持するための基板ホルダと、 前記基板ホルダと対向して配置されるアノードと、前記アノードから前記基板への電場の一部を遮蔽するための少なくとも１つの電場遮蔽体と、を備え、 前記電場遮蔽体は、前記アノードからの電場を通過させるための開口部を各々が有する３つ以上の遮蔽部材を有し、 少なくとも２つの前記遮蔽部材は、各開口部が重なって形成される開口領域を調整するように、少なくとも１つの前記遮蔽部材に対して移動可能に構成されている。

めっき装置の一実施形態を示す模式図である。 めっき槽の構成を概略的に示す側面図である。 第１実施形態に係るアノードユニットの斜視図である。 第１実施形態に係るアノードユニットの下マスクを省略して示す斜視図である。 第１実施形態に係るアノードユニットの上部及び下マスクを省略して示す斜視図である。 第１実施形態の変形例に係るアノードユニットの右上方からみた斜視図である。 第１実施形態の変形例に係るアノードユニットの左上方からみた斜視図である。 第２実施形態に係るアノードユニットの斜視図である。 第２実施形態に係るアノードユニットの駆動部を省略した斜視図である。 第２実施形態に係るアノードユニットの第１状態における正面図である。 第２実施形態に係るアノードユニットの第２状態における正面図である。 第３実施形態に係るアノードユニットのアノードマスクを前面側からみた斜視図である。 第３実施形態に係るアノードユニットのアノードマスクを背面側からみた斜視図である。 第３実施形態に係るアノードユニットのアノードマスクの側面図である。 図１０ＣのＡ－Ａ線に沿った矢視図である。 図１０ＣのＢ－Ｂ線に沿った矢視図である。 第１状態におけるアノードマスクの前面図である。 第２状態におけるアノードマスクの前面図である。 第１状態におけるアノードマスクの背面図である。 第２状態におけるアノードマスクの背面図である。 第４実施形態に係るアノードユニットの斜視図である。 第４実施形態に係るアノードユニットの一部切り欠き斜視図である。 第４実施形態に係るアノードユニットの前面側からみた分解斜視図である。 第４実施形態に係るアノードユニットの背面側からみた分解斜視図である。 アノードホルダの正面図である。 左右マスク可変レバーの正面図、側面図及び背面図である。 左右マスクブレードの正面図及び側面図である。 中間案内部材の正面図及び背面図である。 上下マスク可変レバーの正面図、側面図、及び背面図である。 上下マスクブレードの正面図及び側面図である。 前面案内部材の背面図である。 第１状態の左右マスクの正面図である。 第２状態の左右マスクの正面図である。 第１状態の上下マスクの正面図である。 第２状態の上下マスクの正面図である。 第４実施形態に係るアノードホルダの変形例である。 本発明を適用したレギュレーションプレートの斜視図である。

以下に、本発明に係るめっき装置およびめっき装置に使用されるアノードユニットの実施形態を添付図面とともに説明する。添付図面において、同一または類似の要素には同一または類似の参照符号が付され、各実施形態の説明において同一または類似の要素に関する重複する説明は省略することがある。また、各実施形態で示される特徴は、互いに矛盾しない限り他の実施形態にも適用可能である。なお、本明細書において「基板」には、半導体基板、ガラス基板、プリント回路基板だけでなく、磁気記録媒体、磁気記録センサ、ミラー、光学素子や微小機械素子、あるいは部分的に製作された集積回路を含む。基板は、任意の形状（角形、円形等）のものを含む。また、本明細書において「前面」、「背面」、「フロント」、「バック」、「上」、「下」、「左」、「右」等の表現を用いるが、これらは、説明の都合上、例示の図面の紙面上における位置、方向を示すものであり、装置使用時等の実際の配置では異なる場合がある。

図１は、めっき装置の一実施形態を示す模式図である。図１に示すように、めっき装置は、架台１０１と、めっき装置の運転を制御する制御部１０３と、基板Ｗ（図２参照）をロードおよびアンロードするロード/アンロード部１７０Ａと、基板ホルダ１１（図２参照）に基板Ｗをセットし、かつ基板ホルダ１１から基板Ｗを取り外す基板セット部（メカ室、基板着脱部）１７０Ｂと、基板Ｗをめっきするプロセス部（前処理室、めっき室）１７０Ｃと、基板ホルダ１１を格納するホルダ格納部（ストッカ室）１７０Ｄと、めっきされた基板Ｗを洗浄および乾燥する洗浄部１７０Ｅとを備えている。本実施形態に係るめっき装置は、めっき液に電流を流すことで基板Ｗの被めっき面を金属でめっきする電解めっき装置である。また、本実施形態の処理対象となる基板Ｗは、半導体パッケージ基板等である。特に、本実施形態に係るめっき装置は、矩形の基板に好適に用いることができる。また、基板Ｗの表面側および裏面側のそれぞれには、シード層等からなる電導層が形成され、さらに、この電導層の上のパターン面形成領域にはレジスト層が形成されており、このレジスト層には、予めトレンチやビアが形成されている。本実施形態においては、基板の表面と裏面とを接続する貫通孔を備える基板（いわゆるスルーホール基板）を処理対象として含み得る。

図１に示すように、架台１０１は、複数の架台部材１０１ａ～１０１ｈから構成されており、これら架台部材１０１ａ～１０１ｈは連結可能に構成されている。ロード/アンロード部１７０Ａの構成要素は第１の架台部材１０１ａ上に配置されており、基板セット部１７０Ｂの構成要素は第２の架台部材１０１ｂ上に配置されており、プロセス部１７０Ｃの構成要素は第３の架台部材１０１ｃ～第６の架台部材１０１ｆ上に配置されており、ホルダ格納部１７０Ｄの構成要素は第７の架台部材１０１ｇおよび第８の架台部材１０１ｈ上に配置されている。

ロード/アンロード部１７０Ａには、めっき前の基板Ｗを収納したカセット（図示しない）が搭載されるロードステージ１０５と、プロセス部１７０Ｃでめっきされた基板Ｗを受け取るカセット（図示しない）が搭載されるアンロードステージ１０７とが設けられている。さらに、ロード/アンロード部１７０Ａには、基板Ｗを搬送する搬送用ロボットからなる基板搬送装置１２２が配置されている。

基板搬送装置１２２はロードステージ１０５に搭載されたカセットにアクセスし、めっき前の基板Ｗをカセットから取り出し、基板Ｗを基板セット部１７０Ｂに渡すように構成されている。基板セット部１７０Ｂでは、めっき前の基板Ｗが基板ホルダ１１にセットされ、めっき後の基板Ｗが基板ホルダ１１から取り出される。

プロセス部１７０Ｃには、プリウェット槽１２６と、プリソーク槽１２８と、第１リンス槽１３０ａと、ブロー槽１３２と、第２リンス槽１３０ｂと、第１めっき槽１０ａと、第２めっき槽１０ｂと、第３リンス槽１３０ｃと、第３めっき槽１０ｃとが配置されている。これら槽１２６，１２８，１３０ａ，１３２，１３０ｂ，１０ａ，１０ｂ，１３０ｃ，１０ｃは、この順に配置されている。以下の説明では、第１めっき槽１０ａ、第２めっき槽１０ｂ、第３めっき槽１０ｃを総称して、又は、これらのめっき槽のうち任意のめっき槽を参照して、めっき槽１０と称する場合がある。

プリウェット槽１２６では、前処理準備として、基板Ｗが純水に浸漬される。プリソーク槽１２８では、基板Ｗの表面に形成されたシード層などの導電層の表面の酸化膜が薬液によってエッチング除去される。第１リンス槽１３０ａでは、プリソーク後の基板Ｗが洗浄液（例えば、純水）で洗浄される。

第１めっき槽１０ａ、第２めっき槽１０ｂ、および第３めっき槽１０ｃの少なくとも１つのめっき槽１０では、基板Ｗの被めっき面がめっきされる。なお、図１に示される実施形態においては、めっき槽１０は、３つであるが、他の実施形態として任意の数のめっき槽１０を備えるようにしてもよい。また、ここでは、基板Ｗの片面をめっきする場合を例に挙げるが、両面めっきの場合にも本発明を適用可能である。

第２リンス槽１３０ｂでは、第１めっき槽１０ａまたは第２めっき槽１０ｂでめっきされた基板Ｗが基板ホルダ１１とともに洗浄液（例えば、純水）で洗浄される。第３リンス槽１３０ｃでは、第３めっき槽１０ｃでめっきされた基板Ｗが基板ホルダ１１とともに洗浄液（例えば、純水）で洗浄される。ブロー槽１３２では、めっき処理前後において洗浄後の基板Ｗの液切りが行われる。

プリウェット槽１２６、プリソーク槽１２８、リンス槽１３０ａ～１３０ｃ、およびめっき槽１０ａ～１０ｃは、それらの内部に処理液（液体）を貯留できる処理槽である。これら処理槽は、処理液を貯留する複数の処理セルを備えているが、この実施形態に限定されず、これら処理槽は単一の処理セルを備えてもよい。また、これら処理槽の少なくとも一部が単一の処理セルを備えており、他の処理槽は複数の処理セルを備えてもよい。

めっき装置は、基板ホルダ１１を搬送する搬送機１４０をさらに備えている。搬送機１４０はめっき装置の構成要素の間を移動可能に構成されている。搬送機１４０は、基板セット部１７０Ｂからプロセス部１７０Ｃまで水平方向に延びる固定ベース１４２と、固定べ一ス１４２に沿って移動可能に構成された複数のトランスポータ１４１とを備えている。

これらトランスポータ１４１は、基板ホルダ１１を保持するための可動部（図示しない）をそれぞれ有しており、基板ホルダ１１を保持するように構成されている。トランスポータ１４１は、基板セット部１７０Ｂ、ホルダ格納部１７０Ｄ、およびプロセス部１７０Ｃとの間で基板ホルダ１１を搬送し、さらに基板ホルダ１１を基板Ｗとともに上下動させるように構成されている。例えば、トランスポータ１４１の１つは、基板Ｗを保持した基板ホルダ１１をめっき槽１０の上から下降させることにより、基板Ｗを基板ホルダ１１とともにめっき槽１０内のめっき液中に浸漬させることができる。トランスポータ１４１の移動機構として、例えばモータとラックアンドピニオンとの組み合わせが挙げられる。なお、図１に示される実施形態では、３つのトランスポータが設けられているが、他の実施形態として任意の数のトランスポータを採用してもよい。

（めっき槽の構成）
図２は、めっき槽の構成を概略的に示す側面図である。めっき処理中、めっき槽１０には、基板Ｗを保持した基板ホルダ１１と、アノード電極ＡＮを保持するアノードユニット１２と、レギュレーションプレート１４と、パドル１５とが配置される。めっき槽１０はめっき液を収容し、基板Ｗ及びアノード電極ＡＮはめっき液中に浸漬される。アノードユニット１２は、アノード電極ＡＮを保持するアノードホルダ２００と、アノード電極ＡＮと基板Ｗとの間の電場を調整するためのアノードマスク３００とを有する。一例では、アノードユニット１２は、アノードボックス１３内に収容される。アノードボックス１３のアノード電極ＡＮに対向する位置には開口部が設けられ、開口部には隔膜１３ａが配置される。アノードマスク３００は、例えば誘電体材料からなる１又は複数の略板状の部材を含む。アノードマスクの詳細については、後述する。レギュレーションプレート１４は、開口部を有し、アノードマスク３００と同様に基板Ｗとの間の電場を調整する。一例では、レギュレーションプレート１４の開口部の寸法は固定であり、異なる開口寸法のレギュレーションプレートを入れ替えて使用する。他の例では、レギュレーションプレート１４の開口寸法は調整可能である。パドル１５は、基板Ｗの被めっき面の近傍のめっき液を撹拌する。パドル１５は、たとえば、略棒状の部材とすることができ、鉛直方向を向くようにめっき槽１０内に設けることができる。パドル１５は、図示しない駆動装置により基板Ｗの被めっき面に沿って水平移動できるように構成される。また、パドル１５は、板状部材に複数の縦方向のスリットを設けたものでもよい。なお、めっき品質の観点から、（基板Ｗの被めっき面の露出面積または寸法）＞（レギュレーションプレートの開口面積または寸法）＞（アノードマスクの開口面積または寸法）の関係となることが好ましい。この場合、基板Ｗ自体の面積または寸法は、レギュレーションプレートの開口部の面積または寸法よりも大きい、ということになる。従って、上記関係を満たすように、アノードマスクの開口面積（または開口寸法）及びレギュレーションプレートの開口面積（または開口寸法）が設定及び／又は調整されることが好ましい。

アノード電極ＡＮは、アノードホルダ２００内の配線を介して外部電源（図示せず）に接続されている。また、基板Ｗの被めっき面は、基板ホルダ１１内の配線を介して外部電源に接続されている。アノード電極ＡＮと基板Ｗとの間に外部電源から電圧が供給されると、外部電源から、アノード電極ＡＮ、めっき液、基板Ｗの被めっき面のシード層を通り、外部電源に戻る経路で、めっき電流が流れる。これにより、めっき液中の金属が基板Ｗの被めっき面上に析出し、基板Ｗがめっき処理される。

めっき槽１０には、めっき液をめっき槽１０と外槽１６との間で循環させる循環機構７００が設けられている。循環機構７００、めっき槽１０から溢れためっき液を受け入れる外槽１６と、めっき槽１０とを接続する循環ライン７０２とを備える。一例では、循環ライン７０２は、めっき槽１０の底部と、外槽１６の底部とに接続される。循環ライン７０２には、弁７０４が設けられており、循環ライン７０２の開閉を行うことができる。弁７０４はたとえば電磁弁とするこができ、制御部１０３（図１参照）により循環ライン７０２の開閉を制御することができるようにしてもよい。循環ライン７０２には、ポンプ７０６が設けられており、ポンプ７０６によって、循環ライン７０２を通してめっき液を外槽１６からめっき槽１０へ循環させることができる。循環ライン７０２には、温度制御装置７０８が設けられており、循環ライン７０２を通るめっき液の温度を制御することができる。たとえば、めっき槽１０に図示しない温度計を設け、この温度計で測定しためっき液温度に応じて、制御部１０３により温度制御装置７０８を制御するようにしてもよい。循環ライン７０２には、フィルタ７１０が設けられており、循環ライン７０２を通るめっき液の固形物を取り除くことができる。

（アノードユニット）
（第１実施形態）
図３は、第１実施形態に係るアノードユニットの斜視図である。図４は、第１実施形態に係るアノードユニットの下マスクを省略して示す斜視図である。図５は、第１実施形態に係るアノードユニットの上及び下マスクを省略して示す斜視図である。

アノードユニット１２は、アノード電極ＡＮを保持するアノードホルダ２００と、アノード電極ＡＮの露出領域（開口領域）を調整するためのアノードマスク３００と、を備えている。アノードホルダ２００は、アノード本体２０１と、アーム部２０２とを備えている。アノードマスク３００は、アノードホルダ２００の前面に一体的に取り付けられる。アノード本体２０１は、開口部２０４を有している。アノード本体２０１は、アノード電極ＡＮを保持し、アノード電極ＡＮを開口部２０４から露出するように構成されている。アーム部２０２は、その両端部においてアノードホルダ２００をめっき槽１０に装着するように構成されており、一方の端部には外部電源（図示せず）に電気的に接続される給電端子２０３ａが設けられている。アノード電極ＡＮに２つの給電経路で給電するような場合には、アーム部２０２の他方の端部にも給電端子２０３ｂをさらに設けてもよい。以下の説明では、アノードユニット（アノードホルダ、アノードマスク）の基板ホルダ１１に対向する側を、アノードユニット（アノードホルダ、アノードマスク）の前面（正面）、反対側を後面（背面）と称する。

アノードマスク３００は、左マスク３１１と、右マスク３１２と、上マスク３１３と、下マスク３１４とを備えている。左マスク３１１と、右マスク３１２と、上マスク３１３と、下マスク３１４は、それぞれ、アノード本体２０１の開口部２０４の左側端部、右側端部、上側端部、下側端部における開口部２０４の開口領域（開口寸法、開口位置）を調整する。各マスク３１１～３１４は、例えば誘電体材料からなる。

左マスク３１１は、図５に示すように、略Ｌ字状の板状部材であり、アノード本体２０１の開口部２０４の左側端部に沿って延びている。アノード本体２０１の前面には、開口部２０４の下部で下辺に沿って延びるガイド３３３が設けられている。ガイド３３３の内側には、スリットが設けられている。左マスク３１１の下部は、ガイド３３３のスリットに係合し、ガイド３３３によって左右方向に沿って案内されている。左マスク３１１の上部には、ガイド部材３１５が取り付けられている。ガイド部材３１５は、２つ以上設けられてもよい。ガイド部材３１５は、別部材として左マスク３１１に取り付けられてもよいし、左マスク３１１と一体に形成されてもよい。ガイド部材３１５は、アノード本体２０１の左右方向に沿って延びる貫通穴を有し、貫通穴の内周には雌ねじが設けられている。
ガイド部材３１５の貫通穴に直接雌ねじが設けられてもよいし、内周に雌ねじを有する貫通孔が設けられた別の部材をガイド部材３１５に取り付けてもよい。

右マスク３１２は、略Ｌ字状の板状部材であり、アノード本体２０１の開口部２０４の右側端部に沿って延びている。右マスク３１１の下部は、ガイド３３３によって左右方向に沿って案内されている。右マスク３１１の上部には、ガイド部材３１６が取り付けられている。ガイド部材３１６の構成は、ガイド部材３１５の構成と同様である。

ガイド部材３１５、３１６の貫通孔には、アノード本体２０１の左右方向に延びるロッド３２４が挿入されている。ロッド３２４の外周には雄ねじが設けられている。ガイド部材３１５、３１６の雌ねじに、ロッド３２４の雄ねじが螺合して、送りねじ機構を構成している。ロッド３２４は、軸受３４１、３４２に支持されており、ロッド３２４の一端は、モータ３２１の回転軸に連結されている。ガイド部材３１５の雌ねじと、ガイド部材３１６の雌ねじとは、ロッド３２４の回転によってロッド３２４の軸方向に沿って互いに反対方向に移動するように、ロッド３２４の雄ねじに係合している。なお、他の実施形態では、ガイド部材３１５の雌ねじと、ガイド部材３１６の雌ねじとは、ロッド３２４の回転によってロッド３２４の軸方向に沿って同一方向に移動するように、ロッド３２４の雄ねじに係合してもよい。

ロッド３２４がモータ３２１によって回転されると、ガイド部材３１５、３１６が左右方向に沿って互いに接近又は離間するように移動し、これにより、ガイド部材３１５、３１６に固定された左マスク３１１、右マスク３１２が左右方向に沿って互いに接近又は離間するように移動する。この結果、アノード本体２０１の開口部２０４の左側端部及び右側端部における開口領域が調整される。言い換えれば、開口部２０４の左右方向の開口寸法が調整される。

上マスク３１３は、図４に示すように、アノード本体２０１の開口部２０４の上部において上辺に沿って延びている。アノード本体２０１の前面には、開口部２０４の左辺及び右辺の外側で左辺及び右辺に沿って延びるガイド３３１ａ、３３１ｂが設けられている。ガイド３３１ａ、３３１ｂの内側には、スリットが設けられている。上マスク３１３の左部及び右部は、ガイド３３１ａ、３３１ｂのスリットに係合し、ガイド３３１ａ、３３１ｂによって上下方向に沿って移動するように案内されている。上マスク３１３には、２つのラックギア３１７、３１８が設けられている。各ラックギア３１７、３１８は、ラック歯を有する。各ラックギア３１７、３１８は、上マスク３１３の左右対称の位置に設けられている。ラックギアの数は、１つでもよいし、３つ以上でもよい。各ラックギア３１７、３１８は、左右方向に延びるロッド３２５に設けられた２つのピニオンギア３２６、３２７にそれぞれ係合している。ラックギア３１７、３１８と、ピニオンギア３２６、３２７によって、ラックピニオン機構が構成されている。ロッド３２５は、軸受３４３、３４４によって支持されており、ロッド３２５の一端は、モータ３２２の回転軸に連結されている。ロッド３２５がモータ３２２によって回転されると、ラックピニオン機構によって上マスク３１３が上下方向に沿って移動する。この結果、アノード本体２０１の開口部２０４の上側端部における開口領域が調整される。

なお、モータ３２１、３２２は、めっき槽１０に固定されている。また、図３～図６Ｂにおいては図示しないが、ロッド３２４をガイド部材３１５と軸受３４１の間で２つに分割し、２つのロッド３２４の間を継手で連結することができる（図１３参照）。同様に、ロッド３２５をラックギア３１７と軸受３４３の間で２つに分割し、２つのロッド３２５の間を継手で連結することができる。軸受３４２、３４４側のロッド３２４、３２５についても、同様に構成することができる。このように構成する場合、アノード電極ＡＮの交換など、アノードユニット１２のメンテナンスを行う際には、継手によるロッド間の連結
を解除することにより、アノードユニット１２をめっき槽１０から取り出すことができる。

下マスク３１４は、図３に示すように、アノード本体２０１の開口部２０４の下側端部において開口部２０４の下辺に沿って延びる下マスク部３１４ａと、開口部２０４の左辺及び右辺の外側で左辺及び右辺に沿って延びる左延長部３１４ｂ及び右延長部３１４ｃと、左延長部３１４ｂ及び右延長部３１４ｃを互いに連結するように形成された上延長部３１４ｄとを備えている。左延長部３１４ｂ及び右延長部３１４ｃの上部は、上マスク３１３との干渉を避けるためにアノード本体２０１から離間する方向に屈曲し、さらにアノード本体２０１に平行な方向に延びるように屈曲し、上延長部３１４ｄに連結されている。また、上延長部３１４ｄは、正面視において、上マスク３１３との干渉を避ける位置に配置されている。言い換えれば、アノードユニット１２を前方からみたとき、上マスク３１３と重ならないように上延長部３１４ｄが構成されている。

アノード本体２０１の前面には、開口部２０４の左辺及び右辺の外側で左辺及び右辺に沿って延びるガイド３３２ａ、３３２ｂが設けられている。ガイド３３２ａ、３３２ｂの内側には、スリットが設けられている。左延長部３１４ｂ及び右延長部３１４ｃは、ガイド３３２ａ、３３２ｂのスリットに係合し、ガイド３３２ａ、３３２ｂによって上下方向に沿って移動するように案内されている。下マスク３１４の上延長部３１４ｄの背面には、ラックギア３１９、３２０が設けられている（図３、図４）。ラックギア３１９、３２０の構成は、ラックギアラックギア３１７、３１８の構成と同様である。ラックギア３１９、３２０は、それぞれピニオンギア３２６、３２７にそれぞれ係合している。ラックギア３１９、３２０と、ピニオンギア３２６、３２７によって、ラックピニオン機構が構成されている。ロッド３２５がモータ３２２によって回転されると、ラックピニオン機構によって上延長部３１４ｄが上下方向に沿って移動し、これにより、下マスク３１４がガイド３３２ａ、３３２ｂに沿って上下方向に沿って移動する。この結果、アノード本体２０１の開口部２０４の下側端部における開口領域が調整される。

ラックピニオン機構によって、上マスク３１３と下マスク３１４とは、上下方向に沿って反対方向に移動する。上マスク３１３のラックギア３１７，３１８と、下マスク３１４のラックギア３１９、３２０とは、ピニオンギア３２６、３２７の回転によって互いに反対方向に移動するように、ピニオンギア３２６、３２７に係合している。なお、他の実施形態では、上マスク３１３と下マスク３１４は一体で形成され、ラックピニオン機構によって上下方向の同一方向に移動するように、係合してもよい。

以上説明したアノードユニット１２によれば、左マスク３１１と右マスク３１２とが左右方向に沿って接近離間するように移動可能であるとともに、上マスク３１３と下マスク３１４とが上下方向に沿って接近離間するように移動することが可能である。この結果、アノードホルダ２００の開口部２０４の左右方向の開口領域と、上下方向の開口領域とを互いに独立に調整することが可能である。これにより、基板上のめっきすべきパターンの配置や、基板あるいはアノード電極への給電方法によって影響を受ける基板上のめっき膜厚分布をより細かく調整できる。

また、左マスク３１１と右マスク３１２とが左右方向に沿って同期して接近離間するように移動するので、開口部２０４の左右の各端部における開口領域を同一量で調整することができる。また、開口部２０４の左右の各端部における開口領域を対称に調整することができる。同様に、上マスク３１３と下マスク３１４とが上下方向に沿って同期して接近離間するように移動するので、開口部２０４の上下の各端部における開口領域を同一量で調整することができる。開口部２０４の上下の各端部における開口領域を対称に調整することができる。例えば、基板、アノード電極、アノードマスクの開口部２０４の中心が一
直線上になるように各部材を配置した状態で、開口部の中心が移動しないようにしたままで開口部２０４の左右方向の開口寸法と上下方向の開口寸法がそれぞれ最適になるように調整することができるので、めっき膜厚の調整方法がシンプルになり、めっき槽間でのめっき膜厚の均一性のばらつきも抑えやすくなる。

（第１実施形態の変形例）
図６Ａは、第１実施形態の変形例に係るアノードユニットの左上方からみた斜視図である。図６Ｂは、第１実施形態の変形例に係るアノードユニットの右上方からみた斜視図である。変形例に係るアノードユニット１２では、左マスク３１１と右マスク３１２とが独立の駆動機構によって駆動され、上マスク３１３と下マスク３１４とが独立の駆動機構によって駆動される。左マスク３１１と右マスク３１２とは、独立の駆動機構によって同期して、又は、同期せずに駆動されることが可能である。左マスク３１１と右マスク３１２とは、接近離間するように駆動されることが可能であり、同一方向に移動するように駆動されることが可能である。上マスク３１３と下マスク３１４についても同様である。

図６Ａ及び図６Ｂに示すように、ロッド３２４がロッド３２４ａ及びロッド３２４ｂに分割されており、ロッド３２４ａの一端は、モータ３２１ａの回転軸に連結され、ロッド３２４ｂの一端は、モータ３２１ｂの回転軸に連結されている。左マスク３１１のガイド部材３１５に、ロッド３２４ａが係合している。右マスク３１２のガイド部材３１６に、ロッド３２４ｂが係合している。ロッド３２４ａ及びロッド３２４ｂの外周には、ロッド３２４と同様に、それぞれ雄ねじが設けられている。ロッド３２４ａの外周の雄ねじと、ガイド部材３１５の貫通孔の雌ねじとで、送りねじ機構が構成されている。ロッド３２４ｂの外周の雄ねじと、ガイド部材３１６の貫通孔の雌ねじとで、送りねじ機構が構成されている。左マスク３１１及び右マスク３１２は、独立の駆動源であるモータ３２１ａ、３２１ｂの回転によって、同期して又は同期せずに、左右方向に移動可能である。左マスク３１１及び右マスク３１２は、独立の駆動源であるモータ３２１ａ、３２１ｂの回転によって、左右方向に沿って、接近又は離間するように、又は同一方向に移動可能である。

図６Ａ及び図６Ｂに示すように、ロッド３２５がロッド３２５ａ及びロッド３２５ｂに分割されている。ロッド３２５ａの一端は、モータ３２２ａの回転軸に連結され、ロッド３２５ｂの一端は、モータ３２２ｂの回転軸に連結されている。上マスク３１３のラックギア３１７に、ロッド３２５ａのピニオンギア３２６が係合している。下マスク３１４のラックギア３２０に、ロッド３２５ｂのピニオンギア３２７が係合している。ロッド３２５ａの他端は、アノードホルダ２００に取り付けられた軸受３４５によって支承されている。ロッド３２５ｂの他端は、アノードホルダ２００に取付けられた軸受３４６によって支承されている。上マスク３１３の右側上方部には、軸受３４６との干渉を避けるために切り欠きが設けられている。下マスク３１４の上延長部３１４ｄの左側上方部には、軸受３４６との干渉を避けるための切り欠きが設けられている。

上マスク３１３及び下マスク３１４は、独立の駆動源であるモータ３２２ａ、３２２ｂの回転によって、同期して又は同期せずに、上下方向に沿って移動可能である。上マスク３１３及び下マスク３１４は、独立の駆動源であるモータ３２２ａ、３２２ｂの回転によって、上下方向に沿って、接近又は離間するように又は同一方向に移動可能である。

なお、各モータ３２１ａ、３２１ｂ、３２２ａ、３２２ｂは、めっき槽１０に固定されている。また、各ロッド３２４ａ、３２４ｂ、３２５ａ、３２５ｂを２つに分割し、継手で連結することが可能である。この場合、アノード電極ＡＮの交換など、アノードユニット１２のメンテナンスを行う際には、継手による各ロッドの連結を解除することにより、アノードユニット１２をめっき槽１０から取り出すことができる。

変形例に係るアノードユニット１２によれば、左マスク３１１と右マスク３１２とを異なる量で調整可能であり、上マスク３１３と下マスク３１４とを異なる量で調整可能でありので、開口領域の中心位置を調整することが可能である。例えば、基板Ｗとアノードマスクの中心位置の位置合わせにずれがある場合に、アノードマスクの開口領域の調整によって位置合わせのずれを補正することが可能となる。また、基板Ｗと、レギュレーションプレートと、アノードマスクの中心位置の位置合わせにずれがある場合に、アノードマスクの開口領域の調整によって位置合わせのずれを補正することが可能となる。また、めっきすべきパターンの配置が左右あるいは上下に偏っている基板を処理する際にも、アノードマスク自体の位置を移動させることなく、電場を調整することが可能になる。なお、後述するレギュレーションプレートへの適用例を用いれば、レギュレーションプレートの開口領域も同様に調整することができるので、中心位置合わせの精度をさらに向上させることができる。

なお、変形例に係るアノードユニット１２においても、制御部１０３の制御により、左マスク３１１と右マスク３１２とを同期して調整可能であり、上マスク３１３と下マスク３１４とを同期して調整可能である。

（レギュレーションプレートへの適用）
図２６は、本発明を適用したレギュレーションプレートの斜視図である。レギュレーションプレート１４’は、ベースプレート１４０’と、調整プレート１２’とを備える。ベースプレート１４０’は、一定の開口面積を有する開口部１４０ａを有する遮蔽プレートである。調整プレート１２’は、上記実施形態のアノードマスク３００と同様の構成を有するプレートである。調整プレート１２’は、アノードマスク３００と同様に貫通する開口部を有し、アノードマスク３００と同様の機構により、開口部の大きさあるいは位置あるいは形状を変えることができる。これにより、アノード電極からやや離れた、基板とアノード電極の中間に配置されたレギュレーションプレートの開口部をアノードマスク３００と同様な機構により調整して電場を制御することができる。なお、調整プレート１２’は、各実施形態に係るアノードマスクと同様の構成を有することができる。例えば、調整プレート１２’は、後述する、図７～図９Ｂに示す第２実施形態に係るアノードマスクの構成、図１０Ａ～図１２Ｂに示す第３実施形態に係るアノードマスクの構成、図１３～図２５に示す第４実施形態に係るアノードマスクの構成を採用することができる。 このような構成により、調整プレート１２’では、アノードマスクの各マスクの位置を調整して、これにより、ベースプレート１４０’の開口部１４０ａの開口領域を調整することができるようになっている。

なお、アノードマスクはアノード電極に近く基板から遠いため、基板のめっき面全体の膜厚をコントロールするのに有効である。一方、調整プレートはアノードマスクよりも基板側に近く、調整プレートは基板の外周部のみの膜厚をコントロールするのに比較的向いている。アノードマスクと調整プレートの両方を２方向独立可変とすることにより、より細かなめっき膜厚制御が可能となり、好ましい。

なお、図２６では一定の開口面積を有する開口部１４０ａを有するベースプレート１４０’と、アノードマスク３００と同様の構成を有する調整プレート１２’を組み合わせた形態を述べたが、電場の遮蔽制御を十分に行うことができれば、ベースプレート１４０’を設けなくても良い。すなわち、開口領域を可変とすることができる調整プレート１２’のみを基板ホルダ１１と、アノードユニット１２の間に配置して、レギュレーションプレートとして用いてもよい。調整プレート１２’を用いてレギュレーションプレートの開口領域を可変とした場合、アノードユニットのアノードマスクとして、固定の開口領域を有するアノードマスクを用いてもよい。また、レギュレーションプレートの開口領域とアノードマスクの開口領域を両方とも可変とした場合、各々の開口寸法を調整できる方向は、
互いに異なっていてもよい。

（アノードマスク開口領域の調整制御）
アノードマスクの各マスクの移動制御は、制御部１０３によって実行される。制御部１０３は、アノードマスクの各マスクの移動制御を実行するプログラムを有するか、外部のメモリ等から取得する。例えば、アノードユニット（アノードマスク）の開口領域の情報（例えば、各マスクの位置、アクチュエータの移動量）は、レシピの項目に含めて、メモリ等に記憶しておく。そして、制御部１０３が、レシピ項目を読み出し、開口領域の情報に基づいて、アクチュエータを制御して、アノードユニット（アノードマスク）の開口領域を調整する。このとき、アクチュエータによって、開口領域の左右方向、及び、上下方向の開口寸法を独立に制御することが可能である。アクチュエータは、モータ、ソレノイド、エアーシリンダ等の任意の駆動源とすることができる。また、アノードユニット（アノードマスク）の開口領域の調整は、めっき処理前、処理中に行うことができる。例えば、めっき処理前に基板の種類ごとに開口領域を変更することが可能である。また、めっき処理中に開口領域（開口部）の面積または寸法を調整することも可能である。例えば、めっき初期はターミナルエフェクトが強く作用するため開口領域を小さくして基板の外周部のめっき膜厚が厚くなることを防止し、めっきが進行してめっき膜厚が全体的に厚くなった段階ではターミナルエフェクトが緩和されるため開口領域を広げてさらにめっき膜厚の均一性を向上させることができる。レギュレーションプレートについても同様に制御可能である。なお、レギュレーションプレートの開口領域の調整も、同様に制御部１３によって行うことができる。以下に説明する実施形態についても同様である。

なお、（基板Ｗの面積または寸法）＞（レギュレーションプレートの開口面積または寸法）＞（アノードマスクによる開口面積または寸法）の関係となるように、レギュレーションプレートの開口領域（または開口寸法）、アノードマスクによる開口面積（または開口寸法）が調整されることが好ましい。以下に説明する実施形態についても同様である。

上記実施形態において、アクチュエータからの動力を使用せずに、各マスクを手動で移動させてもよい。他の実施形態についても同様に、アクチュエータからの動力を使用せずに、各マスクを手動で移動させてもよい。

（第２実施形態）
図７は、第２実施形態に係るアノードユニットの斜視図である。図８は、第２実施形態に係るアノードユニットの駆動部を省略した斜視図である。図９Ａは、第２実施形態に係るアノードユニットの第１状態における正面図である。図９Ｂは、第２実施形態に係るアノードユニットの第２状態における正面図である。

本実施形態に係るアノードユニット１２は、アノードホルダ２００と、アノードマスク４００とを備える。アノードホルダ２００の構成は、第１実施形態と概ね同一であるので、詳細な説明は省略する。なお、第１実施形態と同様に、アノードホルダとアノードマスクとを別体で設ける場合は、上記アノードホルダ２００をアノードマスク３００のベースプレートとして使用することができる。

アノードマスク４００は、左マスク４１１と、右マスク４１２と、上マスク４１３と、下マスク４１４とを備えている。左マスク４１１と、右マスク４１２と、上マスク４１３と、下マスク４１４は、それぞれ、アノード本体２０１の開口部２０４の左側端部、右側端部、上側端部、下側端部における開口部２０４の開口領域（開口寸法等）を調整する。各マスク４１１～４１４は、例えば誘電体材料からなる。

図９Ａの左マスク４１１の位置（第１の状態）において、移動部材４２４、４２５がアクチュエータ４２１によって上方に移動すると、図９Ｂ（第２の状態）に示すように、リンク４５３がリンク４５５を介して移動部材４２５によって上方に引き上げられ、リンク４５３がピン４５３ｂを中心にして反時計回りに回転する。リンク４５３の回転によって左マスク４１１も回転しようとするが、左マスク４１１の下端部がリンク４５１を介してアノードホルダ２００に接続されているため、左マスク４１１は上昇しつつ左方向に平行移動することになる。右マスク４１２も同様に、図９Ａの位置（第１の状態）から図９Ｂ（第２の状態）に移動する。但し、リンク４５４の回転方向が、リンク４５３の回転方向と逆方向であるため、右マスク４１２は、右方向に移動する。その結果、左マスク４１１と右マスク４１２とは、離間するように移動される。また、移動部材４２４、４２５がアクチュエータ４２１によって下方に移動すると、リンク４５３、４５４がそれぞれ逆方向に回転し、左マスク４１１と右マスク４１２とが接近する方向に移動する。以上のように、左マスク４１１と右マスク４１２とは、移動部材４２５を介して同期して、左右方向に沿って、接近離間するように移動される。この結果、左マスク４１１と右マスク４１２の移動量に応じて、アノード本体２０１の開口部２０４の左側端部及び右側端部における開口領域が調整される。

右マスク４１２は、板状部材であり、アノード本体２０１の開口部２０４の右側端部に沿って延びている。右マスク４１２の下端部は、リンク４５２を介してアノードホルダ２００に接続されており、右マスク４１２の上端部は、リンク４５４を介してアノードホルダ２００に接続されている。右マスク４１２の下端部は、ピン４５２ａによってリンク４５２の一端部に対して回転可能に接続されている。リンク４５２の他端部は、ピン４５２ｂによってアノードホルダ２００に回転可能に接続されている。リンク４５４は、本実施形態では、概ね三角形状であるが、他の形状であってもよい。右マスク４１２の上端部は、ピン４５４ａによってリンク４５４に対して回転可能に接続されている。リンク４５４は、ピン４５４ｂによってアノードホルダ２００に回転可能に接続されている。また、リンク４５４は、リンク４５６を介して移動部材４２５の一端に接続されている。リンク４５６は、ピン４５４ｃによってリンク４５４に回転可能に接続され、ピン４２７ａによって移動部材４２５の一端に回転可能に接続されている。

移動部材４２５は、上下方向に延びる上下辺４２６、４２７を有し、上下辺４２６、４２７の上端部を互いに連結した構成である。各上下辺４２６、４２７には、ガイド溝４２８、４２９がそれぞれ設けられている。各ガイド溝４２８、４２９には、アノードホルダ２００に設けられたガイドピン２０５、２０６がそれぞれ係合している。移動部材４２５の上下方向の移動は、ガイドピン２０５、２０６によってガイド溝４２８、４２９に沿って案内される。また、移動部材４２５の上下辺４２６、４２７の連結部の略中央部には、ハンドル４２５ａが設けられている。ハンドル４２５ａは、手動によって左マスク４１１、右マスク４１２を移動させる場合に使用される。

移動部材４２５は、図７に示すように、移動部材４２４に連結されている。本実施形態では、移動部材４２４は、移動部材４２５との連結部から上方に延び、その後、左右方向に沿って左側に延びる。なお、移動部材４２４の構成は、一例であり、他の構成であってもよい。移動部材４２４の左側端部は、アクチュエータ４２１の出力軸が当接可能に位置づけられている。アクチュエータ４２１は、移動部材４２４を上下方向に移動させることが可能である。アクチュエータ４２１は、めっき槽１０に固定されており、例えば、モータと、モータの回転を直線運動に変換する回転直動変換機構（ボールねじ機構、ボールランプ機構等）とを有する。アクチュエータ４２１は、ソレノイド、エアーシリンダ等の他の駆動源であってもよい。

図９Ａの左マスク４１１の位置（第１の状態）において、移動部材４２４、４２５がアクチュエータ４２１によって上方に移動すると、図９Ｂ（第２の状態）に示すように、リンク４５３がリンク４５５を介して移動部材４２５によって上方に引き上げられ、リンク４５３がピン４５３ｂを中心にして反時計回りに回転する。リンク４５３の回転によって左マスク４１１も回転しようとするが、左マスク４１１の下端部がリンク４５１を介してアノードホルダ２００に接続されているため、左マスク４１１は上昇しつつ左方向に平行
移動することになる。右マスク４１２も同様に、図９Ａの位置（第１の状態）から図９Ｂ（第２の状態）に移動する。但し、リンク４５４の回転方向が、リンク４５３の回転方向と逆方向であるため、右マスク４１２は、右方向に移動する。その結果、左マスク４１１と右マスク４１２とは、接近するように移動される。また、移動部材４２４、４２５がアクチュエータ４２１によって上方に移動すると、リンク４５３、４５４がそれぞれ逆方向に回転し、左マスク４１１と右マスク４１２とが接近する方向に移動する。以上のように、左マスク４１１と右マスク４１２とは、移動部材４２５を介して同期して、左右方向に沿って、接近離間するように移動される。この結果、左マスク４１１と右マスク４１２の移動量に応じて、アノード本体２０１の開口部２０４の左側端部及び右側端部における開口領域が調整される。

移動部材４２４、４２５がアクチュエータ４２１によって上下方向に移動すると、リンク４５３、４５４がピン４５３ｂ、４５４ｂの周りに回転し、このリンク４５３、４５４回転が、左マスク４１１、右マスク４１２の左右方向の移動に変換される。この結果、アノード本体２０１の開口部２０４の左側端部及び右側端部における開口領域（左右方向の開口寸法）が調整される。

なお、リンク４５３、４５４の回転方向を同一方向として、左マスク４１１及び右マスク４１２が同一方向に移動するようにしてもよい。この場合、開口面積を変更しつつ又は変更せずに、開口部２０４の開口領域の中心を左右方向において変位させることが可能である。

上マスク４１３は、アノード本体２０１の開口部２０４の上側端部において上辺に沿って延びている。例えば、図９Ｂの第２状態において、上マスク４１３の下辺が、開口部２０４の上辺と重なるように、又は、開口部の上辺の外側に位置するように配置される。上マスク４１３には、リンク４５３のピン４５３ｂを逃がすための開口部４１３ｂと、リンク４５４のピン４５４を逃がすための開口部４１３ｃと、リンク４１６のピン４１６ｂを逃がすための開口部４１３ｄとが設けられている。また上マスク４１３には、長穴４１３ａが設けられている。ピン４１６ａが長穴４１３ａに係合することによって、上マスク４１３がリンク４１６の一端部に接続されている。ピン４１６ａは長穴４１３ａに沿って移動可能である。リンク４１６の中間部分は、ピン４１６ｂによってアノードホルダ２００に回転可能に接続されている。リンク４１６の他端部は、リンク４１７の一端部とともに、ピン４１７ｂによって、下マスク４１４の上延長部４１４ｄに設けられた長穴４１４ｅに接続されている（図９Ａ）。ピン４１７ｂは、長穴４１４ｅに沿って移動可能である。リンク４１７の他端部には、ハンドル４１７ａが設けられている。ハンドル４１７ａは、上マスク４１１、下マスク４１２を手動で移動させる場合に使用される。

下マスク４１４は、枠状の部材である。下マスク４１４は、アノード本体２０１の開口部２０４の下側端部において開口部２０４の下辺に沿って延びる下マスク部４１４ａと、開口部２０４の左辺及び右辺の外側で左辺及び右辺に沿って延びる左延長部４１４ｂ及び右延長部４１４ｃと、左延長部４１４ｂ及び右延長部４１４ｃを互いに連結するように形成された上延長部４１４ｄと、を備えている。下マスク４１４は、第１状態（図９Ａ）において下マスク部４１４ａが開口部２０４と重なる領域が最大になるように、及び、第２状態（図９Ｂ）において下マスク部４１４ａが開口部２０４と重なる領域が最小（０を含む）になるように、アノードホルダ２００に配置される。例えば、図９Ｂの第２状態において、下マスク４１４の下マスク部４１４ａの上辺が、開口部２０４の下辺と重なるように、又は、開口部２０４の下辺の外側に位置するように配置される。上延長部４１４ｄには、長穴４１４ｅが設けられており、リンク４１６、４１７を回転可能に支持するピン４１７ｂが長穴４１４ｅに係合されている。アノード本体２０１の前面には、案内部２０７が設けられている。案内部２０７は、本実施形態では、アノード本体２０１に設けられた
凹部として構成されている。なお、案内部２０７は、アノード本体２０１に別部材を取り付けて構成してもよいし、アノード本体２０１の凹部と別部材とを組み合わせてもよい。下マスク４１４の左延長部４１４ｂ及び右延長部４１４ｃが案内部２０７の側壁によって上下方向に沿って案内される。上マスク４１３は、下マスク４１４の左延長部４１４ｂ及び右延長部４１４ｃの内側面によって上下方向の移動が案内される。

「リンク４１７の上端部には、図７に示すように、移動部材４３５の一端が連結されている。本実施形態では、移動部材４３５は、開口部２０４の上辺に沿って延びる板状部材であり、移動部材４３５の他端には、移動部材４３４が連結されている。本実施形態では、移動部材４３４は、移動部材４３５との連結部から上方に延び、その後、左右方向に沿って左側に延びる。」なお、移動部材４３４、４３５の構成は、一例であり、他の構成であってもよい。移動部材４３４の左側端部は、アクチュエータ４２２の出力軸が当接可能に位置づけられている。アクチュエータ４２２は、移動部材４３４を上下方向に移動させることが可能である。アクチュエータ４２２は、めっき槽１０に固定されており、例えば、モータと、モータの回転を直線運動に変換する回転直動変換機構（ボールねじ機構、ボールランプ機構等）とを有する。アクチュエータ４２２は、ソレノイド、エアーシリンダ等の他の駆動源であってもよい。

図９Ａの上マスク４１３、下マスク４１４の位置（第１状態）において、移動部材４３４、４３５がアクチュエータ４２２によって下方に移動すると、図９Ｂ（第２状態）に示すように、リンク４１７が下方に移動し、ピン４１７ｂが長穴４１４ｅ内を左方向に移動しつつ下方に移動し、下マスク４１４の上延長部４１４ｄを下方に移動する。また、ピン４１７ｂの下方への移動が、リンク４１６をピン４１６ｂの周りで時計回り回転させ、ピン４１６ａが長穴４１３ａ内を右方向に移動しつつ上方に移動し、上マスク４１３を上方に移動する。この結果、上マスク４１３と下マスク４１４（下マスク部４１４ａ）とが、同期して、上下方向に沿って、離間するように移動する。つまり、上マスク４１３が上方に移動し、下マスク４１４が下方に移動するので、開口部２０４の上側端部及び下側端部における開口領域が拡大する。

図９Ｂの上マスク４１３、下マスク４１４の位置（第２状態）において、移動部材４３４、４３５がアクチュエータ４２２によって上方に移動すると、図９Ａ（第１状態）に示すように、リンク４１７が上方に移動し、ピン４１７ｂが長穴４１４ｅ内を右方向に移動しつつ上方に移動し、下マスク４１４の上延長部４１４ｄを上方に移動する。また、ピン４１７の上方への移動が、リンク４１６をピン４１６ｂの周りで反時計回りに回転させ、ピン４１６ａが長穴４１３ａ内を左方向に移動しつつ下方に移動し、上マスク４１３を下方に移動する。この結果、上マスク４１３と下マスク４１４（下マスク部４１４ａ）とが、同期して、上下方向に沿って、接近するように移動する。つまり、上マスク４１３が下方に移動し、下マスク４１４が上方に移動するので、開口部２０４の上側端部及び下側端部における開口領域が縮小する。

上マスク４１３及び下マスク４１４が、同期して、上下方向に沿って、接近離間するように移動することによって、その移動量に応じて、アノード本体２０１の開口部２０４の開口部２０４の上側端部及び下側端部における開口領域が調整される。

なお、第１状態（図９Ａ）では、左マスク及び右マスクが最小に接近し、上マスク及び下マスクが最小に接近した状態を示し、第２状態（図９Ｂ）では、左マスク及び右マスクが最大に広がり、上マスク及び下マスクが最大に広がった状態を示すが、左マスク及び右マスクの移動と、上マスク及び下マスクの移動とは、独立のアクチュエータ４２１、４２２により又は手動により、独立に調整可能である。

以上説明したアノードユニット１２によれば、左マスク４１１と右マスク４１２とが左右方向に沿って接近離間するように移動可能であるとともに、上マスク４１３と下マスク４１４とが上下方向に沿って接近離間するように移動することが可能である。この結果、アノードホルダ２００の開口部２０４の左右方向の開口領域と、上下方向の開口領域とを互いに独立に調整することが可能である。

また、左マスク４１１と右マスク４１２とが左右方向に沿って同期して接近離間するように移動するので、開口部２０４の左右の各端部における開口領域を同一量で調整することができる。また、開口部２０４の左右の各端部における開口領域を対称に調整することができる。同様に、上マスク４１３と下マスク４１４とが上下方向に沿って同期して接近離間するように移動するので、開口部２０４の上下の各端部における開口領域を同一量で調整することができる。開口部２０４の上下の各端部における開口領域を対称に調整することができる。

なお、上マスク４１３、下マスク４１４が同一方向に移動するようにリンク機構を構成してもよい。この場合、開口面積を変更しつつ又は変更せずに、開口部２０４の開口領域の中心を上下方向において変位させることが可能である。また、上マスク４１３、下マスク４１４を独立の駆動源で移動させるようにしてもよい。すなわち、上マスク４１３と下マスク４１４を動かすための上述の機構をそれぞれ独立して有するようにしてもよい。

また、左マスク４１１と右マスク４１２とを同一方向に移動して調整（例えば、リンク４５３、４５４を独立に駆動）するように構成すれば、開口面積を変更しつつ又は変更せずに、開口部２０４の開口領域の中心を左右方向において変位させることが可能である。また、左マスク４１１と右マスク４１２とを独立の駆動源で移動させるようにしてもよい。

なお、アクチュエータからの動力を使用せずに、各マスクを手動で移動させてもよい。

なお、第２実施形態に係るアノードマスクの構成も、第１実施形態において述べたと同様に、レギュレーションプレートに適用できる。また、第２実施形態に係る、アノードマスク及びレギュレーションプレートの開口領域も、第１実施形態において述べたと同様に、制御部によって調整することができる。

（第３実施形態）
図１０Ａは、第３実施形態に係るアノードユニットのアノードマスクを前面側からみた斜視図である。図１０Ｂは、第３実施形態に係るアノードユニットのアノードマスクを背面側からみた斜視図である。図１０Ｃは、第３実施形態に係るアノードユニットのアノードマスクの側面図である。図１０Ｄは、図１０ＣのＡ－Ａ線に沿った矢視図である。図１０Ｅは、図１０ＣのＢ－Ｂ線に沿った矢視図である。

アノードマスク５００は、前述したアノードホルダ２００の開口部２０４を備える側の前方に配置されるものである。アノードマスク５００は、ベース５０１と、遮蔽部材５１０と、遮蔽部材５２０とを備えている。ベース５０１と、遮蔽部材５１０と、遮蔽部材５２０とは、それぞれ、第１から第３遮蔽部材を構成する。

ベース５０１は、開口部５０２を有している。ベース５０１の前面には、遮蔽部材５１０の移動を案内するための凹部からなる案内部５０３が形成されている。ベース５０１の背面には、遮蔽部材５２０の移動を案内するための凹部からなる案内部５０４が形成されている。なお、案内部５０３、５０４の一方または両方は、凹部以外の構成でもよい。例えば、別部材の案内部材を取り付けた構成、凹部と別部材の案内部材とを組み合わせた構
成でもよい。なお、案内部５０３は、遮蔽部材５１０の斜め方向（左右方向と上下方向の間の方向）への移動を案内するための傾斜案内部５０３ａ～５０３ｃを有する（図１１Ａ）。また、遮蔽部材５１０も、傾斜案内部５０３ａ～５０３ｃに対応する位置に傾斜辺部５１５ａ～ｃを有する。案内部５０４は、遮蔽部材５２０の斜め方向（左右方向と上下方向の間の方向）への移動を案内するための傾斜案内部５０４ａ～５０４ｃを有する（図１２Ａ）。また、遮蔽部材５２０も、傾斜案内部５０４ａ～５０４ｃに対応する位置に傾斜辺部５２５ａ～ｃを有する。

遮蔽部材５１０は、枠状の部材であり、開口部５１３を有する。遮蔽部材５１０は、下マスク５１０ａと、左マスク５１０ｂと、右マスク５１０ｃと、上マスク５１０ｄとを備えている。遮蔽部材５１０の開口部５１３は、第１状態（図１０Ａ、Ｂ、図１１Ａ、Ｂ）において、遮蔽部材５１０の開口部５１３が、ベース５０１の開口部５０２の開口領域を規定するように、ベース５０１の開口部５０２と同一の形状及び寸法、又は、ベース５０１の開口部５０２よりも小さい寸法に設定されている。遮蔽部材５１０は、上マスク５１０ｄよりも上方に延びる延長部５１１を更に有し、延長部５１１には、ピン５１２が設けられている。ピン５１２は、リンク５４１の長穴５４１ａに係合する。

遮蔽部材５２０は、枠状の部材であり、開口部５２３を有する。遮蔽部材５２０は、下マスク５２０ａと、左マスク５２０ｂと、右マスク５２０ｃと、上マスク５２０ｄとを備えている。遮蔽部材５２０の開口部５２３は、第１状態（図１０Ａ、Ｂ、図１１Ａ、Ｂ）において、遮蔽部材５２０の開口部５２３が、ベース５０１の開口部５０２の開口領域を規定するように、ベース５０１の開口部５０２と同一の形状及び寸法、又は、ベース５０１の開口部５０２よりも小さい寸法に設定されている。遮蔽部材５２０は、上マスク５２０ｄよりも上方に延びる延長部５２１を更に有し、延長部５２１には、ピン５２２が設けられている。ピン５２２は、リンク５４２の長穴５４２ａに係合する。

本実施形態では、遮蔽部材５２０の開口部５２３は、遮蔽部材５１０の開口部５１３と同一の形状及び寸法を有する。なお、第１状態において、ベース５０１の開口部５０２の開口領域は、遮蔽部材５２０の開口部５２３、及び遮蔽部材５１０の開口部５１３によって規定され、最大である。なお、第１状態において、遮蔽部材５１０、５２０の開口部５１３、５２３をベース５０１の開口部５０２よりも大きく形成し、ベース５０１の開口部５０２の開口領域が、開口部５０２の開口領域自体によって規定されるようにしてもよい。また、第１状態において、ベース５０１の開口部５０２の開口領域の上辺、下辺、左辺、右辺の少なくとも一部が、遮蔽部材５２０の開口部５２３、及び遮蔽部材５１０の開口部５１３の少なくとも一方によって規制されているようにしてもよい。

アノードマスク５００は、駆動源としてのモータ５３０を備えている。本実施形態では、モータ５３０は、ベース５０１の前面側に設けられている。モータ５３０の回転軸は、ギア５３１と、プーリ５３３とに連結されている。プーリ５３３は、図１０Ａ、Ｅに示すように、ベルト５３７によってプーリ５３４、５３５に接続されている。プーリ５３４は、図１０Ａに示すように、リンク５４１の一端側に連結されており、リンク５４１に回転運動を伝達するように構成されている。ギア５３１は、図１０Ａ、Ｄに示すように、ギア５３２に噛み合っており、ギア５３１回転と逆方向の回転がギア５３２に伝達される。ギア５３２の軸は、ベース５０１の前面側から背面側に貫通し、図１０Ｂに示すようにこの軸にプーリ５３６が連結されている。プーリ５３６は、ベルト５３８を介してプーリ５３７に連結されている。プーリ５３７は、図１０Ｂに示すように、リンク５４２の一端側に連結されており、リンク５４２に回転運動を伝達するように構成されている。この構成では、モータ５３０の回転と同一方向の回転が、プーリ５３３、５３４を介してリンク５４１に伝達され、モータ５３０の回転と反対方向の回転が、ギア５３２、プーリ５３６、５３７を介してリンク５４２に伝達される。この結果、モータ５３０の回転によって、遮蔽
部材５１０と、遮蔽部材５２０とは、対角線上を反対方向に移動する。

図１１Ａは、第１状態におけるアノードマスクの前面図である。図１１Ｂは、第２状態におけるアノードマスクの前面図である。図１２Ａは、第１状態におけるアノードマスクの背面図である。図１２Ｂは、第２状態におけるアノードマスクの背面図である。

図１１Ａにおいて、モータ５３０の回転によりプーリ５３４が反時計回りに回転すると、図１１Ｂに示すように、リンク５４１が反時計回りに回転し、長穴５４１ａに係合するピン５１２を介して遮蔽部材５１０が斜め上方に移動される。このとき、遮蔽部材５１０のピン５１２がリンク５４１の長穴５４１ａ内で移動しつつ、遮蔽部材５１０が案内部５０３の対角線上にある傾斜案内部に沿って、斜め上方に移動される。この結果、遮蔽部材５１０の下マスク５１０ａ及び右マスク５１０ｃが、開口部５０２の下側端部及び右側端部の開口領域を縮小する。

図１２Ａにおいて、モータ５３０の回転によりプーリ５３７が反時計回りに回転すると、図１２Ｂに示すように、リンク５４２が反時計回りに回転し、長穴５４２ａに係合するピン５２２を介して遮蔽部材５２０が斜め下方に移動される。このとき、遮蔽部材５２０のピン５２２がリンク５４２の長穴５４２ａ内で移動しつつ、遮蔽部材５２０が案内部５０４の対角線上にある傾斜案内部に沿って、斜め下方に移動される。この結果、遮蔽部材５２０の上マスク５２０ｄ及び左マスク５１０ｂが、開口部５０２の上側端部及び左側端部の開口領域を縮小する。

なお、図１１Ｂ及び図１２Ｂ（第２状態）から図１１Ａ及び図１２Ｂ（第１状態）への移動は、モータを逆回転させることによって逆の動作で行われる。モータの回転によってリンク５４１、５４２の回転角を調整することにより、遮蔽部材５１０、５２０による開口部５０２の開口領域が調整される。

図１１Ｂ及び図１２Ｂに示すように、遮蔽部材５１０が左斜め上方に移動して、遮蔽部材５１０の下マスク５１０ａ及び右マスク５１０ｃが、開口部５０２の下側端部及び右側端部の開口領域を縮小し、かつ、遮蔽部材５２０が右斜め下方に移動して、遮蔽部材５２０の上マスク５２０ｄ及び左マスク５１０ｂが、開口部５０２の上側端部及び左側端部の開口領域を縮小する。これにより、開口部５０２の開口領域が、上下左右の各端部において同期して縮小される。言い換えれば、遮蔽部材５１０、５２０の対角線方向に沿って、遮蔽部材５１０、５２０が反対方向に移動することによって、それらの移動量に応じて、開口部５０２の開口領域が調整される。

なお、上記では、遮蔽部材５１０、５２０が対角線に沿って移動される場合を説明したが、対角線以外の斜め方向に移動するように構成してもよい。また、各遮蔽部材５１０、５２０が、互いに異なる直線に沿って移動するように構成してもよい。

第３実施形態に係るアノードマスクの構成も、第１実施形態において述べたと同様に、レギュレーションプレートに適用できる。また、第３実施形態に係る、アノードマスク及びレギュレーションプレートの開口領域も、第１実施形態において述べたと同様に、制御部によって調整することができる。

（第４実施形態）
図１３は、第４実施形態に係るアノードユニットの斜視図である。図１４は、第４実施形態に係るアノードユニットの一部切り欠き斜視図である。図１５Ａは、第４実施形態に係るアノードユニットの前面側からみた分解斜視図である。図１５Ｂは、第４実施形態に係るアノードユニットの背面側からみた分解斜視図である。図１６は、アノードホルダの
正面図である。図１７は、左右マスク可変レバーの正面図、側面図及び背面図である。図１８は、左右マスクブレードの正面図及び側面図である。図１９は、中間案内部材の正面図及び背面図である。図２０は、上下マスク可変レバーの正面図、側面図、及び背面図である。図２１は、上下マスクブレードの正面図及び側面図である。図２２は、前面案内部材の背面図である。

本実施形態に係るアノードユニット１２は、アノードホルダ２００と、アノードマスク６００とを備えている。アノードホルダ２００は、開口部２０４を備え、開口部２０４からアノード電極ＡＮが露出される。なお、第１実施形態と同様に、アノードホルダとアノードマスクとを別体で設ける場合は、上記アノードホルダ２００をアノードマスク３００のベースプレートとして使用することができる。

アノードホルダ１２は、図１５Ｂ及び図１６に示すように、後述する左右マスク６１０の左右マスク可変レバー６１１の動きを案内するための案内部２０８を有している。案内部２０８は、アノードホルダ本体２０１に設けられた座繰りとして形成されており、この座繰りの深さは、左右マスク可変レバー６１１と左右ブレード６１２、６１３を重ねた厚さよりもわずかに大きくなっている。案内部２０８のうち四隅には、特に、左右ブレード６１２、６１３が移動した際に左右ブレード６１２、６１３を逃がすためのブレード逃げ部２０８ａ～２０８ｄが設けられている。

アノードマスク６００は、左右マスク６１０と、上下マスク６２０と、中間案内部材６３０と、前面案内部材６４０とを備えている。左右マスク６１０が、アノードホルダ２００と中間案内部材６３０との間に配置され、上下マスク６２０が、中間案内部材６３０と前面案内部材６４０との間に配置される。中間案内部材６３０は、アノードホルダ２００と前面案内部材６４０との間に挟まれて、外周部分をねじ止めされている。すなわち、中間案内部材６３０は、アノードホルダ２００あるいはアノードマスク６００に対して固定されていると言える。中間案内部材６３０は、左右マスク６１０及び上下マスク６２０と共に移動せず、アノードマスク６００のベースプレートとして機能する。左右マスク６１０は、アノードホルダ２００の前面に形成された案内部２０８内に収容されている。上下マスク６２０は、後述するように前面案内部材６４０の案内部６４１内に収容されている。

前面案内部材６４０は、図２２に示すように、開口部２０４よりも大きい開口部６４０ａを備える。前面案内部材６４０は、後述する上下マスク６２０の上下マスク可変レバー６２１の動きを案内するための案内部６４１を有している（図１５Ｂ、図２２）。案内部６４１は、前面案内部材６４０の背面に設けられた座繰りとして形成されており、この座繰り深さは、上下マスク可変レバー６２１と上下ブレード６２２、６２３を重ねた厚さよりもわずかに大きくなっている。案内部６４１のうち四隅には、特に、上下ブレード６２２、６２３が移動した際に上下ブレード６２２、６２３を逃がすためのブレード逃げ部６４１ａ～６４１ｄが設けられている。

左右マスク６１０は、図１５Ｂに示すように、左右マスク可変レバー６１１と、左右ブレード（マスク）６１２、６１３とを備えている。左右マスク可変レバー６１１は、図１７に示すように、概ね円形の輪郭の枠状部材から下部及び左右部の外周部分に直線部分を設けた形状である。左右マスク可変レバー６１１は、概ね矩形の開口部６１１ａを有している。開口部６１１ａは、開口部２０４よりも大きく、開口部２０４の外側を囲むように配置される。左右マスク可変レバー６１１の開口部６１１ａの概ね対角線上の２箇所には、係合孔６１４、６１５が設けられている。これらの係合孔６１４、６１５には、後述する左右ブレード６１２、６１３の係合ピン６１６が係合されて、左右ブレード６１２、６１３が左右マスク可変レバー６１１に係合される。

左右マスク可変レバー６１１の上端部には、係合ピン６１３ａが設けられている（図１５Ａ）。係合ピン６１３ａは、図１３、図１４に示すように、上下マスク可変レバー６２１の案内溝６２７を貫通した状態で、ロッド６５４に固定された係合フック６６１に係合されている。ロッド６５４は、アノードホルダ２００に固定された案内部材６５９、６６０によって往復移動可能に案内されている。ロッド６５４は、継手６５７を介してロッド６５３に接続されており、ロッド６５３は、アクチュエータ６５１に接続されている。アクチュエータ６５１は、ロッド６５３、６５４を左右方向に往復移動させることが可能な装置である。アクチュエータ６５１は、めっき槽１０に固定され、例えば、モータと、モータの回転を直進運動に変換する回転直動変換機構（ボールねじ機構、ボールランプ機構等）とを備えている。アクチュエータ６５１は、ソレノイド、エアーシリンダ等の他の構成であってもよい。アクチュエータ６５１がロッド６５３、６５４、係合フック６６１を介して、係合ピン６１３ａを左方向に移動させると、左右マスク可変レバー６１１は、前面側からみて時計回りに回転する。アクチュエータ６５１がロッド６５３、６５４、係合フック６６１を介して、係合ピン６１３ａを右方向に移動させると、左右マスク可変レバー６１１は、前面側からみて反時計回りに回転する。

左右ブレード６１２、６１３は、同様の構成を有し、図１８に示すように、第１面に係合ピン６１６を有し、第２面に案内ピン６７１、６７２を有する。左右ブレード６１２の係合ピン６１６が、左右マスク可変レバー６１１の係合孔６１４に係合して、左右ブレード６１２が左右マスク可変レバー６１１に係合される（図１５Ｂ）。左右ブレード６１２の案内ピン６７１、６７２は、中間案内部材６３０の案内溝６７５、６７６にそれぞれ係合する（図１５Ｂ）。これにより、左右ブレード６１２は、左右マスク可変レバー６１１が回転されたとき、開口部２０４の右辺に平行な状態を維持したまま、案内溝６７５、６７６に沿って斜め方向に移動するように案内される。この結果、左右ブレード６１２は、開口部２０４の左側端部の開口領域を変化させるように、開口部２０４の左辺に平行な状態を維持したまま、左右方向に移動することになる。

同様に、左右ブレード６１３の係合ピン６１６が、左右マスク可変レバー６１１の係合孔６１５に係合して、左右ブレード６１３が左右マスク可変レバー６１１に係合される（図１５Ｂ）。左右ブレード６１３の案内ピン６７１、６７２は、中間案内部材６３０の案内溝６７７、６７８にそれぞれ係合する（図１５Ｂ）。これにより、左右ブレード６１３が、開口部２０４の右辺に平行な状態を維持したまま、案内溝６７７、６７８に沿って斜め方向に移動するように案内される。この結果、左右ブレード６１３は、開口部２０４の右辺側端部の開口領域を変化させるように、開口部２０４の右辺に平行な状態を維持したまま、概ね左右方向に移動することになる。

上下マスク６２０は、左右マスク６１０と概ね同様の構成を有している。上下マスク６２０は、上下マスク可変レバー６２１と、上下ブレード（マスク）６２２、６２３とを備えている。上下マスク可変レバー６２１は、図２０に示すように、概ね円形の輪郭の枠状部材から下部及び左右部の外周部分に直線部分を設けた形状である。上下マスク可変レバー６２１は、概ね矩形の開口部６２１ａを有している。開口部６２１ａは、開口部２０４よりも大きく、開口部２０４の外側を囲むように配置される。上下マスク可変レバー６２１の開口部６２１ａの概ね対角線上の２箇所には、係合孔６２４、６２５が設けられている。これらの係合孔６２４、６２５には、後述する上下ブレード６２２、６２３の係合ピン６２６が係合されて、上下ブレード６２２、６２３が上下マスク可変レバー６２１に係合される。

上下マスク可変レバー６２１の上端部には、係合ピン６２３ａが設けられている（図１５Ａ、図２０）。係合ピン６２３ａは、図１３、図１４に示すように、ロッド６５６に固
定された係合フック６６２に係合されている。ロッド６５６は、アノードホルダ２００に固定された案内部材６５９、６６０によって往復移動可能に案内されている。ロッド６５６は、継手６５８を介してロッド６５５に接続されており、ロッド６５５は、アクチュエータ６５２に接続されている。アクチュエータ６５２は、ロッド６５５、６５６を左右方向に往復移動させることが可能な装置である。アクチュエータ６５２は、例えば、モータと、モータの回転を直進運動に変換する回転直動変換機構（ボールねじ機構、ボールランプ機構等）とを備えている。アクチュエータ６５２は、ソレノイド、エアーシリンダ等の他の構成であってもよい。アクチュエータ６５２がロッド６５５、６５６、係合フック６６２を介して、係合ピン６２３ａを左方向に移動させると、上下マスク可変レバー６２１は、前面側からみて時計回りに回転する。アクチュエータ６５２がロッド６５５、６５６、係合フック６６２を介して、係合ピン６２３を右方向に移動させると、上下マスク可変レバー６２１は、前面側からみて反時計回りに回転する。

上下ブレード６２２、６２３は、同様の構成を有し、図２１に示すように、第１面に係合ピン６２６を有し、第２面に案内ピン６８１、６８２を有する。上下ブレード６２２の係合ピン６２６が、上下マスク可変レバー６２１の係合孔６２５に係合して、上下ブレード６２２が上下マスク可変レバー６２１に係合される（図１５Ｂ、図２０）。上下ブレード６２２の案内ピン６８１、６８２は、中間案内部材６３０の案内溝６８７、６８８にそれぞれ係合する（図１５Ｂ、図１９）。これにより、上下ブレード６２２は、上下マスク可変レバー６２１が回転されたとき、開口部２０４の下辺に平行な状態を維持したまま、案内溝６８７、６８８に沿って斜め方向に移動するように案内される。この結果、上下ブレード６２２は、開口部２０４の下側端部の開口領域を変化させるように、開口部２０４の下辺に平行な状態を維持したまま、上下方向に移動することになる。

同様に、上下ブレード６２３の係合ピン６２６が、上下マスク可変レバー６２１の係合孔６２４に係合して、上下ブレード６２３が上下マスク可変レバー６２１に係合される（図１５Ｂ、図２０）。上下ブレード６２２の案内ピン６８１、６８２は、中間案内部材６３０の案内溝６８５、６８６にそれぞれ係合する（図１５Ｂ、図１９）。これにより、上下ブレード６２３が、開口部２０４の上辺に平行な状態を維持したまま、案内溝６８５、６８６に沿って斜め方向に移動するように案内される。この結果、上下ブレード６２３は、開口部２０４の上側端部の開口領域を変化させるように、開口部２０４の上辺に平行な状態を維持したまま、上下方向に移動することになる。

図２３Ａは、第１状態の左右マスクの正面図である。図２３Ｂは、第２状態の左右マスクの正面図である。第１状態（図２３Ａ）では、左右ブレード６１２、６１３は、最大に拡大した状態であり、左右ブレード６１２及び６１３の内側辺は、アノードホルダ２００の開口部２０４の左辺及び右辺とそれぞれ一致している。なお、左右ブレード６１２及び６１３の内側辺は、アノードホルダ２００の開口部２０４の左辺及び右辺の外側にあってもよい。また、第１状態において、左右ブレード６１２、６１３の一部が開口部２０４に重なるように構成してもよい。第２状態（図２３Ｂ）では、左右ブレード６１２、６１３は、最小に縮小した状態であり、左右ブレード６１２、６１３の内側辺は、アノードホルダ２００の開口部２０４の左辺及び右辺の内側に最大量で変位した状態である。

第１状態（図２３Ａ）において、左右ブレード可変レバー６１１がアクチュエータ６５１からの動力によって、正面からみて時計回りに回転されると、左右ブレード６１２、６１３のピン６１６も時計回りに回転するが、左右ブレード６１２、６１３の案内ピン６７１、６７２が中間案内部材６３０の案内溝６７５、６７６（６７７、６７８）によって案内されることによって、左右ブレード６１２、６１３が、開口部２０４の左辺及び右辺に平行な状態を保ちつつ、互いに接近するように移動する（図２３Ｂ参照）。第２状態（図２３Ｂ）から第１状態（図２３Ａ）への変位は、左右ブレード可変レバー６１１がアクチ
ュエータ６５１からの動力によって、正面からみて反時計回りに回転されることにより、上記と逆の動作により、左右ブレード６１２、６１３が、開口部２０４の左辺及び右辺に平行な状態を保ちつつ、互いに離間するように移動する。アクチュエータ６５１による左右マスク可変レバー６１１の回転角を調整することによって、左右ブレード６１２、６１３による開口部２０４の左側端部及び右側端部における開口領域を調整することができる。

図２４Ａは、第１状態の上下マスクの正面図である。図２４Ｂは、第２状態の上下マスクの正面図である。第１状態（図２４Ａ）では、上下ブレード６２２及び６２３は、最大に拡大した状態であり、上下ブレード６２２及び６２３の内側辺は、アノードホルダ２００の開口部２０４の上辺及び下辺とそれぞれ一致している。なお、上下ブレード６２２及び６２３の内側辺は、アノードホルダ２００の開口部２０４の上辺及び下辺の外側にあってもよい。また、第１状態において、上下ブレード６２２、６２３の一部が開口部２０４に重なるように構成してもよい。第２状態（図２４Ｂ）では、上下ブレード６２２、６２３は、最小に縮小した状態であり、上下ブレード６２２、６２３の内側辺は、アノードホルダ２００の開口部２０４の上辺及び下辺の内側に最大量で変位した状態である。

第１状態（図２４Ａ）において、上下ブレード可変レバー６２１がアクチュエータ６５２からの動力によって、正面からみて時計回りに回転されると、上下ブレード６２２、６２３のピン６２６も時計回りに回転するが、上下ブレード６２２、６２３の案内ピン６８１、６８２が中間案内部材６３０の案内溝６８７、６８８（６８５、６８６）によって案内されることによって、上下ブレード６２２、６２３が、開口部２０４の上辺及び下辺に平行な状態を保ちつつ、互いに接近するように移動する（図２４Ｂ参照）。第２状態（図２４Ｂ）から第１状態（図２４Ａ）への変位は、上下ブレード可変レバー６２１がアクチュエータ６５２からの動力によって、正面からみて反時計回りに回転されることにより、上記と逆の動作により、上下ブレード６２２、６２３が、開口部２０４の上辺及び下辺に平行な状態を保ちつつ、互いに離間するように移動する。アクチュエータ６５２による上下マスク可変レバー６２１の回転角を調整することによって、上下ブレード６２２、６２３による開口部２０４の上側端部及び下側端部における開口領域を調整することができる。

図２５は、第４実施形態に係るアノードホルダの変形例である。図２５に示すように、左右マスク６１０とアノードホルダ２００との間、及び、上下マスク６２０と前面案内部材６４０との間の少なくとも一方に滑り部材６７０を設けてもよい。これにより、左右マスク６１０及び／又は上下マスク６２０の回転運動を滑らかにすることができる。

なお、上記では、アノードホルダ２００と中間案内部材６３０との間に左右マスク６１０を配置し、中間案内部材６３０と前面案内部材６４０との間に上下マスク６２０を配置したが、これとは逆に、アノードホルダ２００と中間案内部材６３０との間に上下マスク６２０を配置し、中間案内部材６３０と前面案内部材６４０との間に左右マスク６１０を配置してもよい。

なお、上記では、左右ブレード６１２、６１３を案内するために、中間案内部材６３０に案内溝を設けて、左右ブレードに形成した案内ピンと係合するようにしているが、中間案内部材６３０に案内ピンを設けて、左右ブレード６１２、６１３に案内溝を設けるようにしてもよい。ただしいずれにしても、案内ピンと案内溝のどちらか一方は、アノードマスク６００に対して固定することが望ましい。言い換えれば、案内ピンと案内溝のどちらか一方は、アノードマスク６００のうち移動しない構成（アノードマスクのベースプレートとして機能する部材：例えば、中間案内部材、前面案内部材、アノードホルダ）に固定されることが望ましい。また、上記では、左右ブレード６１２、６１３を移動させるため
に、左右ブレード可変レバー６１１に係合孔を設けて、左右ブレード６１２、６１３の係合ピンと係合するようにしているが、左右ブレード可変レバー６１１に案内溝を設けて左右ブレード６１２、６１３の係合ピンと係合させ、左右ブレード６１２が左右ブレード可変レバー６１１に対して回転しながらスライドするようにしてもよい。

さらに、上記では、左右ブレードを移動させるために左右ブレード可変レバー６１１との間で１つの係合箇所を設け、左右ブレードを案内させるために中間案内部材６３０との間で２つの係合箇所を設けたが、係合箇所の数は上記に限定されない。例えば、左右ブレードを移動させるために左右ブレード可変レバー６１１との間で２つの係合箇所を設け、左右ブレードを案内させるために中間案内部材６３０との間で１つの係合箇所を設けてもよい。

第４実施形態に係るアノードマスクの構成も、第１実施形態において述べたと同様に、レギュレーションプレートに適用できる。また、第４実施形態に係る、アノードマスク及びレギュレーションプレートの開口領域も、第１実施形態において述べたと同様に、制御部によって調整することができる。

上述によれば、アノードホルダ２００に一体に取り付けられ、アノード電極ＡＮの露出領域（開口領域）を調整するためのアノードマスクは、アノードマスクの開口部の左右方向の開口領域と、上下方向の開口領域とを互いに独立に調整することが可能である。また、基板ホルダ１１と、アノードユニット１２の間に配置される調整プレート１２’も、アノードマスクと同様の機構を有し、調整プレート１２’の開口部の左右方向の開口領域と、上下方向の開口領域とを互いに独立に調整することが可能である。アノードマスクと調整プレート１２’を総称して「電場遮蔽体」と称する。電場遮蔽体は、アノードマスクのようにアノード電極の近傍に配置した場合には基板全体のめっき膜厚の調整に有効であり、調整プレート１２’のように、基板ホルダに比較的近い位置に配置した場合には基板の外周部のめっき膜厚を調整するのに有効である。

アノード電極ＡＮ、あるいはアノード電極ＡＮを保持するためのアノードホルダを総称して「アノード」と称する。アノードは、基板ホルダに対向する位置に配置される。

上記実施形態から少なくとも以下の形態が把握できる。

第１形態によれば、めっき槽と、 前記めっき槽に配置され、基板を保持するための基板ホルダと、 前記基板ホルダと対向して配置されるアノードと、 前記アノードから前記基板への電場の一部を遮蔽するための少なくとも１つの電場遮蔽体と、を備え、 前記電場遮蔽体は、前記基板と前記アノードとの間の電場を通過させる開口部を有し、かつ、前記開口部の第１方向における開口寸法、及び第２方向における開口寸法を独立に調整可能に構成されている、めっき装置が提供される。ここで、アノードは、アノード電極を有する。また、アノードは、アノード電極と、アノード電極を保持するアノードホルダとを有する場合がある。電場遮蔽体は、アノードマスク、レギュレーションプレートの少なくとも１つを含むことができる。

第１形態によれば、電場遮蔽体の開口領域を第１方向及び第２方向（例えば、左右方向、上下方向）において独立に調整することができる。これにより、基板とアノードとの間の電場を第１方向及び第２方向（例えば、左右方向、上下方向）において独立に調整することができ、めっきパターンの配置、アノードへの給電方法に応じて、電場をより精密に制御することができ、めっき膜厚の均一性を向上させることができる。

第２形態によれば、第１形態のめっき装置において、前記電場遮蔽体は、１又は複数の
第１遮蔽部材と、１又は複数の第２遮蔽部材とを有し、 前記第１遮蔽部材は、前記開口部の前記第１方向における第１及び第２端部の少なくとも一方の側に配置され、 前記第２遮蔽部材は、前記開口部の前記第２方向における第３及び第４端部の少なくとも一方の側に配置される。
第２形態によれば、開口部の第１方向における第１及び第２端部の少なくとも一方の側において開口領域を調整できるとともに、第１開口部の前記第２方向における第３及び第４端部の少なくとも一方の側において開口領域を調整できる。

第３形態によれば、第２形態のめっき装置において、 前記第１遮蔽部材は、前記開口部の前記第１方向における第１及び第２端部の両方の側に配置され、各端部における前記第１遮蔽部材が互いに逆方向に移動される。
第３形態によれば、開口部の前記第１方向における第１及び第２側の両方の側において開口寸法を逆方向に調整するので、対称性を保持して開口領域を調整することが容易である。

第４形態によれば、第２形態のめっき装置において、 前記第１遮蔽部材は、前記開口部の前記第１方向における第１及び第２端部の両方の側に配置され、各端部における前記第１遮蔽部材が同一量で移動される。
第３形態によれば、開口部の前記第１方向における第１及び第２端部の両方の側において開口寸法を同一量で調整するので、対称性を保持して開口領域を調整することが容易である。

第５形態によれば、第２形態のめっき装置において、 前記第１遮蔽部材は、前記開口部の前記第１方向における第１及び第２端部の両方の側に配置され、各端部における前記第１遮蔽部材がそれぞれ独立の駆動源によって移動される。
第５形態によれば、開口部の第１方向における第１及び第２端部の両方の側において開口領域を個別に調整することができる。この場合、開口部の開口領域の中心位置を調整するように開口部の第１方向における開口領域を調整することができる。なお、各端部における第１遮蔽部材が同期して移動されるように、各駆動源を制御してもよい。

第６形態によれば、第２乃至５形態の何れかのめっき装置において、 前記１又は複数の第１遮蔽部材及び前記１又は複数の第２遮蔽部材のうち少なくとも１つは、送りねじ機構によって移動される。
第６形態によれば、送りねじ機構によって遮蔽部材の駆動機構を簡易に構成することができる。また、複数の遮蔽部材を精度よく同期して移動させることができる。

第７形態によれば、第２乃至５形態の何れかのめっき装置において、 前記１又は複数の第１遮蔽部材及び前記１又は複数の第２遮蔽部材のうち少なくとも１つは、ラックピニオン機構によって移動される。
第７形態によれば、ラックピニオン機構によって遮蔽部材の駆動機構を簡易に構成することができる。また、複数の遮蔽部材を精度よく同期して移動させることができる。

第８形態によれば、第２形態のめっき装置において、 前記前記電場遮蔽体は、前記開口部の前記第１方向における前記第１端部の側に配置された前記第１遮蔽部材を有し、 前記第１遮蔽部材に対して回転可能に接続された第１リンク部材が、前記第１遮蔽部材とともに第１リンク機構を形成し、前記第１リンク部材の回転が前記第１遮蔽部材の移動に変換される。
第８形態によれば、第１リンクの回転運動を第１遮蔽部材の移動に変換するため、省スペースで簡易な構成で第１遮蔽部材の駆動機構を構成することができる。

第９形態によれば、第８形態のめっき装置において、 前記電場遮蔽体は、ベースを更に有し、 前記第１遮蔽部材の一端が、前記第１リンク部材に回転可能に接続されており、 前記第１遮蔽部材の他端が、前記ベースに回転可能に接続された第２リンク部材に回転可能に接続されており、前記第２リンク部材が前記第１遮蔽部材とともに第２リンク機構を形成し、 前記第１遮蔽部材は、前記第１リンク部材と前記第２リンク部材の回転により並進移動される。
第９形態によれば、第１遮蔽部材の両端に接続された第１リンク部材及び第２リンク部材の回転によって、第１遮蔽部材の並進運動を省スペースで簡易な構成で実現することができる。

第１０形態によれば、第２形態のめっき装置において、 前記電場遮蔽体は、ベースを更に有し、 前記開口部の前記第１方向における第１及び第２端部の両方の側に配置される前記第１遮蔽部材のそれぞれには長穴が形成され、 前記ベースに対して回転可能に接続された第３リンク部材に形成された２つのピンが各第１遮蔽部材の前記長穴に挿入され、 前記第３リンク部材の回転により、前記開口部の前記第１方向における第１端部の側に配置される前記第１遮蔽部材と、前記開口部の前記第１方向における第２端部の側に配置される前記第１遮蔽部材が互いに逆方向に移動される。
第１０形態によれば、両端部の第１遮蔽部材を同期して移動させることができる。また、一端側の第１遮蔽部材に他端側に延びる延長部を形成して、他端側において各第１遮蔽部材を第３リンクに係合させれば、駆動機構を他端側に集約することができ、省スペース化を図ることができる。例えば、上端部及び下端部における第１遮蔽部材の駆動機構をめっき液面の上方に集約することができる。

第１１形態によれば、第２形態のめっき装置において、 前記電場遮蔽体は、 ベースと、 前記開口部の前記第１方向における前記第１端部の側に配置された前記第１遮蔽部材と、 前記ベースに対して固定された案内溝と、 前記第１遮蔽部材に対して固定された案内ピンと、を有し、 前記案内ピンが前記案内溝に沿って動くことにより前記第１遮蔽部材が案内される。前記ベースに対して固定された案内溝は、ベース、又は、ベースに固定された部材に設けられた案内溝であり得る。
第１１形態によれば、ベースに対して固定された係合部に対して第１遮蔽部材を係合させて案内させる構成であるため、第１遮蔽部材の移動方向の精度を向上でき、第１遮蔽部材の移動量を精度良く制御することが可能である。

第１２形態によれば、第２形態のめっき装置において、 前記電場遮蔽体は、 ベースと、 前記開口部の前記第１方向における前記第１端部の側に配置された前記第１遮蔽部材と、 前記ベースに対して固定された案内ピンと、 前記第１遮蔽部材に対して固定された案内溝と、を有し、 前記案内ピンが前記案内溝に沿って動くことにより前記第１遮蔽部材が案内される。前記ベースに対して固定された案内溝は、ベース、又は、ベースに固定された部材に設けられた案内溝であり得る。
第１２形態によれば、ベースに対して固定された係合部に対して第１遮蔽部材を係合させて案内させる構成であるため、第１遮蔽部材の移動方向の精度を向上でき、第１遮蔽部材の移動量を精度良く制御することが可能である。

第１３形態によれば、 めっき槽と、 前記めっき槽に配置され、基板を保持するための基板ホルダと、 前記基板ホルダと対向して配置されるアノードと、 前記アノードから前記基板への電場の一部を遮蔽するための少なくとも１つの電場遮蔽体と、を備え、 前記電場遮蔽体は、前記アノードからの電場を通過させるための開口部を各々が有する３つ以上の遮蔽部材を有し、 少なくとも２つの前記遮蔽部材は、各開口部が重なって形成される開口領域を調整するように、少なくとも１つの前記遮蔽部材に対して移動可能に構成されている、めっき装置が提供される。
第１３形態によれば、開口部を有する少なくとも２つの遮蔽部材の移動によって、電場遮蔽部材の開口領域を調整するので、簡易な構成で開口領域の調整が可能である。

第１４形態によれば、第１３形態のめっき装置において、 前記電場遮蔽体は、 第１方向の寸法及び第２方向の寸法を有する第１開口部を有する第１遮蔽部材と、 第２開口部を有する第２遮蔽部材と、 第３開口部を有する第３遮蔽部材と、を有し、 前記第２遮蔽部材は、前記第１開口部と前記第２開口部とが重なる領域を調整するように、前記第１方向と前記第２方向の間の第３方向に沿って前記第１遮蔽部材に対して移動可能であり、 前記第３遮蔽部材は、前記第１開口部と前記第３開口部とが重なる領域を調整するように、前記第１方向と前記第２方向の間の第４方向に沿って前記第１遮蔽部材に対して移動可能である。
第１４形態によれば、また、第１及び第２方向の間の方向に各遮蔽部材を移動させることにより、各遮蔽部材によって第１及び第２方向の開口領域を同時に調整することができる。また、各遮蔽部材の小さな移動量で開口領域の大きな調整量を得ることができる。

第１５形態によれば、第１乃至１４形態の何れかのめっき装置において、 前記アノードはアノード電極を保持するためのアノードホルダを含み、前記アノードホルダに一体に設けられた前記電場遮蔽体を有する。
アノードホルダに一体に設けられた電場遮蔽体の場合、電場遮蔽体をアノード電極に近くかつ基板から遠く配置することができるため、基板のめっき面全体の膜厚を制御することに有利である。また、アノードホルダと電場遮蔽体を一体化するので、省スペース化を図ることができる。

第１６形態によれば、第１乃至１５形態の何れかのめっき装置において、 前記アノードはアノード電極を保持するためのアノードホルダを含み、前記アノードホルダと別体に設けられた前記電場遮蔽体を有する。
アノードホルダと別体に設けられた電場遮蔽体の場合、電場遮蔽体を基板に近くに配置することが可能であり、基板の外周部の膜厚の制御することに有利である。また、基板に近くに配置される電場遮蔽体と、アノード電極に近くかつ基板から遠く配置された電場遮蔽体とを設ければ、基板の膜厚の制御をより向上させることができる。また、アノード及び電場遮蔽体を個別にメンテナンスすることができる。

第１７形態によれば、第１乃至１６形態の何れかのめっき装置において、 前記第１遮蔽部材及び／又は前記第２遮蔽部材は、モータ、ソレノイド、又はエアーシリンダからの動力によって駆動される。
第１７形態によれば、モータ、ソレノイド、又はエアーシリンダからの動力によって、遮蔽部材の移動の制御を精度よく行うことができる。

第１８形態によれば、第１乃至１７形態の何れかのめっき装置において、 前記開口部は矩形である。
この形態によれば、矩形の基板の様々な縦横比に応じて、電場をより精密に制御することができ、めっき膜厚の均一性を向上させることができる。また、めっきパターンの配置、アノードへの給電方法に応じて、電場をより精密に制御することができ、めっき膜厚の均一性を向上させることができる。

第１９形態によれば、第１乃至１８形態の何れかのめっき装置において、 前記アノードはアノード電極を保持するためのアノードホルダを含み、 前記少なくとも１つの電場遮蔽体は、第１電場遮蔽体と、前記第１電場遮蔽体よりも前記基板側に配置される第２電場遮蔽体とを有し、 前記第１電場遮蔽体は前記アノードホルダと一体に設けられ、前記第２電場遮蔽体は前記アノードホルダと別体に設けられ、前記基板ホルダと前記アノード
ホルダの中間に配置される。
この形態によれば、基板の近くに配置される第２電場遮蔽体と、基板から遠くアノードの近くに配置される第１電場遮蔽体において、それぞれの開口領域の複数の方向における開口寸法を独立に制御、及び／又は、電場遮蔽体の複数の方向における開口寸法を精度よく制御することにより、めっき膜厚の分布をより細かく制御することができる。

第２０形態によれば、第１９形態のめっき装置において、 前記基板ホルダが保持する前記基板の面積は、前記第２電場遮蔽体の開口面積よりも大きく、かつ、前記第２電場遮蔽体の前記第２開口部の開口面積は、前記第１電場遮蔽体の開口面積よりも大きい。
第２０形態によれば、アノードと基板との間の電場を良好に調整することができ、めっき膜厚の均一性を向上し得る。

第２１形態によれば、第１乃至２０形態の何れかのめっき装置において、 制御部を更に備え、前記制御部は、前記少なくとも１つの電場遮蔽体の前記開口部の面積をめっき中に変化させるように前記少なくとも１つの電場遮蔽体を制御する。
第２１形態によれば、めっき処理中におけるターミナルエフェクトの強度の変化に応じて、基板上の電場を調整することが可能である。例えば、めっき初期はターミナルエフェクトが強く作用するため、少なくとも１つの電場遮蔽体の開口領域を小さくして基板の外周部のめっき膜厚が厚くなることを防止し、めっきが進行してめっき膜厚が全体的に厚くなった段階ではターミナルエフェクトが緩和されるため、少なくとも１つの電場遮蔽体開口領域を広げてさらにめっき膜厚の均一性を向上させることができる。

以上、いくつかの例に基づいて本発明の実施形態について説明してきたが、上記した発明の実施形態は、本発明の理解を容易にするためのものであり、本発明を限定するものではない。本発明は、その趣旨を逸脱することなく、変更、改良され得るとともに、本発明には、その均等物が含まれることはもちろんである。例えば、大型基板の形状は矩形に限定されず、正方形であってもよく、それ以外の多角形形状、例えば、五角形や六角形であってもよい。また、円形形状の基板を処理するめっき装置にも本発明が適用できることはもちろんである。また、上述した課題の少なくとも一部を解決できる範囲、または、効果の少なくとも一部を奏する範囲において、特許請求の範囲および明細書に記載された各構成要素の任意の組み合わせ、または、省略が可能である。

１０、１０ａ、１０ｂ、１０ｃ めっき槽
１２ アノードユニット
１４’ レギュレーションプレート
２００ アノードホルダ
２０４ 開口部
３００、４００、５００、６００ アノードマスク
３１１ 左マスク
３１２ 右マスク
３１３ 上マスク
３１４ 下マスク
３１５、３１６ ガイド部材
３１７、３１８、３１９、３２０ ラックギア
３２６、３２７ ピニオンギア
３２１、３２２ モータ
４１６ リンク
４２１、４２２ アクチュエータ
４１１ 左マスク
４１２ 右マスク
４１３ 上マスク
４１４ 下マスク
４５３、４５４ リンク
５０１ ベース
５１０、５２０ 遮蔽部材
５３０ モータ
５３４、５３７ ピニオン
５４１、５４２ リンク
６１２、６１３ 左右ブレード
６２２、６２３ 上下ブレード
６５１、６５２ アクチュエータ
ＡＮ アノード電極

Claims (19)

1. めっき槽と、
   前記めっき槽に配置され、基板を保持するための基板ホルダと、
   前記基板ホルダと対向して配置されるアノード電極と、
   前記アノード電極を保持するアノードホルダに一体に設けられ、前記アノード電極から前記基板への電場の一部を遮蔽するための少なくとも１つの電場遮蔽体と、
   を備え、
   前記電場遮蔽体は、前記基板と前記アノード電極との間の電場を通過させる開口部を有し、かつ、前記開口部の左右方向における開口寸法、及び上下方向における開口寸法を独立に調整可能に構成されており、前記開口部の左右方向における左右端部の側にそれぞれ配置される左マスク及び右マスクと、前記開口部の上下方向における上下端部の側にそれぞれ配置される上マスク及び下マスクとを有する、
   めっき装置。
2. めっき槽と、
   前記めっき槽に配置され、基板を保持するための基板ホルダと、
   前記基板ホルダと対向して配置されるアノードホルダに保持されたアノード電極と、
   前記アノード電極から前記基板への電場の一部を遮蔽するための少なくとも１つの電場遮蔽体と、
   を備え、
   前記電場遮蔽体は、前記基板と前記アノード電極との間の電場を通過させる開口部を有し、かつ、前記開口部の左右方向における開口寸法、及び上下方向における開口寸法を独立に調整可能に構成されており、前記開口部の左右方向における左右端部の側にそれぞれ配置される左マスク及び右マスクと、前記開口部の上下方向における上下端部の側にそれぞれ配置される上マスク及び下マスクとを有し、
   前記左マスク及び前記右マスクは、同一の駆動源で移動され、
   前記上マスク及び前記下マスクは、別の同一の駆動源で移動され、
   前記アノードホルダに一体に設けられた前記電場遮蔽体を有する、
   めっき装置。
3. めっき槽と、
   前記めっき槽に配置され、基板を保持するための基板ホルダと、
   前記基板ホルダと対向して配置されるアノードホルダに保持されたアノード電極と、
   前記アノード電極から前記基板への電場の一部を遮蔽するための少なくとも１つの電場遮蔽体と、
   を備え、
   前記電場遮蔽体は、前記基板と前記アノード電極との間の電場を通過させる開口部を有し、かつ、前記開口部の左右方向における開口寸法、及び上下方向における開口寸法を独立に調整可能に構成されており、前記開口部の左右方向における左右端部の側にそれぞれ配置される左マスク及び右マスクと、前記開口部の上下方向における上下端部の側にそれぞれ配置される上マスク及び下マスクとを有し、
   前記左マスク及び前記右マスクは、同一の駆動源で移動され、
   前記上マスク及び前記下マスクは、別の同一の駆動源で移動され、
   前記少なくとも１つの電場遮蔽体は、第１電場遮蔽体と、前記第１電場遮蔽体よりも前記基板側に配置される第２電場遮蔽体とを有し、
   前記第１電場遮蔽体は前記アノードホルダと一体に設けられ、前記第２電場遮蔽体は前記アノードホルダと別体に設けられ、前記基板ホルダと前記アノードホルダの中間に配置される、
   めっき装置。
4. 請求項１乃至３の何れかに記載のめっき装置において、
   前記左マスク及び前記右マスクが互いに逆方向に移動される、及び／又は、前記上マスク及び前記下マスクが互いに逆方向に移動されるめっき装置。
5. 請求項１乃至３の何れかに記載のめっき装置において、
   前記左マスク及び前記右マスクが同一量で移動される、及び／又は、前記上マスク及び前記下マスクが同一量で移動される、めっき装置。
6. 請求項１に記載のめっき装置において、
   前記左マスク及び前記右マスクがそれぞれ独立の駆動源によって移動される、及び／又は、前記上マスク及び前記下マスクがそれぞれ独立の駆動源によって移動される、めっき装置。
7. 請求項１乃至６の何れかに記載のめっき装置において、
   前記左マスク、前記右マスク、前記上マスク、及び前記下マスクのうち少なくとも１つは、送りねじ機構によって移動される、めっき装置。
8. 請求項１乃至６の何れかに記載のめっき装置において、
   前記左マスク、前記右マスク、前記上マスク、及び前記下マスクのうち少なくとも１つは、ラックピニオン機構によって移動される、めっき装置。
9. 請求項１乃至３の何れかに記載のめっき装置において、
   前記左マスク又は前記右マスクに対して回転可能に接続された第１リンク部材が、該マスクとともに第１リンク機構を形成し、前記第１リンク部材の回転が該マスクの移動に変換される、めっき装置。
10. 請求項９に記載のめっき装置において、
    前記電場遮蔽体は、ベースを更に有し、
    前記第１リンク機構を形成する前記マスクの一端が、前記第１リンク部材に回転可能に接続されており、
    該マスクの他端が、前記ベースに回転可能に接続された第２リンク部材に回転可能に接続されており、前記第２リンク部材が該マスクとともに第２リンク機構を形成し、
    該マスクは、前記第１リンク部材と前記第２リンク部材の回転により並進移動される、めっき装置。
11. 請求項１乃至３の何れかに記載のめっき装置において、
    前記上マスク及び前記下マスクのそれぞれには長穴が形成され、
    前記アノードホルダに対して回転可能に接続された第３リンク部材に形成された２つのピンが前記上マスク及び前記下マスクの前記長穴にそれぞれ挿入され、
    前記第３リンク部材の回転により、前記上マスク及び前記下マスクが互いに逆方向に移動される、めっき装置。
12. 請求項１乃至３の何れかに記載のめっき装置において、
    前記電場遮蔽体は、
    ベースと、
    前記ベースに対して固定された案内溝と、
    前記左マスク、前記右マスク、前記上マスク、及び前記下マスクに対して固定された案内ピンと、を有し、
    前記案内ピンが前記案内溝に沿って動くことにより各マスクの移動が案内される、
    めっき装置。
13. 請求項１乃至３の何れかに記載のめっき装置において、
    前記電場遮蔽体は、
    ベースと、
    前記ベースに対して固定された案内ピンと、
    前記左マスク、前記右マスク、前記上マスク、及び前記下マスクに対して固定された案内溝と、を有し、
    前記案内ピンが前記案内溝に沿って動くことにより各マスクの移動が案内される、
    めっき装置。
14. 請求項３、並びに請求項１及び２を引用先に含まない請求項４から１３の何れかに記載のめっき装置において、
    前記アノードホルダに一体に設けられた前記電場遮蔽体を有する、めっき装置。
15. 請求項１乃至１４の何れかに記載のめっき装置において、
    前記左マスク、前記右マスク、前記上マスク、及び前記下マスクの少なくとも１つのマスクは、モータ、ソレノイド、又はエアーシリンダからの動力によって駆動される、めっき装置。
16. 請求項１乃至１５の何れかに記載のめっき装置において、
    前記開口部は矩形である、めっき装置。
17. 請求項２、並びに請求項１及び３を引用先に含まない請求項４乃至１６の何れかに記載のめっき装置において、
    前記少なくとも１つの電場遮蔽体は、第１電場遮蔽体と、前記第１電場遮蔽体よりも前記基板側に配置される第２電場遮蔽体とを有し、
    前記第１電場遮蔽体は前記アノードホルダと一体に設けられ、前記第２電場遮蔽体は前
    記アノードホルダと別体に設けられ、前記基板ホルダと前記アノードホルダの中間に配置される、
    めっき装置。
18. 請求項１７に記載のめっき装置において、
    前記基板ホルダが保持する前記基板の被めっき面の露出面積は、前記第２電場遮蔽体の開口面積よりも大きく、かつ、前記第２電場遮蔽体の前記第２開口部の開口面積は、前記第１電場遮蔽体の開口面積よりも大きい、めっき装置。
19. 請求項１乃至１８の何れかに記載のめっき装置において、
    制御部を更に備え、前記制御部は、前記少なくとも１つの電場遮蔽体の前記開口部の面積をめっき中に変化させるように前記少なくとも１つの電場遮蔽体を制御する、
    めっき装置。

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